KR20070120889A

KR20070120889A - 기판 처리장치

Info

Publication number: KR20070120889A
Application number: KR1020070059324A
Authority: KR
Inventors: 후토시 시마이
Original assignee: 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤
Priority date: 2006-06-20
Filing date: 2007-06-18
Publication date: 2007-12-26
Also published as: CN100468620C; TWI360159B; US20070296715A1; TW200805451A; JP4901323B2; JP2008004580A; CN101093787A; KR100838486B1

Abstract

과제

피처리기판(W)의 윗면에서의 온도 분포의 흐트러짐이 적은 기판 처리장치를 제공한다.

해결수단

팬터그래프(pantograph) 기구(7)에 의해서 아래 케이스(3)을 낮추고, 위 케이스(2)와 아래 케이스(3) 사이에 로봇(12)의 암이 진입할 수 있는 스페이스를 만든다. 이 상태로부터 로봇(12)의 암에 올려놓은 피처리기판(W)를 핫플레이트(8)의 위쪽까지 삽입한다. 이어서, 실린더 유닛(11)을 작동시켜서 지지핀(10)을 상승시키고, 로봇(12)의 암으로부터 피처리기판(W)를 지지핀(10) 상에 수취한 후, 로봇(12)의 암이 후퇴하는 동시에 지지핀(10)이 하강하여 피처리기판(W)를 핫플레이트(8) 상에 올려놓는다. 이것과 병행하여 팬터그래프 기구(7)의 작동으로 아래 케이스(3)이 상승하고, 아래 케이스(3)의 상단면(3a)에 취부한 실링부재(6)이 위 케이스(2)의 하단면(2a)에 맞닿아, 위 케이스(2)와 아래 케이스(3)이 일체화되어 내부에 기밀(氣密)한 공간이 형성된다.

피처리기판, 핫플레이트, 기판 처리장치, 지지핀, 실링부재

Description

기판 처리장치{Substrate treatment apparatus}

도 1은 본 발명의 기판 처리장치의 열림상태의 단면도이다.

도 2는 동 기판 처리장치의 닫힘상태의 단면도이다.

도 3은 다른 실시예의 기판 처리장치의 열림상태의 단면도이다.

도 4는 종래의 기판 처리장치의 단면도이다.

부호의 설명

1…케이스, 2…위 케이스, 2a…위 케이스의 하단면(下端面), 3…아래 케이스, 3a…아래 케이스의 상단면(上端面), 4…브래킷, 5…지지부재, 6…실링부재, 7…팬터그래프 기구, 8…핫플레이트, 9…정류판(整流板), 10…지지핀, 11…실린더 유닛, 12…로봇, 13…계합부(係合部), 13a…돌출부, 14…로드, 14a…대경부(大徑部), W…피처리기판.

본 발명은 반도체 웨이퍼나 유리기판 등의 피처리기판에 열처리 등을 실시하는 기판 처리장치에 관한 것이다.

반도체 웨이퍼나 유리기판 등의 피처리기판 상에 집적회로를 형성하기 위해 서는, 피처리기판 표면에 소정 패턴의 레지스트 마스크를 피복하고, 이 레지스트 마스크의 위에서부터 CVD, 에칭, 도핑 등의 각종 처리를 실시하고 있다. 특히 최근에는 고집적화 및 고밀도화에 수반하여 마스크의 미세화가 더욱 요망되고 있어, 이 요망에 대응하는 형태로 마스크를 구성하는 감광성 레지스트 재료가 각종 개발되어, 예를 들면 해상성 및 감도가 우수한 레지스트로서 화학 증폭형 레지스트가 주목되고 있다.

상기의 감광성 레지스트로 소정 패턴의 레지스트막을 형성하기 위해서는, 기판 표면에 레지스트막이 되는 도포액을 도포한 후, 도포액을 가열처리장치 내에서 가열하여 막을 형성한 후 이 막에 소정 패턴으로 빛을 조사하고, 레지스트 막이 포지티브형이면 빛이 조사되지 않은 부분을 불용성 부분으로 하고, 네가티브형이면 빛이 조사된 부분을 불용성 부분으로 하여 남긴다.

특허문헌 1에 개시되는 가열장치의 구조는 도 4에 나타내는 바와 같이, 케이스(100) 내의 대략 중앙부에 피처리기판(W)를 냉각처리하는 쿨플레이트(101)을, 또한 쿨플레이트(101) 보다도 위쪽에 피처리기판(W)를 가열처리하는 핫플레이트(102)를 배치하고, 쿨플레이트(101)을 관통하여 승강 핀(103)이 위쪽으로 뻗어 그 상단에서 피처리기판(W)의 아랫면을 지지한다. 또한, 케이스(100)의 옆쪽에는 로봇(104)를 배치하고, 이 로봇(104) 사이에서 피처리기판(W)을 주고 받기 위한 반입·반출용 개구(105)를 케이스(100)의 측면에 형성하고 있다.

[특허문헌 1] 일본국 특허공개 제(평)11-162804호 공보

전술한 종래의 가열처리장치에 있어서는, 핫플레이트(쿨플레이트)의 위쪽에 로봇(104)의 암이 진입하는 스페이스를 확보해야만 하기 때문에, 핫플레이트(쿨플레이트)에 피처리기판을 올려놓은 상태에서 피처리기판의 위쪽 공간이 커져서 기판 상의 온도 분포에 흐트러짐이 발생하여 도포액의 건조에 영향을 미친다.

상기 과제를 해결하기 위해 청구항 1의 발명은 케이스 내에 피처리기판을 올려놓는 재치대(載置台)를 설치한 기판 처리장치에 있어서, 상기 케이스는 위 케이스와 아래 케이스로 분리되고, 상기 위 케이스는 그 주위를 지지부재에 올려놓아서 지지되며, 상기 아래 케이스는 위 케이스에 대해서 승강 움직임이 가능해지는 동시에 상기 재치대가 지지되어, 상기 아래 케이스가 상승함으로써 아래 케이스의 상단면이 위 케이스의 하단면에 맞닿아 위 케이스를 상기 지지부재로부터 들어올리고, 상기 위 케이스는 자기 무게에 의해서 그 하단면이 아래 케이스의 상단면에 기밀(氣密)하게 맞닿는 구성으로 하였다.

또한 청구항 2의 발명은 케이스 내에 피처리기판을 올려놓는 재치대를 설치한 기판 처리장치에 있어서, 상기 케이스는 위 케이스와 아래 케이스로 분리되고, 상기 위 케이스는 승강기구에 의해서 아래 케이스에 대해 승강 움직임이 가능해지며, 상기 아래 케이스 내에는 상기 재치대가 지지되어, 상기 위 케이스가 하강함으로써 위 케이스의 하단면이 아래 케이스의 상단면에 맞닿아 위 케이스가 승강기구로부터 들어올려지고, 상기 위 케이스는 자기 무게에 의해서 그 하단면이 아래 케이스의 상단면에 기밀하게 맞닿는 구성으로 하였다.

상기 아래 케이스에 지지되는 재치대로서는 핫플레이트가 일반적이다. 또한 상기 위 케이스에는 정류판 등을 취부(取付)하는 것도 생각할 수 있지만, 도포액으로서 감광성 레지스트를 사용한 경우에는 감광성 레지스트막은 급랭함으로써 감도가 올라가기 때문에, 위 케이스 내에 쿨플레이트를 배치해도 된다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하에 본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태를 도면을 토대로 상세하게 설명한다. 도 1은 본 발명의 기판 처리장치의 열림상태의 단면도, 도 2는 동 기판 처리장치의 닫힘상태의 단면도로서, 기판 처리장치는 케이스(1)을 위 케이스(2)와 아래 케이스(3)으로 분할하고 있다.

위 케이스(2)는 하단면(2a)를 평탄면으로 하고, 외측을 향해서 브래킷(4)를 돌출시켜서, 이 브래킷(4)를 지지부재(5)에 올려놓음으로써 지지되어 있다. 또한, 이 실시예에 있어서는 지지부재(5)는 승강 움직임을 하지 않고 고정되어 있다.

또한, 아래 케이스(3)은 상단면(3a)를 평탄면으로 하고, 전체 둘레 O링 등의 실링부재(6)을 설치하고 있다. 실링부재(6)은 위 케이스(2)의 하단면(2a)에 취부해도 된다. 또한, 실링부재(6) 대신에 라비린스 패킹(labyrinth packing) 등을 이용해도 된다.

아래 케이스(3)은 눕힌 실린더 유닛에 의해서 개폐 움직임을 하는 팬터그래프 기구(7)에 의해서 승강 움직임이 가능해지고, 또한 아래 케이스(3)의 내부에는 핫플레이트(8)을 배치하며, 이 핫플레이트(8)과 대향하는 정류판(9)를 상기 위 케이스(2) 내에 배치하고 있다. 또한, 정류판(9)는 설치하지 않아도 되고, 정류판(9) 대신에 쿨플레이트를 배치해도 된다.

상기 핫플레이트(8)에는 두께방향으로 관통구멍이 형성되어 이 관통구멍에 지지핀(10)이 삽통(揷通)되고, 이 지지핀(10)은 핫플레이트(8) 아래쪽의 실린더 유닛(11)에 의해서 핫플레이트(8)에 대해서 승강 움직임을 한다.

이상의 구성으로 되는 기판 처리장치의 작용에 대해서 기술한다. 먼저, 도 1에 나타내는 상태, 즉 팬터그래프 기구(7)에 의해서 아래 케이스(3)을 낮추고, 위 케이스(2)와 아래 케이스(3) 사이에 로봇(12)의 암이 진입할 수 있는 스페이스를 만든다. 이 상태로부터 로봇(12)의 암에 올려놓은 피처리기판(W)를 핫플레이트(8)의 위쪽까지 삽입한다. 이어서, 실린더 유닛(11)을 작동시켜서 지지핀(10)을 상승시키고, 로봇(12)의 암으로부터 피처리기판(W)를 지지핀(10) 상에 수취한다.

그 후, 로봇(12)의 암이 후퇴하는 동시에 지지핀(10)이 하강하여, 피처리기판(W)를 핫플레이트(8) 상에 올려놓는다. 또한, 이것과 병행하여 팬터그래프 기구(7)의 작동으로 아래 케이스(3)이 상승하고, 아래 케이스(3)의 상단면(3a)에 취부된 실링부재(6)이 위 케이스(2)의 하단면(2a)에 맞닿아, 위 케이스(2)와 아래 케이스(3)이 일체화되어 내부에 기밀한 공간이 형성된다.

위 케이스(2)와 아래 케이스(3)이 닫힌 상태에서는 피처리기판(W)의 위쪽 공간은 매우 좁아, 기류 등에 기인하여 온도 분포가 흐트러지지 않는다.

도 3은 다른 실시예의 기판 처리장치의 열림상태의 단면도로서, 위 케이스(2)의 윗면에 계합부(13)을 설치하고, 이 계합부(13)에 도시하지 않는 승강기구에 의해서 상하 움직임을 하는 로드(14)를 삽입하고 있다. 계합부(13)의 윗면에는 안쪽으로의 돌출부(13a)로 되어 있어, 로드(14)가 상승 위치에 있을 때는 로드 하단의 대경부(14a)가 상기 돌출부(13a)에 계지(係止)되어 로드(14)로 위 케이스(2)가 들어올려진다.

그리고, 로드(14)가 하강되면 위 케이스(2)의 하단면(2a)가 아래 케이스(3)의 상단면(3a)에 취부된 실링부재(6)에 맞닿아, 위 케이스(2)와 아래 케이스(3)이 일체화되어 내부에 기밀한 공간이 형성된다.

본 발명에 의하면, 피처리기판을 넣고 꺼낼 때는 위 케이스와 아래 케이스의 간격을 벌려서 넣고 꺼냄을 용이하게 하고, 처리 중은 위 케이스와 아래 케이스를 밀착시켜 재치대(핫플레이트)와 천장부의 간격을 좁게 하였기 때문에 온도 분포의 흐트러짐이 발생하기 어렵다.

또한, 피처리기판의 대형화에 수반하여 케이스도 커지면 자기 무게에 의해서 케이스 자체에 변형이 발생하기 쉬워진다. 그러나, 본원 발명과 같이 스스로의 중량에 의해서 기밀상태를 유지하도록 하면 케이스 자체를 수평하게 조정하는 수고가 불필요해진다.

Claims

케이스 내에 피처리기판을 올려놓는 재치대를 설치한 기판 처리장치에 있어서, 상기 케이스는 위 케이스와 아래 케이스로 분리되고, 상기 위 케이스는 그 주위를 지지부재에 올려놓아서 지지되며, 상기 아래 케이스는 위 케이스에 대해서 승강 움직임이 가능해지는 동시에 상기 재치대가 지지되어, 상기 아래 케이스가 상승함으로써 아래 케이스의 상단면이 위 케이스의 하단면에 맞닿아 위 케이스를 상기 지지부재로부터 들어올리고, 상기 위 케이스는 자기 무게에 의해서 그 하단면이 아래 케이스의 상단면에 기밀하게 맞닿는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
케이스 내에 피처리기판을 올려놓는 재치대를 설치한 기판 처리장치에 있어서, 상기 케이스는 위 케이스와 아래 케이스로 분리되고, 상기 위 케이스는 승강기구에 의해서 아래 케이스에 대해 승강 움직임이 가능해지며, 상기 아래 케이스 내에는 상기 재치대가 지지되어, 상기 위 케이스가 하강함으로써 위 케이스의 하단면이 아래 케이스의 상단면에 맞닿아 위 케이스가 승강기구로부터 들어올려지고, 상기 위 케이스는 자기 무게에 의해서 그 하단면이 아래 케이스의 상단면에 기밀하게 맞닿는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.