TWI300837B - An apparatus for purifying gas - Google Patents

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13〇〇837 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關氣體清淨裝置，進一步詳細而言，有關 以獲得供給至潔淨室之清淨氣體之氣體清淨裝置。 【先前技術】 LCD基板或半導體晶圓等類之基板係於清淨空氣中施、 液處理或熱處S。目此，潔淨室内之空氣錢體清淨裝置 清清淨之後，還流至潔淨室。 一般而言，氣體清淨裝置具備吸附氨成分等污染物質之 化學過滤器。然而，於化學過滤器内，污染物質隨著時門 經過而蓄積。因此，化學過滤器去除該污染物質之能力; 低，一般而言使用壽命短Q故，於氣體清淨裴置必須交換 化學過滤器，導致使用成本高潘。又，於化學過渡器^ 時’亦具有必須使系統全體停止的不便。 、 為了對應上述不便，特開·卜咖⑼號公報係揭示— 種可連續使用之氣體清淨裝置，其係經由多孔質膜 接觸，將氣體中之水溶性污染物質在液體（例如：純水: t離去除者。’然而，此氣液接觸型之氣體清淨裝置雖 々使用’但無法去除非水溶性之有機污染物質。又 裝置，純水經由多孔質膜氧化，濕度上升。 、泣 :二寺開·2·93⑽號公報係揭㈠ 石所組成之蜂寫狀轉子之氣體清淨裝置。此氣 如可=化學吸附構件之再生需要高二 上）的π淨風體，超過必要以上地需要能量， 100764-970425.doc 1300837 在經濟面不利。 【發明内容】 本發明之目的在於提供一鍤可呀七丨、 九 捉仏種可谋未省能源效果及提升污 “物質去除效率之氣體清淨裝置。 為了達成上述目的，本發明之氣體清淨裝置之特徵在於 用以清淨含有污染物質之氣體；於空氣通路内配設有：吸 除裝置：其具有可再生之吸附構件，其係吸附非清淨 、氣中之污木物貝，並且藉由再生處理將吸附之污染物質 脫離者；及氣體清淨單元，豆#錄 、 八係左由多孔質膜進行氣液接 觸，以便於液體中將非、、杳、審处#山 ”非，月子空軋中之污染物質分離去除 者0 藉由如此地構成，於氣體清淨單元，非清淨空氣中之污 染物質經由多孔質膜而分離於氣液接觸之液體中，並且於 吸附去除裝置’空氣中之有機污染物質吸附於吸附構件，、 成為清淨空氣。因土卜，士、、六#、一 a ,, /合性a禾物質係於氣體清淨 分離去除，並且右嬙、、亡汰i 〆 有桟/可木物貝係於吸附去除裝置吸 除’顯著提升空教之、生、容几 开孔之π平化效率。又，氣體清淨單元及吸 附去除裝置均可連續使用 〜使用因此無須交換，操作性亦提 开0 口又土氣體清淨單元可於該吸附去除裝置之上游側，與該 吸附去除裝置串聯地配置。夢 、… 4肖由如此地構成，於氣體清淨 …氣中之污染物質經由多孔質膜而分離去除 氣液接觸之液體中，其後於吸附去除裝置，已通過 淨單元之空氣_之污染物質吸附於吸附構件，成為 100764-970425.doc 1300837 氣。因此，水溶性污染物質係於氣體清淨單元分解去除， 已通過氣體清淨單元之污染物質係於吸附去除裝置吸附去 除，空氣之清淨化效率顯著提升，並且於吸附去除裝置B 之污染物質之吸附量大幅減少，因此可節省再生所兩之处 量。又，氣體清淨單元及吸附去除裝置均可連續使用，因 此無須交換，操作性亦提升。 又，氣體清淨單元可於該吸附去除裝置之下游側，與該 ，吸附去除裝置串聯地配置。藉由如此地構成，非清淨空氣 通過吸附去除裝置之過程，空氣中之有機污染物質吸附於 吸附構件，其後於氣體清淨單元，已通過吸附去除裝置之 空氣中之污染物質經由多孔質膜而分離去除氣液接觸之液 體中，成為清淨空氣。目此，有機污染物質係於吸附去除 裝置吸附去除，已通過吸附去除裝置之水溶性污染物質係 於氣體清淨單元分離去除，空氣之清淨化效率顯著提升。 又，氣體清淨單元及吸附去除裝置均可連續使用，因此無 | 須又換，操作性亦提升。又，以高效率去除極性有機污染 物貝之h況，氣體清淨單元之加濕機能不致損及吸附去除 裝置B之去除效率。 【實施方式】 以下，參考圖式說明有關將本發明具體化之第一〜第八 貝施5L恶。再者，於第二〜第八實施型態，僅說明與第一 貝知型恶之相異點，同一或相當之構件係表示相同符號並 省略說明。 首先，參考圖1〜圖5，說明有關第一實施型態。 100764-970425.doc 1300837 如圖上所示，氣體清淨裝置2附設於半導體晶圓之 置X。從該洗淨裝置X細 〃 九 y 、 、、二由泠官D1所排出之非清淨空氣w， 係於洗淨裝置x清淨化，並成為清淨空氣（再生之空氣） w此β Ή现經由導管D2，再度供給至洗淨裝置 ”再二付唬F係表不風扇過濾器單元，#係具備對於洗 :衣置X之空氣供給部之配設於天井部之高性能過滤器 牙。 _ :述*1體清淨裝置2係、於内部具有從導管DJ導管〇2之 工：通：Q。於4空氣通路q内，配設吸附去除裝置B及氣 立：爭單元A吸附去除裝置B具有可再生之吸附構件9， 其係吸附非清淨空氣W，中之污染物質，並且藉由再生處理 ^吸附之污染物質脫離者。氣體清淨單Μ係串聯地配置 於吸附去除裝置Β之前段側，經由多孔質膜進行氣液接 觸以便將非清淨空氣w，之污染物質在液體中分離去除。 於本貫施型態，以所有空氣通過之方式構成氣體清淨單元 _ A及吸附去除裝置B。再者，符號c係表示用以壓送清淨空 氣W之風扇。 圖2所示，則述氣體清淨單元A係藉由儲存純水之槽1 及，設於該槽1内之多孔質膜（例如·· PTEF多孔膜）所組成 之夕數官2所構成。而且，非清淨空氣w，供給至前述管2 内。再者，於本實施型態，此氣體清淨單元A係在管2朝向 上下方向之狀態下配置為2段。 又於七述管1，附設有··使純水循環之循環通路3 ;將 新的純水供給至該循環通路3之供給通路4 ;及從該循環通 100764-970425.doc 1300837 =使用過之純水排出之排水路5。再者，符號6為純水 i而且’於此循環通路3之中it，配設作為控 制砘水溫度之溫度控制機 A傅,叻邗用之熱交換态。純水溫

度係精由控制對於熱交換器之冷水供給量而控制… 果’調整通過氣體清淨單元A之空氣之溫度及濕度。… 如圖3所示’於氣體清淨單元A，從管2之微小孔8,允許 工札W所含之水溶性氣體（例如：氨等）g之流出及 水蒸氣S之流人，自阻止水滴通過。因此，將非清淨空氣 W’中之污染物質之水溶性氣體砂離去除，獲得清淨空氣 W。又’此清淨空氣W係藉由從微小孔8所導入之水蒸氣加 Ο、、、 X ’由於前I氣體清淨單元A係將儲#純水之槽1及架設 、 於该槽1内之多孔質膜所組成之多數管2配置多段，以小型 地構成’因此能以低壓損謀求有效的空氣清淨化。 圖4係表示氣體清淨單元A之其他例。此氣體清淨單元a 馨 係層疊多孔質膜（例如·· PTEF多孔膜）所組成之複數膜元件 29，經由此等膜元件29，純水及非清淨空氣％，係氣液接 觸。各膜元件29係於以樹脂材料一體形成之薄壁且長矩形 形狀之支撐框30之開口部31，張設平面形狀之多孔質膜32 „ 所構成。而且，由上下層疊之1對膜元件29,構成膜單元 U。於各膜單元u之膜元件29之間，於純水通路33及與多 孔質膜32正交之方向，分別形成非清淨空氣w，所流通之空 氣通路。又’鄰接之膜單元U之多孔質膜32間，藉由間隔 物34保持間隔，形成空間35。再者，符號36為純水之流通 < -s 100764-970425.doc 1300837 口，37為純水之入口，38為純水之出口。 於上述氣體清淨單元A，從下太 從下下方入口37所導入之純水係 -下方住上方’鋸齒狀地流於純水通路33，從上 口 3㈣出。於此流通過程，純水係經由膜元件29,旬… 乳=之非清淨空氣W，進行氣液接觸，非清淨空氣 >可染物質在純水中分離去除。 中 佈產生變更，…水係二 於純水中之濃度分 又更-果、、、屯水係虫匕行於純水通路33内 因此，由於純水通路33之路彳i ^ _ | 之杆、隹甘+ . 仏長鉍大，因此隨著純水水流 丁進’其流動狀悲逐漸成為、、六 μ ^ . /爪狀悲。因此，對應於僅 机於純水通路33之中央部分之走旦 1里 路33之外夕 之水里減少，流於構成純水通 路33之外周部之多孔質膜32附近之水量增加。 其結果，若假設每單位希 垃總+々 之擔^水量相同，則盥純水 接觸之多孔質膜32之面積择 /、、、、屯水 中之污半物質對於U / S 口此’促進非清淨空氣W， 元A之、、兮汰私新丄 用進而&升氣體清淨單 ’木貝去除效率，故可獲得 氣體清淨單元A。 生丑作菜效率鬲之 又，於此氣體清淨單元A之彳主v k 附Μ皮μ 之^兄’與圖2之情況相同，亦 附认純水之循環通路 排水路進m 騎通路3之供給通路4及 構7之熱交換器 純水循環用之果6、作為溫度控制機 通Si所多V/附去除裝置B之吸附構㈣包含由可流 通孔抓之夕孔質構造物質 窩狀轉子。蜂窩狀韓子筏 4水性沸石)所組成之蜂 掛有皮帶⑴以轴心心旋轉。4之輸出轴之間 l00764-970425.doc <5 -11 - 1300837 於吸附去除裝置B内，對岸 對應於工亂w、w，之流通，預先 將非、/月淨空氣％’清淨化之清淨化處理位置Pl、使吸附 狀轉子之污染物質脫離之再生處理位置 =子之冷卻處理位置P3。蜂寫狀轉子係配置為其轴心 J成為此專3個/立署Ρ ΎΛ ^ 低，… Μ之中心。蜂离狀轉子藉由以 速連岐轉’蜂窩狀轉子依序通過各位置Pl、p2、p。 狀^遠Γ利用馬達Μ旋轉驅動蜂窩狀轉子，可使蜂寫 =子，地變位至清淨化處理位置P!、再生處理位置P2 理位置p3 ’因此更提升清淨裝置之操作性。 蜂窩狀轉子係藉由在陶窨祕笼且古β ^ 隹闹无紙4具有耐水性、耐水蒸氣性 4 ’利用水性分散液之含浸而將疏水性滞石附著，並 加熱乾燥以獲得。藉由此處理，形成多數通氣孔從壁面往 方向平行貫通延伸之蜂寫形狀。蜂寫狀轉子之通氣孔 之内周壁面係以疏水性沸石盔± 由q Ά生石為主成分，對於流通於通氣孔 之…疏水性彿石可有效地接觸。沸石係對於氨等具 k異之吸附性能。再者，蜂窩狀轉子係於空氣流通方 向，將2種以上之吸附材料多段地層疊而構成。 從洗淨裝置x經由導管叫圖υ所輸送之非清淨空氣心 流路Ll係臨向清淨化處理位置ρ,而開口。取出流路L2係於 ^者蜂寫狀轉子而與該流路L*對向之位置開口。通過蜂窩 狀轉子之空氣係由設於取出流路L2之處理風扇12所助勢， 达至下游侧’空氣t之塵埃藉由過遽器類13而粗略筛取。 類13所取得之清淨空氣W係經由D2而送至洗淨 衣'考圖”。又，經由從處理風扇12與過濾器類13之 I00764-970425.doc 12- 1300837 間分支之導引叫而通過蜂窩狀轉子之空氣之一部分係作 為冷卻用空氣科5丨至冷卻處理位置p” 又’於對於财述導引路“之開口隔著蜂窩狀轉子對向之 位置，將離開冷卻處理位置?3之空氣導引至再生處理位置 p2之流路Μ開口。從導引路L3經過蜂寫狀轉子而輸送之 空乳係㈣流路L4㈣至加熱器14。以加熱心加孰後之 空氣係經由流路L5而駐再生處理位置p2。 於隔著蜂寫狀轉子而與流路L5之開口對向之位置開口之 流路l6’設有排氣風扇15。χ，流於流 :r:r經由分支一至心 排再者，於再生處理位置p2，通過蜂W轉子之熱風 通吊在外部排氣，但如於圖1以假想線所示。亦可設置使 再生排氣之-部分或全部回流往前述氣體清淨單元:之供 氣部之通路16。若如此’無須將昂貴且高品質之空氣(亦 即清淨空氣）排氣即可，可謀求進一步省能源。 /、 於上述構成之本實施型態，產生如其次之作用效果。 於本實施型態’於流通空氣之空氣通路Q内配設有吸 附去除裝置B，其具有可再生之吸附構 淨空氣”之污染物質，並且藉由再生:理^吸附非清 工外埋將吸附之污逛 者；錢體清淨單元A’其係經由多孔質膜進： : = 以便將非清淨空氣W·中之污染物質在液體中分 因此’於氣體清淨單itA，非清淨空氣w，中之㈣物質 係經由多孔質膜分離去除於氣液接觸之液體中，並且於吸 100764-970425 .doc -13- 1300837 附去除表置B ’空氣中之有機污染物質吸附於吸附構件$而 成為清淨空氣W。因此，水溶性污染物質係於氣體清淨單 元A分離去除，並且有機污染物質係於吸附去除裝置6吸 附去除，空氣之清淨化效率顯著提升。又，氣體清淨單元 A及吸附去除裝置B均可連續使用，因此無須交換，氣體 清淨單元A之操作性亦提升。

於本貫施型態，氣體清淨單元A係於吸附去除裝置b之 上游側，與同吸附除去裝置B串聯地配置。因此，從洗淨 裝置X經由導管D i輸送之非清淨空氣w，中之污染物質係經 由氣體清淨單元A之多孔質膜所組成之管2，在純水中分離 去除。其後，於吸附去除裝置B，空氣中之化學污染物質 吸附於蜂窩狀轉子，成為清淨空氣W，並送至洗淨裝置 X。因此，除了上述效果，於吸附去除裝置B之污染物質 之吸附量大幅減少，因此可節省再生所需之能量。 ^又，於吸附去除裝置B，使吸附構件9變位到將非清淨空 U清淨化之位置Ρι及使吸附之污染物質脫離之位置p2， 於位置P2 ’使污染物質從吸附構件9脫離。因&，藉由吸 附、β染物質從吸附構件9之脫離，操作性提升。再者， :::施型態’吸附構件9包含由疏水性彿石所組成之蜂 W。子’變位機構係使此蜂窩狀轉子旋轉並變位之馬達 入 ㈣過吸附構件9所獲得之清淨空氣w之一部分/ 為吸附構件9 $至4 + 再生處理用空氣而利用，並且設置通ί 100764-970425.4 1300837 全部回产至生處理所獲得之再生排氣之-部分或 ^机至厨述氣體清淨單元Α之供氣部者。因此，不致 =貝^品質之清淨Μ排氣，可謀求進_步省能源。 :存純水之槽1及架設於該槽1内之多孔質膜所組 配^ ^2’構成氣體清淨單元Α。因此，成為藉由多段 清= :】、型氣體清淨單元Α’可謀求低壓損且有效之空氣 炙體巧'爭單7Α係層疊多孔質膜所組成之膜元件29 而成，、經由此等膜元件29，使純水與非清淨空氣w,接觸。 ：用經由層疊之膜元件29之氣液接觸，非清淨空氣 之>可染物質在純水中分離去除，獲得小型且高效率之 氣體清淨單元A。 又由於構成係附設控制純水溫度之溫度控制機構7， 口此可週整通過氣體清淨單元A之空氣之溫濕度。 八人參考圖6說明有關第二實施型態。 於本實施型態設置水通路17，其係將洗淨裝置χ之洗淨 排水供給至氣料淨單元Α之槽Μ者。於水通路17配設 =:逆參透之用的膜模組18;及機構19，其係以吸附去除 U B之再生排氣’使同膜模組⑻斤獲得之濃縮水氣化並 排氣者。如此的話，可將洗淨裝置乂之洗淨排水作為儲存 於氣體清淨單元A之槽丨内之純水使用，達成省資源。 其二人’參考圖7說明有關第三實施型態。 於本實施型態，與第二實施型態相同，設置水通路丨7， 其係將洗淨裝置X之洗淨排水供給至氣體清淨單元A之槽i 100764-970425.doc 1300837 内者。於水通路17設置三方閥20，其係僅於洗淨裝置又之 最、、洗淨時，使水通路丨7對於槽丨連通者。如此的話，只 有洗淨I置Χ之最終洗淨排水（亦即洗淨水），於氣體清淨 單元Α之槽1内作為純水儲存，因此可謀求省資源。 其次，茶考圖8〜圖12，說明有關第四實施型態。 於本貫施型態，在吸附去除裝置B係以配置於馬達1〇之 • 輸出軸之旋轉角度感測器或旋轉速度感測器21，檢測蜂窩 φ 狀轉子之碇轉角度（或旋轉速度）。前述蜂窩狀轉子之再生 排氣中之有機物濃度係以有機物濃度感測器22檢測。氣體 清淨單元A之純水中之離子濃度係以離子濃度感測器23檢 測。π淨空氣w之溫度係以溫度感測器24檢測，清淨空氣 之/”、、度係以濕度感測器2 5檢測。而且，根據此等感測器 21〜25所檢測之值，控制裝置26進行特定運算處理。控制 I置26係根據運算結果，驅動控制氣體清淨單元a之循環 路3之泵6、吸附去除裝置B之馬達10、對於吸附去除裝置 馨 B之冷卻處理位置I供給冷卻風之風門27。再者，符號μ 係於吸附去除裝置B之出，，用以將清淨空氣w再加熱 之再熱加熱器。 再生排氣中之有機物濃度設定有基準值丨及比此低之基 - 準值2基準值1係再生排氣中之有機物濃度超過容許範 圍，需要更積極地去除有機物之臨界值。若有機物濃度感 測器22之檢測值超過基準值i，控制裝置％使馬達ι〇，亦 即蜂窩狀轉子更高速旋轉，進一步促進再生排氣中之有機 物吸附之後，轉移至再生處理或冷卻處理。 100764-970425.doc -16- 1300837 另一方面，基準值2係表示再生排氣使用於再生處理、 冷部處理時，有機物濃度接近不構成妨礙之值。若有機物 濃度感測器22之檢測值未達基準值2，控制裝置％使馬達 10，亦即蜂窩狀轉子之旋轉速度降低，以省能源模式運 轉，並轉移至再生處理或冷卻處理。 再者，有機物濃度感測器22之檢測值在基準值i與基準 值之間時蜂窩狀轉子維持其旋轉速度並轉移至再生處

理或冷卻處理。控制裝置26按照圖9所示之流程圖執行排 水控制。 於步驟S1，比較經由離子濃度感測器23之檢測值及設定 值。於步驟S1，判斷離子濃度g設定值之情況，於步驟 S2，槽1内之純水經由循環路3循環。於步驟s 1，若判斷離 子濃度>設定值，於步驟83，使用過之純水從排水路”非 出，新的純水從供給通路4供給，進行純水再生。換言 之，根據料濃度❹Ij||23之檢測值，控龍水之循環量 及供水、排水1。其結果，按照純水内之污染物質之積存 程度，進行純水之循環利用及供水、排水控制，可有效進 行空氣清淨化。 又，控制裝置26係按照圖1〇所示之流程圖執行排氣栌

制。 I 於步驟㈣，根據旋轉角度感測器或旋轉速度感測㈣ 之檢測值’進行蜂窩狀轉子之旋轉間隔（或旋轉速度）之初 始設定，於步驟Sl2, 始再生排氣之排出。此後，於步 驟S13比有;^物濃度感測器22之檢測值及基準值1，在 100764-970425.doc 17 1300837 早’右判斷檢測值〉基準值1，於步驟su，縮小蜂寫狀轉 ^轉間隔或加大旋轉速度。其後，於步驟川，蜂寫 狀轉子以設定間隔旋轉角度㊀或以設定速度旋轉之後，回

Ul2°如圖U所示’前述角度㊀為蜂窩狀轉子之再生 處理位置P2及冷卻處理位置P3之形成角度。 人於步驟S13 ’若判斷檢測值<基準值i，於步驟川，比較 ^利值及基準值2。在此，若判斷檢測值 <基準值2，於步

輝川，進打加大蜂窩狀轉子之旋轉間隔或縮小旋轉速度 之控制之後，前進至步驟s 17。 於步驟S15’若判斷檢輸基準值2,前進至步驟⑴。 在此’基準值1>基準值2。 、、心p之，有機物濃度在基準值丨與基準值2之間時，蜂窩 狀轉子係以没定之旋轉間隔或旋轉速度旋轉驅動，但若基 準值1超過或未滿基準值2,以對應於其狀態之旋轉間隔或 ㈣速度旋轉㈣。如此’於本實施型態’根據檢測蜂寫 狀轉子之疑轉角度或旋轉速度之旋轉角度感測器或旋轉速 度感測器21之檢測值，控制蜂窩狀轉子之旋轉速度。因 此，可有效藉由蜂窩狀轉子進行污染物質之吸附或污染物 質之脫離。 又，由於根據有機物濃度感測器22之檢測值控制蜂窩狀 轉子之紋轉間隔或旋轉速度，因此能以按照污染物質對於 蜂窩狀轉子之積存程度之頻率，進行蜂窩狀轉子之再生處 理’實現進一步之省能源運轉。 其次，參考圖12說明有關將清淨空氣w之溫濕度保持在 100764-970425.doc -18 - 1300837 一定之控制。 通過軋體清淨單元A之空氣之狀態κ!係表示渔球溫度近

似一定之狀態變化（亦即往狀態I之變化），是正要通過蜂 窩狀轉子之狀態K2。由於在蜂窩狀轉子之吸附反應（吸附 水刀或化學物質），温度若干上升Tc)，濕度若干下降 (Hb Ha)。並且，由於再生用之加熱器14之熱，顯熱上升 (Tc~> Ta)，成為狀態Kl’。總言之，以取消蜂窩狀轉子之濕 度降低分（Hb—Ha)之方式，將氣體清淨單元Α之水溫控制 在狀怨K!之空氣之露點溫度τ〇〜溼球溫度Tr之間，以從加 熱為14獲付氣體清淨單元八之冷卻與蜂窩狀轉子之吸附發 熱^相i部分（Ta-Tc)之方式，、經由風門27控制冷卻風量 (按照情況’不進行冷卻，以再熱加熱㈣進—步加熱）。 藉由如上述，可使狀態Κι與狀態&，相同。若適當改變此 等抆制里，可任意控制清淨空氣W之溫濕度。 w之溫濕度調整 亦即’於本實施型態，藉由設置控制冷卻蜂窩狀轉子之 :卻風之風量之風量控制機構，可進行所獲得之清淨空氣 其-人’麥考圖13〜圖15，說明有關第五實施型能。 於本實施型態，作為附設有氣體清淨裝置z之^淨裝置 X ’採用具備搬送半導體曰圊 + ¥體曰曰®之搬送機器人R之晶圓移載 袖：。於晶圓移载機之底部， 形成將移載機内污染之非清淨 工軋W，之一部分排出之排氣口 40。 此氣體清淨裝置Z且右你由m + 八有攸内部流通空氣之導管Dl至導管 2之工氣通路Q。於空翁g 矾通路Q内係配設有··吸附去除裝 100764-970425.doc -19- ·(. 5 1300837 置B ’其具有可再生之吸附構件9，其係吸附非清淨空氣w， 中之污染物質，並且藉由再生處理，將吸附之污染物質脫 離者；及氣體清淨單it A，其係於吸附去除裝置β之上游 側，與同吸附除去裝置B串聯地配置，並且藉由多孔質 膜’在液體中將非清淨空氣中之污染物f分離去除者。

在此’ ^本實施型態’前述氣體清淨單元讀、構成為泣 通於前述空氣通路Q之空氣之一部分（例如：大致—半量j 可通過。因此，可控制氣體清淨單元A之過度加濕，可里容 易進行溫濕度調整。再者，符號41為形成在氣體清淨農置 Z之底部之供氣口 ’ c為用以壓送清淨空氣狀風扇。 产又，如圖13之假想線所示’設置通路16，其係使再生排 氣之-部分或全部回流往氣體清淨單元A之前述供氣口 41 等者，亦可避免清淨空氣排氣，謀求省能源。 本實施例之氣體清淨單元對於第—實施型態之清淨 單元施加若干變更者。亦即，如圖14、15所示，於氣體清 淨單元A，在純水之循環通路3,應再生循環水，故配置由 紫外線燈或逆渗透膜所組成之水再生機構42。如此的話， 不致將純水排出，可循環㈣，謀切效利用能量。 其次’苓考圖16說明有關第六實施型態。 於本實施型態’此實施型態係於第五實施型態之氣體清 淨裝置Z施加變更。亦即於空氣通路Q，在該吸附去除裝 置（B)之下游側，將氣料料“與該㈣去除裝置串聯 地配置。b此的話，含於供氣之來自外部之Ν〇χ、s〇x、 氨等水溶性氣體將於上游側之氣體清淨單元A處理。因 100764-970425.doc -20- 1300837 此，可小型地形成，並效率良好地去除污染物質。再者， 氣體清淨單元A亦可只有供氣通過而形成，但亦可供氣及 循環氣體雙方可通過而形成。 於上述構成，亦發揮與前述實施型態相同之效果。 又，按照吸附構件9之組成，吸附去除裝置B可效率良好 地吸附極性物質（例如··有機污染物質），但若處理溫度 高，會出現優先吸附濕氣，吸附去除效率降低之情況。= 而’於本實施型態、，由於在,及附去除裝置B之下游側配置 經由多孔質膜進行氣液接觸之氣體清淨單元A，因此特別 是在以高效率去除極性有機污染物質之情況，不致由於= 體π淨單7L A之加濕機能而損及吸附去除裝置B 率。 方I示效 又’於本實施型態，與上述第 ，、上江弟五實細型態之情況相同， :=1’其係使再生排氣之-部分或全部回流往氣體 、二一，若避免清淨空氣排氣，可謀求省能源。 ”二人，芩考圖17說明有關第七實施型態。 本實施型態係變更第六實施型態之人 除裝置B係槿出或、ή 刀’亦即吸附去 丨矛戒罝Β係構成為流通於空氣通路 $ 云 如：大致—半量）可通過。 工虱一部分（例 如上述，由於流通於空氣通路卩之咖 吸附去除震置β，因此於非清淨空氣一部分可通過 組成，對於有機性污染物質比水溶 3之μ物質之 其次’參考圖―有關第八實施：:少之情況有效。 於〜’—構一空“ 100764-970425.doc -21 - 1300837 路Q之空氣之全部通過，而氣體清淨單元A係構成為空氣 之一部分（大致一半量）通過。因此，與第五實施型態相 同可抑制氣體清淨單元A之過度加濕，容易進行溫濕度 調整。 皿/”、、又 又，於本實施型態，由於在吸附去除裝置B之下游側配 置氣體清淨單元A，因此亦發揮與第六實施型態相同的效 果。 > 、以上，依據實施型態說明本發明，但本發明不限定於上 述貫施型態，亦可如以下變更。 _於上述各實施型態、，以洗淨裝置X或晶圓移載機為例， ϋ兄明附设有氣體清淨裝置z之洗淨裝置，但不限定於此， 亦可抓用光阻塗布顯影裝置等基板處理裝置或微 (EFEM)等。 兄 【圖式簡單說明】 圖1係表示關於本發明之第一實施型態之氣體清淨裝窨 之概略構成之剖面圖。 圖2係表示以關於本發明之第一實施型態之氣體清淨 置之氣體清序單^之_部分作為剖面之立體圖。 、 圖3係表示關於本發明之第一實施型態之氣體清淨裝 之氣體清淨單元之說明圖。 圖4係表示本發明之第—實施型態之氣體清淨裝 5 體清淨單％之其他例之剖面圖。 乳 圖5係表示關於本發明之第―實施型態之氣體清淨 之吸附去除裝置之圖。 、夏 100764-970425.doc -22· 1300837 圖6係表示關於本發明之第二實施型態之氣體清淨裝置 - 之概略構成之剖面圖。 .圖7係表示關於本發明之第三實施型態之氣體清淨裝置 之概略構成之剖面圖。 ； 圖8係表示關於本發明之第四實施型態之氣體清淨裝置 之概略構成圖。 圖9係表不關於本發明之第四實施型態之氣體清淨裝置 • <氣體清淨單元之排水控制之内容之流程圖。 圖1〇係表不關於本發明之第四實施型態之氣體清淨裝置 之吸附去除裝置之排氣控制之内容之流程圖。 #圖u係表示構成關於本發明之第四實施型態之氣體清淨 • 、置之吸附去除&置之蜂寫狀轉子之概略構成之正面圖。 / 12係為了說明關於本發明之第四實施型態之氣體清淨 裝置之温濕度控制之態樣之特性圖。 圖係表不關於本發明之第五實施型態之氣體清淨裝置 • 之概略構成之剖面圖。 回尸久 冑關於本發明之第五實施型態之氣體清淨裝 體清淨單元之-部分作為剖面之立體圖。 .::=r…實施型㈣趙清.㈣ 二=:::發明之第七實之氣趙清淨裝置 100764-970425.doc -23- 1300837 圖1 8係表示關於本發明之第八實施型態之氣體清淨裝置 之概略構成之剖面圖。

【主要元件符號說明】 1 槽 2 管 3 循環通路 4 供給通路 5 排水路 6 泵 7 溫度控制機構 8 微小孔 9 吸附構件 10 馬達 11 皮帶 12 處理風扇 13 過濾器類 14 加熱器 15 排氣風扇 16 通路 17 水通路 18 膜模組 19 機構 20 三方閥 21 旋轉角度感測器或旋轉速度感測器 100764-970425.doc -24- 1300837

22 有機物濃度感測器 23 離子濃度感測器 24 溫度感測器 25 濕度感測器 26 控制裝置 27 風門 28 再熱加熱器 29 膜元件 30 支撐框 31 開口部 32 多孔質膜 33 純水通路 34 間隔物 35 空間 36 流通口 37 入口 38 出口 40 排氣口 41 供氣口 42 水再生機構 A 氣體清淨單元 B 吸附去除裝置 C 風扇 D i、D 2 導管 100764-970425.doc -25- 1300837

F

G

J

Li、L4、L5、L6 12

13 l7 Q Pi P2 P3 R S X z w w， 風扇過濾器單元 水溶性氣體 轴心 流路 取出流路 導引路 分支流路 空氣通路 清淨化處理位置 再生處理位置 冷卻處理位置 搬送機器人 水蒸氣 洗淨裝置 氣體清淨裝置 清淨空氣 非清淨空氣 100764-970425.doc -26-

Claims (1)

1. I3〇〇837 十、申請專利範圍： 1 · 種氧體清淨裝置，其特徵在於用以清淨含有污染物質 之氣體；

   於二氣通路（Q)内配設有：吸附去除裝置（B)，其 具有可再生之吸附構件（9 )，其係吸附非清淨空氣 (w)中之污染物質，並且藉由再生處理將吸附之污染 物質脫離者；及氣體清淨單元（A)，其係經由多孔質 臈進行氣液接觸，以便於液體中將非清淨空氣（W，）中 之污染物質分離去除者。 如明求項1之氣體清淨裝置，其中前述氣體清淨單元 (A)係於前述吸附去除裝置（B)之上游側，與該吸附 去除裝置串聯地配置。 其中前述氣體清淨單元 (B )之下游側，與該吸附 3 ·如請求項1之氣體清淨裝置 (A)係於前述吸附去除裝置 去除裝置（B )串聯地配置。 4·如請求項1至3中任一項之氣體渣> 、、n抑- 礼體/月乎裝置，其中前述氣體 /月淨早元（A )之構成方式炎、、古 > 式為"IL通於前述空氣通路（Q) 内之二乳之一部分可通過。 其中前述吸附去除裝置 $氣通路（Q)内之空氣 5·如請求項3之氣體清淨裝置， (B)之構成方式為流通於前述 之一部分可通過。 去除裝置（B)包含·〜 ，衣置，其中丽述 變mm、·- 其錢吸附構件 到將非清淨空心，）清淨化之清淨化處理 100764-970425.doc 1300837 (Ρι )、及使吸附之、、兮汰 (P2 )者；及再 木質脫離之再生處理位置 叹丹生處理#振 7. (P2)，使污染…叹，其係於再生處理位置 如請求項6之氣體二構：(9)脫離者。 包含含有疏水性彿石之蜂离:中前述吸附構件⑺係 含旋轉驅動該蜂寫狀韓 #子’别述變位設備係包 8· 伴咼狀轉子之馬達（10)。 如請求項1至3中任一 員之氣體清淨裝置，Α中將 述吸附構件（9)所雜h太 中將通過則 斤&侍之清淨空氣（W)之一部分作為 吸附構件（9 )之A w 丨刀作為 处理用空氣而利用，並且設置使 =再生處理所獲得之再生排氣之一部分或全部回流 到“氣體清淨單元（A)之供氣部之通路（Μ)。 9·如:月求項7之氣體清淨裝置，其中設置風量控制機構， 其係控制將前述蜂窩狀轉子冷卻之冷卻風之風量者。 10·如請求項7之氣體清淨裝置，其中具有檢測前述蜂寫狀 轉、之疑轉角度或方疋轉速度之旋轉角度感測器或旋轉速 度感測器（21 )，根據該旋轉角度感測器或旋轉速度感 測器（21)之檢測值控制蜂窩狀轉子之旋轉速度。 Π·如請求項1〇之氣體清淨裝置，其中具有檢測前述蜂窩狀 轉子之再生排氣中之有機物濃度之有機物濃度感測器 (22 根據該有機物濃度感測器（22 )之檢測值控制 前述蜂窩狀轉子之旋轉速度。 12.如請求項1至3中任一項之氣體清淨裝置，其中前述氣體 清淨單元（A )包含：槽（1 )，其係儲存純水者；及多 數管（2 )，其係架設於該槽（1 )内，由多孔質膜所組 100764-970425.doc 1300837 成者。 13.!請:“1至3中任一項之氣體清淨裝置，其中前述氣體 清淨單A ( A)係層疊多孔質膜所組成之臈元件（ 而成，純水及非清淨空氣（W’）係經由此等臈元件 (29)接觸。 14·如凊求項12之氣體清淨裝置，其中具有控制前述純水溫 度之溫度控制機構（7 )。 15·如請求項12之氣體清淨裝置，其 τ，、有將循裱於前述氣 體、;月淨單“Α)之水再生之水再生機構（42)。 16·如請求们2之氣體清淨裝置，其中作為前述純水者，係 使用供給有以此氣體清淨裝置所獲得之清淨 之洗淨裝置（X)之排水。 π·如請求項12之氣體清淨 m ^ . 具中附设··循環通路 ()，其係使前述純水循環者；供給通路（4) 對於該循環通路（3 ) # "" … r 供…新的純水者，·及排出路 * s )排出使用過之純水者； 亚且附設離子濃度感測器 # 之籬早、曲痒玉.α ) 其係檢測前述純水中 之離子浪度者，根據該離 ^ 值，控制前述純水之循環 ）之杈測 辰里及供水、排水量。 100764-970425.doc 1300837 七、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第（1 )圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 6 泵 16 通路 A 氣體清淨單元 B 吸附去除裝置 C 風扇 • Di、D2 導管 F 風扇過濾器單元 Q 空氣通路 X 洗淨裝置 z m 氣體清淨裝置 w 清淨空氣 W' 非清淨空氣 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式 (無） 100764-970425.doc