KR20110102256A

KR20110102256A - 세정 장치, 세정 방법, 예비 토출 장치 및 도포 장치

Info

Publication number: KR20110102256A
Application number: KR1020110073289A
Authority: KR
Inventors: 요시아키 마스; 히데노리 미야모토; 겐지 요시자와; 가즈노부 야마구치
Original assignee: 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
Priority date: 2007-07-03
Filing date: 2011-07-22
Publication date: 2011-09-16
Also published as: KR101158701B1; KR101154908B1; KR20090004654A; TW200916204A; TWI348399B; KR20110014544A; KR101088331B1

Abstract

예비 토출 동작시에 프라이밍 롤러를 이용하지 않는 예비 토출 장치에 있어서 높은 세정성이 얻어지는 세정 장치, 세정 방법, 예비 토출 장치 및 도포 장치가 제공된다. 상기 세정 장치는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면 (81) 을 세정하는 장치 (100) 이다. 이 세정 장치는, 액상체가 도포된 예비 토출면 (81) 상을 슬라이딩하여 액상체를 긁어내는 복수의 스퀴지 (110a, 110b, 110c) 를 갖고, 또는 1 개 이상의 스퀴지가, 예비 토출면 (81) 과의 접촉단의 길이 방향을 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 지지되고, 또는 스퀴지의 슬라이딩 방향측의 면에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 갖는다.

Description

세정 장치, 세정 방법, 예비 토출 장치 및 도포 장치{WASHING DEVICE, WASHING METHOD, AUXILIARY DISCHARGE DEVICE AND APPLICATION DEVICE}

본 발명은 세정 장치, 세정 방법, 예비 토출 장치 및 도포 장치에 관한 것이다.

액정 디스플레이 등의 표시 패널을 구성하는 유리 기판 상에는, 배선 패턴이나 전극 패턴 등의 미세한 패턴이 형성되어 있다. 일반적으로, 이와 같은 패턴은, 예를 들어 포토리소그래피 등의 수법에 의해 형성된다. 포토리소그래피 법에서는, 유리 기판 상에 레지스트막을 형성하는 공정, 이 레지스트막을 패턴 노광하는 공정, 그 후 당해 레지스트막을 현상하는 공정이 각각 실시된다.

기판 상에 레지스트막을 도포하는 장치로서, 슬릿 노즐을 고정하고, 당해 슬릿 노즐 아래를 이동하는 유리 기판에 레지스트 (액상체) 를 도포하는 도포 장치가 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이와 같은 도포 장치에서는 도포막의 균일성을 얻기 위해, 예를 들어 노즐 세정이나 레지스트 도포 전의 예비 토출 동작 등의 노즐 선단 관리를 실시하고 있다.

특허문헌 1 : 일본 공개특허공보 2005-236092호

상기 특허문헌 1 에 기재된 도포 장치에서는, 예비 토출 동작으로서 프라이밍 롤러로 불리는 롤러면 상에 레지스트를 토출 (도포) 하고 있다. 그러나, 상기 구성에서는 롤러 상에 토출 (도포) 된 도포액을 세정할 때 세정액이 대량으로 필요해지는 문제가 있었다. 그래서, 예비 토출 동작시에 프라이밍 롤러를 이용하지 않는 새로운 구성의 예비 토출 장치에 있어서 양호한 세정을 할 수 있게 하는 수법의 제공이 요망되고 있다.

본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 예비 토출 동작시에 프라이밍 롤러를 사용하지 않는 예비 토출 장치에 있어서 높은 세정성이 얻어지는 세정 장치, 세정 방법, 예비 토출 장치 및 도포 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.

본 발명의 제 3 양태 (aspect) 는, 상기 예비 토출 장치를 구비한 도포 장치이다.

본 발명의 제 3 양태의 도포 제 1 양태 (aspect) 는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 장치로서, 액상체가 도포된 상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하여 상기 액상체를 긁어내는 스퀴지를 갖고, 상기 스퀴지는 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 지지되어 있는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 1 양태의 세정 장치에 의하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 긁어내어진 액상체가 스퀴지의 표면을 따라 슬라이딩 방향 측방으로 밀려나가게 된다. 따라서, 스퀴지에 의해 긁어내어진 액상체가 스퀴지의 슬라이딩을 방해하는 것을 방지하여, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 접촉단의 길이 방향과 상기 슬라이딩 방향의 교차 각도가 85˚이하인 것이 바람직하다.

상기 각도로 교차 각도를 설정함으로써, 액상체를 양호하게 밀어낼 수 있어, 예비 토출면을 양호하게 세정할 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 스퀴지를 복수 구비하고 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 복수의 스퀴지에 의해 예비 토출면 상의 액상체를 양호하게 긁어낼 수 있어, 높은 세정성을 발휘할 수 있다.

또한, 복수의 상기 스퀴지가 서로 대략 평행인 자세로 상기 슬라이딩 방향으로 배열되어 있는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 스퀴지 사이의 간격을 대략 동일하게 설정할 수 있어, 예비 토출면 상의 세정성을 안정시킬 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 스퀴지의 상기 슬라이딩 방향의 전방으로 세정액을 토출하는 토출구를 갖는 세정액 공급부를 구비하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예를 들어 세정액에 의해 예비 토출면 상에 도포된 액상체를 희석화시킴으로써, 상기 스퀴지에 의해 액상체를 용이하게 긁어낼 수 있어, 보다 높은 세정성을 얻을 수 있다. 또한, 세정액을 토출구로부터 토출시키는 구성을 갖고 있으므로, 세정액의 사용량을 억제할 수 있다.

또한, 복수의 상기 스퀴지 중, 적어도 상기 슬라이딩 방향의 최후미에 위치하는 상기 스퀴지를 제외한 그 밖의 상기 스퀴지에 대응하여 상기 토출구가 형성되어 있는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 슬라이딩 방향 최후미의 스퀴지가 예비 토출면 상을 슬라이딩할 때, 전방의 스퀴지에 의해 잔존하는 액상체를 긁어내는 최종 스퀴지로서 기능한다. 따라서, 예비 토출면 상의 액상체를 긁어낸 후에 잔존하는 것을 방지하는, 세정성이 높은 것이 된다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 복수의 상기 스퀴지의 상기 예비 토출면에 대한 경사각이 대략 동일한 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 전체 스퀴지에 있어서의 액상체의 긁어냄성을 동일하게 할 수 있어, 예비 토출면 상을 균일하게 세정할 수 있다.

또한, 복수의 상기 스퀴지 중, 상기 슬라이딩 방향의 선두에 위치하는 상기 스퀴지의 상기 경사각이 그 밖의 상기 스퀴지의 상기 경사각 보다 큰 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 슬라이딩 방향의 선두에 위치하는 스퀴지와 예비 토출면의 접촉 저항을 증가시킬 수 있고, 이로 인해 예비 토출면 상에 도포된 액상체를 양호하게 긁어낼 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 예비 토출면을 향하여 기체를 분출하는 건조 기구를 구비하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 세정 처리에 의해 젖은 예비 토출면을 확실히 건조시킬 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 예비 토출면에 잔존하는 액상체를 흡인하는 흡인 기구를 구비하고 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예비 토출면 상에 잔존하는 액상체를 흡인 기구에 의해 흡인할 수 있으므로, 예비 토출면의 세정성을 보다 향상시킬 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 스퀴지를 지지하는 스퀴지 헤드부와, 스퀴지 헤드부를 지지하는 아암부를 구비하고, 상기 아암부에 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지하는 요동 기구가 형성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 스퀴지 헤드부가 자유롭게 요동할 수 있도록 되어 있으므로 스퀴지를 예비 토출면 상에 확실히 접촉시킬 수 있어 높은 세정성을 얻을 수 있다.

본 발명의 제 2 양태 (aspect) 는, 상기 세정 장치를 구비한 예비 토출 장치이다.

본 발명의 제 2 양태의 예비 토출 장치에 의하면, 높은 세정성을 갖는 세정 장치를 구비하고 있으므로, 예비 토출면을 양호하게 세정함으로써 예비 토출 동작을 확실히 실시할 수 있는 고신뢰성의 것이 된다.

또한, 본 발명의 제 2 양태의 예비 토출 장치는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 있어서 액상체가 도포되는 예비 토출면과, 상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하여 상기 액상체를 긁어내는 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 지지하는 세정 장치와, 상기 스퀴지의 슬라이딩 동작에 의해 상기 예비 토출면의 길이 방향에 있어서의 측방으로 유출시킨 상기 액상체를 배출하는 배출부를 구비하고 있는 것이 바람직하다.

이 예비 토출 장치에 의하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 긁어내어지고, 스퀴지의 표면을 따라 예비 토출면의 길이 방향에 있어서의 측방으로 유출한 액상체를 배출부로부터 확실히 배출할 수 있다. 따라서, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

또한, 상기 예비 토출 장치에 있어서는, 상기 배출부가 상기 예비 토출면의 측방에 형성되어 상기 슬라이딩 방향으로 연장되는 측홈부를 갖는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예비 토출면의 측방으로 유출한 액상체를 측홈부로부터 확실히 배출할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 2 양태의 예비 토출 장치는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 있어서 액상체가 도포되는 예비 토출면과, 상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하여 상기 액상체를 긁어내는 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 지지하는 세정 장치와, 상기 스퀴지의 슬라이딩 동작에 의해 상기 스퀴지의 전방으로 이동된 상기 액상체를 배출하는 배출부를 구비하고 있어도 된다.

이 예비 토출 장치에 의하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 긁어내어져, 스퀴지의 전방으로 이동된 액상체를 확실히 배출할 수 있다. 따라서, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

또한, 상기 제 2 양태의 2 개의 구체적 예비 토출 장치에 있어서는, 각각 상기 배출부에 상기 액상체를 흡인하는 흡인 회수 기구가 형성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 배출부에 수용된 액상체를 흡인 회수 기구에 의해 양호하게 배출할 수 있다.

또한, 상기 제 2 양태의 2 개의 구체적 예비 토출 장치에 있어서는, 상기 흡인 회수 기구와 접속된 흡인구와, 상기 흡인구를 향하여 하강하는 경사면이 형성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 배출부로 배출된 액상체를 경사면을 따라 흡인구측으로 흐르기 쉽도록 함과 함께, 흡인구로부터 액상체를 양호하게 배출할 수 있다.

또한, 상기 예비 토출면의 측방에 형성된 상기 배출부에 상기 흡인구와 상기 흡인구에 대응하는 상기 사면부를 갖는 복수의 영역이 상기 슬라이딩 방향을 따라 배열되어 있는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 배출부에 배출된 액상체를 복수의 흡인구 및 경사면에 의해 흡인 회수 기구로 양호하게 유도할 수 있다.

또한, 상기 제 2 양태의 예비 토출 장치에 있어서는, 상기 예비 토출면의 측방에 상기 세정 장치를 탑재하는 대기부가 형성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예비 토출면의 세정시에 예비 토출면으로의 이동 거리를 짧게하여, 이동 시간을 단축할 수 있다.

또한, 상기 대기부가 상기 예비 토출면에 대해 상기 슬라이딩 방향의 후방에 형성되어 있는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 세정 장치가 세정 개시측에 배치되게 되어, 세정 장치에 의한 세정 동작을 신속히 개시할 수 있다.

또한, 상기 예비 토출 장치에 있어서는, 상기 대기부가 상기 예비 토출면 상에 형성되어 있어도 되고, 예비 토출면보다 낮은 위치에 형성되어 있어도 되지만, 예비 토출면보다 낮은 위치에 형성되어 상기 세정 장치를 탑재하는 탑재면을 갖는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예비 토출 동작시에 예비 토출면 상으로 이동되는 도포 장치와 세정 장치의 간섭을 방지할 수 있다.

또한, 상기 예비 토출 장치에 있어서는, 상기 대기부에 상기 스퀴지에 부착된 상기 액상체를 제거하는 스퀴지 청소 기구가 형성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 스퀴지를 양호한 상태로 유지할 수 있어, 예비 토출면 상에 있어서의 세정 품질을 안정시킬 수 있다.

또한, 상기 예비 토출 장치에 있어서는, 상기 스퀴지 청소 기구가 상기 탑재 면에 형성된 요철 구조인 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 스퀴지에 부착된 액상체를 양호하게 제거할 수 있다.

장치에 의하면, 예비 토출면에 있어서의 높은 세정성을 갖는 예비 토출 장치를 구비하고 있으므로, 예비 토출 동작을 양호하게 실시함으로써 도포부를 항상 양호한 상태로 유지할 수 있어, 균일한 막두께로 액상체의 도포를 실시할 수 있다.

본 발명의 제 4 양태 (aspect) 는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 방법으로서, 상기 예비 토출면 상에서 스퀴지를 슬라이딩시켜 상기 예비 토출면에 도포된 액상체를 긁어낼 때, 상기 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 슬라이딩시키는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 세정 방법에 의하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 긁어내어진 액상체가 스퀴지의 표면을 따라 슬라이딩 방향 측방으로 밀려나갈 수 있다. 따라서, 스퀴지에 의해 긁어낸 액상체가 스퀴지의 슬라이딩을 방해하는 것을 방지할 수 있어, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 상기 접촉단의 길이 방향과 상기 슬라이딩 방향의 교차 각도가 85˚이하인 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 액상체를 양호하게 밀어낼 수 있어, 예비 토출면을 양호하게 세정할 수 있다.

또한, 복수의 상기 스퀴지를 상기 예비 토출면 상에서 슬라이딩시키는 것이 보다 바람직하다.

또한, 복수의 상기 스퀴지를 서로 대략 평행한 자세로 상기 슬라이딩 방향으로 배열한 상태에서 슬라이딩시키는 것이 보다 바람직하다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 상기 스퀴지의 상기 슬라이딩 방향 전방으로 세정액을 토출시키는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예를 들어 세정액에 의해 예비 토출면 상에 도포된 액상체를 희석화시킴으로써, 상기 스퀴지에 의해 액상체를 용이하게 긁어낼 수 있어, 보다 높은 세정성을 얻을 수 있다. 또한, 세정액을 토출구로부터 토출시키는 구성을 가지고 있으므로 세정액의 사용량을 억제할 수 있다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 복수의 상기 스퀴지 중, 적어도 상기 슬라이딩 방향의 최후미에 위치하는 상기 스퀴지를 제외한 그 밖의 상기 스퀴지의 상기 슬라이딩 방향 전방으로 상기 세정액을 토출시키는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 슬라이딩 방향 최후미의 스퀴지가 예비 토출면 상을 슬라이딩 할 때, 전방의 스퀴지에 의해 남겨진 액상체를 긁어내는 최종 스퀴지로서 기능한다. 따라서, 예비 토출면 상의 액상체를 긁어낸 후 잔존하는 것이 방지된 세정성이 높은 것이 된다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 상기 스퀴지가 통과한 후의 상기 예비 토출면에 대해 기체를 분사하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 상기 스퀴지가 통과한 후의 상기 예비 토출면에 잔존하는 상기 액상체를 흡인하는 것이 바람직하다.

본 발명의 제 5 양태 (aspect) 는, 도포 장치에 있어서의 도포 동작에 앞서는 예비 토출 방법으로서,

예비 토출면에 대해 액상체를 도포하는 단계와, 상기 예비 토출면 상에서 스퀴지를 슬라이딩시켜 상기 액상체를 긁어내는 단계를 갖고, 상기 스퀴지를 슬라이딩시키는 단계에서는, 상기 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 슬라이딩시켜, 상기 예비 토출면 상의 상기 액상체를 상기 예비 토출면의 길이 방향에 있어서의 측방으로 배출하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 5 양태의 예비 토출 방법에 의하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 긁어낸 액상체를 예비 토출면의 길이 방향에 있어서의 측방으로 밀어냄으로써 예비 토출면 상을 양호하게 세정할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 6 양태 (aspect) 는, 도포 장치에 있어서의 도포 동작에 앞서는 예비 토출 방법으로서, 예비 토출면에 대해 액상체를 도포하는 단계와, 상기 예비 토출면 상에서 스퀴지를 슬라이딩시켜 상기 액상체를 긁어내는 단계를 갖고, 상기 스퀴지를 슬라이딩시키는 단계에서는, 상기 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 슬라이딩시켜, 상기 스퀴지에 의해 회수한 상기 액상체를 상기 예비 토출면의 상기 슬라이딩 방향 전방으로 배출하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 6 양태의 예비 토출 방법에 의하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 회수한 액상체를 예비 토출면의 슬라이딩 방향 전방으로 배출함으로써 예비 토출면 상을 양호하게 세정할 수 있다.

또한, 상기 제 5 및 제 6 양태의 예비 토출 방법에 있어서는, 상기 스퀴지를 슬라이딩시키는 단계 후, 상기 스퀴지를 상기 예비 토출면의 측방에 형성된 대기 위치로 이동시켜, 당해 대기 위치에서 상기 스퀴지에 부착된 상기 액상체를 제거하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 스퀴지를 양호한 상태로 유지할 수 있어, 예비 토출면 상 에 있어서의 세정 품질을 안정시킬 수 있다. 또한, 예비 토출면의 측방에 형성된 대기 위치에서 세정 동작을 실시하므로, 스퀴지의 이동 시간을 단축할 수 있다.

본 발명의 제 7 양태 (aspect) 는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 장치로서, 액상체가 도포된 상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하여 상기 액상체를 긁어내는 복수의 스퀴지를 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 7 양태의 세정 장치에 의하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 복수의 스퀴지에 의해 당해 예비 토출면 상의 액상체를 양호하게 긁어낼 수 있어, 높은 세정성을 발휘할 수 있다.

또한 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 예비 토출면에 세정액을 토출하는 적어도 1 개의 토출구를 구비하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예를 들어 세정액에 의해 예비 토출면 상에 도포된 액상체를 희석화시킴으로써, 상기 스퀴지에 의해 액상체를 용이하게 긁어낼 수 있어, 보다 높은 세정성을 얻을 수 있다. 또한, 세정액을 토출구로부터 토출시키는 구성을 갖고 있으므로 세정액의 사용량을 억제할 수 있다.

또한, 상기 스퀴지 중, 슬라이딩 방향 최후미를 제외한 상기 스퀴지에 대응하여 상기 토출구가 형성되어 있는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 슬라이딩 방향 최후미의 스퀴지가 예비 토출면 상을 슬라이딩할 때, 전방의 스퀴지에 의해 잔존하는 액상체를 긁어내는 최종 스퀴지로서 기능한다. 따라서, 예비 토출면 상의 액상체를 긁어낸 후 잔존하는 것이 방지된 세정성이 높은 것이 된다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 적어도 2 개의 상기 스퀴지에 각각 대응하여 상기 토출구가 형성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 스퀴지에 대응하여 토출구가 형성되어 있으므로, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 있어서의 액상체의 세정성, 건조성 및 긁어냄성을 보다 높일 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 스퀴지가 상기 예비 토출면에 대해 15˚이상, 50˚이하 기울어 배치되는 것이 바람직하다.

이와 같은 각도로 설정하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩할 때 스퀴지에 의해 액상체를 양호하게 긁어낼 수 있어, 높은 세정성을 얻을 수 있다. 또한, 45˚이하로 설정하는 것이 보다 바람직하다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 예비 토출면에 잔존하는 상기 액상체를 흡인하는 흡인 기구를 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 각 토출구로부터 토출되는 상기 세정액의 토출량을 제어하는 제어부가 형성되어 있고, 당해 제어부가 상기 토출구 중, 슬라이딩 방향 선두측의 상기 토출구로부터 토출되는 세정액의 양이 가장 많아지도록 상기 세정액의 토출량을 제어할 수 있게 되어 있는 것이 바람직하다.

이와 같이 제어하면, 액상체가 많이 존재하는 슬라이딩 방향 선두측으로 세정액이 가장 많이 토출되므로, 예비 토출면 상을 복수의 스퀴지가 슬라이딩함으로써 액상체를 확실히 긁어낼 수 있다. 따라서, 액상체를 긁어낸 후 잔존하는 것이 억제되어, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 각 토출구로부터 토출되는 상기 세정액의 토출량을 제어하는 제어부가 형성되어 있고, 당해 제어부가 상기 토출구 중, 슬라이딩 방향 최후미의 상기 토출구로부터 토출되는 세정액의 양이 가장 적어지도록 상기 세정액의 토출량을 제어할 수 있게 되어 있는 것이 바람직하다.

이와 같이 제어하면, 전방의 스퀴지에 의해 액상체가 긁어내어짐으로써 액상체의 양이 적은 슬라이딩 방향 최후미의 토출구로부터 가장 적은 양의 세정액이 토출되므로, 세정액의 과잉 토출이 억제된다. 이로써 세정액의 낭비를 없애, 예비 토출면 상에 세정액의 잔류물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 각 토출구로부터 토출되는 상기 세정액의 토출량을 제어하는 제어부가 형성되어 있고, 당해 제어부가 슬라이딩 방향 선두측의 상기 토출구로부터 최후미의 상기 토출구에 걸쳐 상기 세정액의 토출량이 서서히 적어지도록, 상기 세정액의 토출량을 제어하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 액상체의 양이 적어지는 스퀴지의 슬라이딩 방향 후방을 향하여 토출구로부터 토출되는 세정액의 토출량이 서서히 적어지고 있으므로, 예비 토출면 상에 세정액의 잔류물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상기 세정 장치에 있어서는, 상기 각 토출구로부터 토출되는 상기 세정액의 토출량을 제어하는 제어부가 형성되어 있고, 당해 제어부가 상기 각 토출구로부터 토출되는 세정액의 양이 동량이 되도록 상기 세정액의 양을 제어하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 토출량의 조정이 간략화되어 작업 효율이 향상됨과 함께 높은 세정성을 유지할 수 있다.

본 발명의 제 8 양태 (aspect) 는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 방법으로서, 상기 예비 토출면 상에서 복수의 스퀴지를 이들의 배열 방향으로 슬라이딩시켜 상기 액상체를 긁어내는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 8 양태의 세정 방법에 의하면, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 복수의 스퀴지에 의해 당해 예비 토출면 상에 도포된 액상체를 양호하게 긁어낼 수가 있어, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 액상체가 도포된 상기 예비 토출면에 대해 세정액을 토출시키는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예를 들어 세정액에 의해 액상체를 희석화시키면서 상기 스퀴지에 의해 세정액과 함께 액상체를 긁어낼 수 있어, 보다 높은 세정성을 얻을 수 있다. 또한, 토출구로부터 세정액을 토출시키고 있으므로 세정액의 사용량을 억제할 수 있다.

또한, 상기 스퀴지 중, 슬라이딩 방향 최후미를 제외한 상기 스퀴지의 슬라이딩 방향 전방으로 상기 세정액을 공급하는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 슬라이딩 방향 최후미의 스퀴지가 예비 토출면 상을 슬라이딩할 때, 전방의 스퀴지에 의해 잔존하는 액상체를 긁어냄으로써 세정 처리의 마무리를 실시하여, 액상체를 긁어낸 후 잔존하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 적어도 2 개의 상기 스퀴지 각각의 슬라이딩 방향 전방으로 상기 세정액을 공급하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 적어도 2 개의 스퀴지에 대해 세정액을 공급하고 있으므로, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의한 액상체의 세정성, 건조성 및 긁어냄성을 보다 높일 수 있다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 상기 예비 토출면을 향하여 기체를 분출하는 건조 공정을 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 상기 예비 토출면에 잔존하는 상기 액상체를 흡인하는 흡인 공정을 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 각각에 대응하여 상기 세정액이 공급되는 복수의 상기 스퀴지 중, 슬라이딩 방향의 선두에 위치하는 상기 스퀴지에 대해 공급되는 상기 세정액의 양을 가장 많이 하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 액상체가 많이 존재하는 슬라이딩 방향 선두측에 가장 많은 세정액을 토출시킴으로써, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 복수의 스퀴지에 의해 액상체를 확실히 긁어낼 수 있다. 따라서, 긁어낸 후 잔류물이 적은 높은 세정성을 얻을 수 있다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 각각에 대응하여 상기 세정액이 공급되는 복수의 상기 스퀴지 중, 슬라이딩 방향의 최후미에 위치하는 상기 스퀴지에 대해 공급되는 상기 세정액의 양을 가장 적게 하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 전방의 스퀴지에 의해 액상체가 긁어내어짐으로써 액상체의 양이 적은 슬라이딩 방향 최후미에 액상체를 가장 적게 토출시키므로, 세정액의 과잉 토출을 억제시킴으로써 세정액의 낭비를 없애, 예비 토출면 상에 세정액의 잔류물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상기 세정 방법에 있어서는, 각각에 대응하여 상기 세정액을 공급하는 복수의 상기 스퀴지에 대해, 슬라이딩 방향의 최후미측에 위치하는 상기 스퀴지일수록 상기 세정액의 공급량을 적게 하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 액상체의 양이 적어지는 스퀴지의 슬라이딩 방향 후방을 향하여 토출구로부터 토출되는 세정액의 토출량을 서서히 줄이므로, 예비 토출면 상에 세정액의 잔류물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

또 상기 세정 방법에 있어서는, 각각에 대응하여 상기 세정액을 공급하는 복수의 상기 스퀴지에 대해, 상기 세정액의 공급량을 동일하게 하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 토출량의 조정이 간략화되어, 작업 효율이 향상됨과 함께 높은 세정성을 유지할 수 있다.

본 발명의 제 9 양태 (aspect) 는, 상기 세정 장치를 구비한 예비 토출 장치이다.

본 발명의 제 9 양태의 예비 토출 장치에 의하면, 높은 세정성을 갖는 세정 장치를 구비하고 있으므로, 예비 토출면을 양호하게 세정함으로써 예비 토출 동작을 확실히 실시할 수 있는 고신뢰성의 것이 된다.

본 발명의 제 10 양태 (aspect) 는, 상기 제 9 양태의 예비 토출 장치를 구비한 도포 장치이다.

본 발명의 제 10 양태의 도포 장치에 의하면, 예비 토출면에 있어서의 높은 세정성을 갖는 예비 토출 장치를 구비하고 있으므로, 예비 토출 동작을 양호하게 실시함으로써 도포부를 항상 양호한 상태로 유지할 수 있고, 균일한 막 두께로 액상체의 도포를 실시할 수 있다.

본 발명의 제 11 양태 (aspect) 는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 장치로서, 액상체가 도포된 상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지와, 그 스퀴지의 슬라이딩 방향측의 면에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 11 양태의 세정 장치에 의하면, 스퀴지의 슬라이딩 방향측의 면에 공급한 세정액에 의해 액상체를 희석화시키면서 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 액상체를 양호하게 긁어낼 수 있다. 또한, 세정액 공급부로부터 세정액을 예비 토출면 상에 선택적으로 공급함으로써 세정액의 사용량이 억제된 것이 된다.

또한, 이 세정 장치에 있어서는, 상기 세정액 공급부는, 상기 스퀴지에 대해 상기 세정액을 토출하는 복수의 토출구를 갖는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예비 토출면 상에 세정액을 양호하게 토출할 수 있게 된다.

또한 복수의 상기 토출구는, 인접하는 상기 토출구로부터 토출되어 상기 스퀴지면 상을 따라서 이동하는 상기 세정액은 서로 상기 스퀴지의 선단에 이르러 일체화되도록 형성되어 있는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 스퀴지 선단에서 세정액이 일체화되므로, 스퀴지와 예비 토출면의 접촉단의 전역에 걸쳐 세정액을 공급할 수 있다.

또한, 이 세정 장치에 있어서는, 상기 각 토출구는 등간격으로 배열되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 등간격으로 배치된 토출구로부터 세정액이 공급되므로, 예를 들어 각 토출구로부터 토출되는 세정액량을 동일하게 함으로써 예비 토출면 상에 균일하게 세정액을 공급할 수 있다.

또한, 이 세정 장치에 있어서는, 상기 스퀴지를 복수 구비하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 복수의 스퀴지가 예비 토출면 상을 슬라이딩하므로, 높은 세정성을 구비한 것이 된다.

이 경우, 상기 세정액 공급부는, 상기 복수의 스퀴지 중, 적어도 슬라이딩 방향 최후미의 상기 스퀴지를 제외하고 상기 세정액을 공급하는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 슬라이딩 방향 최후미의 스퀴지가 예비 토출면 상을 슬라이딩할 때, 전방의 스퀴지에 의해 잔존하는 액상체를 긁어내는 최종 스퀴지로서 기능한다. 따라서, 예비 토출면 상의 액상체을 긁어낸 후 잔존하는 것이 방지된 세정성이 높은 것이 된다.

또한, 이 세정 장치에 있어서는, 각각의 상기 스퀴지에 대응하여 복수의 상기 토출구가 형성되어 있고, 슬라이딩 방향 선두의 상기 스퀴지에 대응하는 상기 토출구의 수는, 슬라이딩 방향 후방의 상기 스퀴지에 대응하는 상기 토출구의 수보다 많은 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 액상체가 많이 존재하는 슬라이딩 방향 선두측에 세정액을 많이 토출하고, 예비 토출면 상을 복수의 스퀴지가 슬라이딩함으로써 액상체를 확실히 긁어낼 수 있다. 따라서, 액상체를 긁어낸 후 잔존하는 것이 억제되어, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

본 발명의 제 12 양태 (aspect) 는, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 방법으로서, 액상체가 도포된 대략 평면의 상기 예비 토출면을 슬라이딩하는 스퀴지의 상기 슬라이딩 방향측의 면에 세정액을 공급하면서, 상기 스퀴지에 의해 상기 세정액과 함께 상기 액상체를 긁어내는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 12 양태의 세정 방법에 의하면, 스퀴지의 슬라이딩 방향측의 면에 공급한 세정액에 의해 액상체를 희석화시키면서 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 액상체를 양호하게 긁어낼 수 있다. 또한, 세정액 공급부로부터 세정액을 예비 토출면 상에 선택적으로 공급하고 있으므로 세정액의 사용량을 억제할 수 있다.

또한, 상기 세정 방법은, 상기 스퀴지의 상기 면 상의 복수 지점에 상기 세정액을 공급하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 예비 토출면 상에 세정액을 양호하게 토출할 수 있어, 높은 세정성을 얻을 수 있게 된다.

이 때, 상기 스퀴지의 상기 면 상에 있어서, 적어도 인접하는 위치에 공급되어 상기 면 상을 이동하는 상기 세정액이 상기 스퀴지의 선단에 이르러 일체화되도록 상기 세정액을 공급하는 것이 보다 바람직하다.

이 구성에 의하면, 스퀴지 선단에서 세정액이 일체화되므로 스퀴지와 예비 토출면의 접촉단 전체 영역에 걸쳐 세정액을 공급할 수 있다. 따라서, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

또한, 상기 세정 방법은, 복수의 상기 스퀴지를 사용함과 함께, 복수의 상기 스퀴지를 이들의 배열 방향으로 슬라이딩하여 상기 예비 토출면을 세정할 때, 적어도 슬라이딩 방향 최후미에 위치하는 상기 스퀴지를 제외한 그 밖의 상기 스퀴지에 대해 상기 세정액을 공급하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 슬라이딩 방향 최후미의 스퀴지를, 예비 토출면 상을 슬라이딩할 때 그 밖의 스퀴지에 의해 잔존하는 액상체를 긁어내는 최종 스퀴지로서 기능시킬 수 있다. 따라서, 예비 토출면 상의 액상체를 긁어낸 후 잔존하는 것이 방지된 세정성의 높은 것이 된다.

또한, 상기 세정 방법은, 복수의 상기 스퀴지를 사용함과 함께, 복수의 상기 스퀴지를 이들의 배열 방향으로 슬라이딩하여 상기 예비 토출면을 세정할 때, 슬라이딩 방향의 선두측에 위치하는 상기 스퀴지에 대한 상기 세정액의 공급량을 그 밖의 상기 스퀴지에 대한 상기 세정액의 공급량보다 많게 하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 슬라이딩 방향 선두측의 스퀴지에 세정액을 많이 공급함과 함께, 예비 토출면 상을 전체 스퀴지가 슬라이딩함으로써, 세정액과 함께 액상체를 확실히 긁어낼 수 있다.

본 발명의 제 13 양태 (aspect) 는, 상기 세정 장치를 구비한 예비 토출 장치이다.

본 발명의 제 13 양태의 예비 토출 장치에 의하면, 높은 세정성을 갖는 세정 장치를 구비하고 있으므로, 예비 토출면을 양호하게 세정함으로써 예비 토출 동작을 확실히 실시할 수 있는 고신뢰성의 것이 된다.

본 발명의 제 14 양태 (aspect) 는, 상기 예비 토출 장치를 구비한 도포 장치이다.

본 발명의 제 14 양태의 도포 장치에 의하면, 예비 토출면에 있어서의 높은 세정성을 갖는 예비 토출 장치를 구비하고 있으므로, 예비 토출 동작을 양호하게 실시함으로써 도포부를 항상 양호한 상태로 유지할 수 있고, 균일한 막 두께로 액상체의 도포를 실시할 수 있다.

본 발명에 의하면, 예비 토출 동작시에 프라이밍 롤러를 사용하지 않는 예비 토출 장치에 있어서도, 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지에 의해 당해 예비 토출면 상의 액상체를 양호하게 긁어냄으로써, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

도 1 은 예비 토출 기구의 개략 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 2 는 예비 토출면 세정 유닛의 개략 구성도이다.
도 3 은 스퀴지 헤드부에 있어서의 스퀴지의 부착 상태를 나타내는 간략도이다.
도 4 는 스퀴지 헤드부의 정면 구조의 개략도이다.
도 5 는 토출구로부터 토출되는 세정액 상태를 나타내는 도면이다.
도 6 은 아암부의 주변 구성을 나타내는 확대도이다.
도 7a 는 예비 토출 유닛의 개략 구성을 나타내는 평면도이다.
도 7b 는 예비 토출 유닛의 개략 구성을 나타내는 측면도이다.
도 8 은 스퀴지 세정 기구의 구성을 나타내는 도면이다.
도 9 는 도포 장치의 사시도이다.
도 10 은 도포 장치의 정면도이다.
도 11 은 도포 장치의 평면도이다.
도 12 는 도포 장치의 측면도이다.
도 13 은 관리부의 개략 구성을 나타내는 측면도이다.
도 14 는 도포 장치의 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 15 는 도 14 에 이어지는 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 16 은 도 15 에 이어지는 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 17 은 도 16 에 이어지는 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 18 은 도포부의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 19 는 도포부의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 20 은 도포 장치의 변형예를 나타내는 도면이다.

이하, 도면에 기초하여 본 발명의 실시형태 (embodiment) 를 설명한다. 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1) 는, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 예를 들어 액정 패널 등에 사용되는 유리 기판 상에 레지스트를 도포하는 도포 장치로서, 종래의 프라이밍 롤러를 대신하는 예비 토출면 상에 레지스트의 예비 토출을 실시하여, 당해 예비 토출면의 양호한 세정을 가능하게 하는 것이다. 도포 장치 (1) 는, 기판 반송부 (2) 와, 도포부 (3) 와, 관리부 (4) 를 주요한 구성 요소로 하고, 기판 반송부 (2) 에 의해 기판을 부상시켜 반송하면서 도포부 (3) 에 의해 당해 기판 상에 레지스트가 도포되도록 되어 있고, 관리부 (4) 에 의해 도포부 (3) 의 상태가 관리되도록 되어 있다.

(관리부)

먼저, 관리부 (4) 의 구성에 대하여 도 9 ∼ 13 을 참조하여 설명한다.

관리부 (4) 는, 기판 (S) 에 토출되는 레지스트 (액상체) 의 토출량이 일정해지도록 노즐 (32) 을 관리하는 부위이며, 기판 반송부 (2) 에 평면에서 볼 때 겹쳐지도록 도포부 (3) 에 대해 -X 방향측 (기판 반송 방향의 상류측) 에 형성되어 있다. 이 관리부 (4) 는, 예비 토출 기구 (예비 토출 장치) (42) 와, 딥조 (41) 와, 노즐 세정 장치 (43) 와, 이들을 수용하는 수용부 (44) 와, 당해 수용부 (44) 를 유지하는 유지 부재 (45) 를 갖고 있다. 유지 부재 (45) 는, 이동 기구 (45a) 에 접속되어 있다. 당해 이동 기구 (45a) 에 의해, 수용부 (44) 가 X 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다.

예비 토출 기구 (42), 딥조 (41) 및 노즐 세정 장치 (43) 는, -X 방향측에 이 순서로 배열되어 있다. 이들 예비 토출 기구 (42), 딥조 (41) 및 노즐 세정 장치 (43) 의 Y 방향의 각 치수는 상기 도어형 프레임 (31) 의 지주 부재 (31a) 사이의 거리보다 작게 되어 있고, 상기 도어형 프레임 (31) 이 각 부위에 걸쳐 액세스할 수 있도록 되어 있다 (도 14 참조).

딥조 (41) 는, 내부에 시너 등의 용제가 저류된 액체조이다. 노즐 세정 장치 (43) 는, 노즐 (32) 개구부 (32a) 의 주변 영역을 린스 세정하는 장치이다.

이하, 예비 토출 기구 (42) 의 구성에 대하여 도면을 참조하면서 상세히 설명한다. 도 1 은 예비 토출 기구 (42) 의 개략 구성을 설명하기 위한 도면이다.

도 1 에 나타나는 바와 같이, 예비 토출 기구 (42) 는 노즐 (32) (도포부 (3)) 의 예비 토출 동작에 사용되는 것으로서, 레지스트의 예비 토출을 실시하기 위한 예비 토출면 (81) 을 갖는 예비 토출 유닛 (103) 과, 이 예비 토출면 (81) 을 세정하는 예비 토출면 세정 유닛 (세정 장치) (100) 을 가지고 있다.

예비 토출 유닛 (103) 은, 예를 들어 SUS, 석재, 유리 등으로 구성되는 판상의 예비 토출 플레이트 (80) 를 구비하고 있고, 이 예비 토출 플레이트 (80) 에 있어서의 일방의 면이 상기 예비 토출면 (81) 을 구성하고 있다. 예비 토출 플레이트 (80) 는 그 길이 방향이 노즐의 길이 방향에 일치하고 있다.

예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 레지스트 (R) 가 도포된 상기 예비 토출면 (81) 상을 이동함으로써 세정 처리를 실시하는 것으로 예비 토출면 (81) 상을 슬라이딩하여 레지스트 (R) 를 긁어내는 스퀴지 (110) 를 가지고 있다.

(예비 토출면 세정 유닛)

도면을 참조하면서 예비 토출면 세정 유닛 (100) 의 개략 구성에 대하여 설명한다. 도 2 는 예비 토출면 세정 유닛 (100) 의 개략도를 나타내는 것이다. 또한, 도 2 는 예비 토출면 세정 유닛 (100) 이 예비 토출면 (81) 상에 배치된 상태를 도시하는 것이다.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 스퀴지 헤드부 (105) 와, 당해 스퀴지 헤드부 (105) 를 지지함과 함께 당해 스퀴지 헤드부 (105) 를 예비 토출면 (81) 에 대해 이동할 수 있게 하는 아암부 (101) 와, 예비 토출면 (81) 을 향하여 공기 (기체) 를 분출하는 건조부 (건조 기구) (120) 와, 상기 예비 토출면 (81) 에 잔존하는 액상체를 흡인하는 흡인부 (흡인 기구) (130) 를 구비하고 있다.

상기 스퀴지 헤드부 (105) 는, 상기 예비 토출면 (81) 에 세정액을 토출하는 적어도 1 개의 토출구 (102) 와, 레지스트가 도포된 예비 토출면 (81) 상을 슬라이딩하여 세정액을 긁어내는 3 개의 스퀴지 (110) 와, 상기 각 토출구 (102) 로부터 토출되는 세정액의 토출량을 제어하는 제어부 (140) 를 구비하여 구성된다.

이하의 설명을 알기 쉽게 하기 위해, 상기 스퀴지 (110) 에 대하여, 슬라이딩 방향측으로부터 순서대로 제 1 스퀴지 (110a), 제 2 스퀴지 (110b) 및 최종 스퀴지 (110c) 라고 칭한다.

이들 스퀴지 (110) (110a, 110b, 110c) 는, 평면에서 볼 때 직사각형 형상의 판상 부재로 구성되어 있고, 그 구성 재료로는 예비 토출면 (81) 상에 도포되는 레지스트를 긁어낼 수 있으면 각종의 것을 채용할 수 있는데, 본 실시형태에서는 예를 들어 폴리에스테르가 사용된다. 스퀴지 (110) 의 길이는 예비 토출면 (81) 의 폭과 동등 이상으로 설정되고, 이로써 스퀴지 (110) 가 예비 토출면 (81) 상에 도포된 레지스트를 긁어낼 수 있다.

또 스퀴지 (110) 는, 예비 토출면 (81) 에 대해 15°이상 50°이하 기울어진 상태 (보다 바람직하게는 45°기울어진 상태) 로 스퀴지 헤드부 (105) 에 부착하는 것이 바람직하고, 이와 같은 각도 범위로 설정함으로써 예비 토출면 (81) 상을 슬라이딩 하는 스퀴지 (110) 에 의해 높은 세정성이 얻어지도록 되어 있다. 구체적으로 본 실시형태에서는 상기 기울기 각도를 45°로 하였다. 즉, 스퀴지 (110) 는 서로 대략 평행한 자세로 슬라이딩 방향으로 배치된 것으로 되어 있다.

도 1 에 나타낸 바와 같이, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은 예비 토출면 (81) 상을 이동할 수 있고, 스퀴지 헤드부 (105) 에 유지된 스퀴지 (110) 는 상기 예비 토출면 (81) 상을 슬라이딩하도록 되어 있다. 도 3 은 스퀴지 헤드부 (105) 에 있어서의 스퀴지 (110) 의 부착 상태를 나타낸 것이다. 동 도면에 나타내는 스퀴지 (110) 는 예비 토출면 (81) 에 대한 접촉단이다.

도 3 에 나타내는 바와 같이, 상기 스퀴지 (110) 는, 예비 토출면 (81) 과의 접촉단의 길이 방향을 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 스퀴지 헤드부 (105) 에 지지된다. 구체적으로는, 접촉단의 길이 방향과 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향의 교차 각도를 85°이하로 하는 것이 바람직하다 (본 실시형태에서는 80°로 설정하였다).

따라서, 각 스퀴지 (110) 는 서로 대략 평행한 자세로 슬라이딩 방향으로 배치된 것으로 되어 있다.

도 2 에 나타낸 바와 같이 스퀴지 헤드부 (105) 에는, 제 1 스퀴지 (110a), 및 제 2 스퀴지 (110b) 사이에 공극 (107) 이 형성되도록 되어 있다. 또한 스퀴지 헤드부 (105) 에는, 상기 공극 (107) 에 연통하는 세정액 공급관 (106a) 이 형성되어 있다.

*도 4 에 나타내는 바와 같이, 상기 세정액 공급관 (106a) 은, 스퀴지 헤드부 (105) 의 길이 방향을 따라 형성되어 있고, 본 실시형태에서는 예를 들어 10 개의 공극 (107) 에 세정액을 공급하도록 되어 있다. 이 공극 (107) 은 각각 등간격으로 배치되어 있다. 또한, 상기 공극 (107) 의 수는 이것에 한정되지 않고, 적절히 변경할 수 있다. 또한, 스퀴지 헤드부 (105) 의 측부 (동 도면 중, 우측) 에는, 상기 세정액 공급관 (106a) 에 접속되는 세정액 공급 수단 (106) 이 형성되어 있다. 이 세정액 공급 수단 (106) 은, 예를 들어 시너 등의 세정액이 충전된 세정 액조 (도시 생략) 로부터 세정액을 흡인함과 함께 상기 세정액 공급관 (106a) 에 세정액을 공급하는 펌프 등에 의해 구성된다.

상기 세정액 공급 수단 (106) 에는, 각 토출구 (102) 로부터 토출되는 세정액의 토출량을 제어하는 제어부 (140) 가 전기적으로 접속되어 있다. 그리고, 제어부 (140) 로부터의 전기 신호에 기초하여 세정액 공급 수단 (106) 을 조절하고, 세정액 공급관 (106a) 을 거쳐 각 토출구 (102) 로부터 토출되는 세정액의 토출량을 조정할 수 있게 되어 있다. 본 실시형태에서는 상기 제어부 (140) 는 제 1 토출구 (102a) 및 제 2 토출구 (102b) 로부터 토출되는 세정액의 양이 동등해지도록 상기 세정액 공급 수단 (106) 을 조정하고 있다.

따라서, 세정액 공급 수단 (106) 에 의해 흡인된 세정액을 세정액 공급관 (106a) 으로부터 공극 (107) 에 유입시킴으로써 세정액이 토출되는 상기 토출구 (102) (세정액 공급부) 가 구성된다. 토출구 (102) 로부터 토출된 세정액은, 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향측의 면을 전달하여 예비 토출면 (81) 상에 공급 (토출) 된다.

본 실시형태에 관련된 스퀴지 헤드부 (105) 는, 상기 스퀴지 (110) 중, 슬라이딩 방향 최후미 (최종 스퀴지 (110c)) 를 제외한 제 1 스퀴지 (110a) 및 제 2 스퀴지 (110b) 에 대응하여 제 1 토출구 (102a) 와 제 2 토출구 (102b) 가 각각 10 개 형성되어 있다. 또한, 토출구 (102) 의 수는 이것에 한정되지 않고, 적절히 변경할 수 있다.

스퀴지에 대응하는 토출구 (102) 란, 스퀴지 (110) 근방에 형성되어, 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향측의 예비 토출면 (81) 상에 세정액을 토출 (공급) 하는 것을 의미한다.

본 실시형태에서는, 상기 제 1· 제 2 토출구 (102a, 102b) 가 각각 등간격으로 배치되어 있고, 이로 인해 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향측의 면에 세정액을 균일하게 배치시킬 수 있도록 되어 있다. 또한 토출구 (102a, 102b) 는, 도 5 에 나타내는 바와 같이 인접하는 토출구 (102) 로부터 토출되어, 스퀴지 (110) 면 상을 이동하는 세정액은 서로 스퀴지 (110) 의 선단에 이르러 일체화되도록 공극 (107) 이 스퀴지 헤드부 (105) 에 형성되어 있다.

*다음으로, 스퀴지 헤드부 (105) 를 지지하는 아암부 (101) 의 구성에 대하여 설명한다. 도 6 은 아암부 (101) 의 주변 구조를 나타내는 확대도이다.

아암부 (101) 는 SUS 등의 금속 플레이트를 주체로 하여 구성되는 것으로, 도 6 에 나타내는 바와 같이 상기 스퀴지 헤드부 (105) 를 지지하는 크로스 롤러 베어링 (요동 기구) (150) 이 형성되어 있다. 크로스 롤러 베어링 (150) 은, 내륜과 외륜 사이에 굴림대를 직교시켜 배열하고, 상기 스퀴지 헤드부 (105) 를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지할 수 있는 것이다. 또한, 요동 기구로서는, 상기 크로스 롤러 베어링 (150) 에 한정되지 않고, 예를 들어 스퀴지 헤드부 (105) 를 소정 방향 (스퀴지 (110) 의 길이 방향) 으로 요동할 수 있게 하는 베어링 기구이면 각종의 것을 사용할 수 있다.

또한, 아암부 (101) 에는 개구부 (108) 가 형성되어 있고, 이 개구부 (108) 에 삽입됨으로써 크로스 롤러 베어링 (150) 은 아암부 (101) 의 하면 (예비 토출면 (81) 에 대향되는 면) 측으로부터 상면측으로 통과한 상태로 되어 있다.

크로스 롤러 베어링 (150) 은, 아암부 (101) 의 상면측에 고정 배치된 축부 (152) 에 지지되어 있다. 따라서, 크로스 롤러 베어링 (150) 은, 축부 (152) 를 따라 회전 가능해져 아암부 (101) 에 대해 자유롭게 요동할 수 있도록 되어 있다.

크로스 롤러 베어링 (150) 에는, 스퀴지 헤드부 (105) 의 부착용 부착판 (151) 이 형성되어 있다. 스퀴지 헤드부 (105) 는, 아암부 (101) 의 하면측에 배치된 상기 부착판 (151) 에 볼트 (B2) 에 의해 고정되어 있다. 따라서, 스퀴지 헤드부 (105) 는, 상기 크로스 롤러 베어링 (150) 에 의해 자유롭게 요동할 수 있도록 형성된 것으로 되어 있다.

이 구성에 의해, 스퀴지 헤드부 (105) 가 회전 (요동) 함으로써 스퀴지 (110) 를 예비 토출면 (81) 상에 확실히 접촉시킬 수 있어, 양호하게 슬라이딩할 수 있도록 되어 있다.

건조부 (120) 는, 도 2 에 나타낸 바와 같이 스퀴지 헤드부 (105) 에 대해 슬라이딩 방향의 반대측에 형성되고, 외부로부터 플랜지를 사용하여 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향으로 공기를 얇게 평판상 (예를 들어, 에어 나이프 방식) 으로 분출시킴으로써 예비 토출면 (81) 의 건조 처리를 실시하는 것이다.

흡인부 (130) 는, 상기 건조부 (120) 에 대해, 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향의 반대측에 병설하여 형성되어 있다. 흡인부 (130) 에는 예를 들어 플랜지를 통해 도시 생략된 흡인 펌프가 접속되어 있고, 이 흡인 펌프를 제어함으로써 흡인압을 조정할 수 있도록 되어 있다. 이 흡인부 (130) 는, 예비 토출면 (81) 상에 잔존하는 레지스트를 흡인하는 것이다. 또한, 흡인부 (130) 는, 예비 토출면 상에 잔존하는 레지스트 뿐만 아니라, 세정액이나 세정액과 레지스트가 혼합된 폐수를 흡인할 수 있도록 되어 있어, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 에 있어서의 세정성을 향상시키고 있다.

이와 같이 흡인부 (130) 와 건조부 (120) 를 병설시킴으로써, 건조부 (120) 로부터 분출된 공기에 의해 예비 토출면 (81) 을 건조시키면서, 예비 토출면 (81) 근방의 분위기를 흡인함으로써 공기 분사 (분출) 에 의해 예비 토출면 (81) 상에 이물질 (쓰레기 등) 이 비산하는 것을 방지할 수 있도록 되어 있다.

(예비 토출 유닛)

다음으로 상기 예비 토출 유닛 (103) 의 구성에 대하여 설명한다. 도 7a 및 7B 는 예비 토출 유닛 (103) 의 개략 구성을 나타내고, 도 7a 는 평면도, 도 7b 는 측면도이다.

도 7a 및 7B 에 나타내는 바와 같이, 예비 토출 유닛 (103) 은, 노즐 (32) (도포부 (3)) 의 예비 토출 동작에 의해 레지스트가 도포되는 예비 토출면 (81) 을 갖는 예비 토출 플레이트 (80) 를 주체로 하여 구성되고, 상기 예비 토출면 (81) 이 수평이 되도록 상기 예비 토출 플레이트 (80) 가 유지되고 있다. 그리고, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 의 스퀴지 (110) 가 예비 토출면 (81) 상을 슬라이딩하도록 되어 있다.

본 실시형태에서는, 상기 서술한 바와 같이 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 예비 토출면 (81) 과의 접촉단의 길이 방향을 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 기울인 자세로 스퀴지 (110) 를 유지하고 있다 (도 3 참조). 이 때문에, 레지스트가 도포된 예비 토출면 (81) 상을 스퀴지 (110) 가 슬라이딩하면, 스퀴지 (110) 에 의해 긁어내어진 레지스트는 스퀴지 (110) 의 길이 방향에 있어서의 슬라이딩 방향 후방 (도 7a 참조) 으로 대부분 밀려 나간다. 본 실시형태에 관련된 예비 토출 유닛 (103) 은, 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 동작에 의해 스퀴지 (110) 의 측단측에 유출된 레지스트를 배출하는 측방 배출부 (93) 를 구비하고 있다.

측방 배출부 (93) 는 예비 토출면 (81) 을 갖는 예비 토출 플레이트 (80) 에 일체로 형성되어 있어도 되고, 별도의 부재로 구성되어 있어도 된다. 본 실시형태에서는 예비 토출 플레이트 (80) 의 측방에 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향으로 연장되는 슬릿상의 측홈부 (93a) 를 형성하여, 측방 배출부 (93) 를 일체로 형성하였다.

도 7b 에 나타내는 바와 같이, 측방 배출부 (93) 에는 레지스트를 흡인하는 흡인 회수 기구 (95) 가 형성되어 있다. 이 흡인 회수 기구 (95) 로서는, 예를 들어 흡인 펌프가 사용된다. 상기 측홈부 (93a) 는, 상기 흡인 회수 기구 (95) 에 접속된 흡인구 (95a) 와, 이 흡인구 (95a) 를 향하여 하강하는 경사면 (93b) 을 갖는 4 개의 영역이 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향을 따라 배열됨으로써 구성되어 있다. 이 구성에 의해, 측방 배출부 (93) 는 측홈부 (93a) 에 배출된 레지스트를 경사면 (93b) 을 따라 흡인구 (95a) 측에 흐르기 쉽도록 함과 함께, 흡인구 (95a) 로부터 레지스트를 양호하게 배출할 수 있도록 되어 있다.

그런데, 상기 서술한 바와 같이 스퀴지 (110) 에 의해 긁어낸 레지스트는 예비 토출면 (81) 의 측방 (측방 배출부 (93)) 으로 이동되는데, 일부의 레지스트가 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향 전방으로 이동한다.

그래서, 본 실시형태에 관련된 예비 토출 유닛 (103) 은, 도 7a 및 7B 에 나타내는 바와 같이 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 동작에 의해 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향 전방으로 이동된 레지스트를 배출하는 전방 배출부 (92) 를 구비하고 있다. 전방 배출부 (92) 는 레지스트를 흡인하는 흡인 회수 기구 (95) 를 갖고 있다. 또한, 도시되지 않았지만 상기 측방 배출부 (93) 와 동일하게, 흡인 회수 기구 (95) 에 접속되어 흡인구 (95a) 를 향하여 하강하는 경사면 (93b) 을 갖는 측홈부를 전방 배출부 (92) 에 형성해도 된다. 또한, 상기 서술한 바와 같은 측홈부는 측방 배출부 (93) 및 전방 배출부 (92) 의 적어도 일방에 형성하도록 해도 된다.

또한, 예비 토출 유닛 (103) 은, 예비 토출면 (81) 의 측방에 예비 토출면 세정 유닛 (100) 을 탑재하는 대기부 (91) 가 형성되어 있다. 대기부 (91) 는, 예비 토출면 (81) 상에 노즐 (32) 로부터 레지스트가 예비 토출되어 있는 동안, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 을 대기시켜 두는 부재이다. 구체적으로 본 실시형태에서는, 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향 후방에 대기부 (91) 가 형성되어 있고, 예비 토출면 (81) 의 세정시에 예비 토출 유닛 (103) 을 대기부 (91) 로부터 예비 토출면 (81) 까지 단시간에 이동할 수 있도록 하고 있다.

대기부 (91) 는, 상기 예비 토출면 세정 유닛 (100) 을 탑재시키는 탑재면 (91a) 을 갖고 있다 (도 1 참조). 탑재면 (91a) 은, 예를 들어 예비 토출면 (81) 과 동등 또는 그보다 낮은 위치에 예비 토출면 세정 유닛 (100) 을 대기시키도록 되어 있다. 특히 탑재면 (91a) 이 예비 토출면 (81) 보다 낮은 위치에 예비 토출 세정 유닛 (100) 을 대기시킴으로써, 예비 토출 동작시에 예비 토출면 (81) 상으로 이동되는 노즐 (32) 과 예비 토출면 세정 유닛 (100) 의 간섭을 방지할 수 있다.

상기 탑재면 (91a) 은 도 8 에 나타내는 바와 같이, 단면에서 볼 때 요철 구조로 이루어지고, 이 요철 구조가 스퀴지 청소 기구 (94) 를 구성하고 있다. 스퀴지 청소 기구 (94) 는, 예비 토출면 (81) 의 세정 후, 상기 요철 구조에 의해 스퀴지 (110) 에 부착된 레지스트의 세정 등에 의한 제거 기능을 갖는 것이다.

(도포 장치)

다음으로, 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1) 에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1) 는, 상기 서술한 예비 토출 기구 (예비 토출 장치) (42) 를 구비하고 있다. 도 9 는 도포 장치 (1) 의 사시도, 도 10 은 도포 장치 (1) 의 정면도, 도 11 은 도포 장치 (1) 의 평면도, 도 12 는 도포 장치 (1) 의 측면도이다.

도 9 ∼ 12 에 나타내는 바와 같이, 도포 장치 (1) 는 기판 반송부 (2) 와, 도포부 (3) 와, 상기 관리부 (4) 를 주요한 구성 요소로 하고, 기판 반송부 (2) 에 의해 기판을 부상시켜 반송하면서 도포부 (3) 에 의해 당해 기판 상에 레지스트가 도포되도록 되어 있고, 상기 관리부 (4) 에 의해 도포부 (3) 상태를 관리하는 것이다.

(기판 반송부)

먼저, 기판 반송부 (2) 의 구성을 설명한다.

기판 반송부 (2) 는, 기판 반입 영역 (20) 과, 도포 처리 영역 (21) 과, 기판 반출 영역 (22) 과, 반송 기구 (23) 와, 이들을 지지하는 프레임부 (24) 를 갖고 있다. 이 기판 반송부 (2) 에서는, 반송 기구 (23) 에 의해 기판 (S) 이 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 의 순서대로 반송되도록 되어 있다. 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 은, 기판 반송 방향의 상류측으로부터 하류측으로 이 순서대로 배열되어 있다. 반송 기구 (23) 는, 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 의 각 부에 걸치도록 당해 각 부의 일 측방에 형성되어 있다.

이하, 도포 장치 (1) 의 구성을 설명함에 있어, 표기를 간단히 하기 위해, 도면 중의 방향을 XYZ 좌표계를 사용하여 설명한다. 기판 반송부 (2) 의 길이 방향으로서 기판의 반송 방향을 X 방향으로 표기한다. 평면에서 볼 때 X 방향 (기판 반송 방향) 에 직교하는 방향을 Y 방향으로 표기한다. X 방향축 및 Y 방향축을 포함하는 평면에 수직인 방향을 Z 방향이라고 표기한다. 또한, X 방향, Y 방향 및 Z 방향 각각은, 도면 중의 화살표의 방향이 ＋ 방향, 화살표의 방향과는 반대 방향이 - 방향인 것으로 한다.

기판 반입 영역 (20) 은, 장치 외부로부터 반송된 기판 (S) 을 반입하는 부위로서, 반입측 스테이지 (25) 와 리프트 기구 (26) 를 갖고 있다.

반입측 스테이지 (25) 는, 프레임부 (24) 의 상부에 형성되어 있고, 예를 들어 SUS 등으로 이루어지는 평면에서 볼 때 직사각형의 판상 부재이다. 이 반입측 스테이지 (25) 는, X 방향이 길이로 되어 있다. 반입측 스테이지 (25) 에는, 에어 분출공 (25a) 과, 승강핀 출몰공 (25b) 이 각각 복수 형성되어 있다. 이들 에어 분출공 (25a) 및 승강핀 출몰공 (25b) 은, 반입측 스테이지 (25) 를 관통하도록 형성되어 있다.

에어 분출공 (25a) 은, 반입측 스테이지 (25) 의 스테이지 표면 (25c) 상에 에어를 분출하는 구멍으로서, 예를 들어 반입측 스테이지 (25) 중 기판 (S) 이 통과하는 영역에 평면에서 볼 때 매트릭스상으로 배치되어 있다. 이 에어 분출공 (25a) 에는 도시하지 않는 에어 공급원이 접속되어 있다. 이 반입측 스테이지 (25) 에서는, 에어 분출공 (25a) 으로부터 분출되는 에어에 의해 기판 (S) 을 ＋Z 방향으로 부상시킬수 있도록 되어 있다.

승강핀 출몰공 (25b) 은, 반입측 스테이지 (25) 중 기판 (S) 이 반입되는 영역에 형성되어 있다. 당해 승강핀 출몰공 (25b) 은, 스테이지 표면 (25c) 에 공급된 에어가 누출되지 않는 구성으로 되어 있다.

이 반입측 스테이지 (25) 중 Y 방향의 양단부에는, 얼라이먼트 장치 (25d) 가 1 개씩 형성되어 있다. 얼라이먼트 장치 (25d) 는, 반입측 스테이지 (25) 에 반입된 기판 (S) 의 위치를 맞추는 장치이다. 각 얼라이먼트 장치 (25d) 는 장공 (長孔) 과 당해 장공 내에 형성된 위치 맞춤 부재 (도시하지 않음) 를 갖고 있으며, 반입 스테이지 (25) 에 반입되는 기판을 양측으로부터 기계적으로 협지하도록 되어 있다.

리프트 기구 (26) 는, 반입측 스테이지 (25) 의 이면측에 기판 반입 위치에 대응하는 위치에 형성되어 있다. 이 리프트 기구 (26) 는, 승강 부재 (26a) 와, 복수의 승강핀 (26b) 을 갖고 있다. 승강 부재 (26a) 는, 도시하지 않은 구동 기구에 접속되어 있고, 당해 구동 기구의 구동에 의해 승강 부재 (26a) 가 Z 방향으로 이동하도록 되어 있다. 복수의 승강핀 (26b) 은, 승강 부재 (26a) 의 상면으로부터 반입측 스테이지 (25) 를 향하여 세워 설치되어 있다. 각 승강핀 (26b) 은, 각각 상기 승강핀 출몰공 (25b) 에 평면에서 볼 때 겹쳐지는 위치에 배치되어 있다.

승강 부재 (26a) 가 Z 방향으로 이동함으로써, 각 승강핀 (26b) 이 승강핀 출몰공 (25b) 으로부터 스테이지 표면 (25c) 상에 출몰하도록 되어 있다. 각 승강핀 (26b) 의 ＋Z 방향의 단부는 각각 Z 방향 상의 위치가 일치하도록 형성되어 있고, 장치 외부로부터 반송된 기판 (S) 을 수평 상태로 유지할 수 있도록 되어 있다.

도포 처리 영역 (21) 은, 레지스트가 도포되는 부위로서, 기판 (S) 을 부상 지지하는 처리 스테이지 (27) 가 형성되어 있다.

처리 스테이지 (27) 는, 스테이지 표면 (27c) 이 예를 들어 경질 알루마이트를 주성분으로 하는 광 흡수 재료로 덮인 평면에서 볼 때 직사각형의 판상 부재이며, 반입측 스테이지 (25) 에 대해 ＋X 방향측으로 형성되어 있다. 처리 스테이지 (27) 중 광 흡수 재료로 덮인 부분에서는, 레이저광 등의 광반사가 억제되도록 되어 있다. 이 처리 스테이지 (27) 는, Y 방향이 길이로 되어 있다. 처리 스테이지 (27) 의 Y 방향의 치수는, 반입측 스테이지 (25) 의 Y 방향의 치수와 거의 동일하게 되어 있다. 처리 스테이지 (27) 에는, 스테이지 표면 (27c) 상에 에어를 분출하는 복수의 에어 분출공 (27a) 과, 스테이지 표면 (27c) 상의 에어를 흡인하는 복수의 에어 흡인공 (27b) 이 형성되어 있다. 이들 에어 분출공 (27a) 및 에어 흡인공 (27b) 은, 처리 스테이지 (27) 를 관통하도록 형성되어 있다.

처리 스테이지 (27) 에서는, 에어 분출공 (27a) 의 피치가 반입측 스테이지 (25) 에 형성되는 에어 분출공 (25a) 의 피치보다 좁고, 반입측 스테이지 (25) 에 비해 에어 분출공 (27a) 이 조밀하게 형성되어 있다. 이 때문에, 이 처리 스테이지 (27) 에서는 그 밖의 스테이지에 비해 기판의 부상량을 고정밀도로 조절할 수 있도록 되어 있고, 기판의 부상량이 예를 들어 100㎛ 이하, 바람직하게는 50㎛ 이하가 되도록 제어할 수 있도록 되어 있다.

기판 반출 영역 (22) 은, 레지스트가 도포된 기판 (S) 을 장치 외부로 반출하는 부위로서, 반출측 스테이지 (28) 와 리프트 기구 (29) 를 갖고 있다. 이 반출측 스테이지 (28) 는, 처리 스테이지 (27) 에 대해 ＋X 방향측에 형성되어 있고, 기판 반입 영역 (20) 에 형성된 반입측 스테이지 (25) 와 거의 동일한 재질, 치수로 구성되어 있다. 반출측 스테이지 (28) 에는, 반입측 스테이지 (25) 와 동일하게, 에어 분출공 (28a) 및 승강핀 출몰공 (28b) 이 형성되어 있다. 리프트 기구 (29) 는, 반출측 스테이지 (28) 의 이면측에 기판 반출 위치에 대응하는 위치에 형성되어 있다. 리프트 기구 (29) 의 승강 부재 (29a) 및 승강핀 (29b) 은, 기판 반입 영역 (20) 에 형성된 리프트 기구 (26) 의 각 부위와 동일한 구성으로 되어 있다. 이 리프트 기구 (29) 는, 반출측 스테이지 (28) 상의 기판 (S) 을 외부 장치로 반출할 때, 기판 (S) 의 이동을 위해 승강핀 (29b) 에 의해 기판 (S) 을 들어올릴 수 있도록 되어 있다.

반송 기구 (23) 는, 반송기 (23a) 와, 진공 패드 (23b) 와, 레일 (23c) 을 갖고 있다. 반송기 (23a) 는 내부에 예를 들어 리니어 모터가 형성된 구성으로 되어 있고, 당해 리니어 모터가 구동함으로써 반송기 (23a) 가 레일 (23c) 상을 이동할 수 있도록 되어 있다.

이 반송기 (23a) 는, 소정 부분 (23d) 이 평면에서 볼 때 기판 (S) 의 -Y 방향 단부에 겹쳐지도록 배치되어 있다. 이 기판 (S) 과 겹치는 부분 (23d) 은, 기판 (S) 을 부상시켰을 때의 기판 이면의 높이 위치보다 낮은 위치에 형성되어 있다.

진공 패드 (23b) 는, 반송기 (23a) 중 상기 기판 (S) 에 겹치는 부분 (23d) 에 복수 배열되어 있다. 이 진공 패드 (23b) 는, 기판 (S) 을 진공 흡착시키는 흡착면을 갖고 있고, 당해 흡착면이 상방을 향하도록 배치되어 있다. 진공 패드 (23b) 는, 흡착면이 기판 (S) 의 이면 단부를 흡착함으로써 당해 기판 (S) 을 유지할 수 있도록 되어 있다. 각 진공 패드 (23b) 는 반송기 (23a) 의 상면으로부터의 높이 위치를 조절할 수 있도록 되어 있고, 예를 들어 기판 (S) 의 부상량에 따라 진공 패드 (23b) 의 높이 위치를 상하로 할 수 있도록 되어 있다. 레일 (23c) 은, 반입측 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28) 의 측방으로 각 스테이지에 걸쳐 연장되어 있고, 당해 레일 (23c) 을 슬라이딩함으로써 반송기 (23a) 가 당해 각 스테이지를 따라 이동할 수 있도록 되어 있다.

(도포부)

다음으로, 도포부 (3) 의 구성을 설명한다.

도포부 (3) 는, 기판 (S) 상에 레지스트를 도포하는 부분으로서, 도어형 프레임 (31) 과 노즐 (32) 을 갖고 있다.

도어형 프레임 (31) 은, 지주 부재 (31a) 와, 가교 부재 (31b) 를 갖고 있으며, 처리 스테이지 (27) 를 Y 방향으로 걸치도록 형성되어 있다. 지주 부재 (31a) 는 처리 스테이지 (27) 의 Y 방향측에 1 개씩 형성되어 있고, 각 지주 부재 (31a) 가 프레임부 (24) 의 Y 방향측의 양측면에 각각 지지되어 있다. 각 지주 부재 (31a) 는, 상단부의 높이 위치가 일치하도록 형성되어 있다. 가교 부재 (31b) 는, 각 지주 부재 (31a) 의 상단부 사이에 가교되어 있고, 당해 지주 부재 (31a) 에 대해 승강할 수 있도록 되어 있다.

이 도어형 프레임 (31) 은 이동 기구 (31c) 에 접속되어 있고, X 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 이 이동 기구 (31c) 에 의해 도어형 프레임 (31) 이 관리부 (4) 사이에서 이동할 수 있도록 되어 있다. 즉, 도어형 프레임 (31) 에 형성된 노즐 (32) 이 관리부 (4) 사이에서 이동할 수 있도록 되어 있다.

노즐 (32) 은, 일 방향이 길이의 장척상으로 구성되어 있고, 도어형 프레임 (31) 의 가교 부재 (31b) 의 -Z 방향측 면에 형성되어 있다. 이 노즐 (32) 중 -Z 방향의 선단에는 자신의 길이 방향을 따라 슬릿상의 개구부 (32a) 가 형성되어 있고, 당해 개구부 (32a) 로부터 레지스트가 토출되도록 되어 있다. 노즐 (32) 은, 개구부 (32a) 의 길이 방향이 Y 방향과 평행하게 됨과 함께, 당해 개구부 (32a) 가 처리 스테이지 (27) 에 대향하도록 배치되어 있다. 개구부 (32a) 의 길이 방향의 치수는 반송되는 기판 (S) 의 Y 방향의 치수보다 작게 되어, 기판 (S) 의 주변 영역에 레지스트가 도포되지 않도록 되어 있다. 노즐 (32) 의 내부에는 레지스트를 개구부 (32a) 에 유통시키는 도시하지 않는 유통로가 형성되어 있고, 이 유통로에는 도시하지 않는 레지스트 공급원이 접속되어 있다. 이 레지스트 공급원은 예를 들어 도시하지 않는 펌프를 갖고 있고, 당해 펌프로 레지스트를 개구부 (32a) 로 밀어냄으로써 개구부 (32a) 로부터 레지스트가 토출되도록 되어 있다. 지지 부재 (31a) 에는 도시하지 않는 이동 기구가 형성되어 있고, 당해 이동 기구에 의해 가교 부재 (31b) 에 유지된 노즐 (32) 이 Z 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 도어형 프레임 (31) 의 가교 부재 (31b) 의 하면에는, 노즐 (32) 의 개구부 (32a), 즉, 노즐 (32) 의 선단과 당해 노즐 선단에 대향하는 대향면 사이의 Z 방향 상의 거리를 측정하는 센서 (33) 가 부착되어 있다.

*(도포 장치의 동작)

다음으로, 상기와 같이 구성된 도포 장치 (1) 의 동작을 설명한다.

도 14 ∼ 도 17 은, 도포 장치 (1) 의 동작 과정을 나타내는 평면도이다. 각 도면을 참조하여 기판 (S) 에 레지스트를 도포하는 동작을 설명한다. 이 동작에서는, 기판 (S) 을 기판 반입 영역 (20) 에 반입하고, 당해 기판 (S) 을 부상시켜 반송하면서 도포 처리 영역 (21) 에서 레지스트를 도포하고, 당해 레지스트를 도포한 기판 (S) 을 기판 반출 영역 (22) 으로부터 반출한다. 도 14 ∼ 도 17 에는 도어형 프레임 (31) 의 윤곽만을 쇄선으로 나타내어, 노즐 (32) 및 처리 스테이지 (27) 의 구성을 판별하기 쉽도록 하였다. 이하, 각 부분에 있어서의 상세한 동작을 설명한다.

기판 반입 영역 (20) 에 기판을 반입하기 전에 도포 장치 (1) 를 스탠바이시켜 둔다. 구체적으로는, 반입측 스테이지 (25) 의 기판 반입 위치의 -Y 방향측에 반송기 (23a) 를 배치시켜, 진공 패드 (23b) 의 높이 위치를 기판의 부상 높이 위치에 맞춰둠과 함께, 반입측 스테이지 (25) 의 에어 분출공 (25a), 처리 스테이지 (27) 의 에어 분출공 (27a), 에어 흡인공 (27b) 및 반출측 스테이지 (28) 의 에어 분출공 (28a) 으로부터 각각 에어를 분출 또는 흡인하고, 각 스테이지 표면에 기판이 부상하는 정도로 에어가 공급된 상태로 해 둔다.

이 상태에서, 예를 들어 도시하지 않는 반송 아암 등에 의해 외부로부터 도 14 에 나타내는 기판 반입 위치에 기판 (S) 이 반송되면, 도 10 에 나타낸 승강 부재 (26a) 를 ＋Z 방향으로 이동시켜 승강핀 (26b) 을 승강핀 출몰공 (25b) 으로부터 스테이지 표면 (25c) 에 돌출시킨다. 그리고, 승강핀 (26b) 에 의해 기판 (S) 이 들어올려져, 당해 기판 (S) 이 수취된다. 또한, 얼라이먼트 장치 (25d) 의 장공으로부터 위치 맞춤 부재를 스테이지 표면 (25c) 에 돌출시켜 둔다.

기판 (S) 을 수취한 후, 승강 부재 (26a) 를 하강시켜 승강핀 (26b) 을 승강핀 출몰공 (25b) 내에 수용한다. 이 때, 스테이지 표면 (25c) 에는 에어층이 형성되어 있으므로, 기판 (S) 은 당해 에어에 의해 스테이지 표면 (25c) 에 대해 부상된 상태로 유지된다. 기판 (S) 이 에어층의 표면에 도달했을 때, 얼라이먼트 장치 (25d) 의 위치 맞춤 부재에 의해 기판 (S) 의 위치 맞춤이 실시되고, 기판 반입 위치의 -Y 방향측에 배치된 반송기 (23a) 의 진공 패드 (23b) 를 기판 (S) 의 -Y 방향측 단부에 진공 흡착시킨다. 기판 (S) 의 -Y 방향측 단부가 흡착된 상태를 도 14 에 나타낸다. 진공 패드 (23b) 에 의해 기판 (S) 의 -Y 방향측 단부가 흡착된 후, 반송기 (23a) 를 레일 (23c) 을 따라 이동시킨다. 기판 (S) 이 부상된 상태로 되어 있으므로, 반송기 (23a) 의 구동력을 비교적 작게 해도 기판 (S) 은 레일 (23c) 을 따라 부드럽게 이동한다.

기판 (S) 의 반송 방향 선단이 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 의 위치에 도달하면, 도 15 에 나타내는 바와 같이, 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 로부터 기판 (S) 을 향하여 레지스트를 토출한다. 레지스트의 토출은, 노즐 (32) 의 위치를 고정시켜 반송기 (23a) 에 의해 기판 (S) 을 반송시키면서 실시한다. 기판 (S) 의 이동에 수반하여, 도 16 에 나타내는 바와 같이 기판 (S) 상에 레지스트막 (R) 이 도포된다.

기판 (S) 이 레지스트를 토출하는 개구부 (32a) 아래를 통과함으로써, 기판 (S) 의 소정 영역에 레지스트막 (R) 이 형성된다.

레지스트막 (R) 이 형성된 기판 (S) 은, 반송기 (23a) 에 의해 반출측 스테이지 (28) 로 반송된다. 반출측 스테이지 (28) 에서는, 스테이지 표면 (28c) 에 대해 부상된 상태에서, 도 17 에 나타내는 기판 반출 위치까지 기판 (S) 이 반송된다.

기판 (S) 이 기판 반출 위치에 도달하면, 진공 패드 (23b) 의 흡착을 해제하고, 리프트 기구 (29) 의 승강 부재 (29a) 를 ＋Z 방향으로 이동시킨다. 그러면, 승강핀 (29b) 이 승강핀 출몰공 (28b) 으로부터 기판 (S) 의 이면으로 돌출되어, 기판 (S) 이 승강핀 (29b) 에 의해 들어올려진다. 이 상태에서, 예를 들어 반출측 스테이지 (28) 의 ＋X 방향측에 형성된 외부의 반송 아암이 반출측 스테이지 (28) 에 액세스되어 기판 (S) 을 수취한다. 기판 (S) 을 반송 아암에 건넨 후, 반송기 (23a) 를 다시 반입측 스테이지 (25) 의 기판 반입 위치까지 되돌리고, 다음 기판 (S) 이 반송될 때까지 대기시킨다.

다음 기판 (S) 이 반송될 동안, 도포부 (3) 는 관리부 (4) 에 있어서 노즐 (32) 상태가 관리된다. 도 18 에 나타내는 바와 같이 도어형 프레임 (31) 을 관리부 (4) 의 위치까지 이동시킨 후, 도어형 프레임 (31) 의 위치를 조정 (이동 및 강하) 하여 노즐 (32) 을 노즐 세정 장치 (43) 에 액세스시켜, 당해 노즐 세정 장치 (43) 에 의해 노즐 (32) 을 세정한다 (도 13 참조). 노즐 (32) 을 세정 처리하는 빈도로서는, 유저에 의해 적절히 설정되며, 1 장의 기판 (S) 마다 세정 처리해도 되고, 수 장에 1 회의 비율로 세정 처리하도록 해도 된다.

또한, 장시간 레지스트 도포를 실시하지 않는 경우에는, 노즐 (32) 을 딥조 (41) 내에 배치하고, 이 딥조 (41) 에 저류된 용제 (시너) 의 증기 분위기에 노출시킴으로써 노즐 (32) 이 건조되는 것을 방지한다.

노즐 (32) 의 세정 후, 도포부 (3) 를 예비 토출 기구 (42) 에 액세스시켜, 노즐 (32) 의 토출 상태를 유지하기 위한 예비 토출 처리를 실시한다. 이 예비 토출 처리는 상기 예비 토출 기구 (예비 토출 장치) (42) 를 사용함으로써 실시된다. 예비 토출 기구 (42) 내에서는 예비 토출면 (81) 상에 레지스트의 예비 토출을 실시하면, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 이 예비 토출면 (81) 의 세정 처리를 실시한다.

(예비 토출 동작)

이하, 예비 토출 기구 (42) 의 동작 방법에 대하여 설명함과 함께, 예비 토출 기구 (42), 예비 토출면 세정 유닛 (세정 장치) (100) 및 세정 방법에 의해 얻어지는 작용 효과에 대해 도면을 참조하여 서술한다.

예비 토출면 (81) 상에 레지스트를 도포한 후, 대기부 (91) 상에 탑재되어 있는 예비 토출면 세정 유닛 (100) 의 스퀴지 (110) 를 예비 토출면 (81) 의 높이에 배치한다. 이로 인해, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은 예비 토출면 (81) 상의 세정 개시 위치에 배치되는 것이 된다 (도 1 참조).

계속해서, 아암부 (101) 를 통해 예비 토출면 세정 유닛 (100) 을 이동시킴으로써 복수의 스퀴지 (110) 를 예비 토출면 (81) 상에 슬라이딩시켜, 예비 토출면 (81) 상에 도포된 레지스트 (R) 를 긁어낸다.

이 때, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향측의 면에 토출구 (102) 로부터 세정액을 토출시킨다. 이 세정액 (시너) 은 예비 토출면 (81) 상에 도포된 레지스트 (R) 를 희석시켜, 예비 토출면 (81) 상으로부터 레지스트 (R) 의 제거성을 향상시킬 수 있다. 이와 같이 세정액이 공급된 예비 토출면 (81) 상을 슬라이딩하는 스퀴지 (110) 에 의해, 레지스트 (R) 를 예비 토출면 (81) 으로부터 양호하게 긁어낼 수 있다.

구체적으로는, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 제 1 스퀴지 (110a) 의 슬라이딩 방향 전방측의 예비 토출면 (81) 상에 제 1 토출구 (102a) 로부터 세정액을 공급하여, 희석화된 레지스트 (R) 를 제 1 스퀴지 (110a) 에 의해 긁어낸다.

따라서, 제 1 스퀴지 (110a) 에 의해 예비 토출면 (81) 의 조 (粗) 세정 처리를 실시할 수 있다.

예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 제 1 스퀴지 (110a) 가 통과한 예비 토출면 (81) 에 있어서의 제 2 스퀴지 (110b) 의 슬라이딩 방향 전방으로 제 2 토출구 (102b) 로부터 세정액을 공급하여, 희석화된 레지스트 (R) 를 제 2 스퀴지 (110b) 에 의해 긁어낸다. 따라서, 제 2 스퀴지 (110b) 에 의해 예비 토출면 (81) 의 본 세정 처리를 실시할 수 있다.

또한, 본 실시형태에서는, 상기 제 1 토출구 (102a), 및 제 2 토출구 (102b) 로부터 동량의 세정액이 토출되도록, 제어부 (140) 는 세정액 공급 수단 (106) 을 조정하고 있다.

예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 제 2 스퀴지 (110b) 가 통과한 예비 토출면 (81) 상에 최종 스퀴지 (110c) 를 슬라이딩시킨다. 이로 인해, 제 1 스퀴지 (110a), 및 제 2 스퀴지 (110b) 에 있어서의 세정 처리의 잔류물 (세정액 및 레지스트 (R)) 를 긁어낼 수 있어, 높은 세정성을 얻을 수 있다.

이들 스퀴지 (110) (110a, 110b, 110c) 는, 도 3 에 나타낸 바와 같이 예비 토출면 (81) 과의 접촉단의 길이 방향을 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 스퀴지 헤드부 (105) 에 지지되어 있다. 따라서, 도 7a 에 나타낸 바와 같이 스퀴지 (110) 에 의해 긁어내어진 레지스트 (R) 는 스퀴지 (110) 의 길이 방향에 있어서의 슬라이딩 방향 후방으로 밀어낸 측방 배출부 (93) 에 수용되고, 측방 배출부 (93) 에 형성된 흡인 회수 기구 (95) 에 의해 레지스트를 양호하게 배출할 수 있다.

예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 최종 스퀴지 (110c) 가 통과한 예비 토출면 (81) 상에 건조부 (120) 를 통과시킨다. 건조부 (120) 는, 예비 토출면 (81) 상에 얇은 평판상의 공기를 분출함으로써 예비 토출면 (81) 에 건조 처리를 실시한다. 이로 인해, 예비 토출면 (81) 상의 세정액을 건조시킬 수 있다.

예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 건조부 (120) 에 이어 흡인부 (130) 를 예비 토출면 (81) 상에 통과시킨다. 흡인부 (130) 는, 상기 예비 토출면 (81) 상에 잔존하는 레지스트 (R) 를 흡인할 수 있다. 또한, 흡인부 (130) 는 잔존하는 레지스트 (R) 를 흡인할 뿐만 아니라, 상기 건조부 (120) 에 의한 건조 처리에 의해 기판 상에 발생한 이물질 (먼지 등) 도 흡인할 수 있다.

따라서, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은 예비 토출면 (81) 상에 도포된 레지스트 (R) 를 양호하게 제거할 수 있다.

상기 측방 배출부 (93) 에 수용되지 않고, 스퀴지 (110) 에 의해 예비 토출면 (81) 의 세정 종료 위치까지 이동되는 레지스트 (R) 는 전방 배출부 (92) 에 수용되고, 당해 전방 배출부 (92) 에 형성된 흡인 회수 기구 (95) 에 의해 양호하게 배출된다.

예비 토출면 세정 유닛 (100) 이 전방 배출부 (92) 에 도달하면, 예비 토출면 (81) 의 세정 처리가 종료된다 (도 1 참조).

세정 처리의 종료 후, 예비 토출 기구 (42) 는 예비 토출면 세정 유닛 (100) 을 대기부 (91) 에 탑재시킨다. 이상의 플로우에 의해, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 에 있어서의 예비 토출면 (81) 의 세정 처리가 종료된다. 또한, 탑재부 (91a) 에 탑재된 예비 토출면 세정 유닛 (100) 에 대해, 필요에 따라 상기 스퀴지 청소 기구 (91) 를 사용함으로써 스퀴지 (110) 의 세정 처리를 실시해도 된다. 이로 인해, 스퀴지를 양호한 상태로 유지할 수 있어, 예비 토출면 상에 있어서의 세정 품질을 안정시킬 수 있다.

그런데, 스퀴지 (110) 는 예비 토출면 (81) 상을 슬라이딩함으로써 시간 경과적인 마모가 발생한다. 본 실시형태에 관련된 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은, 도 6 에 나타낸 바와 같이 스퀴지 (110) 를 유지하는 스퀴지 헤드부 (105) 가 크로스 롤러 베어링 (150) 에 의해 스퀴지 (110) 의 길이 방향에 대해 자유롭게 요동할 수 있게 되어 있다.

이 때문에, 스퀴지 (110) 에 마모가 발생한 경우에도 스퀴지 (110) 가 예비 토출면 (81) 을 따라 움직이므로, 스퀴지 (110) 를 예비 토출면 (81) 에 대해 양호하게 슬라이딩시킬 수 있다. 이와 같이, 스퀴지 (110) 는 예비 토출면 (81) 에 대해 항상 일정한 상태로 맞닿는 것이 되므로, 예비 토출면 세정 유닛 (100) 은 안정된 세정성을 부여할 수 있다.

이와 같이 예비 토출면 세정 유닛 (100) 에 의한 예비 토출면 (81) 의 세정 처리가 종료된 후, 다음 기판 (S) 이 반송되면, 도 19 에 나타내는 바와 같이 이동 기구에 의해 노즐 (32) 을 소정 위치로 이동시킨다. 이와 같이, 기판 (S) 에 레지스트 (R) 를 도포하는 도포 동작과 예비 토출 동작을 반복시킴으로써, 기판 (S) 에는 양질의 레지스트 (R) 가 형성된다.

이상 서술한 바와 같이 상기 실시형태에 의하면, 예비 토출면 (81) 을 세정하는 경우에도 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 전방에 세정액을 공급함과 함께 예비 토출면 (81) 상을 복수의 스퀴지 (110) 가 슬라이딩함으로써 예비 토출면 (81) 을 양호하게 세정할 수 있다. 즉, 도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치에 있어서, 종래와 같은 프라이밍 롤러를 대신하는 예비 토출면 (81) 을 사용한 구성에 있어서도, 양호한 세정을 실시할 수 있다.

본 발명의 기술 범위는 상기 실시형태에 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않은 범위에서 적절히 변경할 수 있다.

상기 실시형태에서는 제 1 토출구 (102a) 및 제 2 토출구 (102b) 로부터 동량의 세정액을 토출시키도록 세정액의 토출량을 제어부 (140) 에 의해 제어하는 구성으로 하였으나, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다.

예를 들어, 제어부 (140) 에 의해, 상기 토출구 (102) 중, 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향 선두측의 토출구 (102), 즉 상기 제 1 토출구 (102a) 로부터 토출되는 세정액의 양이 가장 많아지도록 세정액의 토출량을 제어해도 되고, 이와 같이 하면 레지스트가 많이 부착되어 있는 슬라이딩 방향 선두측에 있어서의 예비 토출면 (81) 의 세정성을 향상시킬 수 있어, 세정 처리를 양호하게 실시할 수 있게 된다.

*또는 제어부 (140) 에 의해, 상기 토출구 (102) 중, 슬라이딩 방향 최후미의 토출구 (102), 즉 상기 제 2 토출구 (102b) 로부터 토출되는 세정액의 양이 가장 적어지도록 세정액의 토출량을 제어해도 되고, 이와 같이 하면 레지스트의 부착량이 적은 슬라이딩 방향 최후미측에서의 세정액 토출량을 억제함으로써 세정액을 낭비하는 경우가 없어, 세정액의 사용량을 억제할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에서는 스퀴지 (110) 를 3 개 구비한 구성으로 하였으나, 스퀴지 (110) 의 수는 이것에 한정되지 않고, 2 개, 또는 4 개 이상의 스퀴지 (110) 를 구비하고 있어도 된다.

특히 스퀴지 (110) 를 4 개 이상 구비하는 경우에는, 슬라이딩 방향 최후미를 제외한 스퀴지 (110) 에 대응하여 상기 토출구 (102) 를 형성하고, 상기 토출구 (102) 중, 슬라이딩 방향 선두측의 토출구 (102) 로부터 최후미의 토출구 (102) 에 걸쳐 세정액의 토출량이 서서히 적어지도록 세정액의 토출량을 제어부 (140) 에 의해 제어해도 된다. 이와 같이 하면 레지스트의 양이 적어지는 스퀴지 (110) 의 슬라이딩 방향 후방을 향하여 세정액의 토출량을 억제할 수 있으므로, 세정액의 과잉 토출을 방지하여, 세정액의 사용량을 억제할 수 있다. 또한 스퀴지 (110) 를 4 개 이상 구비하는 경우에도 상기 서술한 바와 같이 슬라이딩 방향 최후미의 토출구 (102) 로부터의 세정액 토출량이 가장 적어지는 제어를 실시하거나, 또는 슬라이딩 방향 선두측의 토출구 (102) 로부터의 세정액 토출량이 가장 많아지는 제어를 실시해도 된다.

또한, 상기 실시형태에서는, 제 1 토출구 (102a) 및 제 2 토출구 (102b) 를 각각 10 개 형성하였으나, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 슬라이딩 방향 선두의 제 1 스퀴지 (110a) 에 대응하는 제 1 토출구 (102a) 의 수를 슬라이딩 방향 후방의 제 2 스퀴지 (110b) 에 대응하는 제 2 토출구 (102b) 의 수보다 많게 해도 되고, 이와 같이 하면 레지스트가 많이 부착되어 있는 슬라이딩 방향 선두측에 있어서의 세정성을 향상시키면서, 레지스트의 부착량이 적은 슬라이딩 방향 후방측에서의 세정액 토출량을 억제함으로써 세정액의 사용량을 억제할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에서는 3 개의 스퀴지 (110) 가 예비 토출면 (81) 에 대해 45°기울어진 상태로 스퀴지 헤드부 (105) 에 부착된 구성으로 되어 있었으나, 3 개의 스퀴지 (110a, 110b, 110c) 에 있어서의 부착 각도를 15°이상 50°이하의 범위에서 각각 상이하게 해도 된다.

*예를 들어, 높은 세정성이 필요한 슬라이딩 방향 선두측의 제 1 스퀴지 (110a) 의 부착 각도를 예비 토출면 (81) 에 대한 접촉 저항이 커지는 45°근방에 설정하고, 마무리 처리를 실시하는 최종 스퀴지 (110c) 의 부착 각도를 예비 토출면 (81) 에 대한 접촉 저항이 작아지는 20°근방에 설정해도 된다.

또한, 상기 실시형태에서는 건조부 (120) 의 구성으로서 에어 나이프 방식을 채용하였으나, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 송풍하면서 예비 토출면 (81) 을 건조시키는 건조 수단이면 되고, 예를 들어 상면으로부터 공기를 분사하는 다운 플로우 방식을 이용해도 된다. 또한, 상기 실시형태에서는 흡인부 (130) 로서 흡인 펌프로 이루어지는 것을 채용하였으나, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 예비 토출면 (81) 상에 잔존하는 레지스트를 흡인할 수 있는 기구를 갖는 것이면 각종의 것을 사용할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에서는 예비 토출 플레이트 (80) 의 일면에 의해 예비 토출면 (81) 이 구성되어 있으나, 예비 토출면 (81) 을 구성하는 부재로서는 판상 부재에 한정되지 않고, 적어도 일부가 예비 토출면 (81) 으로서 기능하는 평면을 갖는 부재이면 각종의 것을 사용할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에서는 예비 토출면 세정 유닛 (100) 이 예비 토출 플레이트 (80) 상을 이동함으로써 스퀴지 (110) 를 예비 토출면 (81) 상에 슬라이딩시키는 구성으로 하였으나 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 예비 토출 플레이트 (80) 를 상기 예비 토출면 세정 유닛 (100) 에 대해 이동시킴으로써, 스퀴지 (110) 를 예비 토출면 (81) 상에 슬라이딩시키도록 해도 된다. 즉, 스퀴지 (110) 가 예비 토출면 (81) 에 대해 상대 이동시킬 수 있는 구성이면, 각종의 것을 채용할 수 있다.

상기 실시형태에서는 도포 장치 (1) 의 전체 구성에 대하여 반송 기구 (23) 를 각 스테이지의 -Y 방향측에 배치하는 구성으로 하였으나, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 반송 기구 (23) 를 각 스테이지의 ＋Y 방향측에 배치하는 구성이어도 상관없다. 또한, 도 20 에 나타내는 바와 같이, 각 스테이지의 -Y 방향측에는 상기 반송 기구 (23) (반송기 (23a), 진공 패드 (23b), 레일 (23c)) 을 배치하고, ＋Y 방향측에는 당해 반송 기구 (23) 와 동일한 구성의 반송 기구 (53) (반송기 (53a), 진공 패드 (53b), 레일 (53c)) 를 배치하여, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 상이한 기판을 반송할 수 있도록 구성해도 상관없다. 예를 들어, 동 도면에 나타내는 바와 같이 반송 기구 (23) 에는 기판 (S1) 을 반송시키고, 반송 기구 (53) 에는 기판 (S2) 을 반송시키도록 한다.

이 경우, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 기판을 교대로 반송할 수 있게 되므로 스루풋이 향상되게 된다. 또한, 상기 기판 (S, S1, S2) 의 반 정도의 면적을 갖는 기판을 반송하는 경우에는, 예를 들어 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 1 매씩 유지하고, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 를 ＋X 방향으로 병진 (竝進) 시킴으로써, 2 매의 기판을 동시에 반송시킬 수 있다. 이와 같은 구성에 의해 스루풋을 향상시킬 수 있다.

R : 레지스트
1 : 도포 장치
42 : 예비 토출 기구 (예비 토출 장치)
81 : 예비 토출면
100 : 예비 토출면 세정 유닛 (세정 장치)
102 : 토출구
102a : 제 1 토출구 (토출구)
102b : 제 2 토출구 (토출구)
110 : 스퀴지
110a : 제 1 스퀴지 (스퀴지)
110b : 제 2 스퀴지 (스퀴지)
110c : 최종 스퀴지 (스퀴지)
120 : 건조부 (건조 기구)
130 : 흡인부 (흡인 기구)
140 : 제어부

Claims

도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 장치로서,
액상체가 도포된 상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하여 상기 액상체를 긁어내는 스퀴지를 갖고, 또한, 상기 스퀴지를 지지하는 스퀴지 헤드부와, 스퀴지 헤드부를 지지하는 아암부를 구비하고, 상기 아암부에, 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지하는 요동 기구가 형성되어 있고,
상기 스퀴지는, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 접촉단의 길이 방향과 상기 슬라이딩 방향의 교차 각도가 85°이하인 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 스퀴지를 복수 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 3 항에 있어서,
복수의 상기 스퀴지가 서로 대략 평행인 자세로 상기 슬라이딩 방향으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 스퀴지의 상기 슬라이딩 방향의 전방으로 세정액을 토출하는 토출구를 갖는 세정액 공급부를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 5 항에 있어서,
상기 스퀴지를 복수 구비하고, 이들 중 적어도 상기 슬라이딩 방향의 최후미에 위치하는 상기 스퀴지를 제외한 그 밖의 상기 스퀴지에 대응하여 상기 토출구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 3 항에 있어서,
복수의 상기 스퀴지의 상기 예비 토출면에 대한 경사각이 대략 동일한 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 7 항에 있어서,
복수의 상기 스퀴지 중 상기 슬라이딩 방향의 선두에 위치하는 상기 스퀴지의 상기 경사각이 그 밖의 상기 스퀴지의 상기 경사각보다 큰 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 예비 토출면을 향하여 기체를 분출하는 건조 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 예비 토출면에 잔존하는 액상체를 흡인하는 흡인 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 있어서 액상체가 도포되는 예비 토출면과,
상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하여 상기 액상체를 긁어내는 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 지지하고, 또한, 상기 스퀴지를 지지하는 스퀴지 헤드부와, 스퀴지 헤드부를 지지하는 아암부를 구비하고, 상기 아암부에, 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지하는 요동 기구가 형성되어 있는 세정 장치와,
상기 스퀴지의 슬라이딩 동작에 의해 상기 예비 토출면의 길이 방향에 있어서의 측방으로 유출된 상기 액상체를 배출하는 배출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 11 항에 있어서,
상기 배출부가 상기 예비 토출면의 측방에 형성되어 상기 슬라이딩 방향으로 연장되는 측홈부를 갖는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 있어서 액상체가 도포되는 예비 토출면과,
상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하여 상기 액상체를 긁어내는 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 지지하고, 또한, 상기 스퀴지를 지지하는 스퀴지 헤드부와, 스퀴지 헤드부를 지지하는 아암부를 구비하고, 상기 아암부에, 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지하는 요동 기구가 형성되어 있는 세정 장치와,
상기 스퀴지의 슬라이딩 동작에 의해 상기 스퀴지의 전방으로 이동된 상기 액상체를 배출하는 배출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 11 항에 있어서,
상기 배출부에 상기 액상체를 흡인하는 흡인 회수 기구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 14 항에 있어서,
상기 흡인 회수 기구와 접속된 흡인구와, 상기 흡인구를 향하여 하강하는 경사면이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 15 항에 있어서,
상기 예비 토출면의 측방에 형성된 상기 배출부에 상기 흡인구와 상기 흡인구에 대응하는 상기 사면부를 갖는 복수의 영역이 상기 슬라이딩 방향을 따라 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 11 항에 있어서,
상기 예비 토출면의 측방에 상기 세정 장치를 탑재하는 대기부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 17 항에 있어서,
상기 대기부가 상기 예비 토출면에 대해 상기 슬라이딩 방향의 후방에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 17 항에 있어서,
상기 대기부가 상기 예비 토출면보다 낮은 위치에 형성되어 상기 세정 장치를 탑재하는 탑재면을 갖는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 17 항에 있어서,
상기 대기부에 상기 스퀴지에 부착된 상기 액상체를 제거하는 스퀴지 청소 기구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 20 항에 있어서,
상기 스퀴지 청소 기구가 상기 탑재면에 형성된 요철 구조인 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 11 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 기재된 예비 토출 장치를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 방법으로서,
상기 예비 토출면 상에서 스퀴지를 슬라이딩시켜 상기 예비 토출면에 도포된 액상체를 긁어낼 때, 상기 스퀴지를 스퀴지 헤드부에서 지지하고, 상기 스퀴지 헤드부를 아암부에서 지지하고, 상기 아암부에 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지시키고, 또한,
상기 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 슬라이딩시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 23 항에 있어서,
상기 접촉단의 길이 방향과 상기 슬라이딩 방향의 교차 각도가 85°이하인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 23 항에 있어서,
복수의 상기 스퀴지를 상기 예비 토출면 상에서 슬라이딩시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 25 항에 있어서,
복수의 상기 스퀴지를 서로 대략 평행인 자세로 상기 슬라이딩 방향으로 배열한 상태에서 슬라이딩시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 23 항에 있어서,
상기 스퀴지의 상기 슬라이딩 방향 전방으로 세정액을 토출하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 27 항에 있어서,
복수의 상기 스퀴지 중 적어도 상기 슬라이딩 방향의 최후미에 위치하는 상기 스퀴지를 제외한 그 밖의 상기 스퀴지의 상기 슬라이딩 방향 전방으로 상기 세정액을 토출하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 23 항에 있어서,
상기 스퀴지가 통과한 후의 상기 예비 토출면에 대해 기체를 분사하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 23 항에 있어서,
상기 스퀴지가 통과한 후의 상기 예비 토출면에 잔존하는 상기 액상체를 흡인하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
도포 장치에 있어서의 도포 동작에 앞서는 예비 토출 방법으로서,
예비 토출면에 대해 액상체를 도포하는 단계와,
상기 예비 토출면 상에서 스퀴지를 슬라이딩시켜 상기 액상체를 긁어내는 단계를 갖고,
상기 스퀴지를 슬라이딩시키는 단계에서는, 상기 스퀴지를 스퀴지 헤드부에서 지지하고, 상기 스퀴지 헤드부를 아암부에서 지지하고, 상기 아암부에 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지시키고, 상기 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 슬라이딩시켜, 상기 예비 토출면 상의 상기 액상체를 상기 예비 토출면의 길이 방향에 있어서의 측방으로 배출하는 것을 특징으로 하는 예비 토출 방법.
도포 장치에 있어서의 도포 동작에 앞서는 예비 토출 방법으로서,
예비 토출면에 대해 액상체를 도포하는 단계와,
상기 예비 토출면 상에서 스퀴지를 슬라이딩시켜 상기 액상체를 긁어내는 단계를 갖고,
상기 스퀴지를 슬라이딩시키는 단계에서는, 상기 스퀴지를 스퀴지 헤드부에서 지지하고, 상기 스퀴지 헤드부를 아암부에서 지지하고, 상기 아암부에 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지시키고, 상기 스퀴지를, 상기 예비 토출면과의 접촉단의 길이 방향을 상기 슬라이딩 방향에 대해 비스듬하게 향한 자세로 슬라이딩시켜, 상기 스퀴지에 의해 회수한 상기 액상체를 상기 예비 토출면의 상기 슬라이딩 방향 전방으로 배출하는 것을 특징으로 하는 예비 토출 방법.
제 31 항 또는 제 32 항에 있어서,
상기 스퀴지를 슬라이딩시키는 단계 후, 상기 스퀴지를 상기 예비 토출면의 측방에 형성된 대기 위치로 이동시키고, 당해 대기 위치에서 상기 스퀴지에 부착된 상기 액상체를 제거하는 것을 특징으로 하는 예비 토출 방법.
도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 장치로서,
액상체가 도포된 상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하여 상기 액상체를 긁어내는 복수의 스퀴지를 구비하고, 또한, 상기 스퀴지를 지지하는 스퀴지 헤드부와, 상기 스퀴지 헤드부를 지지하는 아암부를 구비하고, 상기 아암부에 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지하는 요동 기구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 34 항에 있어서,
상기 예비 토출면에 세정액을 토출하는 적어도 1 개의 토출구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 35 항에 있어서,
상기 스퀴지 중, 슬라이딩 방향 최후미를 제외한 상기 스퀴지에 대응하여 상기 토출구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 35 항에 있어서,
적어도 2 개의 상기 스퀴지에 각각 대응하여 상기 토출구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 34 항에 있어서,
상기 스퀴지가 상기 예비 토출면에 대해 15°이상 50°이하 기울어 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 34 항에 있어서,
상기 예비 토출면을 향하여 기체를 분출하는 건조 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 34 항에 있어서,
상기 예비 토출면에 잔존하는 상기 액상체를 흡인하는 흡인 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 37 항에 있어서,
상기 각 토출구로부터 토출되는 상기 세정액의 토출량을 제어하는 제어부가 형성되어 있고,
당해 제어부가 상기 토출구 중, 슬라이딩 방향 선두측의 상기 토출구로부터 토출되는 세정액의 양이 가장 많아지도록 상기 세정액의 토출량을 제어할 수 있도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 37 항에 있어서,
상기 각 토출구로부터 토출되는 상기 세정액의 토출량을 제어하는 제어부가 형성되어 있고,
당해 제어부가 상기 토출구 중, 슬라이딩 방향 최후미의 상기 토출구로부터 토출되는 세정액의 양이 가장 적어지도록 상기 세정액의 토출량을 제어할 수 있도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 37 항에 있어서,
상기 각 토출구로부터 토출되는 상기 세정액의 토출량을 제어하는 제어부가 형성되어 있고,
당해 제어부가 슬라이딩 방향 선두측의 상기 토출구로부터 최후미의 상기 토출구에 걸쳐 상기 세정액의 토출량이 서서히 적어지도록, 상기 세정액의 토출량을 제어할 수 있도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 37 항에 있어서,
상기 각 토출구로부터 토출되는 상기 세정액의 토출량을 제어하는 제어부가 형성되어 있고,
당해 제어부가 상기 각 토출구로부터 토출되는 세정액의 양이 동량이 되도록 상기 세정액의 양을 제어할 수 있도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 방법으로서,
상기 예비 토출면 상에서 복수의 스퀴지를 이들의 배열 방향으로 슬라이딩시켜 상기 액상체를 긁어내고, 여기에 상기 스퀴지를 스퀴지 헤드부에서 지지하고, 상기 스퀴지 헤드부를 아암부에서 지지하고, 상기 아암부에 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 45 항에 있어서,
액상체가 도포된 상기 예비 토출면에 대해 세정액을 토출시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 46 항에 있어서,
상기 스퀴지 중, 슬라이딩 방향 최후미를 제외한 상기 스퀴지의 슬라이딩 방향 전방으로 상기 세정액을 공급하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 46 항에 있어서,
적어도 2 개의 상기 스퀴지 각각의 슬라이딩 방향 전방으로 상기 세정액을 공급하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 45 항에 있어서,
상기 예비 토출면을 향하여 기체를 분출하는 건조 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 45 항에 있어서,
상기 예비 토출면에 잔존하는 상기 액상체를 흡인하는 흡인 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 48 항에 있어서,
각각에 대응하여 상기 세정액이 공급되는 복수의 상기 스퀴지 중, 슬라이딩 방향의 선두에 위치하는 상기 스퀴지에 대해 공급되는 상기 세정액의 양을 가장 많게 하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 48 항에 있어서,
각각에 대응하여 상기 세정액이 공급되는 복수의 상기 스퀴지 중, 슬라이딩 방향의 최후미에 위치하는 상기 스퀴지에 대해 공급되는 상기 세정액의 양을 가장 적게 하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 48 항에 있어서,
각각에 대응하여 상기 세정액이 공급되는 복수의 상기 스퀴지에 대해, 슬라이딩 방향의 최후미측에 위치하는 상기 스퀴지일수록 상기 세정액의 공급량을 적게 하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 48 항에 있어서,
각각에 대응하여 상기 세정액이 공급되는 복수의 상기 스퀴지에 대해, 상기 세정액의 공급량을 동등하게 하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 장치로서,
액상체가 도포된 상기 예비 토출면 상을 슬라이딩하는 스퀴지와, 그 스퀴지의 슬라이딩 방향측의 면에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 갖고, 또한, 상기 스퀴지를 지지하는 스퀴지 헤드부와, 상기 스퀴지 헤드부를 지지하는 아암부를 구비하고, 상기 아암부에 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지하는 요동 기구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 55 항에 있어서,
상기 세정액 공급부는, 상기 스퀴지에 대해 상기 세정액을 토출하는 복수의 토출구를 갖는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 56 항에 있어서,
복수의 상기 토출구는, 인접하는 상기 토출구로부터 토출되어 상기 스퀴지면 상을 이동하는 상기 세정액은 서로 상기 스퀴지의 선단에 이르러 일체화되도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 56 항에 있어서,
상기 각 토출구는 등간격으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 55 항에 있어서,
상기 스퀴지를 복수 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 59 항에 있어서,
상기 세정액 공급부는, 상기 복수의 스퀴지 중, 적어도 슬라이딩 방향 최후미의 상기 스퀴지를 제외하고, 상기 세정액을 공급하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
제 59 항에 있어서,
각각의 상기 스퀴지에 대응하여 복수의 상기 토출구가 형성되어 있고,
슬라이딩 방향 선두의 상기 스퀴지에 대응하는 상기 토출구의 수는, 슬라이딩 방향 후방의 상기 스퀴지에 대응하는 상기 토출구의 수보다 많은 것을 특징으로 하는 세정 장치.
도포 장치에 있어서의 예비 토출 동작에 사용되는 예비 토출 장치의 예비 토출면을 세정하는 방법으로서,
액상체가 도포된 대략 평면의 상기 예비 토출면을 슬라이딩하는 스퀴지의 상기 슬라이딩 방향측의 면에 세정액을 공급하면서, 상기 스퀴지에 의해 상기 세정액과 함께 상기 액상체를 긁어내고, 여기에 상기 스퀴지를 스퀴지 헤드부에서 지지하고, 상기 스퀴지 헤드부를 아암부에서 지지하고, 상기 아암부에 상기 스퀴지 헤드부를 자유롭게 요동할 수 있도록 지지시키는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 62 항에 있어서,
상기 스퀴지의 상기 면 상의 복수 지점에 상기 세정액을 공급하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 63 항에 있어서,
상기 스퀴지의 상기 면 상에 있어서, 적어도 인접하는 위치에 공급되어 상기 면 상을 따라서 이동하는 상기 세정액이 상기 스퀴지의 선단에 이르러 일체화되도록 상기 세정액을 공급하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 62 항에 있어서,
복수의 상기 스퀴지를 사용함과 함께, 복수의 상기 스퀴지를 이들의 배열 방향으로 슬라이딩하여 상기 예비 토출면을 세정하는 데 있어서,
적어도 슬라이딩 방향 최후미에 위치하는 상기 스퀴지를 제외한 그 밖의 상기 스퀴지에 대해 상기 세정액을 공급하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 62 항에 있어서,
복수의 상기 스퀴지를 사용함과 함께, 복수의 상기 스퀴지를 이들의 배열 방향으로 슬라이딩하여 상기 예비 토출면을 세정할 때,
슬라이딩 방향의 선두측에 위치하는 상기 스퀴지에 대한 상기 세정액의 공급량을 그 밖의 상기 스퀴지에 대한 상기 세정액의 공급량보다 많게 하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
제 1 항 내지 제 10 항, 제 34 항 내지 제 44 항 및 제 55 항 내지 제 61 항 중 어느 한 항에 기재된 세정 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 예비 토출 장치.
제 67 항에 기재된 예비 토출 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.