KR20060107354A - 기판 코팅 장치 및 모듈 - Google Patents

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KR20060107354A
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한스 부흐베르거
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디에테르 하스
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어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게
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Abstract

디스플레이 스크린을 제조하기 위한 투명 기판 코팅용 장치는 모듈식 설계를 갖는 코팅 챔버를 포함한다. 각각의 모듈(1)은 챔버부(2)와, 챔버부(2) 내에 또는 챔버부(2)에 제거 가능하게 배열된 제1 지지대(3)와, 제1 지지대(3)에 제거 가능하게 배열된 제2 지지대(4)로 구성된다. 제1 지지대(3)는 캐소드(cathode)를 지지하는 반면, 제2 지지대(4)는 코팅 챔버 내에 진공을 생성하는 펌프가 배열된 커버로서 형성된다. 캐리어(carriers)(3,4)는 사람들에게 접근 가능한 영역(11a,11b)이 모듈 구성 요소 사이에 형성될 수 있는 범위까지 챔버부(2)로부터 측방향으로 제거될 수 있다. 이런 방식으로, 장치의 구성 요소는 예를 들어 정비 목적을 위해 쉽게 접근할 수 있다. 캐소드에 대하여 그리고 챔버 내부에서 작업이 동시에 수행될 수 있다.
기판 코팅 장치, 모듈, 코팅 챔버

Description

기판 코팅 장치 및 모듈{Machine for Coating a Substrate, and Module}
도1은 본 발명에 따른 코팅 장치용 모듈의 사시도이다.
도2는 코팅 장치의 개략적인 상부 평면도이다.
도3은 두 개의 모듈의 상부 평면도이다.
도4는 본 발명에 따른 모듈의 사시도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명
1: 모듈
2: 챔버부
3: 중간 지지대, 제1 지지대
4: 커버, 제2 지지대
5: 프로세스 도구
5a: 회전식 캐소드(cathode)
5b, 5c: 평판 캐소드
10: 분할벽, 중간 요소
18: 펌프
본 발명은 코팅 챔버를 포함하는 기판 코팅 장치와 기판 코팅 장치용 모듈에 관한 것이다.
평면 스크린, 색 필터, 디스플레이 등을 제조하기 위한 통상적인 코팅 장치에서, 기판은 알루미늄 플레이트 상에 통상적인 클램핑 기구에 의해 수용되고 복수의 챔버를 갖는 코팅 장치를 통해 안내된다.
정비 목적 및 세척 목적을 위해, 챔버의 벽부가 제거되고 해체된다. 그런 다음, 챔버의 내부가 세척될 수 있고, 표적 변경이 수행될 수 있다. 한편, 장치는 정지 상태에 있다. 챔버의 내부로의 접근이 제한되고 더군다나 불편하기 때문에 정지 시간이 비교적 길다.
개개의 코팅 챔버 사이에 펌프실이 배열되고, 펌프실을 통해 챔버가 진공 처리된다. 이러한 설계로 인해, 통상적인 장치는 비교적 긴 길이로 연장된다.
이러한 점 때문에, 본 발명의 목적은 마모된 부품에 대한 정비 작업을 용이하게 하고 장치의 정지 시간을 감소시키는 코팅 장치 및 코팅 장치용 모듈을 제공하는 것이다.
이러한 목적은 제1항에 따른 코팅 장치와, 제18항에 따른 코팅 장치용 모듈 에 의해 달성된다.
본 발명에 따른 기판 코팅 장치는 모듈식 설계된 코팅 챔버를 포함하며, 하나의 모듈은 챔버부와, 챔버부 내의 또는 챔버부의 제거 가능한 제1 지지대와, 제1 지지대에 배열된 제거 가능한 제2 지지대로 구성된다. 예를 들어 투명 기판을 코팅하기 위해, 특히 디스플레이 스크린을 제조하기 위해, 이러한 장치가 사용된다.
임의의 개수의 모듈이 요구된 바와 같이 코팅 장치 내에 직렬로 배열될 수 있다. 동일한 또는 상이한 공정이 모듈 내에서 수행될 수 있다. 모듈식 구조는 장치들의 융통성 있는 배열 또는 조립을 허용한다. 그러나, 본 발명의 범위는 코팅 챔버의 부품으로서 또는 코팅 챔버로서 오직 단일 모듈의 사용도 대비한다.
지지대들은 환기된 챔버부로부터 복귀되거나 이격되도록 횡단될 수 있다. 또한, 지지대들은 서로 분리될 수 있다. 제1 지지대는 본래 챔버부와 제2 지지재 사이에 배열된다. 이런 방식으로, 개재형(sandwich-type) 구조가 형성된다.
정비 목적을 위해, 먼저 외부 지지대가 제1 지지대로부터 그리고 코팅 챔버로부터 제거된다. 이와 달리, 이를 위해 두 개의 지지대가 챔버부로부터 연대하여 이격되도록 횡단될 수 있다. 그런 다음, 제1 지지대가 챔버부로부터 이격되도록 이동되거나 지지대들이 분리되며 지지재 중 하나가 다른 하나로부터 이격되도록 이동된다. 이런 방식으로, 구성원을 위해 접근 가능한 정비 영역이 챔버부와 제1 지지대 사이에 그리고/또는 제1 지지대와 제2 지지대 사이에 생성된다.
지지대들이 챔버부로부터 분리될 수 있으므로, 사람들에 접근 가능한 영역이 모듈의 구성 요소 사이에 생성될 수 있다. 결과적으로, 모듈의 개개의 구성 요소 (챔버부, 제1 지지대, 제2 지지대)의 구성 요소 부품에 대한 접근이 용이하게 된다. 특히, 예를 들어 정비를 위해 코팅 챔버와 캐소드에 대한 접근이 동시에 수행될 수 있다. 그러므로, 예를 들어 두 개의 팀이, 한 팀은 제1 지지대와 챔버부 사이에 자유 공간에 접근하고 제2 팀은 제2 지지대와 제1 지지대 사이에 접근하면서 동시에 장치를 세척하고 정비할 수 있다. 제1 팀이 코팅 챔버를, 특히 코팅 챔버 내에 포함된 셔터 등을 세척하는 동안, 제2 팀은 캐소드를 정비한다. 이런 방식으로, 정비 및 세척 작업으로 인한 정지 시간이 상당히 감소될 수 있다.
바람직하게는, 제1 지지대는 챔버부로부터 측방향으로 제거될 수 있도록 배열되며 제2 지지대는 제1 지지대로부터 측방향으로 제거될 수 있도록 배열된다. 용어 "측방향으로"는 기판의 이송 방향을 의미하며, 마찬가지로 전체 장치의 종방향 축을 의미한다.
특히 챔버부 내의 측방향 개구를 폐쇄하기 위한 제2 지지대가 형성된다.
특히 적어도 하나의 프로세스 도구가 제1 지지대에 배열된다.
가능한 프로세스 도구 중에는, 예를 들어 스퍼터링 공정용 캐소드가 있지만, 대개 증착과 같은 다른 공정용 도구도 있다. 프로세스 도구에 더하여, 캐소드용 및 셔터용 냉각 시스템, 매체 연결부, 캐소드 환경(셔터 차폐물), 개개의 캐소드를 분리하기 위한 분할벽, 회전식 캐소드의 드라이브 등이 제1 지지대에 배열될 수 있다. 전기, 냉각수 및 공정 가스가 지지대 상의 상응하는 연결부를 통해 공급될 수 있다. 본 발명의 중심 사상은, 구성 요소가 쉽게 접근 가능하고 정비하기가 간단하며 에너지 또는 공정 가스가 수월하게 공급될 수 있도록, 모듈 구성 요소에 구성 요소의 가능한 가장 논리적인 할당이다.
바람직하게는 프로세스 도구는 적어도 하나의 스퍼터링 캐소드로 구성된다.
특히 프로세스 도구는 적어도 하나의 평판 캐소드 및/또는 적어도 하나의 회전식 캐소드로 구성된다.
복수의 프로세스 도구는 제1 지지대에 서로 이격되도록 배열될 수 있다.
프로세스 도구는 코팅 챔버 내에 공통의 공정 공간 내에 배열될 수 있다. 본 실시예의 하나의 장점은 콤팩트 설계에 있다. 제1 지지대 내에 복수의 캐소드(예를 들어 ITO)를 배열할 수 있다.
그러나, 제1 지지대는 코팅 챔버 내의 적어도 두 개의 프로세스 도구 또는 적어도 두 개의 프로세스 도구군이 제1 지지대에 배열된 중간 요소에 의해 서로 분리되도록 형성될 수도 있다. 서로 분리된 캐소드의 경우에, 각각의 캐소드는 캐소드 뒤 커버 상에 배열된 전용 펌프 또는 전용 펌프군에 할당될 수 있다. 각각의 캐소드에 전용 펌프 또는 전용 펌프군을 할당함으로써 각각의 캐소드에서의 가스 유동이 개별적으로 조정될 수 있으므로, 각각의 캐소드에 전용 펌프 또는 전용 펌프군을 할당하는 것이 특히 바람직하다. ITO 캐소드와 같은 동일한 캐소드가 공통 공정 챔버 내에서 대개 사용되는 반면, 분리된 캐소드의 환경에서 특별한 분위기가 생성될 수 있으므로, 본 실시예는 상이한 전극의 사용을 허용한다.
바람직하게, 본 장치는 펌프로 코팅 챔버 내에 진공을 생성하는 펌프 기구로 구성되며, 펌프들 중 적어도 하나는 제2 지지대에 배열된다. 정비 작업을 위한 접근 또는 공급과 같은 상이한 관점에서, 모듈의 세 부품에 대한 코팅 구성 요소의 할당이 수행된다. 제2 지지대에(즉, 커버에) 펌프의 할당을 통해, 코팅 챔버에 직렬로 연결되는 펌프 구성 요소가 요구되지 않기 때문에 전체 장치의 길이가 감소될 수 있다. 이제 펌프는 캐소드 뒤에 배열된다.
특히 제1 지지대 및/또는 제2 지지대는 챔버부로부터 측방향으로 복귀될 수 있는 객차 또는 캐리지로서 형성되거나 챔버부로부터 측방향으로 이격되도록 횡단될 수 있는 객차 또는 캐리지로서 형성된다.
제1 지지대 및/또는 제2 지지대가 챔버부로부터 복귀되거나 챔버부로부터 이격되도록 횡단되며 그리고/또는 챔버부 내로 삽입되거나 챔버부까지 횡단됨에 따라, 제1 지지대 및/또는 제2 지지대를 안내하는 수단이 바람직한 구성이다.
바람직하게 지지대를 안내하는 수단은 챔버부로부터 복귀된 제1 지지대가 챔버부로부터 어느 정도 제거될 수 있도록 형성되어 제1 지지대와 챔버부 사이에 사람들에 접근 가능한 영역이 생성된다.
지지대를 안내하는 수단은 제1 지지대로부터 이격되도록 횡단된 제2 지지대가 제1 지지대로부터 어느 정도 제거될 수 있도록 형성될 수 있어서 제1 지지대와 제2 지지대 사이에 사람들에 접근 가능한 영역이 생성된다.
챔버부는 코팅될 기판을 챔버부를 통해 이송하는 본래 수직인 통로로 구성될 수 있다. 그러나, 본 발명의 원리는 수평 배열에도 적용 가능하므로, 본 발명은 원칙적으로 챔버부를 통해 이송된 기판의 수직 배열로 제한되지 않는다.
프로세스 도구는 본래 수직으로, 특히 제1 지지대에 배열된다. 그러나, 전술한 이유 때문에, 요구 조건에 어울리는 캐소드의 상이한 배열이 가능하다.
특히 장치는 종축에 대하여 대칭으로 배열된 적어도 두 개의 모듈로 구성된다. 전체 장치의 길이를 감소시키기 위한 회전 스테이션을 갖는 장치인 경우에 본 실시예는 유리하다.
본 발명에 따른 기판 코팅용 모듈은 적어도 하나의 코팅 챔버와, 챔버부 내에 또는 챔버부에 배열된 제거 가능한 제1 지지대와, 제1 지지대에 배열된 제거 가능한 제2 지지대를 포함한다.
특히, 모듈은 이미 전술한 바와 같은 구성을 갖는다.
본 발명의 또다른 목적과 장점은 이하의 구체적인 실시예로부터 유래된다.
도1은 본 발명에 따른 코팅 장치용 모듈(1)의 사시도이다. 모듈(1)은 챔버 또는 챔버부(2)와, 캐소드가 내부에 배열된 중간 지지대(3)와, 커버(4)로 구성된다.
챔버부(2)는 챔버부(2)를 통한 기판의 수직 이송을 위한 개구(7)를 양측에 갖는다.
모듈이 회전 스테이션을 갖는 코팅 장치 내에서 사용될 것이므로, 본 실시예에 따른 코팅 챔버는 대칭 설계를 갖는다. 따라서, 챔버부(2)는 개구(7)와 대칭인 개구로 구성된다. 화살표는 기판이 내부로 이송되는 방향을 나타낸다. 분할벽(9)은 챔버부(2)의 본래 대칭 형상인 챔버 세그먼트를 분리시킨다.
챔버부(2)는 대개 센서 및 기판용 드라이브를 수용한다. 또한, 챔버의 후면 벽 전면에 또는 분할벽(9) 전면에 차폐물 및/또는 가열이 제공된다.
본 실시예에서는 챔버(2)에 대해 이동할 수 있는 캐리지로서 중간 지지대(3)가 형성된다. 지지대(3)는 적어도, 지지대(3)가 챔버부(2) 내로 또는 챔버부(2)까지 횡단되는 하나의 작동 위치와 도1에 도시된 바와 같은 정비 위치 사이에서 횡단할 수 있다. 챔버(2)로부터 지지대(3)의 측방향 횡단 이격을 통하여, 챔버부(2) 내의 그리고 지지대(3) 내에 배열된 구성 요소에 대한 (예를 들어, 표적 변경인) 정비 작업이 편안하고 간단하게 수행될 수 있도록, 구성원들에 접근 가능한 정비 통로(11a)가 얻어지게 된다. 정비 영역(11a)으로부터 챔버부(2)의 내부로의 그리고 지지대(3)로의 접근이 가능하다.
중간 지지대(3)는 본래 (도1에 도시되지 않은) 캐소드를 지지한다. 본 실시예에서, 지지대(3) 내의 분할벽(10)에 의해 캐소드들이 서로 분리된다. 캐소드 이외에, 셔터, 캐소드와 셔터를 위한 냉각 시스템, 매체 연결부가 지지대에 구비된다. 예를 들어, 매체 연결부는 지지대(3)의 바닥에 배열된다. 캐소드 환경(셔터 차폐물)은, 회전식 캐소드가 사용되는 경우를 위한 드라이브뿐만 아니라 개개의 캐소드를 서로 분리시키는 분할벽(10)을 더 포함할 수 있다. 공급 라인의 단절이 정비 작업의 수행을 위해 필요하지 않도록, 전기 공급 연결부는 예를 들어, 지지대(3) 상부에 배열될 수 있다.
커버(4)는 또한 캐리지로서 형성되며, 제1 지지대(3)와 별개로 그리고 제1 지지대(3)에 대하여 이동될 수 있다. 이는 지지대(3)와 커버(4)는 서로 이격되도록 이동될 수 있으며, 따라서 추가적인 정비 통로(11b)가 얻어진다. 정비 위치에 서 구성원에 접근 가능한 영역(11b)이 생성되며, 지지대(3)에 배열된 구성 요소와 커버(4)에의 구성요소가 그 영역으로부터 접근할 수 있다.
커버(4)는 본래 진공 시스템의 (도1에 도시되지 않은) 터보 분자식 펌프(turbo molecular pump)를 지지하며, 중간 지지대(3)로부터 분리될 수 있다. 지지대(3)와 커버(4)는 본래 레일(12) 상에서 서로 독립적으로 안내될 수 있다.
작동 위치에서, 지지대(3)와 커버(4)는 챔버부(2)까지 횡단된다. 커버(4)는 챔버부(2)의 측벽 내의 개구와 지지대(3) 내의 개구를 폐쇄한다. 도면은 모듈(1)의 개재형 구조를 도시한다.
도2는 전술한 임의의 코팅 장치의 개략적인 설계 도면이다. 장치는 코팅 챔버(14)의 상류 측의 챔버(13)와, 코팅 챔버(14)와, 하류 챔버(15)와, 회전 스테이션(16)으로 구성된다. 기판(17)은 영역(13, 14 및 15)을 통해 회전 스테이션(16)으로 이송되며, 회전 스테이션에서 180도 만큼 회전되고, 코팅 장치를 통해 반대 방향으로 재이송된다. 전체 장치는 본래 장치의 종방향 축과 거울 대칭이도록 설계된다. 연속 코팅 공정과 고정 코팅 공정이 가능하며, 기판의 수직 또는 수평 이송도 또한 가능하다.
히터(21)는 영역(13, 14 및/또는 15) 내부에 배열된다. 코팅 영역(14)는 영역(13 및 15)과의 전이 영역에 분리 밸브(22)로 구성된다. 분리 밸브에 의해, 개개의 챔버 영역이 예를 들어 정비 작업을 위해 환기될 수 있는 반면, 나머지 영역의 환기는 불필요하다.
본 실시예에서 챔버부(2)로 구성된 코팅 영역(14)은 상이한 캐소드 배열로 선택적으로 장착될 수 있다. 이들은 도2의 하부에 도시된다.
왼쪽에 도시된 중간 지지대(3a)는 회전식 캐소드(5a)를 지지하며, 중간에 도시된 중간 지지대(3b)는 모듈식 평판 캐소드(5b)를 지지한다. 오른쪽에 도시된 지지대(3c)는 서로 분리된 평판 캐소드(5c)를 지지하며, 각각의 캐소드는 전용 펌프(18)에 할당된다. 커버(4c)는 채널(19)로 구성되며, 지지대(3c)는 채널(20)로 구성되며, 채널(20)에 의해 코팅 챔버의 진공화가 수행된다. 채널(20)에 의해 각각의 캐소드는 전용 펌프를 수신할 수 있다. 분할벽(10)은 캐소드들 사이에 구비된다. 각각의 캐소드(5c)에 전용 펌프(18)를 할당함으로써, 각각의 캐소드(5c)에 대한 가스 유동의 개별적인 조정이 용이하게 된다.
캐소드(5a, 5b, 5c)는 지지대(3a, 3b, 3c)에 각각 결합된다. 캐소드는 동일한 또는 상이한 공정에 대해 구비될 수 있다. 상이한 공정에 대해, 상이한 모듈(1)이 또한 순차적으로 배열될 수도 있으며, 전체 장치 내로 일체화될 수 있다.
커버(4a, 4b, 4c)는 본래 오직 펌프(18)만을 지지하며, 코팅 챔버를 밀봉하도록 작용한다.
도3에서, 중간 지지대(3)와 커버(4)가 챔버부(2)로부터 이격되도록 두 개의 상이한 정비 위치에 있게 되는 두 개의 모듈(1)이 도시되어 있다.
중간 지지대(3)와 커버(4)는 기판(17)의 이송 방향에 수직으로 횡단될 수 있다. 장치의 작동을 위해, 지지대(3)와 커버(4)가 챔버부(2)까지 횡단된다.
왼쪽에 도시된 모듈(1)에서, 본 실시예에 따라, 두 개의 정비 통로(11a, 11b)는 챔버부(2)와 지지대(3) 사이에 그리고 지지대(3)와 커버(4) 사이에 형성된 다. 이런 방식으로, 정비 영역(11b)으로부터 지지대(3) 내에 수용된 캐소드에 대하여 그리고 정비 영역(11a)으로부터 챔버 내부 내의 구성 요소에 대하여 동시에 작업할 수 있다.
오른쪽에 도시된 지지대(3)와 커버(4)의 위치에서, 넓은 정비 영역(11a)이 형성된다.
도4는, 챔버부(2)와, 캐소드(5)를 지지하는 중간 지지대(3)와, 터보 분자식 펌프(18)가 배열된 커버(4)를 구비하는 모듈(1)의 개재형 구성을 명확하게 도시한다.
도면으로부터 레일(12) 상에서 각각 이동될 수 있는 캐리지로서 횡단 가능한 모듈 구성 요소(3, 4)의 형성이 명백하다.
지지대들이 챔버부로부터 분리될 수 있으므로, 사람들에 접근 가능한 영역이 모듈의 구성 요소 사이에 생성될 수 있다. 결과적으로, 모듈의 개개의 구성 요소(챔버부, 제1 지지대, 제2 지지대)의 구성 요소 부품에 대한 접근이 용이하게 된다. 특히, 예를 들어 정비를 위해 코팅 챔버와 캐소드에 대한 접근이 동시에 수행될 수 있다. 그러므로, 예를 들어 두 개의 팀이, 한 팀은 제1 지지대와 챔버부 사이에 자유 공간에 접근하고 제2 팀은 제2 지지대와 제1 지지대 사이에 접근하면서 동시에 장치를 세척하고 정비할 수 있다. 제1 팀이 코팅 챔버를, 특히 코팅 챔버 내에 포함된 셔터 등을 세척하는 동안, 제2 팀은 캐소드를 정비한다. 이런 방식으 로, 정비 및 세척 작업으로 인한 정지 시간이 상당히 감소될 수 있다.

Claims (32)

  1. 코팅 챔버를 포함하는 기판 코팅용 장치에 있어서,
    상기 코팅 챔버가 모듈식이며, 하나의 모듈(1)은 챔버부(2)와, 챔버부(2) 내에 또는 챔버부(2)에 제거 가능하게 배열된 제1 지지대(3)와, 제1 지지대(3)에 제거 가능하게 배열된 제2 지지대(4)를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 지지대(3)는 챔버부(2)로부터 측방향으로 제거될 수 있으며, 상기 제2 지지대(4)는 제1 지지대(3)의 측부로부터 측방향으로 제거될 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2 지지대(4)는 챔버부(2) 내의 측방항 개구를 폐쇄하기 위해 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 프로세스 도구(5)가 상기 제1 지지대(3)에 배열된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 프로세스 도구(5)는 적어도 하나의 스퍼터링 캐소드(sputtering cathode)(5a, 5b, 5c)로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장 치.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 프로세스 도구(5)는 적어도 하나의 평판 캐소드(5b, 5c) 및/또는 적어도 하나의 회전식 캐소드(5a)로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 프로세스 도구(5)는 제1 지지대(3)에 서로 이격되도록 배열될 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 프로세스 도구(5)는 코팅 챔버 내의 공통 프로세스 공간 내에 배열된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 제1 지지대(3)는 코팅 챔버 내의 적어도 두 개의 프로세스 도구(5) 또는 적어도 두 개의 프로세스 도구군(5)이 제1 지지대(3)에 배열된 중간 요소(10)에 의해 서로 분리되도록 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치는 펌프(18)로 코팅 챔버 내에 진공을 생성하기 위한 펌프 기구로 구성되며, 펌프(18) 중 적어도 하나는 제2 지지대(4)에 배열된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 지지대(3) 및/또는 제2 지지대(4)는 챔버부(2)로부터 측방향으로 복귀될 수 있는 객차 또는 캐리지(carriage)로서 형성되거나 챔버부(2)로부터 측방향으로 이격되도록 횡단될 수 있는 객차 또는 캐리지로서 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 지지대(3) 및/또는 제2 지지대(4)가 챔버부(2)로부터 복귀되거나 챔버부(2)로부터 이격되도록 횡단되며 그리고/또는 챔버부(2) 내로 삽입되거나 챔버부(2)까지 횡단됨에 따라, 제1 지지대(3) 및/또는 제2 지지대(4)를 안내하는 수단(12)이 구비된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 지지대(3,4)를 안내하는 수단이 구비되고, 지지대(3,4)를 안내하는 수단은 챔버부(2)로부터 복귀된 제1 지지대(3)가 챔버부(2)로부터 어느 정도 제거될 수 있도록 형성되어 제1 지지대(3)와 챔버부(2) 사이에 사람들에게 접근 가능한 영역(11a)이 생성되는 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 지지대(3,4)를 안내하는 수단이 구비되고, 지지대(3,4)를 안내하는 수단은 제1 지지대(3)로부터 이격되도록 횡단된 제2 지지대(4)가 제1 지지대(3)로부터 어느 정도 제거될 수 있도록 형성되어 제1 지지대(3)와 제2 지지대(4) 사이에 사람들에게 접근 가능한 영역(11b)이 생성되는 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 챔버부(2)는 코팅될 기판(17)을 챔버부(2)를 통해 이송하는 본래 수직인 통로(7)로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 지지대(3)에의 프로세스 도구(5)의 본래 수직인 배열에 의해 특징되는 기판 코팅용 장치.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 장치는 종축에 대하여 대칭으로 배열된 두 개의 모듈(1)로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅용 장치.
  18. 기판 코팅 장치용 모듈(1)이며,
    적어도 하나의 챔버부(2)와, 챔버부(2) 내에 또는 챔버부(2)에 제거 가능하게 배열된 제1 지지대(3)와, 제1 지지대(3)에 제거 가능하게 배열된 제2 지지대(4)를 포함하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  19. 제18항에 있어서, 상기 제1 지지대(3)는 챔버부(2)로부터 측방향으로 제거될 수 있고, 제2 지지대(4)는 제1 지지대(3)로부터 측방향으로 제거될 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  20. 제18항 또는 제19항에 있어서, 상기 제2 지지대(4)는 챔버부(2) 내의 측방향 개구를 폐쇄하기 위해 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  21. 제18항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 프로세스 도구(5)가 제1 지지대(3)에 배열된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  22. 제21항에 있어서, 상기 프로세스 도구(5)는 적어도 하나의 스퍼터링 캐소드(5a, 5b, 5c)로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  23. 제21항 또는 제22항에 있어서, 상기 프로세스 도구(5)는 적어도 하나의 평판 캐소드(5b, 5c) 및/또는 적어도 하나의 회전식 캐소드(5a)로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  24. 제18항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 프로세스 도구(5)는 제1 지지대(3)에 서로 이격되도록 배열될 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  25. 제24항에 있어서, 상기 제1 지지대(3)는 적어도 두 개의 프로세스 도구(5) 또는 적어도 두 개의 프로세스 도구군(5)이 제1 지지대(3)에 배열된 중간 요소(10)에 의해 서로 분리되도록 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  26. 제18항 내지 제25항중 어느 한 항에 있어서, 진공을 생성하기 위한 펌프 기구의 적어도 하나의 펌프(18)가 제2 지지대(4)에 배열된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  27. 제18항 내지 제26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 지지대(3) 및/또는 제2 지지대(4)는 챔버부(2)로부터 측방향으로 복귀될 수 있는 객차 또는 캐리지로서 형성되거나, 챔버부(2)로부터 측방향으로 이격되도록 횡단될 수 있는 객차 또는 캐리지로서 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  28. 제18항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 모듈(1)은, 제1 지지대(3) 및/또는 제2 지지대(4)가 챔버부(2)로부터 복귀되거나 챔버부(2)로부터 이격되도록 횡단됨에 따라 그리고/또는 제1 지지대(3) 및/또는 제2 지지대(4)가 챔버부(2) 내로 삽입되거나 챔버부(2)까지 횡단됨에 따라, 제1 지지대(3) 및/또는 제2 지지대(4)가 제1 지지대(3) 및/또는 제2 지지대(4)를 안내하기 위한 수단에 의해 안내될 수 있도록 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  29. 제18항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 지지대(3)는 사람에게 접근 가능한 영역(11a)이 제1 지지대(3)와 챔버부(2) 사이에 생성되는 정도까지 챔버부(2)로부터 제거 가능한 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  30. 제18항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 지지대(4)는 사람에게 접근 가능한 영역(11b)이 제1 지지대(3)와 제2 지지대(4) 사이에 생성되는 정도까지 제1 지지대(3)로부터 제거 가능한 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  31. 제18항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 챔버부(2)는 코팅될 기판을 챔버부(2)를 통해 이송하는 수직 통로(7)로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치용 모듈.
  32. 제18항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 지지대(3)에서 프로세스 도구(5)의 본래 수직인 배열에 의해 특징되는 기판 코팅 장치용 모듈.
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