JP5369363B2 - 有害物質除去装置 - Google Patents
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Description
図1には、本願発明の実施形態に係る有害物質除去装置Zを、クリーンルーム内に設置された半導体洗浄装置Xの空気循環系に組み、上記半導体洗浄装置Xにおいて発生した有害物質(ガス成分)を含む汚染空気A2を上記有害物質除去装置Zに導入し、ここで上記汚染空気A2から有害物質を除去してこれを清浄空気A3として上記半導体洗浄装置X側へ還流させるようにしたシステムの全体構成を示している。
第1の制御例は、上記蓋開閉センサ41を用いた制御である。即ち、図1に示すように、上記半導体洗浄装置Xの処理層7には蓋8が備えられているが、この蓋8は、図6に示すように、洗浄作業が所定サイクル(例えば、1サイクル 140sec)で繰り返して行なわれる場合、サイクル毎に開蓋と閉蓋が行なわれる。そして、開蓋状態では、処理層7の洗浄液L中へのワークWの出し入れ作業が行なわれ、その期間はサイクル初期の20sec程度である。また、閉蓋状態では、洗浄液L中に浸漬されたワークWの洗浄が行なわれ、その期間はサイクル終期の約120sec程度である。
第2の制御例は、上記ガス濃度センサ42を用いた制御である。即ち、図1に示すように、上記半導体洗浄装置Xの排気室5内に上記ガス濃度センサ42を配置し、該ガス濃度センサ42によって上記排気室5内における汚染空気A2の有害物質濃度を直接検知し、この検知信号を上記制御器40に出力し、該制御器40からの制御信号に基づいて上記下流側バルブ35の開度調節を行なうものである。
第3の制御例は、上記イオン濃度センサ43を用いた制御である。即ち、図1に示すように、上記有害物質除去装置Zの上記水管路27における下流側管路27b部分にイオン濃度センサ43を配置し、該イオン濃度センサ43によって上記除去ユニット25から流出する水32における有害物質の水中イオン濃度を直接検知し、この検知信号を上記制御器40に出力し、該制御器40からの制御信号に基づいて上記下流側バルブ35の開度調節を行なうものである。
この実施形態では、上記各制御例に記載のように、上記除去ユニット25において有害物質が溶解して劣化した水32を、側有害物質除去装置Z側において再生することなく外部へ排出するようにしているが、この排水形態としては、排水を連続的に行なう形態と、排水を間欠的に行なう形態とが考えられる。
2 ・・微粒子フィルター
3 ・・吸気室
4 ・・処理室
5 ・・排気室
6 ・・多孔隔壁
7 ・・処理層
8 ・・蓋
9 ・・給気口
10 ・・排気口
11 ・・上流側空気管路
12 ・・下流側空気管路
13 ・・ファン
20 ・・筐体
21 ・・導入口
22 ・・上流室
23 ・・下流室
24 ・・導出口
25 ・・除去ユニット
26 ・・多孔膜エレメント
27 ・・水管路
28 ・・枠体
29 ・・多孔膜
30 ・・ファン
31 ・・水タンク
32 ・・水
33 ・・給水管
34 ・・上流側バルブ
35 ・・下流側バルブ
40 ・・制御器
41 ・・蓋開閉センサ
42 ・・ガス濃度センサ
43 ・・イオン濃度センサ
A1 ・・給気
A2 ・・汚染空気
A3 ・・清浄空気
G ・・有害物質ガス
V ・・排水量調整手段
X ・・半導体洗浄装置(有害物質発生源)
Z ・・有害物質除去装置
Claims (5)
- 気体の透過を許容し、水の透過を阻止する性状をもつ多数の多孔膜を所定間隔で積層し、隣接する多孔膜間にそれぞれ形成される多数の空隙部を、交互に水通路と空気通路とし、上記多孔膜を挟んで水(32)と、洗浄液(L)が貯留された処理層(7)を備えた半導体洗浄装置(X)において発生する有害物質で且つ水に対する溶解性を有する物質であるフッ酸、塩酸、硫酸、硝酸、アンモニア、過酸化水素を含む汚染空気(A2)とを対向させて流し、該多孔膜を透過した上記汚染空気(A2)中の上記有害物質を上記水(32)に溶解させて除去するようにした複数個の多孔膜エレメント(26)を上下方向に多段に積層するとともに、該各多孔膜エレメント(26)内の水通路を直列接続してなる除去ユニット(25)を備え、
さらに該除去ユニット(25)より高位置に設けた水タンク(31)からの水(32)を水ポンプを使用することなく水のヘッド差により上記除去ユニット(25)の複数個の多孔膜エレメント(26)内の水通路へ向けて順次直列的に流すとともに該除去ユニット(25)よりも下流側において外部へ排水するように構成されており、
上記水(32)の排水量を、上記半導体洗浄装置(X)における有害物質の発生量に対応して調整する排水量調整手段(V)が備えられていることを特徴とする有害物質除去装置。 - 請求項1において、
上記有害物質の発生量を、上記半導体洗浄装置(X)内の上記汚染空気(A2)における有害物質濃度で検知するように構成されていることを特徴とする有害物質除去装置。 - 請求項1又は2において、
上記排水量調整手段(V)として制御器(40)からの制御信号によって開閉動作が制御される電磁式のバルブ(35)が設けられていて、上記制御器(40)からの制御信号により、上記処理層(7)の蓋(8)の開いているときには排水量を多くし、蓋(8)が閉じているときには排水量を少なくするように、上記バルブ(35)の開度を制御するようにされていることを特徴とする有害物質除去装置。 - 請求項1〜3の何れかにおいて、
上記水(32)の排水を連続的に行なうことを特徴とする有害物質除去装置。 - 請求項1〜3の何れかにおいて、
上記水(32)の排水を間欠的に行なうことを特徴とする有害物質除去装置。
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