KR20120053025A - 배플 판들을 포함하는 자외선 반응기 - Google Patents

배플 판들을 포함하는 자외선 반응기 Download PDF

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데이비드 스티비츠
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지멘스 피티이 엘티디
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Abstract

본 발명은 유체를 처리하기 위한 자외선 반응기에 관한 것이다. 상기 반응기는, 유체를 수용하기 위한 유입구 그리고 유체를 배출하기 위한 유출구를 포함하는, 용기를 포함한다. 상기 반응기는, 상기 용기 내에 위치된 자외선 광원과 배플 판들을 더 포함한다. 상기 배플 판들은, 자외선 광원에 인접한 반응기 내의 영역들 내에 플러그 흐름을 제공하기 위한, 기결정된 패턴으로 배열된 홀들을 포함한다.

Description

배플 판들을 포함하는 자외선 반응기{ULTRAVIOLET REACTOR COMPRISING BAFFLE PLATES}
관련 출원들에의 상호참조( CROSS REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS )
본 출원은, 미국 가출원 번호 61/230,040 (발명의 명칭이 “개선된 산화 프로세스를 위한 자외선 탱크 배플 디자인”이고, 2009년 7월 30일에 출원됨) 및 미국 가출원 번호 61/230,045 (발명의 명칭이 “전환 판을 사용하는 자외선 탱크 버퍼 디자인”이고, 2009년 7월 30일에 출원됨)의 35 U.S.C. § 119(e)에 따른 이익을 주장하는, 상기 가출원들의 각각은 인용에 의하여 본 명세서에 온전하게 병합되고 본 출원은 상기 가출원들에 대한 우선권의 이익을 주장한다.
기술분야
본 발명은, 자외선 반응기들에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 플러그 흐름을 제공하기 위한 기결정된 홀 패턴을 포함하는 배플 판들에 관한 것이다.
박테리아를 무해하게 만듬으로써 물을 살균하기 위해, 또는 전체 유기 탄소(total organic carbon: TOC)를 감소시키도록 산화제에 에너지를 공급하기 위해, 자외선(UV) 반응기가 사용될 수 있다. 특정 적용예들에서, UV 방사선에 물이 노출되는 시간을 최대화시키기 위하여, UV 반응기는 유입 물에 대한 플러그 흐름을 제공하기 위한 배플 판들을 포함한다. 작은 속도 범위 내에 있는, 용기의 전체적인 횡단면에 걸친, 흐름으로서, 플러그 흐름이 정의될 수 있다. 하지만, 배플 판들의 디자인 때문에, 많은 이용 가능한 반응기들에 의해 바람직한 플러그 흐름이 충족되지 아니한다.
도 1은 종래의 반응기에 대한 유동 벡터들을 도시하는 전산유체역학(computational fluid dynamics: CFD) 연구를 묘사한다. 도 1은 종래의 반응기의 선택된 구성 요소들과 함께 기술될 것이다. 유입 파이프(12)로 물(10)이 유입되고, 목표된 플러그 유동 속도보다 훨씬 더 큰 속도로, UV 챔버(14)를 통해 물(10)이 흐른다. 반응기의 구성에 의하여, 물(10)은 탱크(16)의 측면 주위를 흐르고, 유출 파이프(18)를 통해 물(10)이 후속하여 유출된다. 도 1의 화살표(20)에 의해 도시된 바와 같이, 탱크(16)의 측벽을 따르는 흐름들은 단락 회로 경로(short circuit path)를 형성하는 강한 경향성을 갖기 때문에, 이러한 흐름들은 바람직하지 않다.
바람직한 플러그 속도보다 훨씬 높은 속도로 UV 챔버(14)를 통과하는 통로로서, 단락 회로 경로가 정의될 수 있다. 따라서, UV 챔버(14) 내의 물의 상당부가 충분한 UV 에너지를 받지 못한다.
도 1에서, 종래의 반응기 내에 존재하는 각각 대략 14.25, 0.75, 0.75 및 3.75 in/s보다 큰 속도들을 영역들(A, B, C, D)이 묘사하고, 따라서 바람직한 플러그 흐름은 존재하지 않음이 나타난다. 또한, 종래의 반응기가 (UV 반응기에 대해 바람직하지 않은 높은 유동 속도인 것으로 알려진) 7 in/s를 초과하는 속도 프로파일을 가질 수 있다는 것이 결정 되었다.
유체를 처리하기 위한 자외선 반응기가 개시된다. 상기 반응기는, 유체를 수용하기 위한 유입구 그리고 유체를 배출하기 위한 유출구를 구비하는, 용기를 포함한다. 상기 반응기는, 자외선 광원 및 배플 판들을 더 포함한다. 상기 배플 판들은, 자외선 광원에 인접한 상기 반응기 내의 영역들 내에 플러그 흐름을 제공하기 위하여 기결정된 패턴으로 배열된, 홀들을 포함한다.
도 1은 종래의 반응기에 대한 유동 벡터들을 도시하는 전산유체역학(CFD) 연구를 묘사한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배플 판들을 포함하는 UV 반응기의 일 실시예를 묘사한다.
도 3은 도 2에 도시된 실시예에 대한 CFD 연구를 설명한다.
도 4는 CFD 모델이고, 도 2에 도시된 반응기의 3차원적 유동 프로파일을 묘사한다.
도 5는 전환 판을 포함하는 UV 반응기의 대안적인 일 실시예를 묘사한다.
도 6은 도 5에 나타난 실시예를 다른 방향에서 본 도면이다.
도 7은 도 5에 관하여 서술된 구성에 대한 CFD 연구로부터의 유동 벡터들을 도시한다.
도 8은 도 5에 관하여 서술된 구성에 대한 유동 속도 프로파일을 묘사한다.
본 발명의 임의의 실시예들이 상세하게 설명되기 이전에, 후속하는 설명에서 제시되거나 도면에 예시되는 구성의 세부 사항 및 구성 요소의 배열로 본 출원 내에서 본 발명이 한정되지 않음이 이해되어야 할 것이다. 본 발명은 다른 실시예들로 이루어질 수 있고, 다양한 방식들로 실행 또는 수행될 수 있다. 또한, 여기에서 사용된 어법이나 용어는 서술의 목적을 위한 것으로, 이것이 본 발명을 한정하는 것으로 여겨져서는 아니된다는 것이 이해되어야 할 것이다. 본 명세서에서 “포함하는(including)”, “구비하는(comprising)”, 또는 “갖는(having)”의 사용과 이들의 변형의 사용은 이후에 열거되는 항목들 및 균등물들 그리고 추가적인항목들을 포괄한다. 그렇지 아니하다고 특정되거나 한정되지 않는 한, “장착되는(mounted)”, “연결되는(connected)”, “지지되는(supported)” 및 “결합되는(coupled)”의 용어들과 이들의 변형은 광의로 사용되고, 직간접적인 장착, 연결, 지지, 및 결합을 포괄한다. 나아가, “연결되는” 및 “결합되는”은, 물리적인 또는 기계적인 연결들 또는 결합들로 제한되지 않는다. 이후의 서술에서, 도 1 내지 도 8의 몇몇 뷰들 내의, 동일, 유사, 또는 상응하는 부분들을 서술하기 위하여, 유사한 참조 번호들 및 라벨들이 사용된다.
일 실시예에서, 본 발명은, UV 반응기 내의 플러그 흐름 요건을 충족시키는 흐름을 제공하기 위한, 새로운 배플 판 구성에 관한 것이다. 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 UV 반응기(22)가 도시된다. 반응기(22)는 (부분 횡단면도로 도시된) 용기(24), 그리고 서로 간격을 두는 제1 배플 판(26), 제2 배플 판(28), 및 제3 배플 판(30)을 포함한다. 반응기(22)의 유입 단부(32) 및 유출 단부(34)에 각각 인접하게, 제1 배플 판(26) 및 제3 배플 판(30)이 위치된다. 유입 단부(32) 및 유출 단부(34)는, 반응기(22)의 마주보는 단부들에 위치되고, 각각 돔형부(domed portion)(36) 및 단부 판(35)을 포함한다.제1 배플 판(26), 제2 배플 판(28) 및 제3 배플 판(30)은, 기결정된 패턴으로 배열된, 그리고 후술되는 바와 같이 유체 흐름을 제어하기 위한 크기가 정해지는, 복수의 홀들(38)을 포함한다. 제1 배플 판(26) 및 돔형부(36)는 제1 챔버(40)를 형성한다. 제1 배플 판(26) 및 제2 배플 판(28)은 제2 챔버(42)를 형성한다. 제2 배플 판(28) 및 제3 배플 판(30)은 UV 챔버(44)를 형성한다. 제3 배플 판(30) 및 단부 판(35)은 유출 챔버(46)를 형성한다.
반응기(22)는, 제2 챔버(42) 내로 물을 수용하기 위한 유입 파이프(48) 그리고 유출 챔버(46)로부터 물을 배출하기 위한 유출 파이프(58)를, 더 포함한다. 반응기(22)의 길이 방향 축(longitudinal axis)(52)과 실질적으로 수직하게 유입 파이프(48)의 제1 유입부(50)가 배향된다. 실질적으로 길이 방향 축(52)과 동일 선상으로, 유입 파이프(48)의 제2 유입부(55)가 배향된다. 대안적으로, 제2 유입부(55)의 배향은 길이 방향 축(52)에 대하여 기울어져 있을 수 있다. 필요에 따라, 제2 유입부(55)의 각도는 조정될 수 있다. UV 챔버(44)는 UV 광을 제공하기 위한 UV 램프들(54)을 포함한다.
도 3을 참조하면, 도 2에 관하여 서술된 구성에 대한, 전산유체역학(CFD) 연구로부터의 유동 벡터들(동일 길이)이 도시된다. 도 2의 선택된 구성 요소들과 관련하여, 도 3의 유동 벡터들이 도시된다. 작동 중에, 예를 들어, 초당 60 인치(60in/s)와 같은 선택된 속도로, 제1 유입부(50)에 유입 물 흐름이 유입된다. 이후, 제2 유입부(55)에 의하여, 제1 유입부(50)로부터의 유입 물 흐름이 제1 챔버(40) 내로 재지향되어, 돔형부(36)를 향한다. 이것은 유입 물의 운동 에너지 중의 일부를 분산시키도록 기능한다. 유입 물의 운동 에너지를 더 분산시키기 위하여, 유입 물의 경로를 따라 부가 배플 판들(56)이 배치된다. 부가 배플 판들(56)은, 크기가 제1 배플 판(26), 제2 배플 판(28) 및 제3 배플 판(30)보다 더 작을 수 있다. 이후, 돔형부(36)에 의해, 제1 배플 판(26) 내의 홀들(38)을 통하여, 제2 챔버(42)로 물의 방향이 바뀔 수 있다.
제2 챔버(42)에서, 물 유속은 감소되고, 제1 배플 판(26) 및 제2 배플 판(28) 내의 홀들(38)의 크기 및 배열에 기인하여, 제1 배플 판(26) 및 제2 배플 판(28) 사이에서, 물 흐름이 매끄러워진다(smoothed out). 특히, 도 2에 도시된 바와 같이 제2 배플 판(28) 상의 홀들(38)은 실질적으로 균등하게 퍼져 배열된 것과 달리, 제1 배플 판(26)은, 홀들(38)이 실질적으로 빽빽한 원형 패턴으로 집중되도록 배열된, 홀들의 열(列)들을 포함한다. 제1 배플 판(26) 내의 홀들(38)이 더 작은 크기이기 때문에, 제2 배플 판(28)의 유입 영역보다 제1 배플 판(26)의 유입 영역이 더 작아지게 된다. 도 3을 참조하면, 상기 두 특징들에 의해, 물 회오리들(58)이 형성되고, 제2 챔버(42)를 따라 느리게 팽창하는 횡단면 영역이 생성된다. 상기 느리게 팽창하는 횡단면 영역은 물 유속을 감소시키고, 도 3에 도시된 바와 같이 물 흐름을 매끄럽게 만든다.
다음으로, UV 램프들(54)이 위치된 UV 챔버(44) 내로, 상기 물이 흐른다. 제2 배플 판(28)은, 상대적으로 큰, 균등하게 이격된 홀들(38)을 포함한다. 제2 배플 판(28)의 홀들(38)의 구성에 의하여, UV 챔버(44)로 유입되는 물 중의 상당부는, 유사한 낮은 유속으로, 실질적으로 제2 배플 판(28)의 전체에 걸쳐 유입된다. 이로 인해, UV 챔버(44) 길이의 대부분에 걸치는 플러그 흐름(60)을 UV 챔버(44) 내의 물이 달성한다.
이후, 유출 챔버(46)로 상기 물이 유입되어, 유출 파이프(58)를 통해 유출된다. 제3 배플 판(30)은 감소 홀 패턴(reducing hole pattern)을 포함하는데, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 감소 홀 패턴은 유출 챔버(46)로 유입되는 흐름이 제3 배플 판(30)의 모든 홀들(38)에 결쳐서, 실질적으로 유사한 유속으로 유입되는 것을 보장하는 것을 돕는다. 이렇게 유사한 유입 유속을 만들 수 있는 것은, 제3 배플 판(30)에 인접한 흐름이, 플러그 흐름으로 유지되는 것을 보장할 것이다. 도 4는 CFD 모델이고, 반응기(22)의 3차원 유동 프로파일을 도시하고, 대부분의 반응기(22) 내의 유동 유속이 0.6 in/s 미만인 것과 달리, 주로 유입 단부(32) 및 유출 단부(34)(영역들(F))에서 0.6 in/s를 넘는 유동 유속이 발생되는 것을 도시한다.
다른 실시예에서, 본 발명은 전환 판을 포함하는 배플 판 구성을 구비하는 UV 반응기에 관한 것이다. 도 5 및 도 6을 참조하면, UV 반응기(62)는 (부분 횡단면도로서 도시된) 용기(64), 그리고 각각 반응기(22)의 유입 단부(70) 및 유출 단부(72)에 인접하게 위치된, 이격하여 배치된 유입 배플 판(66) 및 유출 배플 판(68)을 포함한다. 반응기(62)의 마주보는 면들에 유입 단부(70) 및 유출 단부(72)가 위치되고, 상기 유입 단부(70) 및 유출 단부(72)는 각각 돔형부(67) 및 단부 판(73)을 포함한다. 유입 배플 판(66) 및 유출 배플 판(68)은 모두, 기결정된 패턴으로 배열되고, 후술되는 바와 같이 유체 흐름을 제어하기 위한 크기를 가지는 복수의 홀들(74)을 포함한다. 유입 배플 판(66) 및 돔형부(67)은 유입 챔버(76)를 형성한다. 유출 배플 판(68) 및 단부 판(73)은 유출 챔버(78)를 형성한다. 유입 배플 판(66) 및 유출 배플 판(68)은, 또한 UV 광을 제공하기 위한 UV 램프들(82)을 포함하는, UV 챔버(80)를 형성한다.
유입 배플 판(66) 상에 전환 판(84)이 위치된다(FIG. 6). 유입 배플 판(66)에 대한 깊이 조정을 제공하기 위하여, 전환 판(84)은 나사골(threaded rod)을 포함할 수 있다. 비록 다른 치수들도 사용될 수도 있다는 것이 이해될 수 있을 것이지만, 전환 판(84)의 길이 및 폭은, 유입 파이프(48)의 크기의 대략 1.5배일 수 있다. 유입 배플 판(66)에 대하여 전환 판(84)은 비스듬하게 놓일 수 있다. 일 실시예에서, 유입 배플 판(66)에 대하여 전환 판(84)은 대략 120도의 각도를 형성한다. 다른 실시예에서, 전환 판(84)은 대략 87도의 각도를 형성한다. 필요에 따라 다른 각도들도 활용될 수 있다고 이해될 수 있을 것이다. 나아가, 대략 용기(64)의 중앙에서, 전환 판(84)이 구부러질 수 있다. 다른 실시예에서, 전환 판(84)은, 유입 파이프(48)로부터 짧은 거리만큼 떨어져 있도록 구부러진다. 대안적으로, 전환 판(84)의 단부 그리고 가장 인접한 UV 램프(82) 사이에 충분한 간격을 제공하기 위하여, 전환 판(84)의 각도는 조정 가능할 수 있다. 반응기(62)의 유입 배플 판(66) 및 돔형부(67) 사이의 용기(64)로 물이 유입되도록, 유입 파이프(48)가 위치된다.
작동 중에, UV 반응기(62)의 길이 방향 축(52)에 대해 실질적으로 수직인 방향으로, 유입 파이프(48)로 그리고 유입 챔버(76) 내로, 유입 물(10)이 유입된다. 이후, 전환 판(84)에 의하여 유입 챔버(76) 내의 유입 흐름이 재지향되어, 돔형부(67)로 향한다. 이것은, 유입 물의 대부분의 운동 에너지를 분산시키도록 기능하고, 유입 배플 판(66)으로 향하도록 물 흐름의 방향을 바꾼다.
유입 배플 판(66) 및 내부 벽(88) 사이의 틈을 폐쇄함으로써 UV 반응기(62)의 내부 벽(88)을 따라 물이 흐르는 것을 억제하기 위해, 유입 배플 판(66)의 외부 가장자리 둘레에 사이드 배플 판들(86)이 위치된다. 전술한 바와 같이, 내부 벽(88)을 따라 흐르는 흐름은 단락 회로 경로(short circuit path)를 형성하는 강한 경향성을 갖기 때문에, 이러한 바람직하지 않은 흐름들을 막기 위하여 사이드 배플 판들(86)이 기능한다. 비록 다양한 크기의 세 개보다 많은 개수의 또는 세 개보다 작은 개수의 사이드 배플 판들이 사용될 수 있다는 것이 이해될 수 있을 것이나, 일 실시예에서는, 세 개의 사이드 배플 판들(86)이 사용된다. 유입 배플 판(66)에 사이드 배플 판들(86)을 부착하기 위하여, 걸이(cleat)(90)들이 사용될 수 있다.
도 7을 참조하면, 도 5 및 도 6에 관해 전술된 구성에 대하여, CFD 연구로부터의 유동 벡터들(모든 유속 벡터들은 동일 길이 세팅으로 설정됨)이 도시된다. 본 실시예의 작동을 도시하기 위하여, 도 5 및 도 6의 선택된 구성 요소들과 관련하여 도 7의 유동 벡터들이 도시된다. 실질적으로 유사한 유속 범위 내로 UV 반응기(62)로 유입되는 물이 흐르도록, 유입 배플 판(66) 내의 홀들(74)이 배열되고 크기가 정해진다. 도 7에 도시된 바와 같이, 돔형부(67)의 형태 그리고 홀들(74)의 배열 및 크기에 의하여, 주로 유입 배플 판(66)의 유입 파이프(48)에 대해 인접한 단부(92) 및 먼 단부(94)을 통해, UV 챔버(80)로 물이 유입된다. 이것은, 유입 배플 판(66) 근처에서 모이는 두 개의 흐름들(도 7의 흐름 1 및 흐름 2)를 형성하고, 두 개의 흐름들 사이에 물 회오리들(96)을 생성한다. 두 흐름들의 팽창이 그리고 흐름 1 및 흐름 2 사이의 물 회오리들이 물의 유속을 감소시키도록 기능한다. 감소된 유속에 의하여, UV 반응기(62) 길이(대략 0.6 in/s)의 넓은 부분에 걸쳐 UV 반응기(62) 내의 물이 원하는 플러그 흐름을 달성할 수 있다(도 7). 도 8을 참조하면, UV 반응기(62) 내의 흐름의 3차원 뷰를 묘사한 CFD 연구가 도시된다. 도 8은, 대부분의 UV 챔버(80) 내에서 유동 유속이 1.5 in/s보다 작은 것과는 달리, 주로 유입 챔버(76) 및 유출 챔버(78)에 인접한 영역에서(각각 영역(A) 및 영역(B)), 1.5 in/s 보다 큰 유동 유속이 존재하는 것을 묘사한다.
이후, 유출 챔버(78)로 물이 유입되어, 유출 파이프(58)를 통해 물이 유출된다. 실질적으로 유출 배플 판(68)의 모든 홀들(74)에 걸쳐, 유출 챔버(78)로 유입된 흐름이 유사한 유속으로 유입되는 것을 보장하도록, 유출 배플 판(68)의 홀 패턴이 기능한다. 이것은, 유출 배플 판(68)에 인접한 흐름이, 플러그 흐름으로 유지되는 것을 보장한다.
본 발명은 구체적인 실시예들과 함께 서술되었으나, 전술한 바에 비추어, 본 발명이 속한 기술 분야의 통상의 기술자에게 다수의 대안, 수정, 치환, 변경이 명확해질 것이라는 점은 분명하다. 따라서, 본 발명은 이러한 모든 대안, 수정, 및 변경을 포괄하도록 의도된다.

Claims (20)

  1. 유체를 처리하기 위한 반응기로서:
    유체를 수용하기 위한 유입구 그리고 유체를 배출하기 위한 유출구를 포함하는, 용기;
    상기 용기 내에 위치된 자외선 광원; 그리고
    각각 제1 챔버, 제2 챔버 및 제3 챔버를 형성하기 위하여 상기 용기 내에 위치된, 제1 배플 판, 제2 배플 판 및 제3 배플 판;
    을 포함하는, 유체를 처리하기 위한 반응기에 있어서;
    상기 제1 배플 판, 제2 배플 판 및 제3 배플 판은, 플러그 흐름을 제공하도록 상기 용기 내의 유체 흐름을 제어하기 위한, 기결정된 패턴으로 배열된 홀들을 포함하는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 용기는, 유입 유체의 운동 에너지를 분산시키기 위한, 돔형부(domed portion)를 포함하는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 배플 판 및 제3 배플 판 내의 홀들보다, 상기 제1 배플 판 내의 홀들이 크기가 더 작은,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 배플 판 및 제3 배플 판 내의 홀들보다, 상기 제2 배플 판 내의 홀들이 크기가 상대적으로 더 크고,
    상기 제2 배플 판 내의 홀들이 균등하게 이격된,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제3 배플 판 내의 홀들은 감소 홀 패턴(reducing hole pattern)으로 구성되는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  6. 유체를 처리하기 위한 반응기로서:
    유체를 수용하기 위한 유입구 그리고 유체를 배출하기 위한 유출구를 포함하는, 용기;
    상기 용기 내에 위치된 자외선 광원;
    각각 제1 챔버 및 제2 챔버를 형성하기 위해 상기 용기 내에 위치된, 제1 배플 판 및 제2 배플 판; 그리고
    상기 제1 배플 판 상에 위치된 전환 판;
    을 포함하는, 유체를 처리하기 위한 반응기에 있어서,
    상기 제1 배플 판 및 제2 배플 판은, 플러그 흐름을 제공하기 위한 기결정된 패턴으로 배열된 홀들을 포함하고,
    상기 유입 유체의 운동 에너지를 분산시키기 위해 유입 유체의 방향을 바꾸기 위하여, 상기 전환 판은 상기 제1 배플 판에 대해 기울어져 있는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 배플 판에 대해 대략 120도의 각도로 상기 전환 판이 배향되는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  8. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 배플 판에 대해 대략 87도의 각도로 상기 전환 판이 배향되는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  9. 제6 항에 있어서,
    상기 전환 판의 배향은 조정 가능한,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  10. 제6 항에 있어서,
    상기 용기는, 상기 전환 판에 의하여 방향이 바뀐 유입 유체의 운동 에너지를 분산시키기 위한, 돔형부를 포함하는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  11. 제6 항에 있어서, 상기 유체를 처리하기 위한 반응기는,
    상기 제1 배플 판 그리고 상기 용기의 내벽 사이의 틈들을 폐쇄하기 위한, 사이드 배플 판들;
    을 더 포함하는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 반응기는 세 개의 사이드 배플 판들을 포함하는,
    유체를 처리하기 위한 반응기.
  13. 자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법으로서:
    반응기 용기의 돔형부로 유입 유체를 배향시키는 단계;
    플러그 흐름을 제공하기 위해 배열된, 복수의 배플 판들 내에 형성된 홀들을 통하여, 상기 돔형부로부터의 유체를 채널링시키는 단계; 그리고
    상기 반응기의 유출부로부터 상기 유체를 배출시키는 단계;
    를 포함하는,
    자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법.
  14. 제13 항에 있어서,
    전환 판에 의해 유입 유체가 배향되는,
    자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법.
  15. 제14 항에 있어서,
    제1 배플 판 상에 상기 전환 판이 위치되는,
    자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 제1 배플 판에 대해 대략 120도의 각도로 상기 전환 판이 배향되는,
    자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법.
  17. 제15 항에 있어서,
    상기 제1 배플 판에 대해 대략 87도의 각도로 상기 전환 판이 배향되는,
    자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법.
  18. 제15 항에 있어서,
    상기 전환 판의 배향은 조정 가능한,
    자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법.
  19. 제15 항에 있어서,
    상기 반응기는, 상기 전환 판에 의하여 방향이 바뀐 유입 유체의 운동 에너지를 분산시키기 위한, 돔형부를 포함하는,
    자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법.
  20. 제15 항에 있어서, 상기 자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법은,
    사이드 배플 판들을 이용하여 상기 제1 배플 판 그리고 상기 용기의 내벽 사이의 틈들을 폐쇄하는 단계;
    를 더 포함하는,
    자외선 반응기 내의 유체를 채널링하기 위한 방법.
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