KR20070112361A - 광정보기록매체 및 정보기록방법 - Google Patents

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KR20070112361A
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코우스케 와타나베
테츠야 와타나베
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 400nm 이하의 레이저광을 조사하여 정보의 고밀도 기록 및 재생이 가능하고, 우수한 기록 및 재생특성(특히, 감도 및 변조도)을 갖는 광정보기록매체를 제공한다.
기판 상에 440nm 이하의 레이저광 조사에 의한 정보의 기록이 가능한 기록층을 갖는 광정보기록매체에 있어서, 상기 기록층 중에 하기 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
일반식(I)
Figure 112007031511305-PCT00018
(일반식(Ⅰ)에서, R11~R18은 각각 독립으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다.)

Description

광정보기록매체 및 정보기록방법{OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND OPTICAL INFORMATION RECORDING METHOD}
본 발명은, 레이저광을 사용하여 정보의 기록 및 재생이 가능한 광정보기록매체와 정보기록방법, 및 이것에 적합한 신규 화합물에 관한 것이다. 특히 본 발명은, 파장 450nm 이하의 단파장 레이저광을 사용하여 정보를 기록하는데 적합한 히트모드형의 광정보기록매체에 관한 것이다.
종래부터, 레이저광에 의해 1회 한도의 정보의 기록이 가능한 광정보기록매체(광디스크)가 알려져 있다. 이 광디스크는, 추기형 CD(소위 CD-R)라고도 하고, 그 대표적인 구조는, 투명한 원반형 기판 상에 유기색소로 이루어지는 기록층, 금 등의 금속으로 이루어지는 광반사층, 또한 수지제의 보호층이 이 순서대로 적층상태로 형성되어 있다. 그리고 이 CD-R으로의 정보의 기록은 근자외선의 레이저광(통상 780nm 부근 파장의 레이저광)을 CD-R에 조사하는 것에 의해 행하여져, 기록층의 조사 부분이 그 빛을 흡수해서 국소적으로 온도상승하고, 물리적 또는 화학적 변화(예를 들면, 피트의 생성)가 생겨서 그 광학적 특성을 변화시키는 것에 의해 정보가 기록된다. 한편, 정보의 판독(재생)도 또한 기록용의 레이저광과 동일한 파장의 레이저광을 조사하는 것에 의해 행하여져, 기록층의 광학적 특성이 변화된 부 위(기록 부분)와 변화되지 않는 부위(미기록 부분)의 반사율의 차이를 검출하는 것에 의해 정보가 재생된다.
최근, 인터넷 등의 네트워크나 하이비전 TV가 급속히 보급되고 있다. 또한, HDTV(High Definition Television)의 방영도 가까운 미래에 시작될 것이고, 화상정보를 저렴하고 간편하게 기록하기 위한 대용량의 기록매체의 요구가 높아지고 있다. 전술의 CD-R 및 가시 레이저광(630nm~680nm)을 기록용 레이저로서 고밀도 기록을 가능하게 한 DVD-R는, 대용량의 기록매체로서의 지위를 어느 정도까지는 확보하지만, 장래의 요구에 대응할 수 있는 정도의 충분히 큰 기록용량을 갖고 있다고는 말할 수 없다. 여기에서, DVD-R보다도 더 단파장의 레이저광을 사용하는 것에 의해 기록밀도를 향상시켜서, 보다 큰 기록용량을 대비한 광디스크의 개발이 진척되어, 예를 들면 405nm의 청색 레이저를 사용한 Blu-ray방식이라고 하는 광기록 디스크가 시판되었다.
유기색소를 포함하는 기록층을 갖는 광정보기록매체에 있어서, 기록층측에서 광반사층측을 향해서 파장 530nm 이하의 레이저광을 조사하는 것에 의해, 정보의 기록재생을 행하는 기록재생방법이 개시되어 있다. 구체적으로는, 기록층의 색소로서 포르피린 화합물, 나프탈로시아닌 화합물 등을 사용한 광디스크에, 청색(파장 400~430nm, 488nm) 또는 청록색(파장 515nm)의 레이저광을 조사하는 것에 의해 정보의 기록재생을 행하는 정보기록 재생방법이 제안되어 있다.
선행 기술에 청색 레이저에 의한 기록, 재생이 가능한 광학 기록매체로서, 기록층에 포르피린계 화합물을 사용한 것이 제안되어 있다.
특허문헌1: 일본특허공개 평11-334207호 공보
특허문헌2: 일본특허공개 2001-138634호 공보
특허문헌3: 일본특허공개 평11-58957호 공보
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특허문헌5: 일본특허공개 2001-287465호 공보
특허문헌6: 일본특허공개 2003-272234호 공보
특허문헌7: 일본특허공개 2003-272259호 공보
특허문헌8: 일본특허공개 2004-58365호 공보
특허문헌9: 일본특허공개 2004-111011호 공보
특허문헌10: 일본특허공개 2004-160742호 공보
일본특허공개 평11-334207호 공보에 기재된 포르피린계 화합물을 사용한 광학 기록매체이면 488nm의 청색 레이저에 의한 기록, 재생이 가능하지만, 400~410nm의 청색 레이저를 사용한 경우 양호한 기록재생 특성은 얻을 수 없다. 또한, 일본특허공개 2001-138634호 공보에 기재된 옥타에틸 백금 포르피린에 있어서는, 유기용매에 대한 용해성이 대단히 나쁘고, 도포에 의한 기록층의 형성이 곤란해서 저렴한 광학기록매체를 제조하는 것이 곤란하고, 또한 400~410nm의 청색 레이저를 사용한 경우 양호한 기록재생 특성은 얻을 수 없다. 그러므로, 400~410nm의 청색 레이저 광조사에 의한 정보의 기록재생을 양호하게 행하는 것을 가능하게 하는 유기색소의 개발이 요구되고 있다.
일본특허공개 평11-334207호 공보에 구체적으로 기재되어 있는 포르피린계 화합물은 포르피린핵의 중심으로 수소원자, Mg, Ni, Co, Fe, Cu, Zn, Cr, In, Mn 등을 갖고 있는 화합물이지만, 본 발명과 같이 포르피린의 중심금속을 백금(Pt)으로 함으로써 다른 원소(수소원자, Mg, Ni, Co, Fe, Cu, Zn, Cr, In, Mn 등)에 비해서 용액흡수 극대파장 및 막흡수 극대파장이 단파장으로 되고, 이것에 의해 굴절률n 및 소쇠계수k가 적절한 값이 되고, 그 결과 400~410nm의 청색 레이저에 있어서 양호한 기록재생 특성을 얻을 수 있게 되는 것이 밝혀졌다.
일본특허공개 2001-138634호 공보에 기재된 옥타에틸 백금 포르피린에 있어서는, 유기용매에 대한 용해성이 대단히 나쁘고, 도포에 의한 기록층의 형성이 곤란해서 저렴한 광학기록매체를 제조하는 것이 곤란하지만, 본 발명에 있어서의 바람직한 치환기를 사용하는 것에 의해, 용해성이 개선되어 유기용제에 의한 도포가 가능해 지고, 더욱 균질하게 양호한 막을 형성할 수 있게 된다.
또한, 양호한 기록재생 특성을 얻기 위해서는, 기록층의 400~410nm의 레이저광의 발진파장에 있어서의 굴절률n 및 소쇠계수k가 n≥2.0과 0.01≤k≤0.4을 동시에 만족시키는 것이 바람직하고, 그 때문에 기록층으로 사용하는 본 발명의 화합물에 있어서, 용액흡수 극대파장과 막흡수 극대파장이 모두 350nm~385nm인 것이 필요하다. 그 이유는 용액흡수 극대파장이 385nm보다 큰 화합물은, 405nm에 있어서의 몰흡광계수가 커지기 쉽고, 0.01≤k≤0.4를 만족시키는 것이 곤란하기 때문이다.
본 발명은, 400~410nm의 레이저광을 조사하여 정보의 고밀도기록 및 재생이 가능하고 기록재생 특성(특히 감도, 변조도)에 뛰어난 광정보기록매체를 제공하는 것에 있다. 또한, 이러한 광정보기록매체를 제조할 수 있는 색소를 제공하는 것이 다.
본 발명의 과제는, 이하의 구성에 의해 바람직하게 달성되었다.
[1] 기판 상에 440nm 이하의 레이저광 조사에 의한 정보의 기록이 가능한 기록층을 갖는 광정보기록매체에 있어서, 상기 기록층 중에 하기 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
일반식(I)
Figure 112007031511305-PCT00001
일반식(Ⅰ)에 있어서, R11~R18은 각각 독립으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다.
[2] 상기 기록층 중에 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하고, 상기 일반식(I)으로 표시되는 백금 포르피린에 있어서의 용액흡수 스펙트럼의 최대 피크파장과 막흡수 스펙트럼의 최대 피크파장이 모두 350nm~385nm인 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 광정보기록매체.
[3] 상기 기록층 중에 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하고, 상기 기록층의 440nm 이하의 레이저광의 발진파장에 있어서의 굴절률n 및 소쇠계수k가 n≥2.0과 0.01≤k≤0.4을 동시에 만족시키는 것을 특징으로 하는 [1] 또는 [2]에 기재된 광정보기록매체.
[4] 상기 기판 상에 440nm 이하의 레이저광 조사에 의한 정보의 기록이 가능한 기록층을 갖는 광정보기록매체에 있어서, 상기 기록층 중에 하기 일반식(II)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 광정보기록매체.
일반식(II)
Figure 112007031511305-PCT00002
일반식(II)에 있어서, R21~R28은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환의 알킬기를 나타낸다. 단, R21~R28 중 하나 이상의 치환기는 히드록실기, 카르복실기, 아미노기, 알킬아미노기, 메르캅토기, 알콕시기, 알킬티오기, 알콕시카르보닐기, 알킬티오카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기, 복소환기 중 어느 하나로 더 치환된 기이다.
[5] 상기 기판 상에 440nm 이하의 레이저광 조사에 의한 정보의 기록이 가능한 기록층을 갖는 광정보기록매체에 있어서, 상기 기록층 중에 하기 일반식(III)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 광정보기록매체.
일반식(III)
Figure 112007031511305-PCT00003
일반식(III)에 있어서, R31~R38은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환의 알콕시기, 또는 치환 또는 미치환의 알킬티오기를 나타낸다. 단, R31~R38 중 하나 이상의 치환기는 히드록실기, 카르복실기, 아미노기, 알킬아미노기, 메르캅토기, 알콕시기. 알킬티오기, 알콕시카르보닐기, 알킬티오카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기, 복소환기 중 어느 하나로 더 치환된 기이다.
[6] 상기 기록층과는 별도로 금속으로 이루어진 광반사층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 [1]~[5] 중 어느 하나에 기재된 광정보기록매체.
[7] 상기 기록층과는 별도로 보호층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 [1]~[6] 중 어느 하나에 기재된 광정보기록매체.
[8] 상기 기판이, 그 표면에 트랙 피치 0.2mm~0.5mm의 프리그루브를 갖는 투명한 원반형 기판이고, 기록층이 상기 프리그루브가 형성된 측의 표면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 [1]~[7] 중 어느 하나에 기재된 광정보기록매체.
본 발명의 광정보기록매체는, 특정한 백금 포르피린 화합물을 기록층의 기록 재료로서 사용하는 것에 의해, 파장 440nm 이하의 단파장 레이저광, 특히 범용성이 높은 405nm 부근의 레이저광을 조사하여 정보의 고밀도기록 및 재생이 가능하고 고변조도라고 하는 양호한 기록재생 특성을 갖는 효과를 부여한다. 다시 말해, 종래의 CD-R나 DVD-R보다도 고밀도에서의 정보의 기록이 가능해 지고, 더욱 대용량의 정보의 기록이 가능해 진다.
이하, 본 발명의 광정보기록매체 및 정보기록방법의 실시의 형태 및 화합물에 대해서 상세하게 설명한다.
본 발명의 광정보기록매체는, 기판 상에 440nm 이하의 레이저광 조사에 의한 정보의 기록이 가능한 기록층을 갖는 광정보기록매체이며, 상기 기록층 중에 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린(색소)을 하나 이상 함유하는 광정보기록매체이다.
본 발명에 관련된 포르피린계 화합물을 나타내는 상기 일반식(Ⅰ)에 있어서, R11~R18은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기의 예로서, 할로겐원자, 알킬기(시클로알킬기 및 비시클로알킬기 포함), 알케닐기(시클로알케닐기 및 비시클로알케닐기 포함), 알키닐기, 아릴기, 복소환기, 시아노기, 히드록실기, 니트로기, 카르복실기, 알콕시기, 아릴옥시기, 실릴옥시기, 복소환 옥시기, 아실옥시기, 카바모일옥시기, 알콕시카르보닐옥시기, 아릴옥시카르보닐옥시기, 아미노기(알킬아미노기 및 아릴아미노기 포함), 아실아미노기, 아미노카르보닐아미노기, 알콕시카르보닐아미노기, 아릴옥시카르보닐아미노기, 술파모일아미노기, 알킬- 또는 아릴- 술포닐아미노기, 메르캅토기, 알킬티오기, 아릴티오기, 복소환 티오기, 술파모일기, 술포기, 알킬- 또는 아릴- 술피닐기, 알킬- 또는 아릴- 술포닐기, 아실기, 아릴옥시카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 카바모일기, 아릴- 또는 복소환- 아조기, 이미도기, 포스피노기, 포스피닐기, 포스피닐옥시기, 포스피닐아미노기 및 실릴기가 열거된다. 또한, R11과 R12, R13과 R14, R15과 R16, R17과 R18은 각각 서로 결합해도 좋다.
보다 구체적으로, R11~R18로서 할로겐원자(예를 들면, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자), 알킬기[직쇄, 분기, 환상의 치환 또는 미치환의 알킬기를 의미한다. 이들은 알킬기(바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, t-부틸, n-옥틸, 에이코실, 2-클로로에틸, 2-시아노에틸, 2-에틸헥실), 시클로알킬기(바람직하게는, 탄소수 3 내지 30의 치환 또는 미치환의 시클로알킬기, 예를 들면, 시클로헥실, 시클로펜틸, 4-n-도데실시클로헥실), 비시클로알킬기(바람직하게는, 탄소수 5 내지 30의 치환 또는 미치환의 비시클로알킬기, 즉 탄소수 5 내지 30의 비시클로알칸으로부터 수소원자를 1개 제거한 1가의 기이다. 예를 들면 비시클로[1, 2, 2]헵탄-2-일, 비시클로[2,2,2]옥탄-3-일), 및 환구조가 많은 3환식 구조 등도 포함하는 것이다. 이하에 설명하는 치환기 중의 알킬기(예를 들면 알킬티오기의 알킬기)도 이러한 개념의 알킬기를 표시한다.], 알케닐기[직쇄, 분기, 환상의 치환 또는 미치환의 알케닐기를 의미한다. 이들은 알케닐기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알케닐기, 예를 들면, 비닐, 알릴, 프레닐, 제라닐, 올레일), 시클로알케닐기(바람직하게는, 탄소수 3 내지 30의 치환 또는 미치환의 시클로알케닐기, 즉 탄소수 3 내지 30의 시클로알켄의 수소원자를 1개 제거한 1가의 기이다. 예를 들면, 2-시클로펜텐-1-일, 2-시클로헥센-1-일), 비시클로알케닐기(치환 또는 미치환의 비시클로알케닐기, 바람직하게는 탄소수 5 내지 30의 치환 또는 미치환의 비시클로알케닐기, 즉 이중결합을 1개 가지는 비시클로알켄의 수소원자를 1개 제거한 1가의 기이다. 예를 들면, 비시클로[2,2,1]헵트-2-엔-1-일, 비시클로[2,2,2]옥트-2-엔-4-일)을 포함하는 것이다.], 알키닐기(바람직하게는, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알키닐기, 예를 들면, 에티닐, 프로파길, 트리메틸실릴에티닐), 아릴기(바람직하게는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴기, 예를 들면 페닐, p-톨릴, 나프틸, m-클로로페닐, o-헥사데카노일아미노페닐), 복소환기(바람직하게는 5 또는 6원의 치환 또는 미치환의 방향족 또는 비방향족의 복소환 화합물에서 1개의 수소원자를 제거한 1가의 기이며, 더욱 바람직하게는, 탄소수 3 내지 30의 5 또는 6원의 방향족의 복소환기이다. 예를 들면, 2-퓨릴, 2-티에닐, 2-피리미디닐, 2-벤조티아졸릴), 시아노기, 히드록실기, 니트로기, 카르복실기, 알콕시기(바람직하게는, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시기, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, 이소프로폭시, t-부톡시, n-옥틸옥시, 2-메톡시에톡시), 아릴 옥시기(바람직하게는, 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴 옥시기, 예를 들면, 페녹시, 2-메틸페녹시, 4-t-부틸페녹시, 3-니트로페녹시, 2-테트라데카노일아미노페녹시), 실릴옥시기(바람직하게는, 탄소수 3 내지 20의 실릴옥시기, 예를 들면, 트리메틸실릴옥시, t-부틸디메틸실릴옥시), 헤테로환 옥시기(바람직하게는, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 헤테로환 옥시기, 1-페닐테트라졸-5-옥시, 2-테트라히드로피라닐옥시), 아실옥시기(바람직하게는 포르밀옥시기, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬카르보닐옥시기, 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴카르보닐옥시기, 예를 들면 포르밀옥시, 아세틸옥시, 피발로일옥시, 스테아로일옥시, 벤조일옥시, p-메톡시페닐카르보닐옥시), 카바모일옥시기(바람직하게는, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 카바모일옥시기, 예를 들면, N,N-디메틸카바모일옥시, N,N-디에틸카바모일옥시, 모르폴리노카르보닐옥시, N,N-디-n-옥틸아미노카르보닐옥시, N-n-옥틸카바모일옥시), 알콕시카르보닐옥시기(바람직하게는, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환 알콕시카르보닐옥시기, 예를 들면 메톡시카르보닐옥시, 에톡시카르보닐옥시, t-부톡시카르보닐옥시, n-옥틸카르보닐옥시), 아릴옥시카르보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 7 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴옥시카르보닐옥시기, 예를 들면, 페녹시카르보닐옥시, p-메톡시페녹시카르보닐옥시, p-n-헥사데실옥시페녹시카르보닐옥시), 아미노기, 알킬아미노기(바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬아미노기, 예를 들면, 메틸아미노, 디메틸아미노), 아릴아미노기(바람직하게는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아닐리노기, 예를 들면, 아닐리노, N-메틸아닐리노, 디페닐아미노), 아실아미노기(바람직하게는 포르밀아미노기, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬카르보닐아미노기, 또는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴카르보닐아미노기, 예를 들면, 포르밀아미노, 아세틸아미노, 피발로일아미노, 라우로일아미노, 벤조일아미노, 3,4,5-트리-n-옥틸옥시페닐카르보닐아미노), 아미노카르보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 아미노카르보닐아미노기, 예를 들면, 카바모일아미노, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노, 모르폴리노카르보닐아미노), 알콕시카르보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시카르보닐아미노기, 예를 들면, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, t-부톡시카르보닐아미노, n-옥타데실옥시카르보닐아미노, N-메틸메톡시카르보닐아미노), 아릴옥시카르보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 7 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴옥시카르보닐아미노기, 예를 들면, 페녹시카르보닐아미노, p-클로로페녹시카르보닐아미노, m-n-옥틸옥시페녹시카르보닐아미노), 술파모일아미노기(바람직하게는 탄소수 0 내지 30의 치환 또는 미치환의 술파모일아미노기, 예를 들면, 술파모일아미노, N,N-디메틸아미노술포닐아미노, N-n-옥틸아미노술포닐아미노), 알킬- 또는 아릴- 술포닐아미노기(바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬술포닐아미노기, 또는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴술포닐아미노기, 예를 들면, 메틸술포닐아미노, 부틸술포닐아미노, 페닐-술포닐아미노, 2,3,5-트리클로로페닐술포닐아미노, p-메틸페닐술포닐아미노), 메르캅토기, 알킬티오기(바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 예를 들면, 메틸티오, 에틸티오, n-헥사데실티오), 아릴티오기(바람직하게는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴티오기, 예를 들면, 페닐티오, p-클로로페닐티오, m-메톡시페닐티오), 복소환 티오기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 복소환 티오기, 예를 들면, 2-벤조티오아조일티오, 1-페닐테트라졸-5-일티오), 술파모일기(바람직하게는 탄소수 0 내지 30의 치환 또는 미치환의 술파모일기, 예를 들면, N-에틸술파모일, N-(3-도데실옥시프로필)술파모일, N,N-디메틸술파모일, N-아세틸술파모일, N-벤조일술파모일, N-(N'-페닐카바모일)술파모일), 술포기, 알킬- 또는 아릴- 술피닐기(바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬술피닐기, 또는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴술피닐기, 예를 들면, 메틸술피닐, 에틸술피닐, 페닐술피닐, p-메틸페닐술피닐), 알킬- 또는 아릴- 술포닐기(바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬술포닐기, 또는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴술포닐기, 예를 들면, 메틸술포닐, 에틸술포닐, t-부틸술포닐, s-부틸술포닐, 페닐술포닐, p-메틸페닐술포닐), 아실기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬카르보닐기, 탄소수 7 내지 30의 치환 또는 미치환 아릴카르보닐기, 또는 탄소원자를 거쳐서 카르보닐기에 결합된 탄소수 4 내지 30의 치환 또는 미치환의 복소환 카르보닐기, 예를 들면, 아세틸, 피발로일, 2-클로로아세틸, 스테아로일, 벤조일, p-n-옥틸옥시페닐카르보닐, 2-피리딜카르보닐, 2-퓨릴카르보닐), 아릴옥시카르보닐기(바람직하게는 탄소수 7 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴옥시카르보닐기, 예를 들면, 페녹시카르보닐, o-클로로페녹시카르보닐, m-니트로페녹시카르보닐, p-t-부틸페녹시카르보닐), 알콕시카르보닐기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시카르보닐기, 예를 들면, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, t-부톡시카르보닐, n-옥타데실옥시카르보닐), 카바모일기(바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 카바모일기, 예를 들면 카바모일, N-메틸카바모일, N,N-디메틸카바모일, N,N-디-n-옥틸카바모일, N-(메틸술포닐)카바모일), 아릴- 또는 복소환- 아조기(바람직하게는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴아조기, 또는 탄소수 3 내지 30의 치환 또는 미치환의 복소환 아조기, 예를 들면, 페닐아조, p-클로로페닐아조, 5-에틸티오-1,3,4-티아디아졸-2-일아조), 이미도기(바람직하게는 N-숙신이미도 또는 N-프탈이미도), 포스피노기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 포스피노기, 예를 들면, 디메틸포스피노, 디페닐포스피노, 메틸페녹시포스피노), 포스피닐기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 포스피닐기, 예를 들면, 포스피닐, 디옥틸옥시포스피닐, 디에톡시포스피닐), 포스피닐옥시기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 포스피닐옥시기, 예를 들면 디페녹시포스피닐옥시, 디옥틸옥시포스피닐옥시), 포스피닐아미노기(바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 포스피닐아미노기, 예를 들면, 디메톡시포스피닐아미노, 디메틸아미노-포스피닐아미노), 또는 실릴기(바람직하게는 탄소수 3 내지 30의 치환 또는 미치환의 실릴기, 예를 들면, 트리메틸실릴, t-부틸디메틸실릴, 페닐디메틸실릴)이 열거된다.
상기의 관능기 중에서, 수소원자를 갖는 것은, 이것을 제거해 더욱 상기의 기로 치환되어 있어도 좋다. 이러한 관능기의 예로는, 알킬카르보닐아미노술포닐기, 아릴카르보닐아미노술포닐기, 알킬술포닐아미노카르보닐기 및 아릴술포닐아미노카르보닐기가 열거된다. 그 예로는, 메틸술포닐아미노카르보닐, p-메틸페닐술포닐아미노카르보닐, 아세틸아미노술포닐 및 벤조일아미노술포닐이 열거된다. 또한, R11~R18은 더욱 치환기에 의해 치환되어 있어도 좋다.
R11~R18로서 바람직하게는 할로겐원자, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬기, 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴기, 5- 또는 6-원의 치환 또는 미치환의 복소환기, 시아노기, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴아미노기, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시기, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬카르보닐기, 탄소수 7 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴카르보닐기, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴카르보닐기, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴옥시카르보닐기, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬술포닐기, 또는 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴술포닐기, 보다 바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 30의 치환 또는 미치환의 아릴아미노기, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시기, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬카르보닐기, 탄소수 2 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시카르보닐기, 또는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 더욱 바람직하게는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬기, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬아미노기, 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시기, 또는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬 티오기이다.
본 발명의 화합물의 일반식(I)으로 표시되는 화합물의 바람직한 형태는 일반식(II) 또는 일반식(III)이며, 일반식(III)인 것이 보다 바람직하다.
일반식(II)에 대해서 설명한다. R21~R28은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬기를 나타낸다. 단, R21~R28 중 하나 이상의 치환기는 히드록실기, 카르복실기, 아미노기, 알킬아미노기, 메르캅토기, 알콕시기, 알킬티오기, 알콕시카르보닐기, 알킬티오카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기, 복소환기 중 어느 하나로 더 치환된 알킬기이다.
R21~R28 중 하나 이상의 치환기는 히드록실기, 카르복실기, 미치환 아미노기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노기, 메르캅토기, 치환 또는 미치환의 알콕시기, 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 치환 또는 미치환의 알콕시카르보닐기, 치환 또는 미치환의 알킬티오카르보닐기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노카르보닐기 및 치환 또는 미치환의 복소환기 중 어느 하나로 치환된 알킬기이고, 치환 또는 미치환의 알콕시기, 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노기, 치환 또는 미치환의 헤테로환기 중 어느 하나로 치환된 알킬기가 바람직하고, 치환 또는 미치환의 알콕시기, 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노기 중 어느 하나로 치환된 알킬기인 것이 보다 바람직하고, 치환 또는 미치환의 알콕시기, 치환 또는 미치환의 알킬티오기 중 어느 하나로 치환된 알킬기인 것이 더욱 바람직하고, 치환 또는 미치환의 알콕시기로 치환된 알킬기인 것이 특히 바람직하다.
일반식(III)에 대해서 설명한다. R31~R38은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알콕시기, 또는 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 미치환의 알킬티오기를 의미한다. 단, R31~R38 중 하나 이상의 치환기는 히드록실기, 카르복실기, 아미노기, 알킬아미노기, 메르캅토기, 알콕시기, 알킬티오기, 알콕시카르보닐기, 알킬티오카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기, 헤테로환기 중 어느 하나로 더 치환된 기이다.
R31~R38 중 하나 이상의 치환기는 히드록실기, 카르복실기, 미치환의 아미노기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노기, 메르캅토기, 치환 또는 미치환의 알콕시기, 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 치환 또는 미치환의 알콕시카르보닐기, 치환 또는 미치환의 알킬티오카르보닐기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노카르보닐기 및 치환 또는 미치환의 복소환기 중 어느 하나로 치환된 기(알콕시기 또는 알킬티오기)이고, 치환 또는 미치환의 알콕시기, 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노기, 치환 또는 미치환의 복소환기 중 어느 하나로 치환된 기가 바람직하고, 치환 또는 미치환의 알콕시기, 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노기 중 어느 하나로 치환된 기인 것이 보다 바람직하고, 치환 또는 미치환의 알콕시기, 치환 또는 미치환의 알킬티오기, 치환 또는 미치환의 알킬아미노기 중 어느 하나로 치환된 기인 것이 더욱 바람직하고, 치환 또는 미치환의 알콕시기로 치환된 기인 것이 특히 바람직하다.
일반식(I)으로 표시되는 백금 포르피린에 있어서의 용액흡수 스펙트럼의 최대 피크파장과 막흡수 스펙트럼의 최대 피크파장은 모두 350~385nm이고, 용액흡수 스펙트럼의 최대 피크파장과 막흡수 스펙트럼의 최대 피크파장의 바람직한 파장의 범위는 360~380nm이고, 보다 바람직하게는 365∼380nm이다. 그 이유는 굴절률n이 보다 큰 값이 되고, 변조도가 커지기 쉬워, 기록특성이 양호해지기 때문이다. 상기의 흡수 스펙트럼 측정에 사용하는 용매는 어느 용제이어도 좋지만, 2,2,3,3 -테트라플루오로프로판올 또는 클로로포름이 바람직하고, 본 발명에서는 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올 또는 클로로포름을 용매로서 사용하여 얻은 값이다. 상기의 막흡수 스펙트럼 측정에서 사용하는 막은 백금 포르피린을 함유하는 막이면 어느 것이어도 좋지만, 백금 포르피린의 용액(바람직하게는 용제, 예를 들면 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올)을 스핀 코트법 등으로 도포하여 형성된 막이고, 광정보기록매체에 있어서의 백금 포르피린 함유 기록층이어도 좋고, 형성된 막은 결정상태이어도, 비정질(아모퍼스)상태이어도 좋지만, 바람직하게는 비정질(아모퍼스)상태이다. 막의 두께는 특별히 제한하지 않지만, 본 발명에서는 10~300nm의 막두께의 값을 사용한다.
일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하는 기록층의 440nm 이하의 레이저광의 발진파장에 있어서의 굴절률n 및 소쇠계수k는 n≥2.0과 0.01≤k≤0.4을 동시에 만족시키는 것이 필요하다.
굴절율n 및 소쇠계수k의 바람직한 범위로는 n≥2.1과 0.1≤k≤0.4을 동시에 만족시키는 것이고, 보다 바람직한 범위로는 n≥2.1과 0.2≤k≤0.4을 동시에 만족시키는 것이고, 더욱 바람직한 범위로는 n≥2.1과 0.3≤k≤0.4을 동시에 만족시키는 것이다. 상기의 바람직한 범위에서는, 변조도가 커져 기록특성이 양호해지기 때문이다.
이하에, 본 발명에 사용할 수 있는 포르피린계 화합물의 바람직한 구체예를 제시하지만, 본 발명이 이들에 한정되는 것은 아니다.
Figure 112007031511305-PCT00004
Figure 112007031511305-PCT00005
본 발명에 대한 비교 화합물을 이하에 표시한다.
Figure 112007031511305-PCT00006
<광정보기록매체>
본 발명의 광정보기록매체는, 형태[1]: 두께 0.7~2mm의 기판 상에 색소를 함유하는 추기형 기록층과 두께 0.01~0.5mm의 커버층을 이 순서로 갖는 광정보기록매체, 또는 형태[2]: 두께 0.1~1.0mm의 기판 상에, 색소를 함유하는 추기형 기록층과 두께 0.1~1.0mm의 보호기판을 이 순서로 갖는 광정보기록매체인 것이 바람직하다. 형태[1]에 있어서는 상기 기판에 형성되는 프리그루브의 트랙 피치가 50~500nm, 홈폭이 25~250nm, 홈깊이가 5~150nm인 것이 바람직하고, 형태[2]에 있어서는 상기 기판에 형성되는 프리그루브의 트랙 피치가 200~600nm, 홈폭이 50~300nm, 홈깊이가 30~200nm이고, 워블 진폭이 10~50nm인 것이 바람직하다.
형태[1]의 광정보기록매체는 적어도 기판과 추기형 기록층과 커버층을 갖는 형태이며, 우선 이들에 필수적인 부재에 대해서 순서대로 설명한다.
[형태[1]의 기판]
바람직한 형태[1]의 기판에는 트랙 피치, 홈폭(반값폭), 홈깊이 및 워블 진폭의 모두가 하기의 범위인 형상을 갖는 프리그루브(안내홈)가 형성되어 있는 것이 필수적이다. 이 프리그루브는 CD-R나 DVD-R에 비해서 보다 높은 기록밀도를 달성하기 위해서 형성된 것이며, 예를 들면 본 발명의 광정보기록매체를 청록색 레이저에 대응하는 매체로서 사용하는 경우에 바람직하다.
프리그루브의 트랙 피치는 200∼500nm의 범위인 것이 필수적이고, 상한값이 420nm 이하인 것이 바람직하고, 370nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 330nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 하한값은 260nm 이상인 것이 바람직하다.
트랙 피치 200nm 미만에서는 프리그루브를 정확하게 형성하는 것이 곤란해지는 동시에, 크로스토크의 문제가 발생할 수 있고, 500nm을 초과하면 기록밀도가 저하하는 문제가 생길 수 있다.
프리그루브의 홈폭(반값폭)은 25~250nm의 범위인 것이 필수적이고, 상한값이 200nm 이하인 것이 바람직하고, 170nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 150nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 하한값은 50nm 이상인 것이 바람직하고, 80nm 이상인 것이 보다 바람직하고, 100nm 이상인 것이 더욱 바람직하다.
프리그루브의 홈폭 25nm 미만에서는 성형시에 홈이 충분히 전사되지 않거나 기록의 오류율이 높아질 수 있고, 250nm를 초과하면 기록시에 형성되는 피트가 퍼져서 크로스토크의 원인이 되거나 충분한 변조도를 얻을 수 없는 경우가 있다.
프리그루브의 홈깊이는 5~150nm의 범위인 것이 필수적이고, 상한값이 100nm 이하인 것이 바람직하고, 70nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 50nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 하한값은 10nm 이상인 것이 바람직하고, 20nm 이상인 것이 보다 바람직하고, 28nm 이상인 것이 더욱 바람직하다.
프리그루브의 홈깊이가 5nm 미만에서는 충분한 기록 변조도가 얻어지지 않는 경우가 있고, 150nm를 초과하면 반사율이 대폭 저하할 수 있다.
또한, 프리그루브의 홈경사각도는 상한값이 80°이하인 것이 바람직하고, 75 °이하인 것이 보다 바람직하고, 70 °이하인 것이 더욱 바람직하고, 65 °이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 하한값은 20°이상인 것이 바람직하고, 30 °이상인 것이 보다 바람직하고, 40 °이상인 것이 더욱 바람직하다.
프리그루브의 홈경사각도가 20°미만에서는, 충분한 트래킹 에러 신호진폭을 얻을 수 없는 경우가 있고 80 °을 초과하면 성형이 곤란하게 된다.
본 발명에 있어서 사용할 수 있는 기판으로서는, 종래의 광정보기록매체의 기판재료로서 사용되고 있는 각종의 재료를 임의로 선택해서 사용할 수 있다.
구체적으로는, 유리; 폴리카르보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴수지; 폴리 염화 비닐, 염화 비닐 공중합체 등의 염화 비닐계 수지; 에폭시 수지; 아모퍼스 폴리올레핀; 폴리에스테르; 알루미늄 등의 금속; 등이 열거되고, 필요에 따라 이들을 병용해도 좋다.
상기 재료 중에서 내습성, 치수안정성 및 저비용 등의 점에서, 아모퍼스 폴리올레핀, 폴리카르보네이트 등의 열가소성 수지가 바람직하고, 폴리카르보네이트가 특히 바람직하다.
이들의 수지를 사용한 경우 사출성형을 사용하여 기판을 제조할 수 있다.
또한, 기판의 두께는 0.7~2mm의 범위인 것을 요하고, 0.9~1.6mm의 범위인 것이 바람직하고, 1.0~1.3mm인 것이 보다 바람직하다.
또한, 후술하는 광반사층이 형성되는 측의 기판표면에는 평면성의 개선, 접착력의 향상의 목적으로 하부도포층을 형성하는 것이 바람직하다.
상기 하부도포층의 재료로서는, 예를 들면 폴리메틸메타크릴레이트, 아크릴산·메타크릴산 공중합체, 스티렌·무수 말레산 공중합체, 폴리비닐알콜, N-메틸올아크릴아미드, 스티렌·비닐 톨루엔 공중합체, 클로로술폰화 폴리에틸렌, 니트로셀룰로오스, 폴리 염화 비닐, 염소화 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리이미드, 초산 비닐·염화 비닐 공중합체, 에틸렌·초산 비닐 공중합체, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카르보네이트 등의 고분자물질; 실란 커플링제 등의 표면개질제 등이 열거된다.
하부도포층은 상기 재료를 적당한 용제에 용해 또는 분산시켜 도포액을 제조한 후, 이 도포액을 스핀 코트, 딥 코트, 압출 도포 등의 도포법으로 기판표면에 도포하는 것에 의해 형성할 수 있다. 하부도포층의 층두께는 일반적으로 0.005~20㎛의 범위에 있고, 바람직하게는 0.01∼10㎛의 범위이다.
[형태[1]의 추기형 기록층]
바람직한 형태[1]의 추기형 기록층은 색소를 결합제 등과 함께 적당한 용제에 용해하여 도포액을 제조하고, 그 다음 이 도포액을 기판상 또는 후술하는 광반사층상에 도포하여 도포막을 형성한 후, 건조하는 것에 의해 형성된다. 여기서 추기형 기록층은 단층이어도 다층이어도 좋고, 다층구조의 경우 도포액을 도포하는 공정이 복수회 행해진다.
도포액 중의 색소의 농도는 일반적으로 0.01~15질량%의 범위이며, 바람직하게는 0.1~10질량%의 범위, 보다 바람직하게는 0.5~5질량%의 범위, 가장 바람직하게는 0.5~3질량%의 범위이다.
도포액의 용제로서는 초산 부틸, 유산 에틸, 셀로솔부아세테이트 등의 에스테르, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤; 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 클로로포름 등의 염소화 탄화수소; 디메틸포름아미드 등의 아미드; 메틸시클로헥산 등의 탄화수소; 테트라히드로퓨란, 에틸에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디옥산 등의 에테르; 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 디아세톤알콜 등의 알콜; 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올, 옥타플루오로펜탄올, 헥사플루오로부탄올 등의 불소계 용제; 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 등이 열거된다.
상기 용제는 사용하는 색소의 용해성을 고려해서 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 도포액 중에는 산화방지제, UV흡수제, 가소제, 윤활제 등 각종의 첨가제를 목적에 따라 더 첨가해도 좋다.
도포방법으로는 스프레이법, 스핀 코트법, 디핑법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 닥터 롤법, 스크린 인쇄법 등이 열거된다.
도포의 경우, 도포액의 온도는 23~50℃의 범위인 것이 바람직하고, 24~40℃의 범위인 것이 보다 바람직하고, 그 중에서도 24~37℃의 범위인 것이 특히 바람직하다.
이렇게 하여 형성된 추기형 기록층의 두께는 그루브(상기 기판에서 볼록부) 상에서 300nm 이하인 것이 바람직하고, 250nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 200nm 이하인 것이 더욱 바람직하고, 180nm 이하인 것이 특히 바람직하다. 하한값으로서는 30nm 이상인 것이 바람직하고, 50nm 이상인 것이 보다 바람직하고, 70nm 이상인 것이 더욱 바람직하고, 90nm 이상인 것이 특히 바람직하다.
또한, 추기형 기록층의 두께는 랜드상(상기 기판에서 오목부)에서 400nm 이하인 것이 바람직하고, 300nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 250nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 하한값으로서는 70nm 이상인 것이 바람직하고, 90nm 이상인 것이 보다 바람직하고, 110nm 이상인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 그루브 상의 추기형 기록층의 두께/랜드상의 추기형 기록층의 두께비는 0.4 이상인 것이 바람직하고, 0.5 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.6 이상인 것이 더욱 바람직하고, 0.7 이상인 것이 특히 바람직하다. 상한값으로서는 1 미만인 것이 바람직하고, 0.9 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.85 이하인 것이 더욱 바람직하고, 0.8 이하인 것이 특히 바람직하다.
도포액이 결합제를 함유하는 경우 상기 결합제의 예로는 젤라틴, 셀룰로오스 유도체, 덱스트란, 로진, 고무 등의 천연 유기고분자물질; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리이소부틸렌 등의 탄화수소계 수지, 폴리 염화 비닐, 폴리 염화 비닐리덴, 폴리 염화 비닐·폴리 초산 비닐 공중합체 등의 비닐계 수지, 폴리 아크릴산 메틸, 폴리 메타크릴산 메틸 등의 아크릴 수지, 폴리비닐알콜, 염소화 폴리에틸렌, 에폭시 수지, 부티랄 수지, 고무 유도체, 페놀·포름알데히드 수지 등의 열경화성 수지의 초기 축합체 등의 합성 유기고분자가 열거된다. 추기형 기록층의 재료로서 결합제를 병용하는 경우에 결합제의 사용량은 일반적으로 색소에 대하여 0.01배~50배(질량비)의 범위이고, 바람직하게는 0.1배~5배(질량비)의 범위이다.
또한, 추기형 기록층에는 상기 추기형 기록층의 내광성을 더욱 향상시키기 위해서, 각종 변색방지제를 함유시킬 수 있다. 변색방지제로서는 일반적으로 단일의 산소 켄처(quencher)를 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서도 이 단일의 산소 켄처를 혼합시키는 것에 의해 더욱 내광성의 향상을 기대할 수 있다. 단일의 산소 켄처로서는 이미 공지된 특허 명세서 등의 간행물에 기재된 것을 이용할 수 있다.
상기 단일의 산소 켄처 등의 변색방지제의 사용량은 색소의 양에 대하여 보통 0.1~50질량%의 범위이고, 바람직하게는 0.5~45질량%의 범위, 더욱 바람직하게는 3~40질량%의 범위, 특히 바람직하게는 5~25질량%의 범위이다.
[형태[1]의 커버층]
바람직한 형태[1]의 커버층은, 상술한 추기형 기록층 또는 후술하는 배리어층 상에 접착제나 점착제를 통해서 접합될 수 있다.
본 발명에 있어서 사용할 수 있는 커버층으로서는 투명한 재질의 필름이면 특별히 한정되지 않지만, 폴리카르보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴수지; 폴리 염화 비닐, 염화비닐 공중합체 등의 염화비닐계 수지; 에폭시 수지; 아모퍼스 폴리올레핀; 폴리에스테르; 초산 셀룰로오스 등을 사용하는 것이 바람직하고, 중에서도, 폴리카르보네이트 또는 3초산 셀룰로오스를 사용하는 것이 보다 바람직하다.
한편, "투명"이란, 기록 및 재생에 사용할 수 있는 광에 대하여 투과율80% 이상인 것을 의미한다.
또한, 커버층은 본 발명의 효과를 방해하지 않는 범위에서 각종 첨가제가 함유되어 있어도 좋다. 예를 들면, 500nm 이상의 광을 컷팅하기 위한 색소가 함유되어 있어도 좋다.
또한, 커버층의 표면물성으로서는, 표면 조도가 2차원 조도 파라미터 및 3차원 조도 파라미터 모두 5nm 이하인 것이 바람직하다.
또한, 기록 및 재생에 사용할 수 있는 광의 집광도의 관점에서, 커버층의 복굴절은 10nm 이하인 것이 바람직하다.
커버층의 두께는 기록 및 재생을 위해 조사되는 레이저 광의 파장이나 NA에 따라 적당히 규정되지만, 본 발명에 있어서는 0.01~0.5mm의 범위 내이고, 0.05~0.12mm의 범위인 것이 보다 바람직하다.
또한, 커버층과, 접착제 또는 점착제로 이루어지는 층을 합한 총두께는 0.09~0.11mm인 것이 바람직하고, 0.095~0.105mm인 것이 보다 바람직하다.
한편, 커버층의 광입사면에는 광정보기록매체의 제조시에 광입사면이 손상되는 것을 방지하기 위한 보호층(하드 코트층)이 형성되어도 좋다.
커버층을 접합하기 위해서 사용할 수 있는 접착제는, 예를 들면 UV 경화수지, EB 경화수지, 열경화수지 등을 사용하는 것이 바람직하고, 특히 UV 경화수지를 사용하는 것이 바람직하다.
접착제로서 UV 경화수지를 사용하는 경우에는, 상기 UV 경화수지를 그대로 또는 메틸에틸케톤, 초산 에틸 등의 적당한 용제에 용해하여 도포액을 제조하고, 디스펜서로부터 배리어층 표면에 공급해도 좋다. 또한, 제조되는 광정보기록매체의 휘어짐을 방지하기 위해서, 접착층을 구성하는 UV 경화수지는 경화수축률이 작은 것이 바람직하다. 이러한 UV 경화수지로서는, 예를 들면, 다이니폰잉크화학공업(주)회사제의 "SD-640" 등의 UV 경화수지가 열거된다.
접착제는, 예를 들면 배리어층으로 이루어지는 피접합면 상에 소정량 도포하고, 그 위에 커버층을 형성한 후, 스핀 코트로 접착제를 피접합면과 커버층의 사이에 균일하게 펼친 후, 경화시키는 것이 바람직하다.
이러한 접착제로 이루어지는 접착제층의 두께는 0.1~100㎛의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~50㎛의 범위, 더욱 바람직하게는 10~30㎛의 범위이다.
또한, 커버층을 접합하기 위해서 사용할 수 있는 점착제로서는 아크릴계, 고무계, 실리콘계의 점착제를 사용할 수 있지만, 투명성, 내구성의 관점에서 아크릴계의 점착제가 바람직하다. 이러한 아크릴계의 점착제로는 2-에틸헥실아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트 등을 주성분으로 하여 응집력을 향상시키기 위해서, 단쇄의 알킬아크릴레이트나 메타크릴레이트, 예를 들면 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트와, 가교제와의 가교점이 될 수 있는 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴 아미드 유도체, 말레산, 히드록시에틸아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트 등을 공중합 한 것을 사용하는 것이 바람직하다. 주성분, 단쇄성분 및 가교점을 부가하기 위한 성분의 혼합비율, 종류를 적당히 조절하는 것에 의해 유리전이온도(Tg)나 가교 밀도를 변화시킬 수 있다.
상기 점착제와 병용되는 가교제로서는, 예를 들면 이소시아네이트계 가교제가 열거된다. 이러한 이소시아네이트계 가교제로서는, 톨릴렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 크실릴렌 디이소시아네이트, 나프틸렌-1,5-디이소시아네이트, o-톨루이딘 이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트 및 트리페닐메탄 트리이소시아네이트 등의 이소시아네이트류,또한, 이들의 이소시아네이트류와 폴리 알콜의 생성물, 이소시아네이트류의 축합에 의해 생성된 폴리이소시아네이트류를 사용할 수 있다. 이들의 이소시아네이트류의 시판되고 있는 상품으로는, 일본폴리우레탄사 제품인 Colonate L, Colonate HL, Colonate 2030, Colonate 2031, Millionate MR, Millionate HTL; 타케다약품사 제품인 Takenate D-102, Takenate D-110N, Takenate D-200, Takenate D-202; 쓰미토모 바이엘사 제품인 Desmodule L, Desmodule IL, Desmodule N, Desmodule HL; 등이 열거된다.
점착제는 배리어층으로 이루어지는 피접합면 상에 소정량 균일하게 도포하고, 그 위에 커버층을 형성한 후 경화시켜도 좋고, 미리 커버층의 한 면에 소정량을 균일하게 도포하여 점착제 도포막을 형성해 두고, 상기 도포막을 피접합면에 접합한 후 경화시켜도 좋다.
또한, 커버층에 미리 점착제층이 형성되어 있는 시판의 점착 필름을 사용해도 좋다. 이러한 점착제로 이루어지는 점착제층의 두께는 0.1~100㎛의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~50㎛의 범위, 더욱 바람직하게는 10~30㎛의 범위이다.
[형태[1]에 있어서 그 밖의 층]
바람직한 형태[1]의 광정보기록매체는, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서 상술한 필수적인 층에 이외에 다른 임의의 층을 갖고 있어도 좋다. 이러한 다른 임의의 층으로서는, 예를 들면 기판의 이면(추기형 기록층 형성면측에 대한 이면)에 형성된다. 소망의 화상을 갖는 라벨층이나 기판과 추기형 기록층의 사이에 형성되는 광반사층(후술함), 추기형 기록층과 커버층의 사이에 형성되는 배리어층(후술함), 상기 광반사층과 추기형 기록층의 사이에 형성되는 계면층 등이 열거된다. 여기서 이러한 라벨층은 자외선 경화수지, 열경화성수지 및 열건조수지 등을 사용하여 형성된다.
한편, 이들 필수 및 임의의 층은 모두 단층이어도 좋고, 다층구조를 가져도 좋다.
[형태[1]에 있어서의 광반사층]
바람직한 형태[1]의 광정보기록매체에 있어서, 레이저광에 대한 반사율을 높이거나 기록재생 특성을 개량한 기능을 부여하기 위해서, 기판과 추기형 기록층의 사이에 광반사층을 형성하는 것이 바람직하다.
광반사층은 레이저광에 대한 반사율이 높은 광반사성 물질을 진공증착, 스퍼터링 또는 이온 플레이팅하는 것에 의해 기판 상에 형성할 수 있다.
광반사층의 층두께는 일반적으로는 10~300nm의 범위이고, 50~200nm의 범위인 것이 바람직하다.
한편, 상기 반사율은 70% 이상인 것이 바람직하다.
반사율이 높은 광반사성 물질로서는, Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi 등의 금속 및 반금속인 스테인레스 강철이 열거된다. 이들의 광반사성 물질은 단독으로 사용해도 좋고 또는 2종 이상의 조합으로, 또는 합금으로서 사용해도 좋다. 이들 중에서 바람직한 것은 Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al 및 스테인레스 강철이다. 특히 바람직하게는 Au, Ag, Al 또는 이들의 합금이고, 가장 바람직하게는 Au, Ag 또는 이들의 합금이다.
[형태[1]에 있어서 배리어층(중간층)의 형성공정]
바람직한 형태[1]의 광정보기록매체에 있어서는, 추기형 기록층과 커버층의 사이에 배리어층을 형성하는 것이 바람직하다.
상기 배리어층은 추기형 기록층의 보존성을 향상시키고, 추기형 기록층과 커버층과의 접착성을 향상시키고, 반사율을 조정하고, 열전도율을 조정하는 등의 목적으로 형성된다.
배리어층에 사용할 수 있는 재료로는, 기록 및 재생에 사용할 수 있는 광을 투과하는 재료이고, 상기의 기능을 발현할 수 있는 것이면 특별히 제한되는 것이 아니지만, 예를 들면 일반적으로 가스나 수분의 투과성의 낮은 재료이고 유전체인 것이 바람직하다.
구체적으로는, Zn, Si, Ti, Te, Sn, Mo, Ge 등의 질화물, 산화물, 탄화물, 황화물로 이루어지는 재료가 바람직하고, ZnS , MoO2, GeO, TeO2, SiO2, TiO2, ZuO2, ZnS-Si2, SnO2, ZnO-Ga2O3가 바람직하고, ZnS-SiO2, SnO2, ZnO-Ga2O3가 보다 바람직하다.
또한, 배리어층은 진공증착, DC 스퍼터링, RF 스퍼터링, 이온 플레이팅 등의 진공 제막법으로 형성할 수 있다. 이 중에서도, 스퍼터링을 사용하는 것이 보다 바람직하고, RF 스퍼터링을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
본 발명에 있어서의 배리어층의 두께는 1~200nm의 범위인 것이 바람직하고, 2~100nm의 범위인 것이 보다 바람직하고, 3~50nm의 범위인 것이 더욱 바람직하다.
다음에 바람직한 형태[2]의 광정보기록매체에 대해서 설명한다.
여기서, 형태[2]의 광정보기록매체는 접합형태의 층구성을 갖는 광정보기록매체이고, 그 대표적인 층구성은 하기와 같다.
(1) 제1의 층구성은 기판 상에 추기형 기록층, 광반사층, 접착층을 순차 형성하고, 접착층 상에 보호기판을 형성한 구성이다.
(2) 제2의 층구성은 기판 상에 추기형 기록층, 광반사층, 보호층, 접착층을 순차 형성하고, 접착층 상에 보호기판을 형성한 구성이다.
(3) 제3의 층구성은 기판 상에 추기형 기록층, 광반사층, 보호층, 접착층, 보호층을 순차 형성하고, 상기 보호층 상에 보호기판을 형성한 구성이다.
(4) 제4의 층구성은 기판 상에 추기형 기록층, 광반사층, 보호층, 접착층, 보호층, 광반사층을 순차 형성하고, 상기 광반사층 상에 보호기판을 형성한 구성이다.
(5) 제5의 층구성은 기판 상에 추기형 기록층, 광반사층, 접착층, 광반사층을 순차 형성하고, 상기 광반사층 상에 보호기판을 형성한 구성이다.
한편, 상기(1)~(5)의 층구성은 단순한 예시이며, 상기 층구성은 상술의 순번 뿐만 아니라 일부를 변경해도 좋고, 일부를 생략해도 좋다. 또한, 추기형 기록층은 보호기판측에도 형성되어 있어도 좋고, 이 경우 양면에서의 기록, 재생이 가능한 광정보기록매체가 된다. 또한 각 층은 1층으로 구성되어도 복수층으로 구성되어도 좋다.
본 발명의 광정보기록매체로서, 기판 상에 추기형 기록층, 광반사층, 접착층, 보호기판을 이 순서대로 갖는 구성을 예로 들고, 이하에 설명한다.
[형태[2]의 기판]
바람직한 형태[2]에 있어서의 기판에는 트랙 피치, 홈폭(반값폭), 홈깊이 및 워블 진폭의 모두가 하기의 범위인 형상을 갖는 프리그루브(안내홈)이 형성되어 있는 것이 필수적이다. 이 프리그루브는, CD-R나 DVD-R에 비해서 보다 높은 기록밀도를 달성하기 위해서 형성된 것이며, 예를 들면, 본 발명의 광정보기록매체를 청록색 레이저에 대응하는 매체로서 사용하는 경우에 바람직하다.
프리그루브의 트랙 피치는 200~500nm의 범위인 것이 필수적이고, 상한값이 450nm 이하인 것이 바람직하고, 430nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 하한값은 300nm 이상인 것이 바람직하고, 330nm 이상인 것이 보다 바람직하고, 370nm 이상인 것이 더욱 바람직하다.
트랙 피치가 200nm 미만에서는 프리그루브를 정확하게 형성하는 것이 곤란해지고 크로스토크의 문제가 발생할 수 있고, 500nm를 초과하면 기록밀도가 저하하는 문제가 생길 수 있다.
프리그루브의 홈폭(반값폭)은 50~300nm의 범위인 것이 필수적이고, 상한값이 250nm 이하인 것이 바람직하고, 200nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 180nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 하한값은 100nm 이상인 것이 바람직하고, 120nm 이상인 것이 보다 바람직하고, 140nm 이상인 것이 더욱 바람직하다.
프리그루브의 홈폭이 50nm 미만에서는 성형시에 홈이 충분히 전사되지 않거나 기록의 오류율이 높아질 수 있거, 300nm을 초과하면 기록시에 형성되는 피트가 퍼져서 크로스토크의 원인이 되거나 충분한 변조도를 얻을 수 없는 경우가 있다.
프리그루브의 홈깊이는 30~200nm의 범위인 것이 필수적이고, 상한값이 170nm 이하인 것이 바람직하고, 140nm 이하인 것이 보다 바람직하고, 120nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 하한값은 40nm 이상인 것이 바람직하고, 50nm 이상인 것이 보다 바람직하고, 60nm 이상인 것이 더욱 바람직하다.
프리그루브의 홈깊이가 30nm 미만에서는 충분한 기록 변조도를 얻을 수 없는 경우가 있고, 200nm을 초과하면 반사율이 대폭 저하할 수 있다.
바람직한 형태[2]에 있어서 사용할 수 있는 기판으로는 종래의 광정보기록매체의 기판재료로서 사용되고 있는 각종의 재료를 임의로 선택해서 사용할 수 있고, 구체예 및 바람직한 예는 형태[1]의 기판과 동일하다.
또한, 기판의 두께는 0.1~1.0mm의 범위에 있을 것이 필수적이고, 0.2~0.8mm의 범위인 것이 바람직하고, 0.3~0.7mm의 범위인 것이 보다 바람직하다.
또한, 후술하는 추기형 기록층이 형성되는 측의 기판표면에는 평면성의 개선, 접착력의 향상의 목적으로, 하부도포층을 형성하는 것이 바람직하고, 상기 하부도포층의 재료, 도포법 및 층두께의 구체예 및 바람직한 예는 형태[1] 하부도포층과 동일하다.
[형태[2]의 추기형 기록층]
바람직한 형태[2]의 추기형 기록층에 관한 상세한 설명은 형태[1]의 추기형 기록층에 관한 것과 동일하다.
[형태[2]의 광반사층]
바람직한 형태[2]에 있어서, 레이저광에 대한 반사율을 높이거나 기록재생 특성을 개량하는 기능을 부여하기 위해서, 추기형 기록층 상에 광반사층을 형성할 수 있다. 형태[2]의 광반사층에 관한 상세는 형태[1]의 광반사층과 동일하다.
[형태[2]의 접착층]
바람직한 형태[2]에 있어서의 접착층은 상기 광반사층과 보호기판의 밀착성을 향상시키기 위해서 형성된 임의의 층이다.
접착층을 구성하는 재료로는 광경화성 수지가 바람직하고, 그 중에서도 디스크의 휘어짐을 방지하기 위해서 경화수축률이 작은 것이 바람직하다. 이러한 광경화성 수지로서는, 예를 들면 대일본잉크사 제품인 "SD-640", "SD-347" 등의 UV 경화성수지(UV 경화성 접착제)가 열거된다. 또한, 접착층의 두께는 탄력성을 갖게 하기 위해서 1~1000㎛의 범위가 바람직하다.
[형태[2]의 보호기판]
바람직한 형태[2]에 있어서의 보호기판(더미 기판)은, 상술한 기판과 동일한 재질에서 동일한 형상의 것을 사용할 수 있다. 보호기판의 두께로는 두께 0.1~1.0mm의 범위인 것을 필요로 하고, 0.2~0.8mm의 범위인 것이 바람직하고, 0.3~0.7mm의 범위인 것이 보다 바람직하다.
[형태[2]의 보호층]
바람직한 형태[2]의 광정보기록매체는 그 층구성에 따라서 광반사층이나 추기형 기록층 등을 물리적 및 화학적으로 보호할 목적으로 보호층이 형성되는 경우도 있다.
보호층으로 사용할 수 있는 재료의 예로는 ZnS, ZnS-SiO2, SiO, SiO2, MgF2, SnO2, Si3N4 등의 무기물질, 열가소성수지, 열경화성수지, UV 경화성수지 등의 유기물질이 열거된다.
보호층은, 예를 들면 플라스틱의 압출가공으로 얻을 수 있는 필름을 접착제를 통해 광반사층 상에 접합하여 형성할 수 있다. 또한, 진공증착, 스퍼터링, 도포 등의 방법에 의해 형성되어도 좋다.
또한, 보호층으로서 열가소성수지, 열변화성수지를 사용하는 경우에는 이들을 적당한 용제에 용해하여 도포액을 제조한 후, 이 도포액을 도포하고 건조하는 것에 의해서도 형성할 수 있다. UV 경화성 수지의 경우에는 그대로 또는 적당한 용제에 용해하여 도포액을 제조한 후, 이 도포액을 도포하고, UV광을 조사해서 경화시키는 것에 의해서도 형성할 수 있다. 이들의 도포액 중에는, 대전방지제, 산화방지제, UV흡수제 등의 각종 첨가제를 목적에 따라 더 첨가해도 좋다.
보호층의 층두께는 일반적으로 0.1 ㎛~1mm의 범위에 있다.
[형태[2]의 그 밖의 층]
바람직한 형태[2]의 광정보기록매체는 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서 상술한 층 이외에 다른 임의의 층을 갖고 있어도 좋다. 이러한 다른 임의의 층의 상세한 설명은 형태[1]의 그 밖의 층과 같다.
<광정보기록방법>
본 발명의 광정보기록방법은 바람직한 형태[1] 또는 [2]의 광정보기록매체를 이용하고, 예를 들면 다음과 같이 행하여진다. 우선 광정보기록매체를 정선속도(0.5~10m/초) 또는 정각속도에서 회전시키면서 기판측 또는 보호층측에서 반도체 레이저광 등의 기록용의 광을 조사한다. 이 광의 조사에 의해 기록층이 그 빛을 흡수해서 국소적으로 온도상승하고, 물리적 또는 화학적 변화(예를 들면, 피트의 생성)가 생겨서 그 광학적 특성을 변화시키는 것에 의해 정보가 기록된다고 생각할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 기록광으로서 390~450nm의 범위의 발진파장을 갖는 반도체 레이저광을 사용할 수 있다. 바람직한 광원으로서는 390~415nm의 범위의 발진파장을 갖는 청록색 반도체 레이저광, 중심 발진파장 850nm의 적외 반도체 레이저광을 광도파로 소자를 사용해서 반분의 파장으로 한 중심 발진파장 425nm의 청록색 SHG레이저광이 열거된다. 특히 기록밀도의 점에서 390~415nm의 범위의 발진파장을 갖는 청록색 반도체 레이저광을 사용하는 것이 바람직하다. 상기한 바와 같이 기록된 정보의 재생은 광정보기록매체를 상기와 동일한 정선속도로 회전시키면서 반도체 레이저광을 기판측 또는 보호층측에서 조사하고, 그 반사광을 검출하는 것에 의해 행할 수 있다.
도1은 화합물(3)의 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올 용액흡수 스펙트럼이다.
도2는 화합물(3)의 막흡수 스펙트럼이다.
도3은 화합물(E)의 클로로포름 용액흡수 스펙트럼이다.
도4는 화합물(E)의 증착 막흡수 스펙트럼이다.
도5는 화합물(B)의 2,2,3,3-테트라플루오로프로판올 용액흡수 스펙트럼이다.
도6은 화합물(B)의 막흡수 스펙트럼이다.
다음에, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명이 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
실시예1
[화합물(3)의 합성]
Figure 112007031511305-PCT00007
헤마토포르피린 8g을 메탄올 80㎖에 용해시키고, 여기에 황산 0.7㎖을 더해서 12시간 가열 환류시켰다. 반응액을 물 500㎖에 흘려 넣어 침전을 생성시키고, 여과 후 물로 세정하는 것에 의해 화합물(3') 6.1g을 얻었다.
다음에 화합물(3') 4g, K2PtCl4 7.6g을 메탄올 80㎖, 물 20㎖, 톨루엔 20㎖의 혼합용매 중에서 8시간 가열 환류시켰다. 반응액에 초산 에틸/물을 첨가해서 분액조작을 행하고, 유기층을 셀라이트(Celite) 여과한 후, 용매를 유거했다. 얻어진 조생성물을 실리카겔 크로마토그래피(용리액; 디클로로메탄/메탄올=99/1)에서 정제하는 것으로 화합물(3) 360mg을 얻었다. 얻어진 화합물은 MALDI-MS로 동정했다.[M-H]+=848
[화합물(B)의 합성]
Figure 112007031511305-PCT00008
화합물(3') 0.7g, Co(OAc)2·4H2O 0.27g을 클로로포름 7㎖, 메탄올 3㎖의 혼합 용매 중에서 2시간 가열 환류시켰다. 용매를 유거하고, 얻어지는 조생성물을 실리카겔 크로마토그래피(용리액; 디클로로메탄/메탄올=98/2)에서 정제하는 것으로 화합물(B) 420mg을 얻었다. 얻어지는 화합물은 MALDI-TOFMS로 동정했다. [M-H]+=712
[화합물(C)의 합성]
Figure 112007031511305-PCT00009
화합물(C)은 상기 도식에 따라, Synthesis, 795(1995)의 방법을 참고하여 합성했다.
얻어지는 화합물은 MALDI-TOFMS로 동정했다. [M-H]+=999
또한, 화합물(12)에 대해서는 상기와 동일한 문헌기재의 화합물이며, 동일한 문헌의 방법에 의해 합성할 수 있다. 화합물(7)에 대해서는 화합물(12)을 사용하여 상기 화합물(3)과 동일하게 합성할 수 있다.
Figure 112007031511305-PCT00010
[화합물(D)의 합성]
Figure 112007031511305-PCT00011
얻어지는 화합물은 MALDI-TOFMS로 동정했다. [M-H]+=1060
실시예2
<광정보기록매체1의 제조>
(기판의 제조)
두께 1.1mm, 외경 120mm, 내경 15mm에서 나선형의 프리그루브(트랙 피치: 320nm, 홈폭: 온-그루브폭 120nm, 홈깊이: 35nm, 홈경사각도: 65°, 워블 진폭: 20nm)를 갖는다. 폴리카르보네이트 수지로 이루어진 사출형성 기판을 제조했다. 사출성형시 사용할 수 있는 스탬프의 마스터링은 레이저 컷팅(351nm)을 사용해서 행하여졌다.
(광반사층의 형성)
기판 상에, Unaxis사 제품인 Cube를 사용하고, Ar 분위기 중에서 DC 스퍼터링으로 막두께 100nm의 진공성막층으로서 APC 광반사층(Ag: 98.1질량%, Pd: 0.9질량%, Cu: 1.0질량%)을 형성했다. 광반사층의 막두께의 조정은 스퍼터링 시간내에서 행했다.
(추기형 기록층의 형성)
표1에 나타낸 화합물 0.2g을 2,2,3,3-테트라플루오로-1-프로판올 10㎖ 중에 첨가해서 용해하여 색소함유 도포액을 제조했다. 그리고, 광반사층 상에 제조한 색소함유 도포액을 스핀 코트법으로 회전수 300~4000rpm까지 변화시키면서 23℃, 50%RH의 조건에서 도포했다. 그 후, 23℃, 50%RH의 조건에서 1시간 보존하고, 추기형 기록층(그루브 상의 두께 120nm, 랜드 상의 두께170nm)을 형성했다. 단, 화합물(D), (E)의 경우는 용제에 난용성 때문에 디스크의 제조가 불가능했다.
추기형 기록층을 형성한 후, 클린 오븐에서 아닐링 처리를 실시했다. 아닐링 처리는 기판을 수직의 스택폴(stack pole)에 스페이서로 공간을 확보하면서 지지하고, 80℃에서 1시간 보유하여 행하였다.
(배리어층의 형성)
그 후, 추기형 기록층 상에 Unaxis사 제품인 Cube를 사용하고, Ar 분위기 중에서 RF 스퍼터링으로 ZnO-Ga2O3(ZnO:Ga2O3=7:3(질량비))으로 이루어진 두께 5nm의 배리어층을 형성했다.
(커버층의 접합)
커버층으로서는, 내경 15mm, 외경 120mm에서 한 면에 점착제가 도포되어 있는 폴리카르보네이트제 필름(테이진 퓨어 에이스, 두께:80㎛)을 사용하고, 상기 점착제층과 폴리카르보네이트제 필름의 두께의 합계가 100㎛이 되도록 설정했다.
그리고, 배리어층 상에 상기 배리어층과 점착제층이 당접하도록 커버층을 형성한 후, 그 커버층을 눌러 부재에 압접하여 접합했다.
이것에 의해, 실시예1~2, 비교예1~5의 광정보기록매체를 제조했다.
비교예1에는 일본특허공개 2001-138634호 공보에 기재된 화합물34에 해당한다.
<광정보기록매체1의 평가>
(1)C/N(반송파 대 잡음비)평가
제조한 광정보기록매체를 403nm 레이저, NA 0.85 픽업이 설치된 기록재생 평가기(펄스테크니컬사 제품: DDU1000)을 사용하고, 클록 주파수 66MHz, 선속도 5.28m/s에서 0.16㎛의 신호(2T)를 기록, 재생을 행하고, 기록피트의 판독을 행했다. 한편, 본 평가는 본 발명의 광정보기록방법을 이용한 것이며, 기록은 그루브 상에 행했다. 결과를 표1에 나타낸다.
Figure 112007031511305-PCT00012
상기 표1의 결과로 부터, 본 발명 화합물을 사용한(본 발명예1~2) 경우에는, 비교 화합물1~4로 표시한 샘플을 사용한 경우에 비해서 모두 기록재생 특성이 뛰어나다는 것을 알 수 있다.
얻어지는 화합물의 용액흡수 스펙트럼, 막흡수 스펙트럼을 측정했다. 결과를 도1~6에 나타낸다.
일본특허공개 평11-334207호 공보의 화합물인 하기 화합물(G)~(L)(M은 표2 참조)에 대해서 용액흡수 스펙트럼을 측정했다. 결과를 표2에 나타낸다. 표2로 부터, 화합물(G)~(L)의 흡수 최대 피크파장은 화합물(B)과 동등 또는 화합물(B)보다 장파장인 것을 알 수 있다. 따라서, 화합물(G)~(L)은 n≥2.0과 0.01≤k≤0.4을 동시에 만족시키는 경우가 없다. 이 결과로부터, M=Pt의 경우에 흡수 최대 피크가 다른 금속에 비해서 특이적으로 단파장이 되고, n≥2.0 과 0.01≤k≤0.4을 동시에 만족시킬 수 있는 것을 알 수 있다.
Figure 112007031511305-PCT00013
Figure 112007031511305-PCT00014
본 발명의 광정보기록매체는 청색 레이저용 광정보기록매체로서 유용하다. 본 발명의 화합물은 청색 레이저용 광정보기록매체 이외에, 안료, 사진용 재료, UV 흡수재료, 레이저 색소, 컬러필터용 염료, 색변환 필터 등에도 적용가능하다.
본 발명을 상세히 또한 특정한 실시 형태을 참조해서 설명했지만, 본 발명의 본질과 범위를 벗어나지 않고 여러가지 변경이나 수정을 할 수 있는 것은 당업자에 있어서 명확하다.
본 출원은, 2005년 3월 16일 출원의 일본특허출원(특원2005-075553)에 기초한 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 조합된다.

Claims (11)

  1. 기판 상에 440nm 이하의 레이저광 조사에 의한 정보의 기록이 가능한 기록층을 갖는 광정보기록매체에 있어서, 상기 기록층 중에 하기 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
    일반식(I)
    Figure 112007031511305-PCT00015
    (일반식(Ⅰ)에서, R11~R18은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환기를 나타낸다.)
  2. 제1항에 있어서, 상기 기록층 중에 상기 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하고, 또한 상기 일반식(I)으로 표시되는 백금 포르피린에 있어서의 용액흡수 최대파장과 막흡수 최대파장이 모두 350nm~385nm인 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기록층 중에 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하고, 또한 상기 기록층의 440nm 이하의 레이저광의 발진파장에 있어서의 굴절률n 및 소쇠계수k가 n≥2.0과 0.01≤k≤0.4를 동시에 만족시키는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판 상에 440nm 이하의 레이저광 조사에 의한 정보의 기록이 가능한 기록층을 갖는 광정보기록매체에 있어서, 상기 기록층 중에 하기 일반식(II)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
    일반식(II)
    Figure 112007031511305-PCT00016
    (일반식(II)에서, R21~R28은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환의 알킬기를 나타낸다. 단, R21~R28 중 하나 이상의 치환기는 히드록실기, 카르복실기, 아미노기, 알킬아미노기, 메르캅토기, 알콕시기, 알킬티오기, 알콕시카르보닐기, 알킬티오카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기, 복소환기 중 어느 하나로 더 치환된 기이다.)
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기록층과는 별도로 금속으로 이루어진 광반사층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기록층과는 별도로 보호층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판이 그 표면에 트랙 피치 0.2mm~0.5mm의 프리그루브를 갖는 투명한 원반형 기판이고, 기록층이 상기 프리그루브가 형성된 측의 표면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판 상에 440nm 이하의 레이저광 조사에 의한 정보의 기록이 가능한 기록층을 갖는 광정보기록매체에 있어서, 상기 기록층 중에 하기 일반식(III)으로 표시되는 백금 포르피린을 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
    일반식(III)
    Figure 112007031511305-PCT00017
    (일반식(III)에서, R31~R38은 각각 독립적으로 치환 또는 미치환의 알콕시기, 또는 치환 또는 미치환의 알킬티오기를 나타낸다. 단, R31~R38 중 하나 이상의 치환기는 히드록실기, 카르복실기, 아미노기, 알킬아미노기, 메르캅토기, 알콕시기. 알킬티오기, 알콕시카르보닐기, 알킬티오카르보닐기, 알킬아미노카르보닐기, 복소환기 중 어느 하나로 더 치환된 기이다.)
  9. 제8항에 있어서, 상기 기록층과는 별도로 금속으로 이루어진 광반사층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 기록층과는 별도로 보호층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판이 그 표면에 트랙 피 치 0.2㎛~0.5㎛의 프리그루브를 갖는 투명한 원반형 기판이고, 상기 기록층이 상기 프리그루브가 형성된 측의 표면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광정보기록매체.
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