JP6335689B2 - 成膜装置及び成膜装置のメンテナンス方法 - Google Patents
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Description
成膜工程後には防着板には成膜材料が堆積するが、堆積量が多くなるとパーティクルとなって基板の成膜領域に付着するおそれもあるため、防着板のメンテナンスが定期的に行われている。
上記構成によれば、回収部は真空チャンバーの外部へ搬送することができるので、回収部の重量が大きく作業者が運び出すことが困難な場合でも、メンテナンス作業が容易になる。
上記構成によれば、回収部はグローブボックスに搬送されるので、成膜材料が、例えば大気との接触が好ましくない材料であったとしても、グローブボックス内の雰囲気下で成膜材料の回収作業を行うことができる。
上記構成によれば、傾斜面に付着した成膜材料等が回収部に導かれるので、載置部にも成膜材料が堆積しにくい。
図1に示すように、成膜装置10は、成膜機構11と、メンテナンスを行うためのグローブボックス20とを備えている。また成膜装置10は、メンテナンスのための制御等を実行する制御装置18を備えている。
連通部22の内側には、封止部25が設けられている。封止部25は、封止位置と、退避位置との間で移動可能である。真空チャンバー12が所定の圧力に調整される成膜時には、封止部25は、封止位置に配置される。また蓋部26が退避位置に配置されると、真空チャンバー12の内部空間は開放され、グローブボックス20の内部空間と連通される。
次に、成膜源15について説明する。
図5に示すように、成膜源15は、成膜材料を載置する載置部50を有している。容器支持部52の下方には、ヒータを備えた材料加熱部53が設けられている。
次に、成膜源15を搬送する搬送機構16について説明する。
搬送機構16は、動力源である搬送モータ27と、搬送モータ27の軸部に設けられたピニオン(図示略)と、ピニオンと噛合するラック(図示略)とを備えている。ラックは、例えばベース61の底面の長手方向に沿って延びており、成膜源15の移動範囲(成膜位置とメンテナンス位置との間の範囲)と同等の長さを有している。
次に、真空チャンバー12内に設けられた防着板91について説明する。
図7に示すように、防着板91は、成膜源15から成膜材料が拡散する方向に設けられており、本実施形態では、成膜位置に配置された成膜源15の鉛直方向上方に設けられている。
成膜装置10のメンテナンスの際には、例えば制御装置18の入力操作部が操作される。この操作又は操作が行われる前段階で、制御装置18は、グローブボックス20内の減圧ポンプ23を駆動し、上記ガス供給機構により不活性ガスをグローブボックス20内に供給して、所定の圧力に調整する。
(1)防着板ヒータ92により、防着板91が加熱されることによって防着板91への成膜材料の堆積が抑制される。従って、防着板91に堆積した成膜材料がパーティクルとなって基板100の成膜領域に付着することを抑制することで、防着板91のメンテナンスの頻度を低下させることができる。さらに、回収部90によって、防着板91の加熱によって防着板91から落ちた成膜材料を回収することができる。このため、真空チャンバーの底部や他の部材に防着板91から落ちた成膜材料が付着することを防ぐことができる。従って、成膜装置10のメンテナンス性を高めることができる。
・蒸発容器51近傍から、成膜材料との反応性を有しないガスを供給して、成膜材料を基板100に吹き付けてもよい。
・カバー52aを加熱するヒータを設けてもよい。このヒータは、カバー52aに内蔵するか、カバー52aの側壁部52cの間等に設けることが好ましい。
・上記実施形態では、蒸着源全体をグローブボックス20内に搬送したが、その一部をグローブボックス20内に搬送する構成であってもよい。例えば、載置部50のみをグローブボックス20内に搬送し、材料加熱部53を真空チャンバー12に固定してもよい。
・上記実施形態では、蓋部26を成膜源15とともにグローブボックス20内に搬送することによって退避位置に配置したが、蓋部26をこれ以外の方向に移動することによって退避位置に配置してもよい。例えば、蓋部26に回動軸を設け、回動軸を中心に回動させることにより退避位置及び封止位置との間を移動可能にしてもよい。さらに、蓋部26が連通口17に対して、上方向、下方向、右方向及び左方向のいずれかにスライドすることで、退避位置に配置してもよい。
・上記実施形態では、成膜源15をグローブボックス20内に搬送したが、大気との接触が好ましくない材料以外を成膜材料とする場合には、成膜源15を真空チャンバー12外へ搬送しなくてもよい。
Claims (6)
- 真空チャンバーと、
前記真空チャンバー内に配置される成膜源と、
前記真空チャンバー内に設けられる防着板と、
前記防着板を加熱する加熱部と、
前記防着板の鉛直方向の下方に配置された回収部と、
前記回収部及び前記成膜源を一体に、前記真空チャンバーに設けられた開口から前記真空チャンバーの外部に搬送する搬送機構と、
を備える成膜装置。 - 前記回収部及び前記成膜源は、前記搬送機構により、前記真空チャンバーに連結されたグローブボックスに搬送される
請求項1に記載の成膜装置。 - 前記グローブボックスに接続され、前記成膜源に供給する成膜材料を載せて前記グローブボックスに挿入されるトレイを有するパスボックスを備える
請求項2に記載の成膜装置。 - 前記成膜源は、蒸発容器を有する載置部を備え、当該載置部には、前記回収部へ向かって傾斜する傾斜面を備える
請求項1〜3のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記防着板は、前記回収部側へ傾斜する天井部と、当該天井部に連続して設けられてその端部が前記回収部の開口の鉛直方向上方に配置される側壁部と、前記側壁部の上部に設けられ、基板を搬送するための基板搬送口とを有し、
前記加熱部は、前記天井部及び前記側壁部を加熱する
請求項1〜4のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 成膜装置のメンテナンス方法において、
真空チャンバー内に設けられた成膜源から成膜材料を前記真空チャンバー内に拡散する成膜工程、又はその成膜工程後に、前記真空チャンバー内に設けられた防着板を加熱し、加熱することによって前記防着板から落ちた成膜材料を前記防着板の鉛直方向の下方に配置された回収部によって回収し、
前記回収部及び前記成膜源を一体に、前記真空チャンバーに設けられた開口から前記真空チャンバーの外部に搬送し、前記回収された成膜材料を回収し、前記成膜源に成膜材料を供給する成膜装置のメンテナンス方法。
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