KR101012780B1 - 기판 건조 장치 - Google Patents

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Abstract

개시된 기판 건조 장치는 상하로 업다운 동작하며 하부가 개방된 구조를 갖는 상부 챔버 부재와, 상부 챔버 부재의 하부에 결합되어 공정 공간을 형성하는 하부 챔버 부재와, 공정 공간 내에 위치하도록 하부 챔버 부재의 상부에 설치되며 포토레지스트가 도포된 기판을 전달받아 지지하는 기판 지지부 및 하부 챔버 부재와 연결되고 기판의 건조를 진행하기 위하여 공정 공간이 감압되도록 배기하는 배기부를 포함한다. 특히, 기판과 마주하는 상부 챔버 부재의 하부면 부위는 공정 공간을 배기할 때 기판 상부에서의 유속이 균일해지도록 원뿔 또는 각뿔 구조를 갖는다.

Description

기판 건조 장치{Apparatus for drying substrate}
본 발명의 반도체 제조 공정에서 기판을 건조하기 위한 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 포토레지스트가 도포된 기판을 대상으로 건조 공정을 수행하기 위한 기판 건조 장치에 관한 것이다.
일반적으로 평판 표시 장치는 액정을 이용하는 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마를 이용하는 플라즈마 표시 장치(PDP), 유기 발광 소자를 이용하는 유기 발광 표시 장치(OLED) 등을 들 수 있다.
상기 평판 표시 장치는 기본적으로 영상을 표시하는 표시 패널을 포함하여 이루어진다. 상기 표시 패널은 유리 기판 등의 대면적을 갖는 기판을 모기판으로 하여 상기 기판에 증착 공정, 식각 공정, 포토리소그래피 공정, 세정 공정, 검사 공정 등의 다양한 처리 공정을 반복적으로 수행하여 제조된다.
상기 처리 공정들 중 상기 포토리소그래피 공정에서 상기 포토리소그래피가 도포된 기판은 건조 공정을 거치게 된다. 상기 기판의 건조는 다양한 방식으로 적용되고 있으며, 일 예로 챔버 내를 감압(예컨대 진공을 형성)하는 방식이 있다.
도 1은 종래 기판 건조 장치의 일부부분을 나타내는 개략적인 도면이다.
도 1을 참조하면, 종래 기판 건조 장치는 기판(G)을 챔버(10) 내에 수평 배치시키고, 상기 챔버(10)를 감압함으로써 상기 기판(G)에 대한 건조 공정을 수행하게 된다. 상기 챔버의 감압은 배기를 통해 이루어지며, 상기 배기는 도시되진 않았지만 상기 챔버(10)의 하부에 구비되는 배기 통로를 통해 이루어진다. 따라서, 상기 챔버(10)로부터 배기되는 유체는 기판(G)의 가장자리 부위와 챔버(10)의 내벽 사이를 통해서 하부 방향으로 흐르게 된다.
또한, 상기 챔버(10)의 내부 형상 즉, 상면은 통상적으로 상기 기판(G)의 상부면과 평행한 구조를 갖는다.
따라서, 상기 기판(G) 상부에서의 체적은 상기 기판(G)의 전면에서 균일하게 형성된다. 반면에 기판(G)의 가장자리 부위로 갈수록 배기되는 유체가 누적됨으로써 상기 기판(G)의 가장자리 부위에서는 유체의 속도가 증가하는 현상이 나타난다. 때문에 기판 상부에서의 유체 속도가 불균일 하게 되어 포토레지스트의 건조가 불균일해지고 이로 인해 기판 불량을 초래하는 문제점을 갖는다.
상기 문제점에 따라 본 발명의 일 실시예를 통해 해결하고자 하는 일 과제는 기판 건조 공정에서 감압을 위해 챔버를 배기할 때 기판 상부에서의 유체 속도를 균일하게 형성함으로써 상기 유체 속도의 편차에 의한 기판 불량을 개선할 수 있는 기판 건조 장치를 제공하는 것이다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위해 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 상부 챔버 부재, 하부 챔버 부재, 기판 지지부 및 배기부를 포함한다. 상기 상부 챔버 부재는 상하로 업다운 동작하며, 하부가 개방된 구조를 갖는다. 상기 하부 챔버 부재는 상기 상부 챔버 부재의 하부에 결합되어 공정 공간을 형성한다. 상기 기판 지지부는 상기 공정 공간 내에 위치하도록 상기 하부 챔버 부재의 상부에 설치되며, 포토레지스트가 도포된 기판을 전달받아 지지한다. 상기 배기부는 상기 하부 챔버 부재와 연결되고, 상기 기판의 건조를 진행하기 위하여 상기 공정 공간이 감압되도록 배기 한다. 특히, 상기 기판과 마주하는 상부 챔버 부재의 하부면 부위는 상기 공정 공간을 배기할 때 상기 기판 상부에서의 유속이 균일해지도록 원뿔 또는 각뿔 구조를 갖는다.
상기한 기판 건조 장치는 본 발명의 일 실시예에서 상기 기판 지지부는 지지 플레이트와, 상기 지지 플레이트 상부에 설치되고 상기 기판의 하부를 직접 접촉하여 지지하는 다수의 지지핀들 및 상기 지지 플레이트를 상하로 업다운 동작시키는 다수의 서포트핀들을 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에서 상기 배기부는 진공 펌프 및 상기 진공 펌프와 연결되며, 상기 하부 챔버 부재의 하부면에 균일하게 배치되는 다수의 배기홀들을 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에서 상기 기판과 마주하는 상기 상부 챔버 부재 하면 부위의 원뿔 또는 각뿔 구조는 분리 가능하다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 기판 건조 장치는 기판이 챔버 내부에 배치되어 건조가 진행될 때 기판 상부에서 형성되는 체적이 중심부로부터 가장자리 부위로 진행할수록 증가됨으로써, 기판 상부에서 균일한 유속을 형성할 수 있다. 따라서, 기판의 균일한 건조가 가능하여 기판 불량을 개선할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 건조 장치에 대하여 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 발명의 명확성을 기하기 위해 실 제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 설명하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
실시예
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치의 일부분을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치(100)는 반도체 제조 공정에서 기판(G)의 건조를 위하여 사용될 수 있다. 특히, 상기 기판 건조 장치(100)는 감압 방식으로 기판(G) 상에 도포된 포토레지스트 등의 처리액을 건조시킨다. 상기 기판(G)은 평판 표시 장치의 제조 공정에 이용되는 기판(G)으로서 대표적인 예로는 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 표시 패널(PDP), 유기발광소자(OLED) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 기판(G)은 선행 공정을 수행한 후 기판(G)을 건조할 때 사용될 수 있으며, 상기 선행 공정의 일 예로는 포토레지스트 도포 공정을 들 수 있다. 한편, 상기 기판 건조 장치(100)는 실리콘웨이퍼와 같은 반도체 소자 제조용 기판(G)과 같은 동종의 기판(G) 건조를 위하여 사용될 수도 있다.
상기 기판 건조 장치(100)는 챔버(110), 기판 지지부(120) 및 배기부(130)를 포함한다.
상기 챔버(110)는 상기 기판(G)의 건조를 수행하기 위한 공정 공간을 제공한다. 상기 챔버(110)는 서로 분리 가능한 하부 챔버 부재(112) 및 상부 챔버 부재(114)를 포함한다.
상기 하부 챔버 부재(112)는 플레이트 형상을 가지며, 고정 배치된다. 이와 달리, 상기 하부 챔버 부재(112)는 상부가 개방된 용기(예컨대 박스)형상을 가질 수도 있다.
상기 상부 챔버 부재(114)는 하부가 개방된 용기 형상을 가지며, 상기 하부 챔버 부재(112)의 상부에 결합된다. 상기 상부 챔버 부재(114)와 상기 하부 챔버 부재(112)의 결합에 의해 형성되는 내부 공간이 상기 기판(G)의 건조를 수행하는 공정 공간이 된다. 여기서, 상기 상부 챔버 부재(114)는 상기 하부 챔버 부재(112)에 대하여 상하로 업/다운(up/down) 구동한다. 이를 위해 상기 상부 챔버 부재(114)에는 구동 유닛(미도시)이 연결되며, 상기 구동 유닛은 공지된 다양한 종류의 유닛이 적용될 수 있으므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상기 챔버(110)는 내부로 상기 기판(G)을 투입하거나 반출할 때 상기 상부 챔버 부재(114)의 업/다운 구동을 통해 상기 기판(G)의 투입 및 반입 경로를 확보한다. 즉, 상기 기판(G)을 상기 챔버(110) 내부로 투입하거나 상기 기판(G)을 상기 챔버(110)로부터 반출하는 경우에는 상기 상부 챔버 부재(114)가 업(up) 동작하여 상기 챔버(110)를 개방한다. 상기 개방된 상태에서 로봇 등과 같은 이송 유닛에 의해 기판(G)을 투입 또는 반출하게 된다. 이와 달리 감압을 통해서 상기 기판(G)의 건조를 진행할 때 상기 상부 챔버 부재(114)는 다운(down) 동작하여 상기 하부 챔버 부재(112)와 결합되며, 이를 통해 상기 챔버(110)는 폐쇄된 공정 공간을 형성한다. 이 때, 도시하진 않았지만 상기 상부 챔버 부재(114)와 상기 하부 챔버 부재(112)가 접합하는 부분에는 상기 공정 공간의 기밀을 확보하기 위하여 실리콘이나 고무 등으로 이루어진 링 구조의 실링 부재가 개재될 수 있다.
상기 기판 지지부(120)는 상기 챔버(110) 내에 배치된다. 이에 상기 기판 지 지부(120)는 상기 하부 챔버 부재(112)의 상부에 설치될 수 있다. 상기 기판 지지부(120)는 외부로부터 상기 기판(G)을 전달받아 지지하는 역할을 한다. 특히, 상기 기판 지지부(120)는 상기 기판(G)을 수평 상태로 지지한다. 상기 기판 지지부(120)는 지지 플레이트(122), 다수의 지지핀(124)들 및 서포트핀(126)들을 포함할 수 있다.
상기 지지 플레이트(122)는 플레이트 구조를 가지며, 상기 챔버(110) 내에서 수평 상태로 배치된다. 상기 지지 플레이트(122)의 상부면에는 기판(G)의 하면과 직접 접촉하여 기판(G)을 지지하기 위한 다수의 지지핀(124)들이 구비된다. 상기 지지핀(124)들의 배치 형태 및 배치 개수는 상기 기판(G)에 따라서 다양하게 변경 가능하다. 상기 서포트핀(126)들은 상기 지지 플레이트(122)를 지지하며, 상기 지지 플레이트(122)를 업/다운 이동시킨다. 따라서 상기 서포트핀(126)들의 업/다운 동작으로 상기 지지핀(124)들에 지지되는 기판(G)의 높이 조정이 가능해진다.
한편, 상기 기판(G)은 이송 로봇(미도시)에 의해 상기 지지핀(124) 상으로 로딩 되는데, 상기 기판(G)을 용이하게 이송하기 위해서는 상기 이송 로봇(미도시)의 동작 영역 확보가 필요하다. 즉, 상기 이송 로봇(미도시)에서 상기 기판(G)이 안착되는 부위(예컨대 로봇 암)가 여유 있게 동작할 수 있는 공간을 필요로 한다. 하지만, 상기 지지핀(124)의 높이가 낮기 때문에 상기 기판(G)이 안착되는 부위가 상기 기판(G)을 내려놓을 경우 빠져 나오지 못할 수 있다. 이를 개선하기 위해 일 실시예에서 상기 지지 플레이트(122)는 서로 평행하게 배치되는 다수의 서브 플레이트들로 이루어질 수 있다. 또한, 상기 서포트핀(126)들은 상기 서브 플레이트들 에 대하여 개별적으로 구비되며, 상기 서브 플레이트들 중에서 일부 또는 전체를 선택적으로 업/다운 구동시킬 수 있다. 결과적으로 상기 서브 플레이트들 중에서 상기 이송 로봇의 암이 들어가는 위치에 대응하는 서브 플레이트들만 다운 구동시켜 공간을 확보하여 상기 기판(G)을 내려놓고, 이송 로봇의 암이 빠져나간 후에 업 동작하여 상기 기판(G)의 지지를 수행할 수 있을 것이다.
상기 배기부(130)는 상기 기판(G)에 대한 건조를 진행하기 위하여 상기 챔버(110)를 감압시킨다. 상기 배기부(130)는 상기 챔버(110)를 배기시킴으로써 상기 챔버(110)의 감압을 수행한다. 상기 배기부(130)는 상기 하부 챔버 부재(112)와 연결된다. 상기 배기부(130)는 상기 챔버(110)의 배기를 위해 흡입 장치가 되는 진공 펌프(132)와 상기 진공 펌프(132)와 상기 하부 챔버 부재(112)를 연결하는 하나 이상의 배기홀(134)을 포함한다. 상기 배기홀(134)은 상기 하부 챔버 부재(112)를 관통하여 공정 공간에 접속된다. 따라서, 상기 진공 펌프(132)가 구동되면 상기 배기홀(134)을 통해 상기 챔버(110)가 배기되고, 그에 따라서 상기 챔버(110)는 감압된다. 이 때, 상기 배기홀(134)이 상기 챔버(110)의 일측 방향에만 구비되면 상기 배기되는 유체의 불균일을 초래할 수 있다. 따라서 배기의 균일성 확보를 위하여 상기 배기홀(134)을 상기 하부 챔버 부재(112)에 서로 균일하게 분포되도록 다수개 구비하는 것이 바람직하다.
한편, 상기 배기부(130)에 의한 배기가 상기 챔버(110)의 하부 방향에서 이루어지므로 상기 기판(G) 상부에서의 유체의 흐름은 상기 기판(G)의 가장자리 부위로 향하게 된다. 따라서, 상기 기판(G)의 가장자리 부위로 진행할수록 배기되는 유 체량이 누적되어 유속이 증가될 수 있다.
이를 개선하기 위하여 본 발명에서는 상기 챔버(110)의 내부 형상을 개선한다. 즉, 상기 챔버(110) 내에 배치되는 기판(G)의 상면과 마주하는 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위(예컨대 천장)의 변화를 통해 상기 기판(G) 상부에 형성되는 체적을 변형시킨다. 상기 기판(G)과 마주하는 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위는 그 중심으로부터 가장자리 부위로 벗어날수록 상기 기판 지지부(120)에 지지된 기판(G)에 대하여 거리가 멀어지는 경사 구조를 갖는다. 즉, 상기 기판(G)과 마주하는 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위는 원뿔 또는 각뿔 구조를 갖는다. 따라서, 상기 기판(G)이 상기 기판 지지부(120)에 지지되면 상기 기판(G) 상에 형성되는 체적은 중심부의 체적은 상대적으로 작고, 가장자리 부위의 체적은 상대적으로 큰 형상이 된다.
이미 알려진 바와 같이 유속은 유체량에 비례하고, 체적에 반비례하는 관계를 갖는다. 따라서 상기 상부 챔버 부재(124)의 하부면 부위가 원뿔 또는 각뿔 구조를 가짐으로써, 상기 기판(G) 상부에서의 유속은 중심부에선 적은 유체량 및 작은 체적에 의하고, 가장자리 부위에선 큰 유체량과 큰 체적에 따르게 되므로 전체적으로 유속이 균일해진다. 이처럼 본 실시예에선 유체량의 증가를 체적의 변화를 통해 보상함으로써 전체적으로 균일한 유속을 실현하게 된다.
상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위가 갖는 원뿔 또는 각뿔 구조는 상기 상부 챔버 부재(114)의 제조 과정에서 설계 변형을 통해 이루어질 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치를 개략적으로 나타내 는 도면이다.
여기서, 도 3에 도시된 기판 건조 장치는 앞서 도 2를 참조하여 설명한 기판 건조 장치(100)와 매우 유사하며, 상기 상부 챔버 부재의 형상을 구현하는 방식에 있어서만 차이점을 갖는다. 따라서 동일 부재에 대해서는 동일한 부호를 사용하고, 그 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
상기 기판 건조 장치(100)는 하부 챔버 부재(112)와 상부 챔버 부재(114)로 구성되는 챔버(110), 상기 챔버(110)의 내부에 배치되어 건조할 기판(G)을 지지하는 기판 지지부(120) 및 건조 공정을 진행하기 위하여 상기 챔버(110)를 배기함으로써 감압시키는 배기부(130)를 포함한다.
여기서, 상기 기판 지지부(120)에 지지된 기판(G)의 상부면과 마주하는 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위는 원뿔 또는 각뿔 구조를 갖는다. 특히, 상기 원뿔 또는 각뿔 구조는 분리가 가능한 구조를 갖는다. 즉, 상기 원뿔 또는 각뿔 구조는 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위에 결합되는 원뿔 또는 각뿔 형상의 구조물(113)일 수 있다. 이러한 원뿔 또는 각뿔 형상의 상기 구조물(113)은 상기 상부 챔버 부재(114)와 별도로 제조된 후에 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위에 부착될 수 있다.
원뿔 또는 각뿔 형상의 상기 구조물(113)에 의해 상기 챔버(110) 내에 수평 배치되는 기판(G)의 상부에 형성되는 체적은 중심부에서 가장자리 부위로 갈수록 증가되는 경향을 보인다. 이로써, 상기 챔버(110)를 감압하기 위하여 배기할 때 상기 기판(G) 상부에서의 유속은 앞서 설명한 바와 같이 균일하게 형성된다.
이와 같이, 본 발명에 따른 기판 건조 장치(100)는 챔버(110) 내부의 형상 변화 즉, 상기 기판(G)과 마주하는 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위의 형상이 원뿔 또는 각뿔 구조를 가짐에 따라서 배기할 때 유속을 균일하게 형성할 수 있다. 이로 인해서 배기할 때 유속의 불균일에 의해 초래되던 처리액(예컨대 포토리소그래피)의 건조 균일성 저하를 개선하여 기판 불량을 개선할 수 있다.
한편, 상기 기판(G)과 마주하는 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위가 원뿔 또는 각뿔 구조를 갖는 것으로 설명하였다. 하지만, 상기 상부 챔버 부재(114)의 하부면 부위의 형상은 원뿔 또는 각뿔 구조로 한정되는 것은 아니며 반구형, 삼각형 등 중앙부가 돌출되는 다양한 형상의 적용이 가능하다.
상술한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 건조 장치는 건조 공정이 수행되는 챔버 내부의 형상 변화, 기판과 마주하는 챔버의 내벽 형상을 원뿔 또는 각뿔 형상으로 형성하여 기판 상부에 형성되는 체적이 중심부로부터 가장자리 부위로 진행할수록 증가되도록 함으로써, 유체량의 증가에 따른 유속의 불규일을 체적의 감소를 통해 보상함으로써 균일한 유속을 균일하게 형성한다.
따라서, 유속의 불균일에 의해 초래되던 포토리소그래피와 같은 처리액의 불규일 건조를 개선하여 그에 따른 기판 불량을 개선함으로써 공정 수율을 향상시킬 수 있다. 또한, 수율 향상을 통해서 제조 비용의 절감이 가능하다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역 으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 종래 기판 건조 장치의 일부부분을 나타내는 개략적인 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100: 기판 건조 장치 110: 챔버
112: 하부 챔버 부재 113: 경사 구조물
114: 상부 챔버 부재 120: 기판 지지부
122:지지 플레이트 124: 지지핀
126: 서포트핀 130: 배기부
132: 진공 펌프 134: 배기홀
G: 기판

Claims (4)

  1. 상하로 업다운 동작하며, 하부가 개방된 구조를 갖는 상부 챔버 부재;
    상기 상부 챔버 부재의 하부에 결합되어 공정 공간을 형성하는 하부 챔버 부재;
    상기 공정 공간 내에 위치하도록 상기 하부 챔버 부재의 상부에 설치되며, 포토레지스트가 도포된 기판을 전달받아 지지하는 기판 지지부; 및
    상기 하부 챔버 부재와 연결되고, 상기 기판의 건조를 진행하기 위하여 상기 공정 공간이 감압되도록 배기하는 배기부를 포함하며,
    상기 기판과 마주하는 상부 챔버 부재의 하부면 부위는 상기 공정 공간을 배기 할 때 상기 기판 상부에서의 유속이 균일해지도록 상기 기판의 중심에서 가장자리로 갈수록 상기 기판에 대해 거리가 멀어지는 원뿔 또는 각뿔 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판 지지부는
    지지 플레이트;
    상기 지지 플레이트 상부에 설치되고, 상기 기판의 하부를 직접 접촉하여 지지하는 다수의 지지핀들; 및
    상기 지지 플레이트를 상하로 업다운 동작시키는 다수의 서포트핀들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 배기부는
    진공 펌프; 및
    상기 진공 펌프와 연결되며, 상기 하부 챔버 부재의 하부면에 균일하게 배치되는 다수의 배기홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 기판과 마주하는 상기 상부 챔버 부재 하면 부위의 원뿔 또는 각뿔 구조는 분리 가능한 것을 특징으로 하는 기판 건조 장치.
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