KR20080006325A - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
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Claims (24)
- 기판 처리 장치에 있어서:기판이 놓여지는 척을 갖는 기판 지지부재;상부가 개방되고, 상기 척 주변을 감싸도록 형상지어진 하부 챔버;기판에 대한 건조 공정이 외부와 격리된 상태에서 진행되도록 상기 하부 챔버의 상부를 개방 또는 폐쇄하는 상부 챔버;상기 상부 챔버의 가장자리에 설치되며 건조 유체가 기판에 간접 분사되도록 상기 상부 챔버의 중앙을 향하여 건조 유체를 분사하는 간접분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 상부 챔버는중앙으로 모인 건조 유체가 빠져나가는 중앙 개구; 및상기 중앙 개구를 통해 빠져나가는 건조 유체가 기판의 중심으로부터 가장자리로 점차 확산되면서 흘러가도록 건조 유체를 안내하는 안내면을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서,상기 안내면은 가장자리로 갈수록 기판과 가까워지도록 하향경사진 것을 특 징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 상부 챔버는 기판의 중심에서 가장자리 방향으로 갈수록 공간이 좁아지도록 하향 경사지는 안내면을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서,상기 상부 챔버는상기 간접분사노즐로부터 분사되는 건조가스를 상기 중앙의 개구로 안내하는 환형 공간을 더 포함하며,상기 간접분사노즐은 상기 환형 공간의 가장자리부를 따라 링 형태로 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제5항에 있어서,상기 환형 공간은 상기 간접분사노즐로부터 분사되는 건조가스가 상방향으로 경사지게 흐르도록 상기 간접분사노즐이 설치된 가장자리가 중앙보다 낮은 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제5항에 있어서,상기 상부 챔버는상기 간접분사노즐이 설치된 상기 환형 공간과 기판 사이에 위치되어 상기 간접분사노즐로부터 떨어지는 이물질로부터 기판을 보호하는 돌출벽을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 상부 챔버는기판으로부터 비산되는 물 입자 및 건조 유체가 상기 하부 챔버의 벽을 맞고 리바운드되는 것을 방지하기 위하여 기판의 가장자리와는 0.5cm -2cm 간격을 유지하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 하부 챔버는 기판상에서 비산되는 약액과 공기를 유입 및 흡입하는 환형의 흡입 덕트가 다단으로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제9항에 있어서,상기 척은상기 흡입 덕트들 높이에 따라 승강 되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 척은 기판을 상향 이격된 상태에서 지지하는 지지부재들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제11항에 있어서,상기 기판 처리 장치는상기 척에 설치되어 기판의 배면으로 세정 및 건조를 위한 유체를 분사하는 백 노즐부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 건조 유체는 유기용제 및 질소가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 기판 처리 장치에 있어서:기판이 놓여지는 척을 갖는 기판 지지부재;내부에 상기 기판 지지부재의 척이 위치되며, 상기 기판에 대한 건조공정이 외부와 격리된 상태에서 진행되도록 밀폐공간을 제공하는 챔버;상기 챔버에 설치되며 건조 유체가 상기 기판 표면에 직접 분사되지 않도록 상기 챔버의 중앙을 향하여 건조 유체를 분사하는 간접분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제14항에 있어서,상기 챔버는 하부 챔버와 상부 챔버로 이루어지며,상기 상부 챔버는상기 간접분사노즐로부터 분사되는 건조유체가 상기 상부 챔버의 중앙으로 향하도록 안내하는 환형 공간;상기 환형 공간을 따라 상기 상부 챔버의 중앙으로 모여진 건조 유체가 기판을 향해 빠져나오는 중앙 개구; 및상기 중앙 개구를 통해 빠져나가는 건조 유체가 기판의 중심으로부터 가장자리로 점차 확산되도록 건조 유체를 안내하는 안내면을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제15항에 있어서,상기 간접분사노즐은 분사 방향이 상기 상부 챔버의 가장자리에서 상기 상부챔버의 중앙을 향하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제15항에 있어서,상기 상부 챔버는 상기 간접분사노즐을 통해 상기 상부 챔버의 중앙으로 분사된 건조 유체가 기판을 향해 빠져나오는 중앙 개구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 기판 처리 방법에 있어서:하부 챔버의 내측에 위치한 척에 기판을 로딩하는 단계;상기 척에 로딩된 기판으로 약액을 공급하여 기판을 약액 처리하는 단계;상부 챔버가 상기 하부 챔버의 개방된 상부를 밀폐한 상태에서 상기 상부 챔버에 설치된 간접분사노즐로부터 간접 분사되는 건조 유체에 의해 기판을 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제18항에 있어서,상기 상부 챔버가 상기 하부 챔버를 밀폐하기 전에 상기 상부 챔버의 내부는 건조 유체 분위기를 유지하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 제18항에 있어서,상기 기판 건조 단계는 건조 유체가 상기 상부 챔버의 가장자리에서 중앙을 향해 분사되고, 상기 상부 챔버의 중앙으로 모아진 건조 유체는 중앙에 형성된 중앙 개구를 통해 기판을 향해 빠져나오며, 상기 중앙 개구를 통해 빠져나가는 건조 유체는 기판의 중심으로부터 가장자리로 점차 확산되면서 기판 표면을 건조하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
- 기판 처리 장치에 있어서:기판이 놓여지는 척을 갖는 기판 지지부재;상부가 개방되고, 상기 척 주변을 감싸도록 형상지어진 하부 챔버;기판에 대한 건조 공정이 외부공기가 차단된 밀폐공간에서 진행되도록 상기 하부 챔버의 상부를 밀폐하는 상부 챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제21항에 있어서,상기 기판 처리 장치는상기 상부 챔버에 설치되며 건조 유체가 기판에 간접 분사되도록 상기 상부 챔버의 중앙을 향하여 건조 유체를 분사하는 간접분사노즐을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제22항에 있어서,상기 상부 챔버는상기 간접분사노들로부터 분사된 건조 유체가 빠져나가는 중앙 개구; 및상기 중앙 개구를 통해 빠져나가는 건조 유체가 기판의 중심으로부터 가장자리로 점차 확산되면서 흘러가도록 건조 유체를 안내하는 안내면을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제22항에 있어서,상기 상부 챔버는 상기 간접분사노즐로부터 떨어지는 이물질로부터 기판을 보호하는 돌출벽을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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