KR20110085005A - 케토옥심 에스테르계 광개시제 - Google Patents
케토옥심 에스테르계 광개시제 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110085005A KR20110085005A KR1020117015885A KR20117015885A KR20110085005A KR 20110085005 A KR20110085005 A KR 20110085005A KR 1020117015885 A KR1020117015885 A KR 1020117015885A KR 20117015885 A KR20117015885 A KR 20117015885A KR 20110085005 A KR20110085005 A KR 20110085005A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- photoinitiator
- ketooxime ester
- substituted
- ketooxime
- Prior art date
Links
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 title claims abstract description 30
- -1 ester compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 35
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical group C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 claims abstract description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 8
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 18
- QWXYZCJEXYQNEI-OSZHWHEXSA-N intermediate I Chemical compound COC(=O)[C@@]1(C=O)[C@H]2CC=[N+](C\C2=C\C)CCc2c1[nH]c1ccccc21 QWXYZCJEXYQNEI-OSZHWHEXSA-N 0.000 claims description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 claims description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229960003116 amyl nitrite Drugs 0.000 claims description 8
- CSDTZUBPSYWZDX-UHFFFAOYSA-N n-pentyl nitrite Chemical compound CCCCCON=O CSDTZUBPSYWZDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 6
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000005457 ice water Substances 0.000 claims description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 3
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 16
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 23
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 5
- GPZXFICWCMCQPF-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzoyl chloride Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(Cl)=O GPZXFICWCMCQPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000001716 carbazoles Chemical group 0.000 description 3
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- SZQVEGOXJYTLLB-UHFFFAOYSA-N 3-cyclopentylpropanoyl chloride Chemical compound ClC(=O)CCC1CCCC1 SZQVEGOXJYTLLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical class C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 238000004847 absorption spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIKHYSMPERYZKJ-UHFFFAOYSA-N (8-ethyl-9H-carbazol-3-yl)-(2-methylphenyl)methanone Chemical group C(C)C1=CC=CC=2C3=CC(=CC=C3NC1=2)C(C1=C(C=CC=C1)C)=O NIKHYSMPERYZKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIEZESHMLFBICT-UHFFFAOYSA-N 3-cyclopentyl-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]-2-hydroxyiminopropan-1-one Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(=O)C(CC4CCCC4)=NO)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C ZIEZESHMLFBICT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 9-ethylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C3=CC=CC=C3C2=C1 PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- MSBZJGANKYNCOU-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=O)C=2C=C3C=4C=C(C=CC4N(C3=CC2)CC)C(C(C)C2CCCC2)=O)C=CC=C1 Chemical compound CC1=C(C(=O)C=2C=C3C=4C=C(C=CC4N(C3=CC2)CC)C(C(C)C2CCCC2)=O)C=CC=C1 MSBZJGANKYNCOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYOLBYHIZRXRCE-UHFFFAOYSA-N S1C(=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)C(C(C)C1CCCC1)=O Chemical compound S1C(=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)C(C(C)C1CCCC1)=O MYOLBYHIZRXRCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBOVBGDRESJC-UHFFFAOYSA-N S1C(=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)C(C(CC1CCCC1)=NO)=O Chemical compound S1C(=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)C(C(CC1CCCC1)=NO)=O BPUBOVBGDRESJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVTLTICMCFDHPM-UHFFFAOYSA-N S1C(=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)C(C(CCCCCC)=O)=O Chemical compound S1C(=CC=C1)C1=CC=C(C=C1)C(C(CCCCCC)=O)=O PVTLTICMCFDHPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004042 diazoxide Drugs 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N monoethanolamine hydrochloride Natural products NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003097 mucus Anatomy 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
- C07D209/86—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
- C07C319/20—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/46—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
- C07C323/47—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
- C07D209/88—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/32—Compounds containing nitrogen bound to oxygen
- C08K5/33—Oximes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
- C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
본 발명은 광개시제로서 사용되는 케토옥심 에스테르계 화합물, 특히 광경화 재료로서 사용되는 케토옥심 에스테르계 광개시제에 관한 것이다.
상기 케토옥심 에스테르계 광개시제의 화학 구조식은 하기 (I)인데, 여기서 R1은 하기 화학식 (II)이며, 그 중 n은 1∼4의 정수이고, m은 1∼6의 정수이며, R2는 1∼8 개의 탄소를 가진 알킬기, 페닐기, 치환 페닐기, 벤질기 또는 치환 벤질기이고, R3은 디페닐술파이드기, 치환 디페닐술파이드기, 카르바졸기 또는 치환 카르바졸기이다. 본 발명의 케토옥심 에스테르계 광개시제는 기존의 OXE-1과 같은 케토옥심 에스테르계 광개시제가 적용 성능(application performance)이 좋지 않고 열안정성이 낮은 문제점을 해결한다.
(I)
(II)
상기 케토옥심 에스테르계 광개시제의 화학 구조식은 하기 (I)인데, 여기서 R1은 하기 화학식 (II)이며, 그 중 n은 1∼4의 정수이고, m은 1∼6의 정수이며, R2는 1∼8 개의 탄소를 가진 알킬기, 페닐기, 치환 페닐기, 벤질기 또는 치환 벤질기이고, R3은 디페닐술파이드기, 치환 디페닐술파이드기, 카르바졸기 또는 치환 카르바졸기이다. 본 발명의 케토옥심 에스테르계 광개시제는 기존의 OXE-1과 같은 케토옥심 에스테르계 광개시제가 적용 성능(application performance)이 좋지 않고 열안정성이 낮은 문제점을 해결한다.
(I)
(II)
Description
본 발명은 케토옥심 에스테르계 화합물에 관한 것으로, 특히는 광경화 재료에 적용되는 케토옥심 에스테르계 광개시제에 관한 것이다.
주요하게 불포화 수지 및 그 단량체 재료로 조성된 광경화 재료(광경화 도료, 인쇄용 잉크, 포토레지스트, RGB 및 BM)는 자외선, X선 또는 레이저의 조사하에서 중합 경화 반응을 일으키기 위해, 광개시제 또는 증감제를 첨가할 필요가 있다. 이러한 첨가되는 광개시제 또는 증감제는 일정한 파장의 자외선, X선 또는 레이저의 조사하에서 활성기를 생성시켜 광경화 재료 중의 불포화기가 중합 반응을 일으키도록 유발하여 광경화 재료를 경화시킨다.
광경화 재료에서 광범위하게 응용되는 재래식 광개시제로는, 벤조인유도체, 벤질케탈계, α,α-디알콕시아세톤페논계, α-히드록시알킬페논계, α-아미노알킬페논계, 아실포스핀 옥사이드계, 벤조페논/아민계, 미힐러케톤, 티옥산톤/아민계, 아민촉진제, 아렌디아조늄염, 아릴요오도늄염 및 술포늄염, 페로센 및 티타노센계, 헥사아릴비스이미다졸계, 디아족사이드계 및 재래식 옥심 에스테르 등이다. 이러한 재래식 광개시제가 어느 정도 감광도가 낮고(중합 속도 및 전화율이 낮음), 용해성이 낮으며(투명도가 낮고 포토에칭 불순물이 많음), 산소가 광경화에 대한 영향이 크고 저장 안정성이 낮은 등 결점이 있기에, 상기 광개시제들 및 감광 재료는 사용상에서 아주 큰 제한을 받고, 감광 재료의 성능에 크나큰 영향을 끼치며, 특히 신세대 대형 스크린 LCD 결정적 구성요소인 BM 및 CF의 제작 수요를 만족시킬 수 없다. 신형 옥심 에스테르계 광개시제의 출현으로 말미암아 상기 문제점의 해결이 크게 진척되었다.
옥심 에스테르계 화합물의 광화학적 특성은 문헌 A. Wemer and A. Piguet, Ber. Dtsch. Chem. Ges. 1904, 37, 4295에서 최초로 출현되었고, 광개시제로서 응용된 상품은 문헌 G. A. Delzenne, U. Laridon and H. Peeters, European Polymer Journal, 1970, 6, 933-943에 최초로 기재되었는 바, 그 상품명은 DE-OS 179508 및 Agfa-Gevaert AG이다. 종래에 상업상에서 비교적 광범위하게 응용된 옥심 에스테르계 광개시제 제품으로는 Quantacure PDO이고, 구조식은 하기와 같다:
Quantacure PDO
이러한 재래식 옥심 에스테르계 광개시제는 비록 광개시 활성이 높지만 열안정성이 낮기에 점차적으로 산업 응용 분야에서 도태되었고, 옥심 에스테르계 광개시제의 “부활”이 문헌 R. Mallivia et al, J. Photochem. Photobiol. A: Chemistry 2001, 138, 193 및 문헌 L. Lavalee et al, J. Photochem. Photobiol. A: Chemistry 2002, 151, 27에서 최초로 출현되었고, 옥심 에스테르 화합물에 디페닐술파이드 또는 카르바졸기가 도입되어 이러한 관능기는 비교적 큰 공액계와 비교적 강한 분자내 전자 이동 특성을 가지게 되기에 상기 옥심 에스테르 화합물의 안정성 및 감광 활성을 크게 제고시켰으며, 현재 광범위하게 응용되고 있는 두 가지 대표적인 옥심 에스테르계 광개시제로는 OXE-1 및 OXE-2이고, 그 구조식은 하기와 같다:
여기서, OXE-1는 가장 전형적인 케토옥심 에스테르계 광개시제이고, 이는 주요하게 대형 스크린 LCD 디스플레이의 BM 및 RGB를 제조하는데 응용되며, 또한 이 구조식은 이미 해외 회사가 특허 공개 번호 CN99108598 및 CN02811675를 통해 상기 공개된 구조식의 합성 방법이 번잡하고, 합성 원가가 높으며, 본 구조의 제품의 응용 성능이 좋지 않고, 열안정성이 낮은 문제점을 보호할 것을 청구받은 실정이다.
배경 기술에서 존재하는 결점을 극복하기 위해 본 발명이 해결해야 할 기술문제는 하기와 같다. 기존의 OXE-1 케토옥심 에스테르계 광개시제가 응용 성능이 좋지 않고 열안정성이 낮은 문제점을 감안하여, 열안정성이 좋은 케토옥심 에스테르계 광개시제 및 그 제조 방법을 제공하였다.
채용된 기술 방안으로는 하기 화학식의 케토옥심 에스테르계 광개시제를 예를 들 수 있다:
여기서, R1 구조는 이며, 그 중 n은 1∼4인 정수이고, m은 1∼6인 정수이며, R2는 1∼8 개의 탄소를 가진 알킬기, 페닐기, 치환 페닐기, 벤질기 또는 치환 벤질기이고, R3은 디페닐술파이드기, 치환 디페닐술파이드기, 카르바졸기 또는 치환 카르바졸기이다.
본 발명에서 서술된 케토옥심 에스테르계 광개시제의 제조 방법은 하기와 같다.
a. 중간체 I 합성: 디페닐술파이드,치환 디페닐술파이드,카르바졸기 또는 치환 카르바졸기를 출발 원료로 하여,삼염화알루미늄 또는 염화아연의 작용하에서,R1기를 함유하는 아실할로겐화물과 프리델 크라프츠 반응을 통하여 케토옥심 에스테르계 광개시제 중간체 I을 합성하고;
b. 중간체 I I합성: 이어서,중간체 I은 염화수소 또는 나트륨 알코올레이트 또는 포타슘알코올레이트의 촉매 작용하에 아질산아밀과 산화 반응을 진행하여 히드록실아민 화합물 즉,중간체 II를 생성하며;
c. 케토옥심 에스테르계 광개시제 합성: 중간체 II는 R2기를 함유하는 아실할로겐화물 또는 무수물과 에스테르화 반응을 일으켜 케토옥심 에스테르계 광개시제 제품을 합성하는데 그 반응은 하기와 같다:
본 발명에서 상기 R1기를 함유하는 아실할로겐화물의 구조는 이고,상기 중간체 I의 구조는 이며,상기 중간체 II의 구조는 이고,상기 R2기를 함유하는 아실할로겐화물의 구조는 이며,여기서 R1 구조는 인데,그 중 n은 1∼4인 정수이고,m는 1∼6인 정수이며, R3은 디페닐술파이드기, 치환 디페닐술파이드기, 카르바졸기 또는 치환 카르바졸기이다.
본 발명에서 상기 a 단계인 중간체 I 합성의 구체적인 절차는 다음과 같다.출발 원료,AlCl3 및 유기 용제 A를 교반하여 혼합시킨 후 아르곤 기체를 주입하여 보호하고,얼음물에 넣어 냉각시켜 온도가 0℃로 하강되었을 때,R1기의 아실할로겐화물과 유기 용제 A의 혼합 용액을 떨어뜨리는데,온도를 10℃ 이하로 제어한 상태에서 1.5∼2h 동안 전부 떨어뜨리고,온도를 5∼35℃로 상승시켜 1.5∼3h 동안 계속 교반하여 생성물을 생성한 후 후처리를 진행하여 백색의 플레이크 형상의 고체 중간체 I을 얻어냈으며,출발 원료,AlCl3 및 R1기의 아실할로겐화물의 최적 몰비는 1:1:1이다.
본 발명에서 상기 유기 용제 A는 디클로로에탄,디클로로메탄 또는 사염화탄소이다.
본 발명에서 상기 b단계인 중간체 II 합성의 구체적인 절차는 다음과 같다.a 단계에서 생성된 중간체 I,유기 용제 B 및 아질산아밀의 혼합 용액에 염화수소 또는 나트륨 알코올레이트 또는 포타슘알코올레이트를 첨가하여 상온에서 계속 교반하여 5h 반응시킨 후 후처리를 거쳐 백색 분말 형태의 고체 중간체 II를 얻어냈으며,중간체 I,아질산아밀의 최적 몰비는 1:1.6이다.
본 발명에서 상기 유기 용제 B는 디클로로에탄 또는 테트라히드로푸란인데,용제로는 테트라히드로푸란을 선택하는 것이 가장 바람직하다.
본 발명에서 상기 c 단계인 케토옥심 에스테르계 광개시제 합성의 구체적인 절차는 다음과 같다.중간체 II,디클로로에탄 및 트리에틸아민을 교반하여 혼합시키고 얼음물에 넣어 냉각시켜 온도가 0℃일 때 R2기의 아실할로겐화물과 디클로로에탄으로 조성된 용액을 떨어뜨리기 시작하여 1∼1.5h 동안 전부 떨어뜨리고,계속적으로 1∼2h 교반시킨 후 냉각수를 떨어뜨리기 시작하여 용액을 분리시켜 5%의 NaHCO3 용액으로 한번 세척하고 다시 물로 중성이 될 때까지 세척한 다음,희염산 용액으로 한번 세척하고 다시 물로 세번 세척하여 무수 MgSO4로 건조한 후 회전시키면서 용제를 증발시켜서 점액성 액체를 얻어낸 후 여기에 메탄올을 첨가하면 백색 고체 생성물이 석출된다.
본 발명의 구조식 중에서 R1이 시클로펜틸 메틸렌이고, R3가 6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸기이며,R2가 페닐인 구조식은 인데, 자외 흡수 분광 스펙트럼 중 365 nm 파장에서 비교적 강한 흡수 피크를 나타내기에 LED냉광원용 광개시제로 될 수 있다.
본 발명의 구조식은 대칭성 또는 비대칭성 구조의 폴리케토옥심 에스테르 구조에도 적용된다. 즉 R3기에는 치환기 및 케토옥심 에스테르 구조가 있다.
본 발명의 케토옥심 에스테르계 화합물은 질량과 농도가 동일한 정황하에서, 이의 자외 흡수 분광 스펙트럼과 OXE-1의 자외 흡수 분광 스펙트럼과 동일하거나 비슷하고, 여기서 본 발명의 케토옥심 에스테르계 화합물의 열안정성은 OXE-1보다 확실히 안정하며, 본 발명의 케토옥심 에스테르계 화합물의 부분적 물질 구조는 자외 흡수 분광 스펙트럼에서 OXE-1과 비교할 때 명확한 적색 편이가 생기고, 365 nm에서 비교적 큰 흡수 피크를 나타내기에 LED냉광원이 활성화 광원으로서 사용가능함으로써, 본 발명의 응용 성능(감광도, 열안정성, 용해성)은 기존의 OXE-1의 응용성능보다 더 우수하다.
이하에서는 첨부된 도면과 실시예를 결합하여 본 발명에 대해 진일보로 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에서 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르 및 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르와 기존의 1-(4-티오페닐 페닐)-n-옥탄-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 자외 흡수선 비교도인데, 여기서 A는 1-(4-티오페닐 페닐)-n-옥탄-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 자외흡수선이고, B는 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 자외흡수선이며, C는 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 자외흡수선이다. 도 2는 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 핵자기공명 스펙트럼이다. 도 3은 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 핵자기공명 스펙트럼이다.
도 1은 본 발명에서 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르 및 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르와 기존의 1-(4-티오페닐 페닐)-n-옥탄-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 자외 흡수선 비교도인데, 여기서 A는 1-(4-티오페닐 페닐)-n-옥탄-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 자외흡수선이고, B는 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 자외흡수선이며, C는 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 자외흡수선이다. 도 2는 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 핵자기공명 스펙트럼이다. 도 3은 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 핵자기공명 스펙트럼이다.
실시예
1: 1-(4-
티오페닐
페닐
)-(3-
시클로펜틸
)-프로판-1,2-
디온
-2-
벤조산옥심
에스테르의 제조 방법
반응 단계 1: 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1-온의 제조
이에 따른 반응 조작은 다음과 같다.
500 ml의 4구 플라스크에 0.2 mol 디페닐술파이드, 0.22 mol AlCl3(분말 상태), 150 ml 디클로로에탄을 투입하고 교반한 다음 아르곤 기체를 주입하여 보호하고,얼음물에 넣고 냉각시켜 온도가 0℃로 하강되었을 때, 0.22 mol o-메틸벤조일클로라이드와 42 g 디클로로에탄으로 조성된 o-메틸벤조일클로라이드 용액을 떨어뜨리는데, 온도를 10℃ 이하로 제어한 상태에서 약 1.5h 동안에 전부 떨어뜨린 후 온도를 15℃까지 상승시켜 계속적으로 2h 교반하여 생성물을 얻어낸다.
후처리 단계는 다음과 같다.
교반하는 동시에 400 g 얼음과 65 ml 농염산으로 배합된 희염산 중에 상기 생성물을 천천히 투입하여 분액 깔때기로 하층액을 분리시킨 다음 50 ml 디클로로에탄으로 상층액을 추출시킨 후 추출액과 원료액을 병합시켜 10 g NaHCO3 및 200 g 물로 배합된 NaHCO3 용액으로 세척하고 다시 200 ml 물로 3번 세척하여 pH값이 중성으로 되게 한 다음 60 g 무수 MgSO4로 건조하여 수분을 제거하고 회전증발시켜 디클로로에탄을 얻어내는데 증발 후의 회전증발기용 플라스크중의 조생성물은 고체 분말 형태인데, 이를 상온에서 증발시킨 200 ml 석유 에테르 중에 넣고 침출시킨 후 이를 다시 150 ml 무수 에틸 알코올 중에 넣고 환류될 때까지 가열한 후 실온까지 냉각시키며 다시 2h 동안 냉동하고 침출시켜서 백색의 플레이크 형상의 고체인 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1-온을 얻어내어 50℃인 오븐 안에서 2h 동안 건조시켜 53.4 g인 생성물을 얻어냈는 바 수율은 86%에 달하고 순도는 98% 이상이다.
반응 단계 2: 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-옥심의 제조 공정 라인
이에 따른 반응 조작은 다음과 같다.
500 ml의 4구 플라스크에 40 g 제1 단계 생성물, 400 g 테트라히드로푸란, 200 g 농염산, 24.2 g 아질산아밀을 투입하고 상온에서 계속적으로 5h 교반하여 생성물을 얻어내는데, 반응 과정에서 대량의 생성물이 석출된다.
후처리 단계는 다음과 같다.
큰 비이커에 상기 생성물을 넣고 1000 ml 물을 첨가하여 교반한 후 방치한 상태로 밤을 보낸 다음 분층시켜 황색 점액성 액체를 얻어낸 후 디클로로에탄을 추출하고 여기에 50 g 무수 MgSO4를 첨가하여 건조시키고 침출한 후 여과액을 회전증발시켜서 회전증발기용 플라스크에는 유성의 점착물이 얻어지는데 이를 150 ml 석유 에테르 중에 넣고 교반하여 석출시키고 침출하여 백색 분말 형태의 고체를 얻어내여 60℃에서 5h 건조시켜 29.4 g인 생성물을 얻어냈는 바 수율은 67.2%에 달하고 순도는 98% 이상이다.
반응 단계 3: 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 제조 방법
1000 ml의 4구 플라스크에 33 g 제2 단계 생성물, 350 ml 디클로로에탄, 12.7 g 트리에틸아민을 투입하여 교반하고, 얼음물에 넣고 냉각시켜 온도가 0℃일 때 15.7 g 염화벤조일과 15 g 디클로로에탄으로 조성된 용액을 떨어뜨리기 시작하여 약 1.5h 동안에 모두 떨어뜨린 다음, 계속적으로 1h 교반시킨 후, 500 ml 냉각수를 떨어뜨려 분액 깔때기로 분층시켜 200 ml 5% NaHCO3 용액으로 한번 세척하고 다시 200 ml 물로 두번 세척하여 중성이 되게 한 다음, 희염산(20 g 농염산 + 400 ml 물)으로 한번 세척하고 다시 200 ml 물로 세번 세척한 후, 100 g 무수 MgSO4로 건조시키고 회전하여 용제를 증발시킴으로써 점액성 액체를 얻어냈는 바, 여기에 적당량의 메탄올을 첨가하면 백색 고체 생성물을 석출할 수 있는데 이를 여과 및 건조시켜 33 g인 생성물을 얻었는 바, 수율은 76.5%에 달하고 순도는 98% 이상이며, 도 2의 HNMR 스펙트럼 중의 흡수봉에 의하면 본 실시예의 최종 생성물의 구조식이라는 것을 판단해 낼 수 있다.
실시예 2: 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 제조 방법
반응 단계 1: 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1-온의 제조
이에 따른 반응조작은 다음과 같다.
500 ml의 4구 플라스크에 39.0 g N-에틸카르바졸, 25.3 g AlCl3(분말 상태), 150 ml 디클로로에탄을 투입하고 교반한 다음 아르곤 기체를 주입하여 보호하고, 얼음물에 넣고 냉각시켜 온도가 0℃로 하강되었을 때,25.4 g o-메틸벤조일클로라이드와 21 g 디클로로에탄으로 조성된 o-메틸벤조일클로라이드 용액을 떨어뜨리는데, 온도를 10℃ 이하로 제어한 상태에서 약 1.5h 동안에 모두 떨어뜨린 후 계속적으로 2h 교반시킨 다음, 플라스크에 25.4 g AlCl3(분말 상태)를 첨가하고 42.2 g 시클로펜틸 프로피오닐 클로라이드와 20 g 디클로로에탄으로 조성된 시클로펜틸 프로피오닐 클로라이드 용액을 떨어뜨리는데, 온도를 10℃ 이하로 제어한 상태에서 약 1.5h 동안에 모두 떨어뜨린 후 온도를 15℃까지 상승시켜 계속적으로 2h 교반하여 생성물을 얻어낸다.
후처리 단계는 다음과 같다.
교반하는 동시에 400 g 얼음과 65 ml 농염산으로 배합된 희염산 중에 상기 생성물을 천천히 투입하여 분액 깔때기로 하층액을 분리시킨 다음 50 ml 디클로로에탄으로 상층액을 추출시킨 후 추출액과 원료액을 병합시켜 10 g NaHCO3 및 200 g 물로 배합된 NaHCO3 용액으로 세척하고 다시 200 ml 물로 3번 세척하여 pH 값이 중성으로 되게 한 다음 30 g 무수 MgSO4로 건조하여 수분을 제거하고 회전증발시켜 디클로로에탄을 얻어내는데 증발 후의 회전증발기용 플라스크 중의 조생성물은 고체 분말 형태인데, 이를 상온에서 증발시킨 200 ml 석유 에테르 중에 넣고 침출시킨 후 이를 다시 150 ml 무수 에틸 알코올 중에 넣고 환류될 때까지 가열한 후 실온까지 냉각시키며 다시 2h 냉각하고 침출시켜서 백색의 플레이크 형상의 고체를 얻어내어 75℃인 오븐 안에서 2h 건조시켜 50.3 g인 생성물을 얻어냈는 바 순도는 96.0% 이상이다.
반응 단계 2: 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-옥심의 제조 공정 라인
이에 따른 반응 조작은 다음과 같다.
500 ml의 4구 플라스크에 45 g 제1 단계 생성물, 450 g 테트라히드로푸란, 225 g 농염산, 19.2 g 아질산아밀을 투입하고 상온에서 계속적으로 5h 교반하여 생성물을 얻어내는데, 반응 과정에서 대량의 생성물이 석출된다.
후처리 단계는 다음과 같다.
큰 비이커에 상기 생성물을 넣고 1000 ml 물을 첨가하여 교반한 후 정지한 상태로 밤을 지낸 다음 분층시켜 황색 점액성 액체를 얻어낸 후 디클로로에탄을 추출하고 여기에 50 g 무수 MgSO4를 첨가하여 건조시키고 침출한 후 여과액을 회전증발시켜서 회전증발기용 플라스크에는 50g 유성의 점착물이 얻어지는데 순도는 90%에 달한다.
반응 단계 3: 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르의 제조 공정 라인
1000 ml의 4구 플라스크에 50 g 제2 단계 생성물, 350 ml 디클로로에탄, 16.2 g 트리에틸아민을 투입하여 교반하고, 얼음물에 넣고 냉각시켜 온도가 0℃일 때 16.5 g 염화벤조일과 15 g 디클로로에탄으로 조성된 용액을 떨어뜨리기 시작하여 약 1.5h 떨어뜨린 다음, 계속적으로 1h 교반시킨 후, 500 ml 냉각수를 떨어뜨려 분액 깔때기로 분층시켜 200 ml 5% NaHCO3 용액으로 한번 세척하고 다시 200 ml 물로 두번 세척하여 중성이 되게 한 다음, 희염산(20 g 농염산 + 400 ml 물)으로 한번 세척하고 다시 200 ml 물로 세번 세척한 후, 100 g 무수 MgSO4로 건조시키고 회전하여 용제를 증발시킴으로써 점액성 액체를 얻어냈는 바, 여기에 적당량의 메탄올을 첨가하면 백색 고체 생성물을 석출할 수 있는데 이를 여과 및 건조시켜 35.2 g인 생성물을 얻었는 바, 수율은 60%에 달하고 순도는 98% 이상이며, 도 3의 HNMR 스펙트럼중의 흡수봉에 의하면 본 실시예의 최종 생성물의 구조식이라는 것을 판단해 낼 수 있다.
상기 실시예 1에서 제조된 1-(4-티오페닐 페닐)-(3-시클로펜틸)-프로판-1.2-디온-2-벤조산옥심 에스테르 B와 실시예 2에서 제조된 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카르바졸-3-일)-(3-시클로펜틸)-프로판-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르 C를 1-(4-티오페닐 페닐)-n-옥탄-1,2-디온-2-벤조산옥심 에스테르(즉 OXE-1)과 대비해 보면, 도 1에서 표시된 자외 흡수 분광 스펙트럼과 같으며, 케토옥심 에스테르계 화합물은 질량과 농도가 동일한 정황하에서, 이의 자외 흡수 분광 스펙트럼은 동일하거나 비슷하고, 여기서 A, B 두 가지 물질의 흡수 곡선은 비록 중첩되었지만, 열안정성은 B 물질이 A 물질에 비해 확실히 높고, C 물질의 흡수 곡선은 A 물질과 차이가 있지만 명확한 적색 편이가 생기고 365 nm에서 비교적 큰 흡수 피크를 나타내기에 C 물질은 A 물질에 비해 열안정성이 확실히 높으며, 본 발명의 응용 성능(감광도, 열안정성, 용해성)은 기존의 OXE-1, OXE-2의 응용 성능보다 더 우수한 바, 이는 하기 표 1의 용해도를 통해 알 수 있다.
TGA (10℃/분에서 N2)
Claims (9)
- 제1항에 있어서,
a. 중간체 I 합성: 디페닐술파이드,치환 디페닐술파이드,카르바졸기 또는 치환 카르바졸기를 출발 원료로 하여, 삼염화알루미늄 또는 염화아연의 작용하에서, 프리델 크라프츠 반응을 통하여 R1기를 함유하는 아실할로겐화물과 케토옥심 에스테르계 광개시제 중간체 I을 합성하고;
b. 중간체 II 합성: 이어서,중간체 I은 염화수소 또는 나트륨 알코올레이트 또는 포타슘알코올레이트의 촉매 작용하에 아질산아밀과 산화반응을 진행하여 히드록실아민 화합물 즉,중간체 II를 생성하며;
c. 케토옥심 에스테르계 광개시제 합성: 중간체 II는 R2기를 함유하는 아실할로겐화물 또는 무수물과 에스테르화 반응을 일으켜 케토옥심 에스테르계 광개시제 제품을 합성하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 케토옥심 에스테르계 광개시제의 제조 방법. - 제2항에 있어서, 상기 a 단계인 중간체 I 합성의 구체적인 절차로는 출발 원료, AlCl3 및 유기 용제 A를 교반하여 혼합시킨 후 아르곤 기체를 주입하여 보호하고, 얼음물에 넣고 냉각시켜 온도가 0℃로 하강되었을 때, R1기의 아실할로겐화물과 유기 용제 A의 혼합 용액을 떨어뜨리는데,온도를 0∼10℃ 이하로 제어한 상태에서 1.5∼2h 동안에 전부 떨어뜨린 후, 온도를 5∼35℃로 상승시켜 계속적으로 1.5∼3h 교반하여 생성물을 생성한 후 후처리를 진행하여 백색 고체인 중간체 I을 얻어냈으며,출발 원료, AlCl3 및 R1기의 아실할로겐화물의 최적 몰비는 1:1:1인 것을 특징으로 하는 케토옥심 에스테르계 광개시제의 제조 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 유기 용제 A는 디클로로에탄,디클로로메탄 또는 사염화탄소인 것을 특징으로 하는 케토옥심 에스테르계 광개시제의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 본 발명에서 상기 b 단계인 중간체 II 합성의 구체적인 절차로는 a 단계에서 생성된 중간체 I, 유기 용제 B 및 아질산아밀의 혼합 용액에 염화수소 또는 나트륨 알코올레이트 또는 포타슘알코올레이트를 첨가하여 상온에서 계속 교반하여 5∼6h 반응시킨 후 후처리를 거쳐 백색 분말 형태의 고체 중간체 II를 얻어냈으며,중간체 I, 아질산아밀의 최적 몰비는 1:1.6인 것을 특징으로 하는 케토옥심 에스테르계 광개시제의 제조 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 유기 용제 B는 디클로로에탄 또는 테트라히드로푸란인 것을 특징으로 하는 케토옥심 에스테르계 광개시제의 제조 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 c 단계인 케토옥심 에스테르계 광개시제 합성의 구체적인 절차로는 중간체 II, 디클로로에탄 및 트리에틸아민을 교반하여 혼합시키고 얼음물에 넣어 냉각시켜 온도가 0℃일 때 R2기의 아실할로겐화물과 디클로로에탄으로 조성된 용액을 떨어뜨리기 시작하여 1∼1.5h 동안에 전부 떨어뜨리고, 계속적으로 1∼2h 교반시킨 후 냉각수를 떨어뜨리기 시작하여 용액을 분리시켜 5%의 NaHCO3 용액으로 한번 세척하고 다시 물로 중성이 될 때까지 세척한 다음, 희염산 용액으로 한번 세척하고 다시 물로 세번 세척하여 무수 MgSO4로 건조한 후 회전시키면서 용제를 증발시켜서 점액성 액체를 얻어낸 후 여기에 메탄올을 첨가하면 백색 고체 생성물이 석출되는 것을 특징으로 하는 케토옥심 에스테르계 광개시제의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN200910027707.0 | 2009-05-19 | ||
CN2009100277070A CN101565472B (zh) | 2009-05-19 | 2009-05-19 | 酮肟酯类光引发剂 |
PCT/CN2009/076303 WO2010133077A1 (zh) | 2009-05-19 | 2009-12-30 | 酮肟酯类光引发剂 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110085005A true KR20110085005A (ko) | 2011-07-26 |
KR101222390B1 KR101222390B1 (ko) | 2013-01-15 |
Family
ID=41281851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020117015885A KR101222390B1 (ko) | 2009-05-19 | 2009-12-30 | 케토옥심 에스테르계 광개시제 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2433927B1 (ko) |
JP (1) | JP5430746B2 (ko) |
KR (1) | KR101222390B1 (ko) |
CN (1) | CN101565472B (ko) |
WO (1) | WO2010133077A1 (ko) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101225695B1 (ko) * | 2012-01-20 | 2013-02-05 | (주)휴넷플러스 | 신규한 고감도 알파키토옥심에스테르 광중합개시제 및 이 화합물을 포함하는 광중합 조성물 |
KR20140100266A (ko) * | 2013-02-06 | 2014-08-14 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
KR20140118490A (ko) | 2013-03-29 | 2014-10-08 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
US8883398B2 (en) | 2012-05-30 | 2014-11-11 | Lg Chem, Ltd. | Photoactive compound and light-sensitive resin composition comprising same |
KR20180081035A (ko) | 2018-07-06 | 2018-07-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하는 컬러 필터 |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101565472B (zh) * | 2009-05-19 | 2011-05-04 | 常州强力电子新材料有限公司 | 酮肟酯类光引发剂 |
AU2010330044B2 (en) * | 2009-12-07 | 2014-08-28 | Agfa Graphics N.V. | Photoinitiators for UV-LED curable compositions and inks |
JP5673111B2 (ja) * | 2011-01-12 | 2015-02-18 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性着色組成物およびカラーフィルタ |
CN101941920B (zh) * | 2010-07-21 | 2015-04-08 | 深圳市有为化学技术有限公司 | 芳香酮肟类光引发剂化合物 |
JP2012058728A (ja) * | 2010-08-10 | 2012-03-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
CN101923287B (zh) * | 2010-08-31 | 2011-11-30 | 常州强力电子新材料有限公司 | 一种含有二苯硫醚基酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 |
JP5121912B2 (ja) * | 2010-11-24 | 2013-01-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置 |
JP6009774B2 (ja) | 2011-02-22 | 2016-10-19 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置 |
JP5981159B2 (ja) | 2011-02-22 | 2016-08-31 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置 |
JP5659858B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2015-01-28 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性着色組成物およびカラーフィルタ |
JP6064411B2 (ja) * | 2011-09-28 | 2017-01-25 | Jsr株式会社 | 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 |
CN102492059B (zh) * | 2011-11-28 | 2013-04-17 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种二苯硫醚酮肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
CN102492060B (zh) * | 2011-11-28 | 2013-06-26 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种二苯硫醚肟酯类光引发剂、其制备方法及应用 |
CN102603720A (zh) * | 2012-02-29 | 2012-07-25 | 华南师范大学 | 含香豆素骨架的9-乙基咔唑类查尔酮衍生物及其合成方法 |
CN102778814B (zh) * | 2012-07-05 | 2014-04-23 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种含有酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 |
CN103204960B (zh) * | 2012-12-28 | 2015-08-19 | 南通缔威化工有限公司 | 三级胺类酮肟酯类光引发剂及其制备方法 |
KR101968510B1 (ko) * | 2013-02-06 | 2019-04-12 | 동우 화인켐 주식회사 | 적색 화소 패턴 형성용 감광성 수지 조성물 |
KR20140100261A (ko) * | 2013-02-06 | 2014-08-14 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
CN103130919B (zh) | 2013-02-08 | 2015-02-25 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种咔唑酮肟酯类高感光度光引发剂 |
KR101852509B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2018-04-26 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
TWI668210B (zh) | 2013-11-28 | 2019-08-11 | 塔可馬科技股份有限公司 | 光起始劑及包括該光起始劑之光敏性組合物 |
CN103819583B (zh) * | 2014-03-18 | 2016-05-18 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
CN103833872B (zh) | 2014-03-18 | 2016-04-06 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
CN103980171A (zh) * | 2014-05-30 | 2014-08-13 | 天津久日化学股份有限公司 | 1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛烷二酮-2-(o-苯甲酰肟)的制备方法 |
CN106278967B (zh) * | 2015-06-03 | 2020-08-07 | 江苏和成新材料有限公司 | 用于uv固化材料的酰基肟酯类化合物及其合成方法及应用 |
CN106278966B (zh) * | 2015-06-03 | 2019-11-05 | 江苏和成新材料有限公司 | 肟酯类化合物及其合成方法及应用 |
JP6894188B2 (ja) * | 2015-09-02 | 2021-06-30 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、当該感光性組成物の製造方法、当該感光性組成物を用いる膜の形成方法、感光性組成物の保管時の増粘抑制方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の製造方法 |
CN106483760B (zh) * | 2015-09-02 | 2019-11-12 | 东京应化工业株式会社 | 感光性组合物、其制造方法、膜的形成方法、粘度增加抑制方法、光聚合引发剂及其制造方法 |
CN105523975A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-04-27 | 天津英吉诺科技有限公司 | 一种酮肟酯类光引发剂的绿色合成方法 |
CN105504105A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-04-20 | 天津英吉诺科技有限公司 | 一种肟酯类光引发剂及其制备方法 |
JP6936215B2 (ja) * | 2016-03-29 | 2021-09-15 | 株式会社Adeka | 光重合開始剤組成物及び感光性組成物 |
KR20200015487A (ko) * | 2017-06-06 | 2020-02-12 | 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 | 광경화성 조성물 및 전자 부품용 접착제 |
CN111320714B (zh) * | 2018-12-13 | 2022-04-19 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 肟酯类光引发剂、其制备方法及应用 |
CN110028440A (zh) * | 2019-04-19 | 2019-07-19 | 同济大学 | 含二联咔唑基的肟酯类化合物及其制备方法和应用 |
CN110117262B (zh) * | 2019-04-30 | 2023-04-11 | 同济大学 | 2-苯乙烯基苯并恶唑或苯并噻唑基酮肟酯类化合物及其制备方法和应用 |
CN115151579B (zh) | 2020-03-30 | 2023-12-08 | 株式会社艾迪科 | 自由基聚合引发剂、组合物、固化物及固化物的制造方法 |
WO2023054142A1 (ja) | 2021-09-29 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、樹脂、膜および光センサ |
CN114288468B (zh) * | 2021-12-27 | 2022-12-09 | 广西医科大学 | 一种3d打印黄原胶水凝胶支架及其制备方法 |
CN115505004A (zh) * | 2022-08-24 | 2022-12-23 | 湖北固润科技股份有限公司 | 适用于uv-vis led光源深层固化的酰基氧膦肟酯类化合物及其制备和应用 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1180846A (en) | 1967-08-08 | 1970-02-11 | Agfa Gevaert Nv | Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds |
US4745060A (en) * | 1984-12-28 | 1988-05-17 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Methods and compositions for the detection of Familial Hypercholesterolemia |
SG77689A1 (en) * | 1998-06-26 | 2001-01-16 | Ciba Sc Holding Ag | New o-acyloxime photoinitiators |
WO2004050653A2 (en) * | 2002-12-03 | 2004-06-17 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups |
JP2007112930A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光ラジカル重合性組成物 |
JP4650212B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-03-16 | 東洋インキ製造株式会社 | 光重合性組成物 |
US8133656B2 (en) * | 2006-12-27 | 2012-03-13 | Adeka Corporation | Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same |
EP2055746B1 (en) * | 2007-10-31 | 2011-09-28 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, color filter, method of producing the same, and solid state image pickup device. |
CN101565472B (zh) * | 2009-05-19 | 2011-05-04 | 常州强力电子新材料有限公司 | 酮肟酯类光引发剂 |
-
2009
- 2009-05-19 CN CN2009100277070A patent/CN101565472B/zh active Active
- 2009-12-30 WO PCT/CN2009/076303 patent/WO2010133077A1/zh active Application Filing
- 2009-12-30 JP JP2012510093A patent/JP5430746B2/ja active Active
- 2009-12-30 KR KR1020117015885A patent/KR101222390B1/ko active IP Right Grant
- 2009-12-30 EP EP09844829.3A patent/EP2433927B1/en active Active
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101225695B1 (ko) * | 2012-01-20 | 2013-02-05 | (주)휴넷플러스 | 신규한 고감도 알파키토옥심에스테르 광중합개시제 및 이 화합물을 포함하는 광중합 조성물 |
US8883398B2 (en) | 2012-05-30 | 2014-11-11 | Lg Chem, Ltd. | Photoactive compound and light-sensitive resin composition comprising same |
KR20140100266A (ko) * | 2013-02-06 | 2014-08-14 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
KR20140118490A (ko) | 2013-03-29 | 2014-10-08 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
KR20180081035A (ko) | 2018-07-06 | 2018-07-13 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하는 컬러 필터 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101565472B (zh) | 2011-05-04 |
JP5430746B2 (ja) | 2014-03-05 |
JP2012526185A (ja) | 2012-10-25 |
EP2433927A1 (en) | 2012-03-28 |
CN101565472A (zh) | 2009-10-28 |
EP2433927A4 (en) | 2012-10-17 |
KR101222390B1 (ko) | 2013-01-15 |
EP2433927B1 (en) | 2013-11-20 |
WO2010133077A1 (zh) | 2010-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101222390B1 (ko) | 케토옥심 에스테르계 광개시제 | |
KR101222203B1 (ko) | 카르바졸 옥심 에스테르계 광개시제 | |
KR101742473B1 (ko) | 카바졸 케톡심 에스테르 고-감광도 광개시제 | |
KR101567837B1 (ko) | 플루오렌 구조를 갖는 신규한 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물 | |
CN109776419B (zh) | 含有吡唑啉基团的硫鎓盐及其制备方法和应用 | |
JP2009249307A (ja) | ビス(ヒドロキシフェニル)アントラセン化合物及びその製造方法 | |
JP4005571B2 (ja) | 両親媒性ヘキサペリヘキサベンゾコロネン誘導体 | |
JP2000344704A (ja) | 新規なアントラセン化合物、これを含有する樹脂組成物、9,10−ジエーテル化アントラセン誘導体の製造方法 | |
WO2024041569A1 (zh) | 适用于uv-vis led光源深层固化的酰基氧膦肟酯类化合物及其制备和应用 | |
CN109456242B (zh) | 硫鎓盐光引发剂、其制备方法、包含其的光固化组合物及其应用 | |
CN113234097A (zh) | 一种tBu--azaBODIPY光热染料极其制备方法 | |
JP2005531629A (ja) | フェニルエタンジオール官能基を有するキラルドーピング剤 | |
JP5408821B2 (ja) | ナフタロシアニン化合物及びその製造方法 | |
CN1986554B (zh) | 三(4-乙氧基苯基)铋的制备方法 | |
CN105016988B (zh) | 多烷氧基取代的1,2‑苯并屈衍生物及其制备方法 | |
CN113372259B (zh) | 可溶性手性非对映异构体肟酯化合物及其混合物 | |
Roy et al. | Synthesis and photophysical properties of stilbenoid dendrimers via Heck reaction on a tetraphenylethylene core | |
CN109096324B (zh) | 一种二烷基酰基氯化锗合成方法与应用 | |
CN117777006A (zh) | 一种联咔唑类化合物、光引发剂及其制备方法和应用 | |
CN116063163A (zh) | 7-(苄氧基)-2,4,5,6-四氢-1H-环丁二烯[f]茚-1-酮的制备方法 | |
CN114149305A (zh) | 一种卤代烷基-2,3-二氢-1h-吲哚-5-醇的制备方法 | |
Cheng et al. | Synthesis and Mesomorphic Behavior of 3‐Alkyl‐2, 5‐bis [p‐(hexa‐2, 4‐dienoyloxy) phenyl]‐Thiophene Derivatives | |
CN116640064A (zh) | 一种4’-氯-2-氨基联苯的合成方法 | |
KR101535521B1 (ko) | 불소가 비대칭으로 도입된 2,5-비스메톡시페닐티오펜 화합물의 제조방법 | |
US8460577B2 (en) | Polymerizable oxetane derivative |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160324 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190219 Year of fee payment: 7 |