KR101261291B1 - 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 관한 것으로, 상부 챔버와 하부 챔버의 사이에 마련된 안착대와, 상기 안착대의 상부에 마련되어 대면적 기판이 안착되는 다수의 지지핀과, 상기 안착대에 다수로 마련된 핀홀과, 상기 핀홀을 통해 상하 이동이 가능하여 상기 상부 챔버에 로딩된 대면적 기판을 지지 이동시켜 상기 다수의 지지핀에 안착시키되, 그 대면적 기판이 상기 다수의 지지핀 상에 안착되었을 때, 상기 핀홀을 통해 공기가 상기 상부 챔버로 유입되는 것을 방지하는 리프트핀을 포함한다. 이와 같이 구성된 본 발명은 대면적 기판을 안착시키는 리프트핀의 형상을 변경하여, 건조공정시 하부 챔버의 공기가 상부 챔버로 유입되는 것을 방지하여 건조공정을 위한 진공의 형성 및 유지가 용이한 효과가 있다.

Description

대면적 기판의 포토레지스트 건조장치{Dry apparatus for photoresist on large area substrate}

도 1은 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 구성도이다.

도 2는 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.

도 3과 도 4는 각각 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 적용되는 리프트핀의 다른 실시 구성도이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

10:챔버 11:상부 챔버

12:하부 챔버 20:안착대

21:지지핀 22:핀홀

30:리프트핀 31:핀

32:핀지지대 33:기밀유지부

40:대면적 기판

본 발명은 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 관한 것으로, 특히 용이하게 진공상태를 만들고 유지할 수 있는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 관한 것이다.

일반적으로, 대면적의 평판 디스플레이 제조를 위해 대면적 기판에 특정한 박막을 증착하고, 이를 사진 식각공정으로 패터닝하는 기술이 이용된다. 이때 사진식각공정을 적용하기 위해서는 포토레지스트를 건조하는 과정이 필요하다.

이와 같이 대면적 기판의 표면에 도포된 포토레지스트에 포함된 휘발성 용제를 제거하기 위하여 그 포토레지스트가 도포된 대면적 기판을 진공분위기에서 일정시간 유지시키는 공정이 필요하며, 이를 위해 대면적 기판의 포토레지스트 건조에 적당한 건조장치가 개발되었다.

그러나, 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치는 원하는 정도의 진공을 만들고 이를 유지하기는 것이 용이하지 않았으며, 이와 같은 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 1은 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 구성도이다.

도 1을 참조하면, 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)로 구분되는 챔버(3)와, 상기 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)의 중앙부에 위치하는 안착대(5)와, 상기 안착대(5) 상에 고정 설치된 다수의 지지핀(4)과, 상기 안착대(5)에 마련된 다수의 리프트 홀(6)을 통해 상하 이동이 가능하여, 상기 상부 챔버(1)로 로딩된 대면적 기판(8)을 상기 안착대(5)의 지지핀(4) 상부에 안착시키는 리프트핀(7)을 포함하여 구성된다.

이하, 상기와 같이 구성된 종래 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 구성과 작용을 상세히 설명한다.

먼저, 챔버(3)는 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)로 구분된다.

상기 상부 챔버(1)는 실질적으로 공정이 이루어지는 챔버로서, 대면적 기판(8)이 로딩 및 언로딩되는 위치이며, 포토레지스트의 건조를 위해 건조공정 중에는 진공 상태가 유지되어야 한다.

상기 하부 챔버(2)는 건조공정과는 직접적인 영향이 없으며, 공정 중에는 상기 리프트핀(7)이 위치하는 공간을 제공하는 역할을 한다.

이와 같은 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)의 경계부분에는 안착대(5)가 마련되어 있으며, 그 안착대(5)에는 다수의 핀홀(6)과 지지핀(4)이 위치한다.

상기 지지핀(4)은 안착대(5)와 대면적 기판(8)의 사이에서 그 대면적 기판(8)을 지지하며, 안착대(5)와 대면적 기판(8)간의 면접촉을 방지하여 대면적 기판(8)의 전면이 고른 기류분포를 가지도록 한다.

상기 핀홀(6)은 하부 챔버(2)에 위치하는 리프트핀(7)이 상부 챔버(1) 측으로 이동될 수 있도록 하는 홀이다.

이와 같은 구조에서 상기 상부 챔버(1)로 이송로봇에 의해 포토레지스트가 도포된 대면적 기판(8)이 로딩되면, 상기 리프트핀(7)이 상승하여 상부 챔버(1)에서 그 대면적 기판(8)의 저면을 지지한다.

그 다음, 상기 이송로봇이 후퇴한 후, 상기 리프트핀(7)은 하강하여 하부 챔버(2) 내에 위치하게 되며, 그 과정에서 리프트핀(7)에 지지되어 하강하는 대면적 기판(8)은 상기 안착대(5)의 지지핀(4)에 안착된다.

이와 같이 안착대(5)의 지지핀(4) 상에 안착된 대면적 기판(8) 상의 포토레지스트를 건조시키기 위해 상기 상부 챔버(1)는 진공상태가 된다. 이를 위해 펌프를 구비할 수 있으며, 도면에서는 설명의 편의를 위해 생략하였다.

이와 같은 상태에서 상기 리프트핀(7)이 상부 챔버(1)와 하부 챔버(2)를 오 갈 수 있도록 하는 핀홀(6)은 열려있는 상태이다. 따라서 상부 챔버(1) 내에 진공분위기 생성시 핀홀(6)을 통해 하부 챔버(2)의 공기가 상부 챔버(1)로 유입됨으로써, 상기 상부 챔버(1)의 진공상태인 공정 분위기의 유지가 용이하지 않게 된다. 또한 그 공기의 유입으로 인한 핀홀(6) 주위의 온도가 타부분에 비해 저하되어 휘발성 용제의 균일한 제거가 용이하지 않게 된다.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 상부 챔버에서 건조공정이 진행될 때 원하는 정도의 진공분위기의 생성 및 유지가 용이한 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치를 제공함에 그 목적이 있다.

또한, 본 발명은 상부 챔버에서 건조공정이 이루어지는 동안 이상기류가 형성되어 온도 차가 발생되는 것을 방지할 수 있는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치를 제공함에 다른 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 상부 챔버와 하부 챔버의 사이에 마련된 안착대와, 상기 안착대의 상부에 마련되어 대면적 기판이 안착되는 다수의 지지핀과, 상기 안착대에 다수로 마련된 핀홀과, 상기 핀홀을 통해 상하 이동이 가능하여 상기 상부 챔버에 로딩된 대면적 기판을 지지 이동시켜 상기 다수의 지지핀에 안착시키되, 그 대면적 기판이 상기 다수의 지지핀 상에 안착되었을 때, 상기 핀홀을 통해 공기가 상기 상부 챔버로 유입되는 것을 방지하는 리프트핀을 포함한다.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 2는 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.

도 2를 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 바람직한 실시예는 상부 챔버(11)와 하부 챔버(12)로 구분되는 챔버(10)와, 상기 챔버(10)의 내측에 설치되어 상부 챔버(11)와 하부 챔버(12)를 구분하며, 대면적 기판(40)을 지지하는 안착대(20)와, 상기 안착대(20)의 상부에 마련된 다수의 지지핀(21) 및 핀홀(22)과, 상기 안착대(20)의 핀홀(22)을 통해 상부 챔버(11)와 하부 챔버(12) 사이를 이동하며, 대면적 기판(40)을 상기 안착대(20)의 지지핀(21) 상에 안착시킴과 아울러 건조 공정이 진행되는 동안 상기 핀홀(22)의 기밀을 유지하는 리프트핀(30)으로 구성된다.

상기 리프트핀(30)은 대면적 로딩되는 기판(40)의 저면을 지지하는 다수의 핀(31)과, 상기 다수의 핀(31)의 하부 위치하여 상하 구동력을 그 다수의 핀(31)에 전달하는 다수의 핀지지대(32)와, 상기 핀(31)에 인접한 하부 핀지지대(32)의 외주면에 위치하여 상기 핀(31)이 하강한 상태에서 상기 핀홀(22)의 상부주변부를 밀폐 시키는 기밀유지부(33)를 포함하여 구성된다.

이하, 상기와 같이 구성된 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치의 구성 및 작용을 보다 상세히 설명한다.

먼저, 대면적 기판(40)의 이송 로봇에 의해 상부 챔버(11)로 이송되면, 리프트핀(30)이 상승하여 대면적 기판(40)의 저면을 지지한다. 이와 같은 상태에서 이송 로봇이 후퇴하면, 그 리프트핀(30)은 하강한다.

상기 리프트핀(30)은 상기 설명과 같이 핀(31)과 그 핀(31)을 지지하는 핀지지대(32) 및 핀홀(22)의 기밀을 유지할 수 있는 기밀유지부(33)로 구성되어 있으며, 상기 기밀유지부(33)는 적어도 상기 안착대(20)와의 접촉면은 기밀유지가 가능한 탄성체로 한다.

상기 기밀유지부(33)와 핀(31)의 높이의 합은 상기 안착대(20)의 지지핀(21)의 높이에 비하여 보다 낮은 것으로 한다.

이와 같은 구조에서 상기 리프트핀(30)이 하강하는 과정에서 그 대면적 기판(40)의 저면은 상기 안착대(20)의 지지핀(21)에 접촉되어 그 안착대(20)에 안착된다.

이와 같이 대면적 기판(40)이 안착된 상태에서 상기 리프트핀(30)이 더욱 하강하면, 그 안착대(20)에 마련된 핀홀(22)의 주변에 상기 기밀유지부(33)가 접촉되며, 그 리프트핀(30)은 하강이 종료된다.

이와 같은 구조에서는 핀(31), 핀지지대(32) 및 기밀유지부(33)가 상호 일체로 결합된 것으로 설명하였으나, 그 핀지지대(32)가 분리되어 핀지지대(32)의 하강시 상기 기밀유지부(33) 및 핀(31)은 상부 챔버(11)에서 상기 핀홀(22)의 기밀을 유지하는 상태로 존재하고, 그 핀지지대(32)는 그 기밀유지부(33)와 분리된 상태로 하부 챔버(12)에 위치하는 상태로 하강이 종료되도록 할 수 있다.

이때, 상기 기밀유지부(33)의 하부에는 상기 핀지지대(32)가 삽입되는 삽입홈이 마련되어, 상기 핀지지대(32)가 상부 챔버(11) 측으로 상승할 때, 안정되게 그 기밀유지부(33) 및 핀(31)을 지지할 수 있도록 한다.

상기 기밀유지부(33)가 안착대(20)에 접촉된 상태에서는 상기 대면적 기판(40)은 지지핀(21)에 의해서만 지지되는 상태로, 상기 리프트핀(30)의 핀(31)과는 이격된 상태가 된다.

이와 같이 대면적 기판(40)이 안착대(20)의 지지핀(21) 상에 안착된 상태에서 상기 상부 챔버(11)는 진공의 공정분위기가 유지되며, 이때 상기 안착대(20)의 핀홀(22)을 통해 하부 챔버(12)의 공기가 상부 챔버(11)로 유입되는 것이 방지되어 그 진공 상태의 형성 및 유지가 보다 용이하게 된다.

도 3과 도 4는 각각 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 적용되는 리프트핀(30)의 다른 실시 구성도이다.

도 2 내지 도 4를 각각 참조하면, 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치에 적용되는 리프트핀(30)의 다른 실시예는 대면적 기판(40)의 저면에 접촉되는 핀(31)과, 상기 핀(31) 저면에 위치하여 상기 안착대(20)의 핀홀(22) 보다 직경이 더 큰 기밀유지부(34)와, 상기 기밀유지부(34)의 중앙 하부를 지지하며, 상하 구동력을 전달하는 지지핀(35)을 포함하여 구성된다.

상기 기밀유지부(34)는 원판형상의 본체(36)와 그 본체의 저면의 측면부에 접합된 탄성체(37)를 포함할 수 있다.

또한, 본체(36)의 형상은 저면의 중앙부에 홈이 형성된 것일 수 있으며, 상기 탄성체(37)는 그 홈의 주변부에서 상대적으로 돌출된 부분에 접합된 것일 수 있다.

아울러 상기 기밀유지부(34)의 저면은 그 안착대(40)의 상부에 부착되는 자성체일 수 있으며, 이는 상기 핀홀(22)의 폐쇄를 보다 긴밀하게 할 수 있다.

이와 같은 구조는 상기 핀홀(22)을 통해 하부 챔버(12)의 공기가 상부 챔버(11)로 유입되지 않도록 기밀시키는 구조이면, 그 구조에 의해 본 발명이 제한되지 않는다.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.

상기한 바와 같이 본 발명 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치는 대면적 기판을 안착시키는 리프트핀의 형상을 변경하여, 건조공정시 하부 챔버의 공기가 상부 챔버로 유입되는 것을 방지하여 건조공정을 위한 진공의 형성 및 유지가 용이한 효과가 있다.

또한, 본 발명은 건조의 진행시 핀홀을 통해 이상기류가 발생하여 온도의 불균일이 발생하는 것을 차단하여, 포토레지스트의 휘발성 용제를 균일하게 제거하여 건조공정의 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.

Claims (7)

1. 상부 챔버와 하부 챔버의 사이에 마련된 안착대;

   상기 안착대의 상부에 마련되어 대면적 기판이 안착되는 다수의 지지핀;

   상기 안착대에 다수로 마련된 핀홀; 및

   상기 상부 챔버에 로딩된 대면적 기판을 지지하는 핀과, 상기 핀의 하강시 핀홀의 기밀을 유지하는 기밀유지부와, 상기 기밀유지부 및 핀을 승하강 시키는 핀지지대를 구비하되, 상기 기밀유지부는 상기 핀지지대와 분리되고 그 저면부에 상기 핀지지대가 삽입되는 삽입홈이 마련되도록 형성되며, 상기 핀홀을 통해 상하 이동되어 상기 상부 챔버에 로딩된 대면적 기판을 지지 이동시켜 상기 다수의 지지핀에 안착시키되, 그 대면적 기판이 상기 다수의 지지핀 상에 안착되었을 때, 상기 기밀 유지부가 상기 핀홀을 폐쇄하는 리프트핀;

   을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 기밀유지부의 저면은 상기 안착대에 부착되는 자성체인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장지.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   상기 기밀유지부는,

   상기 안착대와의 접촉부분이 탄성체인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 포토레지스트 건조장치.
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