KR20090118630A - 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (8)
- 리프트 핀 구조체에 있어서:기판과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 상부 핀과;상기 상부 핀의 하단부와 결합되는 하부 핀 및;상기 상부 핀과 상기 하부 핀 사이에 제공되어, 상기 기판이 상기 상부 핀에 안착되면, 상기 기판의 하중을 감소시키는 완충부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
- 제 1 항에 있어서,상기 상부 핀은;몸체와,상기 몸체의 상부에 배치되어 기판과 접촉하는 지지부 및,상기 몸체의 하부에 제공되어, 상기 완충부재와 결합되는 결합부를 포함하는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 완충부재는 스프링 장치 또는 공압 완충 장치로 구비되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
- 제 3 항에 있어서,상기 하부 핀은 상단에 상기 상부 핀이 설치되는 체결홈을 구비하되;상기 완충부재는 상기 기판의 하중에 의해 상기 상부 핀이 상하로 이동되도록 상기 체결홈 내부에 설치되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 구조체.
- 기판 처리 장치에 있어서:기판이 안착되고, 내부에 관통되는 복수 개의 핀 홀들을 구비하는 플래이트와;상기 핀 홀들 각각 설치되어 상기 기판을 지지하고, 지지된 상기 기판의 하중을 감소시켜서 상기 기판의 하중을 분산하는 복수 개의 리프트 핀 구조체와;상기 리프트 핀 구조체들을 연결하는 연결부재 및;상기 연결부재를 구동하여 상기 리프트 핀 구조체를 상하로 이동시키는 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 5 항에 있어서,상기 리프트 핀 구조체는;상기 기판과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 상부 핀과;상기 상부 핀의 하단부와 결합되는 하부 핀 및;상기 상부 핀과 상기 하부 핀 사이에 제공되어, 상기 기판이 상기 상부 핀에 안착되면, 상기 기판의 하중을 감소시키는 완충부재를 포함하는 것을 특징으로 하 는 기판 처리 장치.
- 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,상기 하부 핀은 상단에 상기 상부 핀이 설치되는 체결홈을 구비하되;상기 완충부재는 상기 기판의 하중에 의해 상기 상부 핀이 상하로 이동되도록 상기 체결홈 내부에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 완충부재는 스프링 장치 또는 공압 완충 장치로 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080044534A KR100968814B1 (ko) | 2008-05-14 | 2008-05-14 | 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080044534A KR100968814B1 (ko) | 2008-05-14 | 2008-05-14 | 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090118630A true KR20090118630A (ko) | 2009-11-18 |
KR100968814B1 KR100968814B1 (ko) | 2010-07-08 |
Family
ID=41602570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080044534A KR100968814B1 (ko) | 2008-05-14 | 2008-05-14 | 리프트 핀 구조체 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100968814B1 (ko) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106298622A (zh) * | 2015-05-28 | 2017-01-04 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种承载翘曲晶圆的装置及其承载方法 |
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CN111312653A (zh) * | 2020-03-16 | 2020-06-19 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶片承载装置及半导体加工设备 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190029365A (ko) | 2017-09-12 | 2019-03-20 | 삼성전자주식회사 | 리프트 핀 조립체, 이를 갖는 기판 지지 유닛 및 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3146681B2 (ja) * | 1992-09-17 | 2001-03-19 | 日本電気株式会社 | ペレット突き上げ用ピン |
JP3343012B2 (ja) * | 1995-12-25 | 2002-11-11 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 回転式基板処理装置 |
KR20060077667A (ko) * | 2004-12-30 | 2006-07-05 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 웨이퍼의 정전척 |
JP4906375B2 (ja) | 2006-03-20 | 2012-03-28 | 東京応化工業株式会社 | 基板支持部材 |
-
2008
- 2008-05-14 KR KR1020080044534A patent/KR100968814B1/ko active IP Right Grant
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CN111312653A (zh) * | 2020-03-16 | 2020-06-19 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶片承载装置及半导体加工设备 |
CN111312653B (zh) * | 2020-03-16 | 2023-08-18 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶片承载装置及半导体加工设备 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR100968814B1 (ko) | 2010-07-08 |
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