TWI425585B - 基板緩衝單元 - Google Patents

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TWI425585B
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Kazuhito Miyazaki
Naoki Imoto
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Tokyo Electron Ltd
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Description

基板緩衝單元
本發明係關於用以使輸送於基板輸送道,例如用於平面顯示器(FPD)之玻璃基板暫時自基板輸送道退避之基板緩衝單元,特別是關於可高效率地清淨緩衝裝置內空間空氣之基板緩衝單元。
製造FPD時,為在FPD用玻璃基板上形成電路圖案可使用光微影技術。藉由光微影形成電路圖案可依下列程序進行:在玻璃基板上塗布光阻液以形成光阻膜,使光阻膜曝光以使其對應電路圖案,再對其進行顯影處理。為形成電路圖案,可使用沿輸送線(基板輸送道)設置有塗布光阻液或進行顯影處理等處理之各處理單元之製造線。於輸送線上輸送玻璃基板,並同時逐步在各處理單元內施行既定處理。
又,該製造線中通常為在各處理單元之間調整接收及遞送基板之時間點,設置有使玻璃基板暫時自輸送線退避並保管玻璃基板之緩衝裝置。
作為如此之緩衝裝置,本案申請人於專利文獻1中已揭示一升降梯式緩衝裝置(以下稱升降梯緩衝裝置),藉由令可以多段方式載置玻璃基板之架座部昇降,可送入送出基板。
根據圖9簡單說明關於專利文獻1所揭示之升降梯緩衝裝置之基板退避動作。圖9(a)~圖9(c)所示之升降梯緩衝裝置200設於輸送線途中,包含:架座部205,包含以多段方式設置之基板載置部202a~202f;及昇降機構206,以可昇降移動之方式支持該架座部205。
一旦需使基板退避至升降梯緩衝裝置200,X方向下游側之輔助輸送帶機構210之驅動即告停止。且如圖9(a)所示,自X方向上游側輸送而來之最初之基板G1一旦通過框體201之送入口201a,基板整體被置放在載置部202a上,輸送帶機構250a即告停止。藉此基板G1呈載置於載置部202a上之狀態。
接著,一旦自X方向上游側輸送下一基板G2而來,輸送帶機構250a與其驅動源之連接即告解除。
又,例如圖9(b)所示,藉由昇降機構206使架座部205上昇,令載置部202b~202f中之任一者,載置部202b之輸送帶機構250b連接其驅動部以驅動之,俾載置部202b與輸送線之高度一致。在此,基板G1呈與載置部202a一齊自輸送線退避之狀態。又,基板G2整體一旦被置放在載置部202b上,輸送帶機構250b之驅動即告停止。
藉由重複如此之步驟,至基板輸送之待命狀態解除為止,於輸送線上被輸送而來之後續的基板G3、G4、‧‧‧會分別被載置於載置部202c、202d、‧‧‧上並被保管(參照圖9(c))。
又,該升降梯緩衝裝置200與其他單元一齊設置於無塵室內。無塵室之頂棚部中設置有稱為FFU(風扇過濾器單元)之潔淨空氣供給裝置,藉此形成空氣朝下方流動之垂直層流(降流)。
以往藉由此降流可確保室內之潔淨度,並因此而可確保收納有基板之架座部205內之潔淨度。
使用圖10緩衝裝置之剖面圖具體說明關於習知之升降梯緩衝裝置內用來使其潔淨化的構成。又,於圖10中,使用相同符號說明圖9內具同等功能者。
於圖10中,係外裝板之框體201內設有:架座部205,可以多段方式收納複數基板;及昇降機構206,以可自下方昇降移動之方式支持該架座部205。又,在架座部205內,於圖中朝紙面自前側往內送入基板。
框體201之天板201b中形成有用以將自上方朝下方流動之潔淨空氣導入框體201內之狹縫(未經圖示),於框體201之下部側面則形成有用以排氣之狹縫(未經圖示)。因此,於框體201內如箭頭所示,自上方沖擊架座部205上表面之潔淨空氣於架座部205周圍迴繞,朝下方流動而被排氣。
在此,於係基板收納部之架座部205內,在架座部205周圍迴繞的該潔淨空氣自一方之側面(空氣導入面205a)被導入,通過相反側面側而被排氣,以使架座部205內潔淨化。
【先前技術文獻】
【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開2007-250671號公報。
然而,為高效率地利用自無塵室頂棚下降而來之降流,FFU需位於緩衝裝置200之正上方,於設置製造線時有無塵室內之設備配置受到限制之虞。
且即使將FFU設置於緩衝裝置200正上方,降流之風量亦會在到達升降梯緩衝裝置時大幅減弱,於框體201內會無法獲得恰可充分供給潔淨空氣至架座部205內之風量。
因此,以往如圖10所示,於架座部205內導入大量潔淨空氣,並設置用以朝緩衝裝置200外排氣之排氣裝置220以對應之。
然而,若設置排氣裝置220,即需設置用以自排氣裝置220朝無塵室外排氣之配管設備,而有設備成本膨脹之課題。
且架座部205會因昇降機構206在框體201內昇降移動,而伴隨此架座部205下方空間之容積亦會變化。因此每當架座部205昇降移動,昇降機構206周圍空間即會壓縮膨張,導致灰塵自昇降機構206被捲起,而有灰塵流入架座部205內之虞。
針對如此之課題,以往如圖示,以殼體212包圍昇降機構206,以排氣裝置220抽吸殼體212內之空氣以進行排氣處理。
然而,此時於無塵室側亦需設置配管設備,而有成本膨脹之課題。
且於習知之架座部205之構造中,自空氣導入面205a導入之潔淨空氣會通過係輸送基板之驅動部之輸送驅動機構213,而自排氣裝置220被排出。
然而,排氣裝置220之排氣動作一旦停止,架座部205內即會呈負壓狀態而導致空氣逆流,有由輸送驅動機構213產生之灰塵流入載置部之課題。
鑑於如此之情形,本發明之目的在於提供一種基板緩衝單元,可暫時使於基板輸送道上朝一方向輸送之基板退避,其特徵在於可高效率地清淨緩衝空間之空氣,並減少成本。
為解決上述課題,依本發明之基板緩衝單元暫時收納於基板輸送道上被輸送之基板,並使該基板自該基板輸送道退避,其特徵在於包含:箱狀之架座部,設於該基板輸送道途中,包含載置該基板之載置部,並以可移動至偏離該基板輸送道之既定位置之方式設置;潔淨空氣供給機構,設於該箱狀之架座部之上表面或側面,供給經淨化之潔淨空氣;及通風道,連接該潔淨空氣供給機構與該架座部之一側面;且自設於該箱狀之架座部一側面之空氣導入口朝該載置部供給由該潔淨空氣供給機構供給之潔淨空氣,由設於該箱狀之架座部中,與該空氣導入口相反之一側之側面之空氣導出口排氣。
藉由如此構成,即使於架座部下游側未設有排氣裝置,於各段載置部中亦可形成充分之流量之潔淨空氣流動於其中,而確保架座部內之潔淨度。
因此,不需如以往考慮無塵室中FFU之配置,可不受無塵室側之限制設置製造線。
且無需設置排氣裝置,故可抑制設備成本之增加,且係潔淨空氣供給機構下游之架座部內為正壓狀態,故不會因設置排氣裝置產生弊病(運轉停止時逆流等)。
且該箱狀之架座部宜包含於內部以多段方式設有複數該載置部之箱狀之殼體,於該殼體之一側面,對應以多段方式設置之各載置部設有複數該空氣導入口,將潔淨空氣分配給該複數之空氣導入口之分配整流構件設於該通風道。
藉由如此設置分配整流構件,可使分流給各段空氣導入口之分流量均等化。
且宜包含擴張整流構件,該擴張整流構件設於該空氣導入口,使於該載置部上由該空氣導入口供給之潔淨空氣呈扇狀擴散。
藉由設置此擴張整流構件,導入各載置部之潔淨空氣可呈扇狀擴散,於載置部中不會呈氣流滯留之狀態。
且藉由該流動呈扇狀擴散,不僅可抑制空氣自基板送入送出口流入,亦可自基板送入送出口排氣。
且宜於該箱狀之架座部中與該空氣導入口相反之一側側面形成有複數之該空氣導出口,且其剖面為中空構造,該箱狀之架座部包含:基板輸送機構,用以針對該載置部送入送出基板;輸送驅動機構,設於在該載置部上所供給之潔淨空氣之下游側,驅動該基板輸送機構;及驅動系排氣機構,與該中空構造之空氣導出口分離,僅使朝該輸送驅動機構供給之潔淨空氣排氣。
因空氣導出口為如此之中空構造,管路內相對於排氣之下游側為正壓狀態,可防止經排氣之空氣逆流,及空氣自架座部外流入。
且藉由分離排氣通道以進行整流,可防止由輸送驅動機構產生之灰塵流入載置部。
且於該複數之空氣導出口宜分別設有限制在該空氣導出口內流動之空氣流量之流量節流機構。
藉由在各空氣導出口調整該流量節流機構,可使所有由空氣導出口排氣之排氣量均等化。
且宜至少包含包覆該架座部殼體之框體,於該框體與該架座部殼體之間之間隙空間內該框體之內壁上或該殼體之外壁上設有分隔構件,以各自獨立之方式形成有該空氣導入口與該空氣導出口之架座部一側面,及與該一側面對向之該框體內側面之間之間隙空間加以形成。
藉由設置此分隔構件,由空氣導出口排氣之排氣不會於殼體其他側面側迴繞,可防止排氣自基板送入送出口流流入載置部。
依本發明可獲得一種基板緩衝單元,可暫時使於基板輸送道上朝一方向輸送之基板退避,其特徵在於可高效率地清淨緩衝空間之空氣,並減少成本。
以下根據圖式詳細說明關於本發明基板緩衝單元之實施形態。本發明之基板緩衝單元設於藉由例如光微影步驟形成電路圖案之製造線途中,可暫時收納係被處理基板之FPD用玻璃基板並使其退避。
且依本發明之基板緩衝單元可適用於以圖9為例說明之升降梯式緩衝裝置。於以下之實施形態中說明關於適用升降梯緩衝裝置之例。
圖1係依本發明之基板緩衝單元之側剖面圖,圖2係圖1之A-A箭視剖面圖(單元框體內之俯視圖),圖3係圖2之B-B箭視剖面圖,圖4係圖2之C-C箭視剖面圖,圖5係圖1之D-D箭視剖面圖。
圖示之基板緩衝單元100包含:箱狀之架座部2,可於單元框體1內以多段(圖中為6段)之方式載置被處理基板之玻璃基板G;及昇降機構3,自下方支持該架座部2並使其昇降移動。
相對於此基板緩衝單元100,將玻璃基板G自例如圖3、4所示之單元框體1之送入口1a送入,收納於架座部2後,適當地自相反側之送出口1b送出。
配合設於緩衝單元100上游及下游之所謂水平移動方式基板輸送線(基板輸送道)之高度位置設置該框體1內之送入口1a及送出口1b。
如圖1所示,架座部2具有箱狀之殼體20,於此殼體20內設置例如6段基板G之載置部6(6a~6f)。如圖3、4所示,殼體20中,於面對該框體1之送入送出口1a、1b之側面,對應各段載置部6設有複數之基板送入口2a與送出口2b。
架座部2(殼體20)於框體1內可藉由昇降機構3昇降移動,故相對於既定段之載置部6送入送出玻璃基板G時,架座部2藉由昇降機構3昇降移動,俾該既定段之載置部6與該送入口1a及送出口1b同高。
且基板G載置於既定載置部6後,藉由昇降機構3使架座部2昇降移動至偏離基板輸送線之既定位置,藉此可使該基板G自基板輸送線退避。
又,如圖1、圖5所示,各載置部6中,以並列之方式設有用以輸送基板之複數滾子輸送軸13(基板輸送機構),於各軸13之一端部,設有用以旋轉驅動各軸13之馬達等所構成之軸旋轉驅動機構14(輸送驅動機構)。
此緩衝單元100中,於架座部2之殼體20上表面,如圖2所示設置有複數(圖中為4座)FFU(風扇過濾器單元)4a~4d(總稱FFU4)。此等FFU4分別具有朝既定方向旋轉驅動之風扇,藉由風扇之旋轉自上方導入空氣,因經由過濾器而產生經淨化之空氣(潔淨空氣),並朝下方吹送之。亦即,FFU4用作為潔淨空氣供給機構。
於各FFU4下方,設有係朝下方吹送之潔淨空氣之流路之通風道5(5a、5b、5c、5d),此通風道5連通與架座部2中設有該基板送入送出口1a、1b之側面正交之一側面。
更具體說明即知,將潔淨空氣導入圖3所示之架座部2,係藉由形成於該通風道5連通之該架座部2的一側面之複數空氣導入口7(air entrance)進行。此等空氣導入口7設有例如沿縱方向與載置部之段數相同為6段,沿橫方向為6個,共36個。亦即,就1段載置部6而言,於該側方設有6個空氣導入口7。
此實施形態之情形中,共36處之空氣導入口7配合設於架座部2上部之FFU4之數量,分為4個群組。亦即如圖3所示,對應上3段載置部6a、6b、6c之空氣導入口7分為群組7A、7B左右2個,對應下3段載置部6d、6e、6f之空氣導入口7分為群組7C、7D左右2個。
其中,由群組7A之9個空氣導入口7供給以FFU4a供給之潔淨空氣,由群組7B之9個空氣導入口7供給以FFU4b供給之潔淨空氣。且由群組7C之9個空氣導入口7供給以FFU4c供給之潔淨空氣,由群組7D之9個空氣導入口7供給以FFU4d供給之潔淨空氣。
在此,雖自各FFU4分別朝縱3段之空氣導入口7供給潔淨空氣,但為使該分流量更均等,於通風道5中導入口前,如圖6所示設有配合3段導入口7分配氣流之分配整流構件10。
又,如圖6所示,設置此分配整流構件10之分配壁10a、10b其位置可沿圖中箭頭所示之方向任意移動,藉由調整該位置可調整導入3段空氣導入口7之潔淨空氣的流量,以使其更均等化。
且若欲自空氣導入口7導入由FFU4供給之潔淨空氣,以使其流往載置部,即如圖5以箭頭所示,潔淨空氣宜呈扇狀擴散而為行抵載置部6各角落之狀態。
因此,就各載置部6而言,於左右兩端側之空氣導入口7,可例如圖7之立體圖所示,設置用以沿左右方向使氣流之方向擴大之擴張整流構件12。藉由設置此擴張整流構件12,於各載置部6上被導入之潔淨空氣如圖5所示會呈扇狀擴散而為載置部6內氣流不滯留之狀態。
且藉由呈扇狀擴散之空氣之流動,不僅可抑制空氣自基板送入送出口2a、2b流入,亦可自基板送入送出口2a、2b排氣。
另一方面,使朝各載置部6供給之空氣排氣之空氣導出口8依每段載置部6設於與殼體20中形成有該複數空氣導入口7之側面相反之一側之側面。亦即,如圖4所示,設有沿縱方向與載置部6之段數相同為6段,沿橫方向6個的空氣導出口8(就各載置部6而言為6個的空氣導出口8)。
其中,圖4內左右兩端列之空氣導出口8a以於架座部2之側壁開孔之方式形成有偏平狀之孔。
且設於該左右兩端列之空氣導出口8a之間的4個空氣導出口8b如圖1、圖2所示,以沿排氣方向延伸既定長度之方式設置,其剖面為中空構造(例如偏平狀之管路構造)。
如此之中空構造之空氣導出口8b如圖5所示,設於各載置部6中分別旋轉驅動複數軸13之軸旋轉驅動機構14之附近。
詳細說明即知,複數之軸旋轉驅動機構14由覆蓋構件15(驅動系排氣機構)包覆,插設有該中空構造之空氣導出口8b,俾如圖5所示貫穿該覆蓋構件15內。於覆蓋構件15之下部,如圖1、圖4所示設有沿下方延伸之排氣管16(驅動系排氣機構),其前端於昇降機構3附近開放。
亦即,通過載置部6之潔淨空氣主要於中空構造之空氣導出口8b中流動,不通過軸旋轉驅動機構14而被排氣。且於軸旋轉驅動機構14內流動之潔淨空氣由排氣管16排氣。如此分離排氣通道以進行整流,藉此可防止由軸旋轉驅動機構14產生之灰塵流入載置部6。
且如上述空氣導出口8b呈偏平狀,為既定長度之中空構造,且如圖8之剖面圖所示於各導出口8b之前端部分設有板狀之流量節流構件11,以作為限制空氣流量之節流機構。
藉此,於該中空構造內相對於排氣之下游側為正壓狀態,可防止經排氣之空氣逆流,及空氣自架座部2外流入。
且藉由於各導出口8b調整流量節流構件11之傾斜角度,可使所有來自空氣導出口8之排氣量更均等。
且如此之緩衝單元100設置於無塵室內,自該頂棚以降流之方式供給潔淨空氣時,如圖1所示於框體1之上表面形成有用以導入空氣之狹縫1c,故可自框體1上方朝框體1內供給潔淨空氣。且於框體1之下部形成有排氣狹縫1d,故所供給之潔淨空氣會迴繞於架座部2之周圍,而由框體1下部之排氣狹縫1d排氣。
在此,如圖2所示,於框體1內四角隅附近之內壁面(或是亦可係殼體20之外壁面)設有將架座部2各側面與框體1之內面對向之各空間分隔之分隔板13a(分隔構件)。
藉由設置此分隔構件13a,來自空氣導出口8之排氣不會迴繞至殼體20其他側面側,可防止排氣自基板送入送出口2a、2b流入載置部6。
且由空氣導入口7導入架座部2內之潔淨空氣亦可由設於殼體20之基板送入送出口2a、2b排氣。此排氣流於框體1與殼體20之間之間隙空間中流動,由框體1下部之排氣狹縫1d排氣。因此,可高效率地在框體1內恰使由無塵室供給之潔淨空氣其空氣更為清淨。
且相對於各載置部6送入送出基板G時,若於框體1內藉由昇降機構3使架座部2昇降移動,昇降機構3之周圍空間即會壓縮膨張,故會捲起空氣。然而,即使該空氣被捲起,各載置部6中亦因FFU4而有充分流量之潔淨空氣流動,並由框體1下部之排氣狹縫1d排氣,故灰塵不會流入架座部2內。
且FFU4即使運轉停止,位於FFU4下游之架座部2內呈正壓狀態,故可防止灰塵流入。
如以上,按照依本發明之實施形態,於緩衝單元100中,藉由FFU4之作動產生潔淨空氣,通過通風道5,自空氣導入口7朝架座部2之各載置部6供給潔淨空氣,所供給之潔淨空氣主要由設於各段之空氣導出口8排氣。
以此構成於下游側即使不設置排氣裝置,各段載置部6中亦可形成充分流量之潔淨空氣流動於其中,以確保架座部2內之潔淨度。
因此,不需如以往考慮無塵室中FFU之配置,可不受無塵室側之限制設置製造線。
且無需設置排氣裝置,故可抑制設備成本之增加,且無因設置排氣裝置而產生之弊病(運轉停止時之逆流等)。
又,於上述實施形態中,雖已例示以作為潔淨空氣供給機構之FFU4設於架座部2之(殼體20之)上表面之例,但依本發明之基板緩衝單元中,並不由其形態所限定。例如作為潔淨空氣供給機構之該FFU4亦可設於架座部2之(殼體20之)側面。
且雖已例示以本發明適用於多段式升降梯緩衝裝置之例,但本發明並不由其形態所限定。例如亦可不為多段式而係一段之基板緩衝裝置,且亦可適用於不使用架座部2之昇降機構3,而藉由機械臂等送入送出複數基板之緩衝裝置。
G、G1~G4‧‧‧玻璃基板(基板)
1、201‧‧‧單元框體
1a、2a‧‧‧基板送入口
1b、2b‧‧‧基板送出口
1c‧‧‧狹縫
1d‧‧‧排氣狹縫
2、205‧‧‧架座部
3、206‧‧‧昇降機構
4、4a~4d‧‧‧FFU(風扇過濾器單元)(潔淨空氣供給機構)
5、5a~5d‧‧‧通風道
6、6a~6f、202a~202f‧‧‧基板載置部
7‧‧‧空氣導入口
7A~7D‧‧‧群組
8、8a、8b‧‧‧空氣導出口
10‧‧‧分配整流構件
10a、10b‧‧‧分配壁
11‧‧‧流量節流構件
12‧‧‧擴張整流構件
13a‧‧‧分隔板(分隔構件)
13‧‧‧滾子輸送軸(基板輸送機構)
14‧‧‧軸旋轉驅動機構(輸送驅動機構)
15‧‧‧覆蓋構件(驅動系排氣機構)
16‧‧‧排氣管(驅動系排氣機構)
20、212‧‧‧殼體
100‧‧‧基板緩衝單元
200‧‧‧升降梯緩衝裝置
201a‧‧‧送入口
201b‧‧‧天板
205a‧‧‧空氣導入面
210‧‧‧輔助輸送帶機構
213‧‧‧輸送驅動機構
220‧‧‧排氣裝置
250a、250b‧‧‧輸送帶機構
圖1係依本發明之基板緩衝單元之側剖面圖。
圖2係圖1之A-A箭視剖面圖(單元框體內之俯視圖)。
圖3係圖2之B-B箭視剖面圖。
圖4係圖2之C-C箭視剖面圖。
圖5係圖2之D-D箭視剖面圖。
圖6係分配整流構件之剖面圖。
圖7係擴張整流構件之立體圖。
圖8係流量節流構件之剖面圖。
圖9係用以說明關於升降梯緩衝裝置之基板退避動作圖。
圖10係用以說明關於在習知之升降梯緩衝裝置內為使其潔淨化的構成之剖面圖。
G...玻璃基板(基板)
1...單元框體
1c...狹縫
1d...排氣狹縫
2...架座部
3...昇降機構
4a、4c...FFU(風扇過濾器單元)(潔淨空氣供給機構)
5a、5c...通風道
6a~6f...基板載置部
8b...空氣導出口
15...覆蓋構件(驅動系排氣機構)
16...排氣管(驅動系排氣機構)
20...殼體

Claims (7)

  1. 一種基板緩衝單元,用來暫時收納在基板輸送道上被輸送之基板,以使該基板自該基板輸送道退避,其特徵在於包含:空氣導入狹縫部,形成於該基板緩衝單元之框體上表面;排氣狹縫部,形成於該框體下部;箱狀之架座部,設於該基板輸送道途中,包含載置該基板之複數載置部,並以可昇降移動至偏離該基板輸送道之既定位置的方式設置;昇降機構,使該箱狀之架座部於該基板緩衝單元之框體內昇降移動;潔淨空氣供給機構,設於該箱狀之架座部之上表面或側面,用來供給經淨化之潔淨空氣;及通風道,連接該潔淨空氣供給機構與該架座部之一側面;且由該潔淨空氣供給機構供給之潔淨空氣,自設於該箱狀之架座部一側面之空氣導入口供給到每一該載置部,並由設在該箱狀之架座部的與該空氣導入口相反側之側面且針對每一該載置部的空氣導出口排氣。
  2. 如申請專利範圍第1項之基板緩衝單元,其中,該箱狀之架座部包含於內部以多段方式設有複數該載置部的箱狀之殼體,在該殼體之一側面,對應於多段方式設置之各載置部,設有複數之該空氣導入口,於該通風道設有用來將潔淨空氣分配給該複數之空氣導入口的分配整流構件。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之基板緩衝單元,其中,包含擴張整流構件,該擴張整流構件設於該空氣導入口,使由該空氣導入口供給至該載置部上之潔淨空氣呈扇狀擴散。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之基板緩衝單元,其中,在該箱狀之架座部中與該空氣導入口相反側的側面,形成有複數之該空氣導出口,且其剖面為中空構造,該箱狀之架座部包含: 基板輸送機構,用以對該載置部送入送出基板;輸送驅動機構,設在供給至該載置部上的潔淨空氣之下游側,用以驅動該基板輸送機構;及驅動系排氣機構,與該中空構造之空氣導出口分離,僅用以使供給至該輸送驅動機構之潔淨空氣排氣。
  5. 如申請專利範圍第4項之基板緩衝單元,其中,於該複數之空氣導出口分別設有用以限制流經該空氣導出口的空氣流量之流量節流機構。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之基板緩衝單元,其中,至少包含包覆該箱狀之殼體之框體,在該框體與該箱狀之殼體間之間隙空間內,於該框體之內壁上設有分隔構件,用來將分別形成有該空氣導入口與該空氣導出口之架座部一側面,及與該一側面對向之該框體的內側面間之間隙空間,以各自獨立之方式形成。
  7. 如申請專利範圍第1或2項之基板緩衝單元,其中,至少包含包覆該箱狀之殼體之框體,在該框體與該箱狀之殼體間之間隙空間內,於該殼體之外壁上設有分隔構件,用來將分別形成有該空氣導入口與該空氣導出口之架座部一側面,及與該一側面對向之該框體的內側面間之間隙空間,以各自獨立之方式形成。
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