TWI301513B - Machine for coating a substrate, and module - Google Patents

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TWI301513B
TWI301513B TW095112384A TW95112384A TWI301513B TW I301513 B TWI301513 B TW I301513B TW 095112384 A TW095112384 A TW 095112384A TW 95112384 A TW95112384 A TW 95112384A TW I301513 B TWI301513 B TW I301513B
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Applied Materials Gmbh & Co Kg
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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Description

.1301513 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 ’ 纟發明種用來被覆—基材之機器,包括-用來 • 被覆基材之機器的一被覆室及一模組。 【先前技術】 在用於製造平面螢幕、彩色據光片、顯示器、及相似 者之習知被覆機器中,基材係藉由習知失持裝置而收容於 -銘質板上且受導引通過具有數個容室之一被覆機器。 為了維修及清潔目的,可蒋動赤八& J秒動或分解該容室之一壁區 段。接著,可清潔該容室之内部,且 1 且可執行一目標變換。 期間’該機益係處於停頓。由於欲推拉 A攸進接該容室内部時受到 限制、且因此使用不便,因此停工期相對較長。 各別被覆室之間配置有泵艙,而兮* — 而該等容室可經由此而 排空。基於這種設計,習知機考脾 機态將延伸_相對較大長度。 【發明内容】 由此,本發明之一目的俏蔣 糸楗供一種機器及用於一被覆 機器之模組,其有助於磨耗部件 彳千之維修作業及縮短該機器 之停工期者。 可藉由依據申請專利第1項 &由 項之一被覆機器、及依據申 睛專利範圍第18項之一用來被覆 很復機盗之模紐,來達成本目 的。 用來被覆一基材之一本發明應 ^ 赞明機益包括一模組化設計被 3055-7925-PF;Ahddub 6 1301513 覆至’其中某一模組係以一容室區 一可移除式第姓从 °°又、該容室中或該處之 移除式第二支持件鼻及配置於該第一支持件處之-可 叉待件為特徵。該機器 基材、特別係顯示器螢幕之製造。用於舌如被覆一透明 可在一被覆機器中,視需 組。可在該等模、.中執行相同或不二:何數量之模 構造容許彈性之機器配置或组立。加工處理。模組化 可使用單-模組作為 —-而’本發明之範脅亦 該等支#徠 至之一部份、或作為一被覆室。 侧之mr二:先可自該第一支持件及該被覆室移除外 ^ 、 選擇為,該兩支持件可一同自該容室區 開。接著,可自該容室區段移開該第一支持件, 或者刀W等支持件且將其中—該等支持件移動遠離另一 固二此,將在該容室區段與該第一支持件之間、及/或該 第”該第二支持件之間產生人員彳進接之維修區域。 由於該等支持件可與該容室區段分離,因此可在該模 組各組件之間產生複數個人員可進接區域。結果可有利於 觸及到該模組各別組件之組成部件(容室區段、第一支持 件第一支持件)。尤其,可同時進接該被覆室及陰極,以 譬如維修。是以,例如兩組人員可同時清潔與維修該機器, 其中一組進接該第一支持件與該容室區段之間的自由空 3055-7925-PF;Ahddub 7 1301513 该第一組進接該第二支 該第一 -#_ 夺件一該第一支持件之間。 似者,而^ ,丨 別係包含於其中之播件及相 造成之停工期將大幅縮短。如此,因維修及清潔作業 容室持件較佳地係配置成’使其可沿橫向地自該 支持株IW 、者係可沿横向地自該第一 支持件移除。沿横向一詞係指 機器之縱向轴線相對應。材之運送方向,且與整個 -二Γΐ持件係特別形成而用於封閉該容室區段中之 杈向開口者。 至少一加U具特別配置於該第-支持件處。 在可能的加工工具中,例如有 極,作”如有用於-喷濺加工之陰 仁通吊亦有用於譬如蒸發等其他加工製程之卫且。除 加工=具以外,陰極及噴_冷卻系統、媒質連接頭、 ^外每物(撐板屏蔽件)、分隔各別陰極之隔壁、旋轉陰 虽之驅動裝置等’可配置於該等第一支持件處。電力、冷 部水、及製程氣體可經由該支持件上之相對應連接頭: 應。本發明之核心概念在於,該等組件至該等模組組件之 最^的分派可能,其可達成輕易地進接該等組件、使維 修間早、且可簡單直接地供應該等組件能量或製程氣體。 該加工工具較佳地以至少一喷濺陰極為特徵。 該加工工具特別地以至少一平面陰極及/或至少一扩 轉陰極為特徵。 疋 可將數個加工工具配置於該第一支持件處且互相鄰 3055-7925~PF;Ahddub 8 1301513 近。 〜等加工工具可配置於該被覆室中之一共用加工空間 一本具體實施例之一優點在於緊密之設計。可能在該第 支持件中配置眾多個陰極(譬如銦錫氧化物(IT〇))。 “、、而’亦可將該第一支持件形成為,使得該被覆室中 >兩加工工具或至少兩群加工工具,藉由配置於該第 、支持件處之-中間元件而互相分離。在複數個陰極互相 If況下母一該專陰極皆可分派予一專用系或一群 泵其中該泵或該群泵係配置於位在該陰極後方之外蓋上 者由於將一專用泵或成群泵分派予每一陰極者,能夠允 許各別地調整每一陰極處之氣體流,因此其特別有利。鑑 於通吊將譬如ΙΤ0陰極等相同之陰極用於一共用加工容室 中’而由於可在分離之陰極的環境中生成—特殊大氣,因 此本具體實施例允許使用不同之陰極。 該機器較佳地以-系裝置為特冑,用⑨ 該被覆室中生成—真空,其…一該“係配置於= 一支持件處。可在譬如供給、或進接以實施維修作業等不 同情況下,執行將被覆組件分派予該模組之三部件。經由 將該等泵配置於該第二支持件處(即該外蓋處),因無需 任何與該等被覆室串連之€艙,而使整個機器之長度得: 縮小。該專泵現在係配置於該等陰極後方。 該第-支持件及/或該第二支持件特別地形成為,可自 該容室區段沿橫向撤回之滑車或滑架,或著為可自該容室 區段沿橫向移開之滑車或滑架。 3055-7925-PF/Ahddub 9 1301513 複數裝置,用於當該第一及/或第二支持件自該容室區 段撤回或自該容室區段橫向移開、及/或插入該容室區段中 或橫向運動達該容室區段時導引該支持件者,係一較佳特 徵。 該等導引支持件用裝置較佳地形成為,可使自該容室 區段撤回之該第—支持件移離該容室區段,而在該第一支 持件與該容室區段之間產生一人員可進接區域。
#該等導引支持件用裝置可形成為,使自該第一支持件 橫向移開之第二支持件移離該第—支持件,而在該第一支 持件與該第:支持件之間產生—人M可進接區域。 該容室區段係以一大致垂直通路為特徵,使待被覆基 材可運送通過該容室區段u,由於本發明之原理亦可 應用於可使⑽水平運送通狀配置,因此本發明原則上 並非以一垂直配置為限。 配置,特別在該第一支持 ,亦可設想到可適應各種 該專加工工具係大致垂質地 件處尤然。然而,基於上述理由 需求之不同陰極配置。 配置之至少兩模組為 轉動工作站之機器的 該機器特別地以相關於縱軸對稱 特徵。本具體實施例對於縮減具有一 總機器長度有助益。 用來被覆一基材之一本發明模組包括至少一被~ 配置於該容室區段中或該處之一可移除式第_支^=室、 配置於該第一支持件處之一可移除式第二支持件。' 特別地,該模組具有譬如以上已說明之特徵。 3055-7925-PF;Ahddub 10 !3〇1513 本發明之更進一步目的及優點,將由以下之特定具 實施例說明顯現。 【實施方式】 於其中之一中間支持件3、及一外蓋4。 容室區段2在兩側上皆具有一開口 運送通過容室區段2。 第1圖係依據本發明之一被覆機器的一模組丨三維視 圖。模組1包括-容室或一容室區段2、複數個陰二
以將基材垂直 由於意欲將該模組用於具有轉動工作站之一被覆機器 中,因此本範例中之被覆室具有一對稱設計。緣是,容室 區段2係以對稱於該等開口 7之複數個開π 8為特徵1 頭係指示運送基材之方向。一隔壁9可將容室區段2分隔 出複數個大致對稱型容室段。 谷至區段2通常可收容基材及感測器之驅動裝置。 更’可在該容室後側壁或隔® 9之前方提供屏蔽及/或加 熱0 中間支持件3在本範例中’係形成為可相對於容室區 段:運動之一滑架。支持件3至少可在其橫向運動至容室 區段2中、或到達容室區段2的—操作位置與—維修位置 之間來回移動,如第i圖所示。經由支持件3沿橫向而自 容室2橫向移開’將釋放出一維修通路ιι&,而使人員可 進接’使得在容室區段2中、及針對配置於支持件3中之 組件的維修卫作’可舒適且簡單地執行(譬如目標變換卜 11 3055-7925-PF;Ahddub 1301513 由維修區域lla至容室區段2内部、及至支持件3兩者之 進接皆屬可能。 中間支持件3大致支承複數個陰極(第J圖中未顯 示)。在本範例中,該等陰極係藉由支持件3中之複數個隔 壁而互相分離。除了陰極以外,複數個擋件、陰極及擋件 之*冷卻系統、以及複數個媒質連接頭皆設於該支持件處。 該等媒質連接頭可譬如配置於支持件3底部處1極外環 物(擋板屏蔽件)可更包括用於使各別陰極互相分離之隔壁 Μ ’及當使用旋轉陰極時之一驅動裝置。電力供應連接頭 可譬如配置於支持件3頂部處,使得無需為執行維修 而拆離供應線路。 /、 盖亦形成為一滑架,且可相對於及獨立於第一 ㈣3運動。這意味著支持件3與外蓋4可相互移開,· 此可釋㈣-附加維㈣路指。㈣ 出人員可進接之-區域m,Λ ^將產4 "b,由此將可觸及到配置於支# 件3之組件聽置料蓋4處之組件。 支本 顯亍)外致*支承著真空系統之渦輪分子泵(第1圖" 不),且可與中間支持件3分離。支持件3盘外蓋 可在複數個軌道12上相互獨立地受導引。’、 在操作位置處,支持件3及外蓋4 容室區段2。外蓋4可封閉容室區段2側壁中=動: 支持件3中之複數個開口。 ' 、或 治構造。 目式中係顯示模組1之似三明 第 圖係由上方觀 觀看之-任思被覆機器的設計概略圖 3055-7925-PF;Ahddub 12 1301513 式。該機器係以位於一被覆室14上之一容室13、被覆室 14、一下游容室15、及一轉動工作站16為特徵。複數個 基材Π可運送通過區域13、14、及15,而至轉動工作站 16,在轉動工作站十旋轉180。且沿相反方向回送通過該被 覆機器。整個機器大體上設計成,相關於該機器之縱軸鏡 像對稱。可設想一連續與一靜止不動之被覆製程兩者,且 亦可設想到垂直或水平之基材輸送。 複數個加熱器21係配置於區域13、14、及/或15内。 被覆區域14係以位於其與區域13及15之過渡區域處的複 數個分離閥22為特徵。藉由該等分離閥,將可譬如為了維 修作業而使各別容室區域排氣,而其餘區域則無需排氣。 在本範例中以容室區段2為特徵之被覆區域14,可選 擇性地賦予不同之陰極配置。該等者係顯示於第2圖之下 方區段中。 左侧所示一之中間支持件3 a係支承著複數個旋轉陰 極5a,且中間部所示之一中間支持件3b係支承著複數個 模組化平面陰極5b。右侧所示之一支持件3c支承著互相 分離之複數個平面陰極5c,其中每一該等陰極皆分派予一 專用泵18。一外蓋4c係以一通道19為特徵,且支持件3c 係以複數個通道20為特徵,而藉此將可執行該被覆室之排 空。藉由通道20,每一陰極將可接收其專用之該果。隔壁 10係設於該等陰極之間。由於可將專用泵18分派予每一 陰極5c,因此有利於對每一陰極5c各別調整氣體流。 陰極5a、5b、5c各結合於支持件3a、3b、3c中。該 3055-7925_PF;Ahddub 13 1301513 等者可用於相同或不同之加工處理。針對不同加工處理, 亦可前後地配置不同之模組1,且整合入一整個機器中。 外蓋4a、4b、及4c大體上僅支承著泵18,且用於密 封該等被覆室。 第3圖中顯示出兩模組〗,其中中間支持件3及外蓋4 係處於遠離容室區段2之兩不同維修位置。 中間支持件3及外蓋4可與基材17之運送方向呈一直 角地作橫向運動。為了該機器作動,支持件3及外蓋4兩 者將橫向運動達容室區段2。 在左側所示之模組丨_,本範例係於容室2與支持件 3之間、及支持件3與外蓋4之間形成兩維修通路山及 uh如此,可能同時由維修區域Ub對收容於支持件3中 之該等陰極進行作業、及由維修區域Ua對該容室内部中 組件進行作業。 當處於右侧所示之支捭杜q # 、, <叉符件3及外蓋4位置時,將可形 成一較大維修區域11 a。 #第4圖係清楚顯示模組1中包含有容室區段2、支承 讀極5之巾暇持件3、及渦輪分配置於其上之 外蓋4的似三明治結構。 由圖式可清楚看出,以可與& % a y 了杈向運動模組組件3舆4, 形成為可各在軌道12上運勤少 工逆動之滑架的組成結構。 【圖式簡單說明】 第1圖係依據本發明之一 被覆機裔的一模組三維視 3055-7925-PF;Ahddub !3〇1513
第2圖係由上方觀看之一被覆機器概略視圖; 第3圖係由上方觀看之兩模組視圖;及 第4圖係本發明之一模組的三維視圖。 【主要元件符號說明】 1〜模組; 魯 3〜中間支持件; 3b〜支持件; 4〜外蓋; 4b〜外蓋; 5〜陰極; 5 c〜平面陰極; 7〜開口; 9〜隔壁; % 12〜轨道; 13〜容室; 14〜被覆室; 16〜轉動工作站; 18〜專用泵、; 20〜通道; 22〜分離閥。 2〜容室區段(容室)·, 3a〜中間支持件; 3c〜支持件; 4a〜外蓋; 4c〜外蓋; 5a〜旋轉陰極; 5b〜模組化平面陰極; 8〜開口; 10〜隔壁; 11 a〜維修通路(維修區域); lib〜附加維修通路(區域); 15〜下游容室; 17〜基材; 19〜通道; 21〜加熱器; 3055-7925-PF;Ahddub 15

Claims (1)

1301¾¾ U2384號申請專利範圍修正本 修正日期:97.5.21 十、申研專利II圍· j ΐ)7·^ 2; ^1·一種用來被覆基材之機器,包括一被覆室hi被i 室係呈模、组式,其中一模組⑴具有一容室區段(2),_第 一支持件(3),以可移除式配置於該容室區段(2)中或該 處,及一第二支持件(4) ’以可移除式配置於該第一支持件 (3)處,其特徵在於:該第一支持件(3)與該第二支持件(4) 係以相互獨立方式而移動。 2.如申請專利範圍第1項所述之機器,其中可自該容 室區段(2)沿橫向地移除該第—支持件(3),且自該第—支 持件(3 )側沿橫向地移除該第二支持件(& )。 3.如申睛專利範圍第丨至2項中任一項所述之機器, 其中該第二支持件(4)係形成為,用於封閉該容室區段(?) 中之一橫向開口者。 4·如申請專利範圍第丨至3項中任一項所述之機器, 其中至少一加工工具(5)係配置於該第一支持件(3)處。 5·如申請專利範圍第4項所述之機器,其中該加工工 具(5)係以至少一喷濺陰極(5a、5b、5c)為特徵。 6·如申請專利範圍第4或5項所述之機器,其中該加 工工具(5)係以至少一平面陰極(5b、5〇及/或至少一旋轉 陰極(5 a)為特徵。 7·如申請專利範圍第1至6項中任—項所述之機器, 其中可將數個該加工工具(5)配置於該第—支持件(3)處且 互相鄰近。 8.如申請專利範圍第7項所述之機器,其中該等加工 3055-7925-PFl;Ahddub 16 r 1301513 八(5 )係配置於該被覆室中之一共用加工空間内。 9·如申請專利範圍第7項所述之機器,其中該第一支 持件(3)形成為,可使該被覆室中之至少兩該加工工具(5) 或至v兩群该加工工具⑸,藉由配置於該第一支持件(3) 處之一中間元件(丨0)而互相分離。 1〇.如申請專利範圍第1至9項中任-項所述之機器, 其中該機器係以-系裝置為特徵,用於以複數個栗(⑻在 该被覆室中生成一直办 〇 成真二其中至少一該等泵(18)係配置於 5亥苐一支持件(4 )處。 哭二:申請專利範圍第1至10項中任-項所述之機 I,’ Γ支持件(3)及/或_二支持件⑷係形成 可自》亥谷至區段⑵沿橫向撤回之滑車或滑架,或 可自該容室區段(2)沿橫向移開之滑車或滑架。 ’”、 1 甘2.W請㈣㈣第1至U項巾任—簡述之機 (V其中複數裝置⑽,用於當該第-及/或第二支持: 3、4)自該容室區段⑵撤回或自該容室區段⑺橫向移 開、及/或插入該容室區段(2:)中 ⑺時,導引該支持件者。中&向運動相容室區段 如申請專利範圍第U 12項中任—項所述之機 。、、中複數裝置(12),用於導引該等支持件 形成為可使自該容室區段⑺撤回 ’且 該容宮F —斗你 又?寻件(3)移離 之間產生-人員可進接區域⑴⑽。…4至區段⑺ 14.如申請專利範圍第〗至13 、 —項所述之機 3055-7925-PFl/Ahddub 17 1301513 為’置(12),用於導引該等支持件(3 4、曰 形成為可使自該第一支持件(3、4),且 移離該第一支持件(3),而在#楚,寺件(4) /、 在5亥苐一支持件(3)與該第二支 持件(4)之間產生一人員可進接區域(ub)者。 15.如申請專利範㈣!至14項中任_項所述之機 器,其中該容室區段⑵係以—大致垂直通路⑺為特徵, 使一待被覆基材(17)可運送通過該容室區段(2)。 16·如申請專利範圍第丨至15項中任一項所述之機 器,其中该等加工工具(5)在該第一支持件(3)處之一大致 垂質配置。 17·如申請專利範圍第i至16項中任一項所述之機 器,其中該機器係以相關於縱轴對稱配置之至少兩該模組 (1)為特徵。 18 3055-7925-PFl;Ahddub
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