KR20060131858A - 기체 정화 장치 - Google Patents

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Abstract

기체 정화 장치(Z)는 공기 통로(Q)를 가지고 있다. 공기 통로(Q) 내에, 비청정 공기(W') 중의 화학적 오염 물질을 흡착하는 것과 함께, 재생 처리에 의하여 흡착한 오염 물질을 이탈하는 재생 가능한 흡착 부재(9)를 가지는 흡착 제거 장치(B)와, 다공질막을 통하여 기액 접촉을 행하는 것에 의하여 비청정 공기(W') 중의 오염 물질을 액체 중으로 분리 제거하는 기체 정화 유닛(A)이 위치를 정하여 설치되어 있다. 수용성의 오염 물질은 기체 정화 유닛(A)에서 분리 제거되고, 화학적 오염 물질은 흡착 제거 장치(B)에서 흡착 제거된다.
기체 정화 장치, 공기 통로, 기체 정화 유닛, 흡착 부재, 흡착 제거 장치

Description

기체 정화 장치{GAS PURIFIER}
본 발명은, 기체 정화 장치에 관한 것이며, 더 상세하게는 클린룸(clean room)으로 공급되는 청정 공기를 얻기 위한 기체 정화 장치에 관한 것이다.
LCD 기판이나 반도체 웨이퍼(wafer) 등과 같은 기판에는 청정 공기 중에서 액 처리나 열 처리가 시행된다. 이 때문에, 클린룸 내의 공기가 기체 정화 장치에서 청정화된 후, 클린룸으로 환류된다.
일반적으로, 기체 정화 장치는 암모니아 성분 등의 오염 물질을 흡착하는 케미컬 필터(chemical filter)를 구비한다. 그러나 케미컬 필터 내에는 시간이 경과함에 따라 오염 물질이 축적된다. 이 때문에, 케미컬 필터는 그 오염 물질을 제거하는 능력이 저하하기 때문에, 일반적으로 사용 수명이 짧다. 따라서, 기체 정화 장치에서는 케미컬 필터의 교환이 필요하게 되어, 러닝 코스트(running cost)의 고등(高騰)을 초래한다. 또한, 케미컬 필터의 교환 시에는, 시스템 전체를 정지시키지 않으면 안 되는 불편도 있다.
상기와 같은 불편에 대처하기 위하여, 일본국 공개특허공보 특개2001-230196호 공보는 다공질막을 통하여 기액을 접촉시키는 것에 의하여, 기체 중의 수용성 오염 물질을 액체(예를 들면, 순수(純水)) 중으로 분리 제거하는 연속 사용 가능한 기체 정화 장치를 개시한다. 하지만, 이 기액 접촉형의 기체 정화 장치는, 연속 사용은 가능하지만, 비수용성의 유기 오염 물질의 제거가 불가능하다. 또한, 이 장치에서는 다공질막을 통하여 순수가 기화하고, 습도가 상승하여 버린다.
또한, 일본국 공개특허공보 특개2002-93688호 공보는 소수성 제올라이트(zeolite)로 이루어지는 허니콤(honeycomb) 로터를 이용한 기체 정화 장치를 개시한다. 이 기체 정화 장치는, 화학 물질을 효율 좋게 제거할 수 있지만, 흡착 부재의 재생에 고온(예를 들면, 150℃ 이상)의 청정 기체가 필요하고, 필요 이상으로 에너지를 요하여, 경제적으로 불리하다.
본 발명의 목적은 에너지 절약 효과와 오염 물질 제거 효율의 향상을 도모할 수 있는 기체 정화 장치를 제공하는 것에 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 기체 정화 장치는, 오염 물질을 포함하는 기체를 정화하기 위한 기체 정화 장치이고, 공기의 통로 내에, 비청정 공기 중의 오염 물질을 흡착하는 것과 함께, 재생 처리에 의하여 흡착한 오염 물질을 이탈하는 재생 가능한 흡착 부재를 가지는 흡착 제거 장치와, 다공질막을 통하여 기액 접촉을 행하는 것에 의하여 비청정 공기 중의 오염 물질을 액체 중으로 분리 제거하는 기체 정화 유닛이 위치를 정하여 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
이와 같이 구성하는 것에 의하여, 기체 정화 유닛에 있어서, 비청정 공기 중의 오염 물질이 다공질막을 통하여 기액 접촉하는 액체 중으로 분리 제거되는 것과 함께, 흡착 제거 장치에 있어서, 공기 중의 유기 오염 물질이 흡착 부재에 흡착되어 청정 공기로 된다. 따라서, 수용성의 오염 물질은 기체 정화 유닛에서 분리 제거되는 것과 함께, 유기 오염 물질은 흡착 제거 장치에서 흡착 제거되게 되어, 공기의 청정화 효율이 현저하게 향상한다. 또한, 기체 정화 유닛 및 흡착 제거 장치는, 함께 연속 사용이 가능한 점으로부터, 교환의 필요가 없어져, 조업성(操業性)도 향상한다.
또한, 기체 정화 유닛을, 당해 흡착 제거 장치의 상류 측에 있어서, 당해 흡착 제거 장치와 직렬로 배치할 수 있다. 이와 같이 구성하는 것에 의하여, 기체 정화 유닛에 있어서, 비청정 공기 중의 오염 물질이 다공질막을 통하여 기액 접촉하는 액체 중으로 분리 제거되고, 그 후 흡착 제거 장치에 있어서, 기체 정화 유닛을 통과한 공기 중의 오염 물질이 흡착 부재에 흡착되어 청정 공기로 된다. 따라서, 수용성의 오염 물질은 기체 정화 유닛에서 분리 제거되고, 기체 정화 유닛을 통과한 오염 물질은 흡착 제거 장치에서 흡착 제거되게 되어, 공기의 청정화 효율이 현저하게 상승하고, 또한 흡착 제거 장치(B)에서의 오염 물질의 흡착량이 큰 폭으로 감소하기 때문에, 재생에 요하는 에너지를 절감할 수 있다. 또한, 기체 정화 유닛 및 흡착 제거 장치는, 함께 연속 사용이 가능한 점으로부터, 교환의 필요가 없어져, 조업성도 향상한다.
또한, 기체 정화 유닛을, 당해 흡착 제거 장치의 하류 측에 있어서, 당해 흡착 제거 장치와 직렬로 배치할 수 있다. 이와 같이 구성하는 것에 의하여, 비청정 공기가 흡착 제거 장치를 통과하는 과정에 있어서, 공기 중의 유기 오염 물질이 흡착 부재에 흡착되고, 그 후 기체 정화 유닛에 있어서, 흡착 제거 장치를 통과한 공기 중의 오염 물질이 다공질막을 통하여 기액 접촉하는 액체 중으로 분리 제거되어 청정 공기로 된다. 따라서, 유기 오염 물질은, 흡착 제거 장치에서 흡착 제거되고, 흡착 제거 장치를 통과한 수용성의 오염 물질은 기체 정화 유닛에서 분리 제거되게 되어, 공기의 청정화 효율이 현저하게 향상한다. 또한, 기체 정화 유닛 및 흡착 제거 장치는, 함께 연속 사용이 가능한 점으로부터, 교환의 필요가 없어져, 조업성도 향상한다. 또한, 특히, 극성 유기 오염 물질을 고효율로 제거하는 경우, 기체 정화 유닛의 가습 기능이 흡착 제거 장치(B)의 제거 효율을 떨어뜨리는 일이 없어진다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 관련되는 기체 정화 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 기체 정화 유닛의 일부를 단면으로 한 사시도.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 기체 정화 유닛의 설명도.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 기체 정화 유닛의 다른 예를 도시하는 단면도.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 흡착 제거 장치를 도시하는 도면.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 관련되는 기체 정화 장치의 개략 구성을 도 시하는 단면도.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 관련되는 기체 정화 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도.
도 8은 본 발명의 제4 실시예에 관련되는 기체 정화 장치의 개략 구성을 도시하는 도면.
도 9는 본 발명의 제4 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 기체 정화 유닛의 배수 제어의 내용을 도시하는 플로차트.
도 10은 본 발명의 제4 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 흡착 제거 장치의 배기 제어의 내용을 도시하는 플로차트.
도 11은 본 발명의 제4 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 흡착 제거 장치를 구성하는 허니콤 로터의 개략 구성을 도시하는 정면도.
도 12는 본 발명의 제4 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 온습도 제어의 상태를 설명하기 위한 특성도.
도 13은 본 발명의 제5 실시예에 관련되는 기체 정화 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도.
도 14는 본 발명의 제5 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 기체 정화 유닛의 일부를 단면으로 한 사시도.
도 15는 본 발명의 제5 실시예에 관련되는 기체 정화 장치에 있어서의 기체 정화 유닛의 다른 예를 도시하는 단면도.
도 16은 본 발명의 제6 실시예에 관련되는 기체 정화 장치의 개략 구성을 도 시하는 단면도.
도 17은 본 발명의 제7 실시예에 관련되는 기체 정화 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도.
도 18은 본 발명의 제8 실시예에 관련되는 기체 정화 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도.
이하, 본 발명을 구체화한 제1 ~ 제8 실시예에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다. 덧붙여, 제2 ~ 제8 실시예에 있어서는, 제1 실시예와의 상이점에 대해서만 설명하고, 동일 또는 상당 부재에는 동일한 부호를 부여하고 설명을 생략한다.
우선, 제1 실시예에 대하여, 도 1 ~ 도 5를 참조하여 설명한다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 기체 정화 장치(Z)는, 반도체 웨이퍼의 세정 장치(X)에 부설되어 있다. 당해 세정 장치(X)로부터 덕트(D1, duct)를 통하여 배출된 비청정 공기(W')는 정화 장치(X)에서 청정화되어, 재생 공기(W)로 된다. 이 재생 공기(W)는, 덕트(D2)를 통하여 다시 세정 장치(X)로 공급된다. 덧붙여, 부호 F는 세정 장치(X)로의 공기 공급부로 되는 천장부에 위치를 정하여 설치된 고성능 필터를 구비한 팬 필터 유닛을 나타낸다.
상기 기체 정화 장치(Z)는, 내부에 덕트(D1)로부터 덕트(D2)에 이르는 공기 통로(Q)를 가진다. 당해 공기 통로(Q) 내에는, 흡착 제거 장치(B)와, 기체 정화 유닛(A)이 위치를 정하여 설치되어 있다. 흡착 제거 장치(B)는 비청정 공기(W') 중의 오염 물질을 흡착하는 것과 함께, 재생 처리에 의하여 흡착한 오염 물질을 이탈하는 재생 가능한 흡착 부재(9)를 가진다. 기체 정화 유닛(A)은 흡착 제거 장치(B)의 전단(前段) 측에 직렬로 배치되고, 다공질막을 통하여 기액 접촉을 행하는 것에 의하여 비청정 공기(W') 중의 오염 물질을 액체 중으로 분리 제거한다. 본 실시예에 있어서는, 정화 유닛(A) 및 제거 장치(B)를 전 공기가 통과하도록 구성되어 있다. 덧붙여, 부호 C는 청정 공기(W)를 압송(壓送)하기 위한 팬(fan)을 나타낸다.
도 2에 도시하는 바와 같이, 상기 정화 유닛(A)은, 순수를 저류(貯留)하는 탱크(1)와, 당해 탱크(1) 내에 가설된 다공질막(예를 들면, PTEF 다공막)으로 이루어지는 다수의 파이프(2)에 의하여 구성되어 있다. 그리고 상기 파이프(2) 내로 비청정 공기(W')가 공급된다. 덧붙여, 본 실시예에 있어서는, 이 정화 유닛(A)은, 파이프(2)를 상하 방향을 향하게 한 상태에서 2단으로 배치된다.
또한, 상기 탱크(1)에는, 순수를 순환시키는 통로(3)와, 당해 순환 통로(3)로 새로운 순수를 공급하는 급수(給水) 통로(4)와, 당해 순환 통로(3)로부터 사용이 끝난 순수를 배수(排水)하는 배수로(5)가 부설되어 있다. 덧붙여, 부호 6은 순수 순환용의 펌프이다. 그리고 이 순환 통로(3)의 도중에는, 순수의 온도를 제어하는 기구로서 작용하는 열교환기(7)가 위치를 정하여 설치되어 있다. 순수의 온도는 열교환기(7)로의 냉수 공급량을 제어하는 것에 의하여 제어된다. 그 결과, 기체 정화 유닛(A)을 통과하는 공기의 온도 및 습도의 조정이 행하여진다.
도 3에 도시하는 바와 같이, 정화 유닛(A)에 있어서는, 파이프(2)의 미소 구멍(8)에 의하여 비청정 공기(W')에 포함되는 수용성 가스(G)(예를 들면, 암모니아 등)의 유출과 수증기(S)의 유입이 허용되지만, 물방울의 통과는 저지된다. 따라서, 비청정 공기(W') 중의 오염 물질인 수용성 가스(G)가 분리 제거되어 청정 공기(W)가 얻어진다. 또한, 이 청정 공기(W)는 미소 구멍(8)으로부터 도입되는 수증기에 의하여 가습된다.
또한, 상기 정화 유닛(A)은, 순수를 저류하는 탱크(1)와, 당해 탱크(1) 내에 가설된 다공질막으로 이루어지는 다수의 파이프(2)를 다단 배치로 콤팩트하게 구성하였기 때문에, 저압손이며 효율적인 공기 청정화를 도모할 수 있다.
도 4는 정화 유닛(A)의 별례를 도시한다. 이 정화 유닛(A)은 다공질막(예를 들면, PTEF 다공막)으로 이루어지는 복수의 막 엘리멘트(29)를 적층한 것이고, 이들 막 엘리멘트(29)를 통하여 순수와 비청정 공기(W')가 기액 접촉한다. 각 막 엘리멘트(29)는, 수지재로 일체 형성된 얇은 두께이고 또한 긴 직사각형 형상의 지지 틀(30)의 개구부(開口部, 31)에 평면 형상의 다공질막(32)을 펼쳐 설치하여 구성되어 있다. 그리고 상하로 적층된 한 쌍의 막 엘리멘트(29)로 막 유닛(U)이 구성되어 있다. 각 막 유닛(U)에 있어서의 막 엘리멘트(29) 사이에는, 순수 통로(33)와, 다공질막(32)과 직교하는 방향으로 비청정 공기(W')가 유통하는 공기 통로가 각각 형성되어 있다. 또한 인접하는 막 유닛(U)의 다공질막(32) 사이는 스페이서(34)에 의하여 간격이 유지되고, 공간(35)이 형성되어 있다. 덧붙여, 부호 36은, 순수의 유통구, 37은 순수의 입구, 38은 순수의 출구이다.
상기의 정화 유닛(A)에 있어서는, 하방(下方)의 입구(37)로부터 도입된 순수와, 순수 통로(33)를 하방으로부터 상방(上方)으로 지그재그상으로 흐르고, 상방의 출구(38)로부터 배출된다. 이 유통 과정에 있어서, 순수는 공기 통로를 흐르는 비청정 공기(W')와 막 엘리멘트(29)를 통하여 기액 접촉하고, 비청정 공기(W') 중의 오염 물질이 순수 중으로 분리 제거된다. (따라서, 순수 중의 농도 분포에 변경이 생기고, 결과적으로 순수는 통로(33) 내를 사행(蛇行)하도록 흐른다.) 따라서, 통로(33)의 경로 길이가 길어지기 때문에, 순수의 흐름의 진행과 함께 그 흐름 상태가 서서히 난류 상태로 된다. 이것에 의하여 순수 통로(33)의 중앙 부분만을 흐르는 수량이 감소하는 것에 대응하여, 통로(33)의 외주부(外周部)를 구성하는 다공질막(32)의 근방을 흐르는 수량이 증가한다.
그 결과, 단위 유량당의 순환 수량이 동일하다고 가정하면, 순수와 접촉하는 다공질막(32)의 면적이 증가한다. 따라서, 비청정 공기(W') 중에 있어서의 오염 물질의 순수로의 용해 작용이 촉진되고, 나아가서는 정화 유닛(A)의 오염 물질 제거 효율이 향상한다. 이 때문에, 콤팩트하고 작업 효율이 높은 정화 유닛(A)이 얻어진다.
또한, 이 정화 유닛(A)의 경우에도, 도 2의 경우와 마찬가지로 순수의 순환로(3) 및 순환로(3)에 접속된 흡수로(4) 및 배수로(5), 나아가서는 순수 순환용의 펌프(6), 열교환기(7)가 부설되어 있다.
도 5에 도시하는 바와 같이, 흡착 제거 장치(B)에 있어서의 흡착 부재는, 기체가 유통 가능한 다공질 구조의 물질(예를 들면, 소수성 제올라이트)로 이루어지 는 허니콤 로터(9)를 포함한다. 허니콤 로터(9)는, 그 둘레면과 모터(10)의 출력축 사이에 벨트(11)가 걸쳐지고, 축심(J)을 중심으로 회전된다.
제거 장치(8) 내에는 공기(W, W')의 유통에 대응하여, 비청정 공기(W')를 청정화하는 청정화 처리 위치(P1)와, 허니콤 로터(9)에 흡착한 오염 물질을 이탈시키는 재생 처리 위치(P2)와, 허니콤 로터(9)를 냉각하는 냉각 처리 위치(P3)가 미리 설정되어 있다. 허니콤 로터(9)는, 그 축심(J)이 이들 3개의 위치(P1, P2, P3)의 중심이 되도록 배치되어 있다. 허니콤 로터(9)가 저속도로 연속적으로 회전하는 것에 의하여, 허니콤 로터(9)가 각 위치(P1, P2, P3)를 순서대로 통과한다.
이와 같이, 허니콤 로터(9)를 모터(10)에 의하여 회전 구동하는 것에 의하여, 허니콤 로터(9)를, 청정화 처리 위치(P1), 재생 처리 위치(P2) 및 냉각 처리 위치(P3)로 연속적으로 변위시킬 수 있기 때문에, 정화 장치의 조업성이 보다 향상한다.
허니콤 로터(9)는, 세라믹지 등의 내수성, 내수 증기성을 가지는 재료에 소수성 제올라이트를 수성 디스퍼션(dispersion)의 함침(含浸)에 의하여 부착하여, 가열 건조하는 것에 의하여 얻어진다. 이 처리에 의하여 벽면으로부터 다수의 통기 구멍이 축심 방향으로 평행 관통하여 연장되는 허니콤 형상으로 형성된다. 허니콤 로터(9)의 통기 구멍의 내주(內周) 벽면은 소수성 제올라이트를 주성분으로 하고, 통기 구멍 내를 유통하는 기류에 대하여 소수성 제올라이트가 유효하게 접촉 할 수 있다. 제올라이트는 암모니아 등에 대하여 뛰어난 흡착 성능을 가지고 있다. 덧붙여, 허니콤 로터(9)는, 2종류 이상의 흡착재를 공기 유통 방향에 있어서 다단으로 적층하여 구성하여도 무방하다.
세정 장치(X)로부터 덕트(D1)(도 1)를 통하여 보내지는 비청정 공기(W')의 유로(L1)는, 청정화 처리 위치(P1)에 면하여 개구되어 있다. 취출 유로(L2)는 허니콤 로터(9)를 사이에 두고 당해 유로(L1)와 대향하는 위치에 개구되어 있다. 허니콤 로터(9)를 통과한 공기는 취출 유로(L2)에 설치된 처리 팬(12)에 조세(助勢)되어 하류 측으로 보내지고, 필터류(13)에 의하여 공기 중의 먼지가 제거된다. 필터류(13)를 통하여 얻어진 청정 공기(W)는 덕트(D2)를 통하여 세정 장치(X, 도 1 참조)로 보내진다. 또한, 처리 팬(12)과 필터류(13)의 사이로부터 분기(分岐)된 안내로(L3)를 통하여 허니콤 로터(9)를 통과한 공기의 일부가 냉각용 공기로서 냉각 처리 위치(P3)로 안내된다.
또한 상기 안내로(L3)의 개구에 대하여 허니콤 로터(9)를 사이에 두고 대향하는 위치에는, 냉각 처리 위치(P3)를 나온 공기를 재생 처리 위치(P2)로 유도하는 유로(L4)가 개구하고 있다. 안내로(L3)로부터 허니콤 로터(9)를 거쳐 보내진 공기는, 유로(L4)를 통하여 히터(14)로 보내진다. 히터(14)에서 가열된 공기는, 유로 (L5)를 통하여 재생 처리 위치(P2)로 보내진다.
허니콤 로터(9)를 사이에 두고 유로(L5)의 개구와 대향하는 위치에 개구하는 유로(L6)에는, 배기 팬(15)이 설치되어 있다. 또한, 유로(L1)를 흐르는 비청정 공기(W')의 일부는, 분기 유로(L7)를 통하여 유로(L6)로 보내지고, 배기가 원활하게 행하여진다. 덧붙여, 재생 처리 위치(P2)에서 허니콤 로터(9)를 통과한 열풍은, 통상 외부로 배기되지만, 도 1에 가상선으로 도시하는 바와 같이, 재생 배기의 일부 또는 전부를 상기 기체 정화 유닛(A)의 급기부로 리턴(return)시키는 통로(16)를 설치하도록 하여도 무방하다. 이와 같이 하면, 고가이고 고품질의 공기(즉 청정 공기)를 배기하지 않아도 되는 점으로부터, 한층 더 에너지 절약을 도모할 수 있다.
상기 구성의 본 실시예에 있어서는, 다음과 같은 작용 효과를 가져온다.
본 실시예에 있어서는, 공기가 유통하는 공기 통로(Q) 내에, 비청정 공기(W') 중의 오염 물질을 흡착하는 것과 함께, 재생 처리에 의하여 흡착한 오염 물질을 이탈하는 재생 가능한 흡착 부재(9)를 가지는 흡착 제거 장치(B)와, 다공질막을 통하여 기액 접촉을 행하는 것에 의하여 비청정 공기(W') 중의 오염 물질을 액체 중으로 분리 제거하는 기체 정화 유닛(A)이 위치를 정하여 설치되어 있다.
따라서, 기체 정화 유닛(A)에 있어서, 비청정 공기(W') 중의 오염 물질이 다공질막을 통하여 기액 접촉하는 액체 중으로 분리 제거되는 것과 함께, 흡착 제거 장치(B)에 있어서, 공기 중의 유기 오염 물질이 흡착 부재(9)에 흡착되어 청정 공기(W)로 된다. 따라서, 수용성의 오염 물질은 기체 정화 유닛(A)에서 분리 제거되는 것과 함께, 유기 오염 물질은 흡착 제거 장치(B)에서 흡착 제거되어, 공기의 청정화 효율이 현저하게 향상한다. 또한, 기체 정화 유닛(A) 및 흡착 제거 장치(B)는, 함께 연속 사용이 가능한 점으로부터, 교환의 필요가 없어지고, 정화 유닛(A)의 조업성도 향상한다.
본 실시예에 있어서는, 정화 유닛(A)을 흡착 제거 장치(B)의 상류 측에 동 장치(B)와 직렬로 배치하고 있다. 이 때문에, 세정 장치(X)로부터 덕트(D1)를 통하여 보내진 비청정 공기(W') 중의 오염 물질이, 정화 유닛(A)의 다공질막으로 이루어지는 파이프(2)를 통하여 순수 중으로 분리 제거된다. 그 후, 제거 장치(B)에 있어서, 공기 중의 화학적 오염 물질이 허니콤 로터(9)에 흡착되어 청정 공기(W)로 되어, 세정 장치(X)로 보내진다. 따라서, 상술의 효과에 더하여, 제거 장치(B)에서의 오염 물질의 흡착량이 큰 폭으로 감소하기 때문에, 재생에 요하는 에너지를 절감할 수 있다.
또한, 제거 장치(B)에 있어서, 비청정 공기(W')를 청정화하는 위치(P1)와, 흡착한 오염 물질을 이탈시키는 위치(P2)로 흡착 부재(9)를 변위시키고, 위치(P2)에 있어서, 흡착 부재(9)로부터 오염 물질을 이탈시킨다. 따라서, 흡착 부재(9)로의 오염 물질의 흡착, 흡착 부재(9)로부터의 오염 물질의 이탈이 흡착 부재(9)의 변위에 의하여 원활하게 행할 수 있게 되어, 조업성이 향상한다. 덧붙여, 본 실시예에 서는, 흡착 부재는 소수성 제올라이트로 이루어지는 허니콤 로터(9)를 포함하고, 모터(10)가 이 허니콤 로터(9)를 회전시켜 변위시킨다.
또한, 흡착 부재(9)를 통과하여 얻어진 청정 공기(W)의 일부를 흡착 부재(9)의 재생 처리용 공기로서 이용하는 것과 함께, 당해 재생 처리에 의하여 얻어지는 재생 배기의 일부 또는 전부를 상기 기체 정화 유닛(A)의 급기부로 리턴시키는 통로(16)를 설치하였다. 따라서, 고가이고 고품질의 청정 공기를 배기하는 것 없이, 한층 더 에너지 절약을 도모할 수 있다.
또한, 정화 유닛(A)을, 순수를 저류하는 탱크(1), 및 당해 탱크(1) 내에 가설된 다공질막으로 이루어지는 다수의 파이프(2)로 구성하고 있다. 따라서, 다단 배치에 의한 콤팩트한 정화 유닛(A)으로 되고, 저압손이며 효율적인 공기 청정화를 도모할 수 있다.
또한, 정화 유닛(A)을, 다공질막으로 이루어지는 막 엘리멘트(29)를 적층하여 구성하고, 이들 막 엘리멘트(29)를 통하여 순수와 비청정 공기(W)를 접촉시킨다. 따라서, 적층된 막 엘리멘트(29)를 통하여 기액 접촉에 의하여 비청정 공기(W') 중의 오염 물질이 순수 중으로 분리 제거되게 되어, 콤팩트하고 고효율의 기체 정화 유닛(A)이 얻어진다.
또한, 순수의 온도를 제어하는 온도 제어 기구(7)를 부설하는 구성으로 하고 있기 때문에, 기체 정화 유닛(A)을 통과하는 공기의 온습도 조정을 행할 수 있다.
다음으로, 제2 실시예에 대하여, 도 6을 참조하여 설명한다.
본 실시예에 있어서는, 세정 장치(X)의 세정 배수를 정화 유닛(A)의 탱크(1) 내로 공급하는 물 통로(17)를 설치하고 있다. 물 통로(17)에는 역침투막 모듈(18)과, 동 모듈(18)에서 얻어진 농축수를 제거 장치(B)의 재생 배기로 기화시켜 배기하는 기구(19)가 배치되어 있다. 이와 같이 하면, 세정 장치(X)의 세정 배수를 정화 유닛(A)의 탱크(1) 내에 저류하는 순수로서 사용할 수 있어, 자원을 절약할 수 있다.
다음으로, 제3 실시예에 대하여, 도 7을 참조하여 설명한다.
본 실시예에 있어서는, 제2 실시예와 마찬가지로 세정 장치(X)의 세정 배수를 정화 유닛(A)의 탱크(1) 내로 공급하는 물 통로(17)를 설치한 것이다. 물 통로(17)에는 세정 장치(X)의 최종 세정 시에만 물 통로(17)를 탱크(1)에 대하여 연통(連通)시키는 삼방 밸브(20)가 배치되어 있다. 이와 같이 하면, 세정 장치(X)의 최종 세정 배수(즉 린스수)만이 정화 유닛(A)의 탱크(1) 내로 순수로서 저류되기 때문에, 에너지 절약화를 도모할 수 있다.
다음으로, 제4 실시예에 대하여, 도 8 내지 도 12를 참조하여 설명한다.
본 실시예에 있어서는, 제거 장치(B)에 있어서 허니콤 로터(9)의 회전 각도(혹은 회전 속도)는 모터(10)의 출력축에 배치한 회전 각도 센서(21, 혹은 속도 센서)에서 검출된다. 상기 허니콤 로터(9)의 재생 배기 중의 유기물 농도는 유기물 농도 센서(22)에서 검출된다. 정화 유닛(A)에 있어서의 순수 중의 이온 농도는 이온 농도 센서(23)에서 검출된다. 청정 공기(W)의 온도는 온도 센서(24)에서, 청정 공기(W)의 습도는 습도 센서(25)에서 각각 검출된다. 그리고 이들 센서(21 ~ 25)에 의하여 검출된 값에 기초하여 제어 장치(26)가 소정의 연산 처리를 행한다. 제 어 장치(26)는 연산 결과에 기초하여 정화 유닛(A)에 있어서의 순환로(3)의 펌프(6), 제거 장치(B)에 있어서의 모터(10), 제거 장치(B)에 있어서의 냉각 처리 위치(P3)로 냉각풍을 공급하는 댐퍼(27, damper)를 구동 제어한다. 덧붙여, 부호 28은 제거 장치(B)의 출구 측에 있어서 청정 공기(W)를 재가열하기 위한 재열 히터이다.
재생 배기 중의 유기물 농도에는 기준값 1과, 이것보다 낮은 기준값 2가 설정되어 있다. 기준값 1은 재생 배기 중의 유기물 농도가 허용 범위를 상회하고, 유기물을 보다 적극적으로 제거할 필요가 있는 임계값이다. 유기물 농도 센서(22)의 검출값이 기준값 1을 상회하면, 제어 장치(26)는 모터(10), 즉 허니콤 로터(9)를 보다 고속으로 회전시켜, 재생 배기 중의 유기물의 흡착을 한층 촉진한 후, 재생 처리 또는 냉각 처리로 이행한다.
한편, 기준값 2는 재생 배기가 재생 처리, 냉각 처리에 사용됨에 있어서, 유기물 농도가 지장이 되지 않는 값에 가까운 것을 나타낸다. 유기물 농도 센서(22)의 검출값이 기준값 2에 달하지 않으면, 제어 장치(26)는 모터(10), 즉 허니콤 로터(9)의 회전 속도를 저하시켜 에너지 절약 모드로 운전하여, 재생 처리 또는 냉각 처리로 이행한다.
덧붙여, 유기물 농도 센서(22)의 검출값이 기준값 1과 기준값 2의 사이에 있을 때는, 허니콤 로터(9)는 그 회전 속도를 유지한 채로 재생 처리 또는 냉각 처리로 이행한다. 제어 장치(26)는 도 9에 도시하는 플로차트에 따라 배수 제어를 실행한다.
스텝 S1에 있어서 이온 농도 센서(23)에 의한 검출값과 설정값의 비교가 이루어진다. 스텝 S1에 있어서 이온 농도 ≤ 설정값으로 판정된 경우에는, 스텝 S2에 있어서 탱크(1) 내의 순수는 순환로(3)를 통하여 순환된다. 스텝 S1에 있어서, 이온 농도 > 설정값으로 판정되면, 스텝 S3에 있어서 배수로(5)로부터 사용이 끝난 순수가 배출되고, 급수로(4)로부터 새로운 순수가 공급되어, 순수의 재생이 행하여진다. 환언하면, 이온 농도 센서(23)의 검출값에 기초하여 순수의 순환량 및 급배수량이 제어된다. 그 결과, 순수 내의 오염 물질의 축적도에 따라, 순수의 순환 이용이나 급배수 제어가 행하여져 효율적인 공기 청정화를 행할 수 있다.
또한, 제어 장치(26)는 도 10에 도시하는 플로차트에 따라 배기 제어를 실행한다.
스텝 S10에 있어서, 회전 각도 센서(회전 속도 센서, 21)의 검출값에 기초하여 허니콤 로터(9)의 회전 인터벌(혹은 회전 속도)의 초기 설정이 행하여지고, 스텝 S12에 있어서, 재생 배기의 배출이 개시된다. 이 후, 스텝 S13에 있어서, 유기물 농도 센서(22)의 검출값과 기준값 1의 비교가 이루어지고, 여기에서, 검출값 > 기준값 1로 판정되면, 스텝 S14에 있어서, 허니콤 로터(9)의 회전 인터벌을 작게 하거나 혹은 회전 속도를 크게 한다. 그 후, 스텝 S17에서, 허니콤 로터(9)가 설정 인터벌로 각도 θ 회전되거나 혹은 설정 속도로 회전된 후, 스텝 S12로 리턴된다. 도 11에 도시하는 바와 같이, 상기 각도 θ는, 허니콤 로터(9)에 있어서의 재생 처리 위치(P2) 및 냉각 처리 위치(P3)의 형성 각도이다.
스텝 S13에 있어서, 검출값 ≤ 기준값 1로 판정되면, 스텝 S15에 있어서, 검출값과 기준값 2의 비교가 이루어진다. 여기에서, 검출값 < 기준값 2로 판정되면, 스텝 S16에 있어서, 허니콤 로터(9)의 회전 인터벌을 크게 하거나 혹은 회전 속도를 작게 하는 제어가 이루어진 후에 스텝 S17로 진행한다.
스텝 S15에 있어서, 검출값 ≥ 기준값 2로 판정되면, 스텝 S17로 진행한다. 여기에서, 기준값 1 > 기준값 2로 된다.
즉 유기물 농도가 기준값 1과 기준값 2의 사이에 있을 때는, 허니콤 로터(9)는, 설정된 회전 인터벌 혹은 회전 속도로 회전 구동되지만, 기준값 1을 넘거나, 기준값 2 미만으로 되면, 그 상태에 대응한 회전 인터벌 혹은 회전 속도로 회전 구동된다. 이와 같이, 본 실시예에 있어서는, 허니콤 로터(9)의 회전 각도 혹은 회전 속도를 검출하는 회전 각도 센서(혹은 속도 센서, 21)의 검출값에 기초하여 허니콤 로터(9)의 회전 속도를 제어한다. 따라서, 허니콤 로터(9)에 의한 오염 물질의 흡착 및 오염 물질의 이탈을 효율 좋게 행할 수 있다.
또한, 유기물 농도 센서(22)의 검출값에 기초하여 허니콤 로터(9)의 회전 인터벌 혹은 회전 속도를 제어하도록 하고 있기 때문에, 허니콤 로터(9)로의 오염 물질의 축적도에 따른 빈도로 허니콤 로터(9)의 재생 처리를 행할 수 있어, 한층 더 에너지 절약 운전이 가능하게 된다.
다음으로, 청정 공기(W)의 온습도를 일정하게 유지하는 제어에 대하여, 도 12를 참조하여 설명한다.
정화 유닛(A)을 통과하는 공기의 상태 K1은, 근사적으로 습구 온도가 일정한 상태 변화(즉 상태 K4를 향하여 변화)를 나타내고, 허니콤 로터(9)를 통과하는 직전의 상태 K2로 된다. 허니콤 로터(9)에서의 흡착 반응(수분이나 화학 물질을 흡착)에 의하여, 온도가 약간 올라가고(Tb → Tc), 습도가 약간 내려간다(Hb → Ha). 나아가, 재생용 히터(14)의 열에 의하여 현열이 상승(Tc → Ta)하여, 상태 K1'로 된다. 즉 허니콤 로터(9)에서의 습도 저하분(Hb → Ha)을 캔슬하도록, 정화 유닛(A)의 수온을 상태 K1의 공기의 이슬점 온도 To ~ 습구 온도 Tr의 사이에서 제어하고, 정화 유닛(A)에서의 냉각과 허니콤 로터(9)에서의 흡착 발열의 차분(Ta - Tc)을 재생 히터(14)로부터 얻어지도록, 댐퍼(27)에 의하여 냉각 풍량을 제어한다(경우에 따라서는, 냉각을 행하지 않고, 재열 히터(28)에서 한층 더 가열한다). 상기와 같이 하는 것에 의하여, 상태 K1과 상태 K1'를 동일하게 할 수 있다. 이들 제어량을 적당히 변경하면, 청정 공기(W)의 온습도를 임의로 제어할 수 있다.
즉 본 실시예에 있어서는, 허니콤 로터(9)를 냉각하는 냉각풍의 풍량을 제어하는 풍량 제어 기구를 설치한 것에 의하여, 얻어지는 청정 공기(W)의 온습도 조정을 행할 수 있다.
다음으로, 제5 실시예에 대하여, 도 13 ~ 도 15를 참조하여 설명한다.
본 실시예에 있어서는, 정화 장치(Z)가 부설되는 장치(X)로서, 반도체 웨이퍼를 반송하는 반송 로봇(R)을 구비한 웨이퍼 이재기가 채용되고 있다. 웨이퍼 이 재기(X)의 저부(底部)에는, 이재기(X)에 있어서 오염된 비청정 공기(W')의 일부를 배출하는 배기구(40)가 형성되어 있다.
이 정화 장치(Z)는, 내부에 공기가 유통하는 덕트(D1)로부터 덕트(D2)에 이르는 공기 통로(Q)를 가지고 있다. 공기 통로(Q) 내에는, 비청정 공기(W') 중의 오염 물질을 흡착하는 것과 함께, 재생 처리에 의하여 흡착한 오염 물질을 이탈하는 재생 가능한 흡착 부재(9)를 가지는 흡착 제거 장치(B)와, 제거 장치(B)의 상류 측에 동 장치(B)와 직렬로 배치되고, 또한 다공질막에 의하여 비청정 공기 중의 오염 물질을 액체 중으로 분리 제거하는 정화 유닛(A)이 위치를 정하여 설치되어 있다.
여기에서, 본 실시예에 있어서는, 상기 정화 유닛(A)은, 상기 공기 통로(Q)를 유통하는 공기의 일부(예를 들면, 대략 반량)가 통과할 수 있도록 구성되어 있다. 따라서, 정화 유닛(A)의 과도의 가습을 억제할 수 있게 되어, 온습도 조정을 용이하게 행할 수 있다. 덧붙여, 부호 41은 정화 장치(Z)의 저부에 형성된 급기구, C는 청정 공기(W)를 압송하기 위한 팬이다.
또한, 도 13에 가상선으로 도시하는 바와 같이, 재생 배기의 일부 또는 전부를 기체 정화 유닛(A)의 상기 급기구(41) 등으로 리턴시키는 통로(16)를 설치하고, 청정 공기의 배기를 회피하여 에너지 절약을 도모할 수 있다.
본 실시예의 정화 유닛(A)은 제1 실시예의 정화 유닛에 대하여 약간의 변경을 가한 것이다. 즉 도 14, 도 15에 도시하는 바와 같이, 기체 정화 유닛(A)에 있 어서, 순수의 순환로(3)에는, 순환수를 재생하도록 자외선 램프나 역침투막으로 이루어지는 물 재생 기구(42)가 배치되어 있다. 이와 같이 하면, 순수를 배수하지 않고 순환 이용할 수 있어, 에너지의 유효 이용을 도모할 수 있다.
다음으로, 제6 실시예에 대하여, 도 16을 참조하여 설명한다.
본 실시예에 있어서는, 이 실시예는 제5 실시예에 있어서의 정화 장치(Z)에 변경을 가한 것이다. 즉 공기 통로(Q)에 있어서, 기체 정화 유닛(A)을, 당해 흡착 제거 장치(B)의 하류 측에 당해 흡착 제거 장치와 직렬로 배치한 것이다. 이와 같이 하면, 급기에 포함되는 외부 유래의 NOx, SOx, 암모니아 등의 수용성 가스가 상류 측의 정화 유닛(A)에서 처리된다. 따라서, 콤팩트하고 효율이 좋은 오염 물질 제거가 가능하게 된다. 덧붙여, 정화 유닛(A)은, 급기만이 통과할 수 있도록 구성하여도 무방하지만, 급기와 순환 공기의 양방이 통과할 수 있도록 구성하여도 무방하다.
상기의 구성에 있어서도 상기 실시예와 같은 효과를 발휘한다.
또한, 제거 장치(B)는, 흡착 부재(9)의 조성에 따라서는 극성 물질(예를 들면, 유기 오염 물질)을 효율 좋게 흡착할 수 있지만, 처리 공기의 습도가 높으면, 습분을 우선적으로 흡착하여 흡착 제거 효율이 저하하는 경우가 있다. 그러나 본 실시예에 있어서는, 제거 장치(B)의 하류 측에 다공질막을 통하여 기액 접촉을 행하는 정화 유닛(A)을 배치하고 있기 때문에, 특히, 극성 유기 오염 물질을 고효율로 제거하는 경우, 정화 유닛(A)의 가습 기능에 의하여 제거 장치(B)의 제거 효율이 떨어지는 일이 없다.
또한, 본 실시예에 있어서도, 상술의 제5 실시예의 경우와 마찬가지로, 재생 배기의 일부 또는 전부를 정화 유닛(A)으로 리턴시키는 통로(16)를 설치하여, 청정 공기의 배기를 회피하면, 에너지 절약을 도모할 수 있다.
다음으로, 제7 실시예에 대하여, 도 17을 참조하여 설명한다.
본 실시예는, 제6 실시예의 일부를 변경한 것이다. 즉 흡착 제거 장치(B)는 공기 통로(Q)를 유통하는 공기의 일부(예를 들면, 대략 반량)가 통과할 수 있도록 형성되어 있다.
상기한 바와 같이, 통로(Q)를 유통하는 공기 일부가 제거 장치(B)를 통과할 수 있기 때문에, 비청정 공기(W') 중에 포함되는 오염 물질의 조성에 있어서, 유기 오염 물질이 수용성 가스보다도 적은 경우에 유효하게 된다.
다음으로 제8 실시예에 대하여, 도 18을 참조하여 설명한다.
본 실시예에 있어서는, 흡착 제거 장치(B)는 공기 통로(Q)를 유통하는 공기의 전부가, 또한 기체 정화 유닛(A)은 공기의 일부(대략 반량)가 통과하도록 구성되어 있다. 따라서, 제5 실시예와 마찬가지로, 정화 유닛(A)의 과도의 가습을 억제할 수 있게 되어, 온습도 조정을 용이하게 행할 수 있다.
또한, 본 실시예에 있어서도, 제거 장치(B)의 하류 측에 정화 유닛(A)을 배치하고 있기 때문에, 제6 실시예와 같은 효과를 가져온다.
이상, 본 발명을 실시예에 입각하여 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 이하와 같이 변경하여도 무방하다.
상기 각 실시예에 있어서는, 기체 정화 장치(Z)가 부설되는 장치(X)를 세정 장치 혹은 웨이퍼 이재기를 예로 설명하였지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 포토레지스트(photoresist) 도포 현상 장치 등의 기판 처리 장치나 미니인바이런먼트(EFEM) 등을 채용하는 것도 가능하다.

Claims (17)

  1. 오염 물질을 포함하는 기체를 정화하기 위한 기체 정화 장치이고,
    공기의 통로(Q) 내에, 비청정 공기(W') 중의 오염 물질을 흡착하는 것과 함께, 재생 처리에 의하여 흡착한 오염 물질을 이탈하는 재생 가능한 흡착 부재(9)를 가지는 흡착 제거 장치(B)와, 다공질막을 통하여 기액 접촉을 행하는 것에 의하여 비청정 공기(W') 중의 오염 물질을 액체 중으로 분리 제거하는 기체 정화 유닛(A)이 위치를 정하여 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기체 정화 유닛(A)은, 상기 흡착 제거 장치(B)의 상류 측에 있어서, 당해 흡착 제거 장치와 직렬로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기체 정화 유닛(A)은, 상기 흡착 제거 장치(B)의 하류 측에 있어서, 당해 흡착 제거 장치와 직렬로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기체 정화 유닛(A)을, 상기 공기의 통로(Q) 내를 유통하는 공기의 일부가 통과할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 흡착 제거 장치(B)를, 상기 공기의 통로(Q) 내를 유통하는 공기의 일부가 통과할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 흡착 제거 장치(B)는, 비청정 공기(W')를 청정화하는 청정화 처리 위치(P1)와, 흡착한 오염 물질을 이탈시키는 재생 처리 위치(P2)로 흡착 부재(9)를 변위시키는 변위 수단과, 재생 처리 위치(P2)에 있어서 흡착 부재(9)로부터 오염 물질을 이탈시키는 재생 처리 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 흡착 부재는, 소수성 제올라이트(zeolite)로 이루어지는 허니콤(honeycomb) 로터(9)에 의하여 이루어지고, 상기 변위 수단은 당해 허니콤 로터(9)를 회전 구동하는 모터(10)에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 흡착 부재(9)를 통과하여 얻어진 청정 공기(W)의 일부를 흡착 부재(9) 의 재생 처리용 공기로 이용하는 것과 함께, 당해 재생 처리에 의하여 얻어지는 재생 배기의 일부 또는 전부를 상기 기체 정화 유닛(A)의 급기부로 리턴(return)시키는 통로(16)를 설치한 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    상기 허니콤 로터(9)를 냉각하는 냉각풍의 풍량을 제어하는 풍량 제어 기구를 설치한 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  10. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 허니콤 로터(9)의 회전 각도 또는 회전 속도를 검출하는 센서(21)를 가지고, 당해 센서(21)의 검출값에 기초하여 허니콤 로터(9)의 회전 속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 허니콤 로터(9)의 재생 배기 중의 유기물 농도를 검출하는 유기물 농도 센서(22)를 가지고, 당해 유기물 농도 센서(22)의 검출값에 기초하여 허니콤 로터(9)의 회전 속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기체 정화 유닛(A)은, 순수(純水)를 저류(貯留)하는 탱크(1)와, 당해 탱크(1) 내에 가설된 다공질막으로 이루어지는 다수의 파이프(2)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  13. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기체 정화 유닛(A)은, 다공질막으로 이루어지는 막 엘리멘트(29)를 적층하여 이루어지고, 당해 막 엘리멘트(29)를 통하여 순수와 비청정 공기(W')가 접촉하는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 순수의 온도를 제어하는 온도 제어 기구(7)를 가지는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  15. 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기체 정화 유닛(A)을 순환하는 물을 재생하는 물 재생 기구(42)를 가지는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  16. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 순수로서, 상기 기체 정화 장치에서 얻어진 청정 공기(W)가 공급되는 장치(X)의 배수(排水)를 사용한 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
  17. 제12항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 순수를 순환시키는 순수 순환 수단(3)과, 당해 순수 순환 수단(3)에 새로운 순수를 급수(給水)하는 순수 공급 수단(4)과, 당해 순수 순환 수단(3)으로부터 사용이 끝난 순수를 배수하는 순수 배출 수단(5)을 부설하는 것과 함께, 상기 순수 중의 이온 농도를 검출하는 이온 농도 센서(23)를 부설하고, 당해 이온 농도 센서(23)의 검출값에 기초하여 상기 순수의 순환량 및 급배수량을 제어하는 것을 특징으로 하는 기체 정화 장치.
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