KR20060067138A - 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료 Download PDF

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KR20060067138A
KR20060067138A KR1020050108011A KR20050108011A KR20060067138A KR 20060067138 A KR20060067138 A KR 20060067138A KR 1020050108011 A KR1020050108011 A KR 1020050108011A KR 20050108011 A KR20050108011 A KR 20050108011A KR 20060067138 A KR20060067138 A KR 20060067138A
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다츠야 고토
히로유키 오시타
쇼지 시바타
구미코 곤도
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니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료는, ZnO-B2O3-K2O 계 무연 유리에, Nb2O5＋La2O3＋WO3 1∼30질량% 를 함유하여 이루어지는 유리 분말로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료 {DIELECTRIC MATERIAL FOR PLASMA DISPLAY PANEL}
(특허문헌 1) 일본 공개특허공보 평11-11979호
(특허문헌 2) 일본 공개특허공보 2000-313635호
본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료에 관한 것으로, 특히, 전면 유리 기판 상에 형성되는 투명 유전체층의 형성에 사용되는 유전체 재료에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이는 자기발광형의 플랫 패널 디스플레이로서, 경량 박형, 고시야각 등의 우수한 특성을 구비하고 있고, 또한 대(大)화면화가 가능하다는 점에서, 장래성있는 표시 장치의 하나로서 주목받고 있다.
플라즈마 디스플레이 패널의 전면 유리 기판에는, Ag 이나 Cr-Cu-Cr 로 이루어지는 플라즈마 방전용의 주사 전극이 형성되고, 그 위에 방전 유지를 위해 약 30∼40㎛ 의 투명한 유전체층이 형성된다.
일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 유리 기판이나 배면 유리 기 판에는 소다라임 유리나 고변형점 유리가 사용되어 있고, 유리 기판에 유전체층을 형성함에 있어서는, 유리 기판의 변형을 방지하고 전극과의 반응을 억제하기 위해 500∼600℃ 정도의 온도역에서 소성하는 방법이 채용되고 있다. 그 때문에, 유전체 재료는, 유리 기판의 열팽창계수에 적합하고, 500∼600℃ 에서 소성할 수 있는 성질이 요구되고 있다.
또한, 유전체층은 높은 내전압을 갖는 동시에 높은 투명성을 가질 필요가 있기 때문에, 유전체 재료에는 소성시에 기포가 빠지기 쉬울 것, 예를 들면 기포가 잔존하는 경우에도 커다란 기포로 되지 않을 것도 요구되고 있다.
상기한 요구 특성을 만족하는 것으로서, 특허문헌 1 에 개시된 PbO-B2O3-SiO2 계의 납유리 분말을 사용한 유전체 재료가 사용되어 왔지만, 최근 환경 보호에 대한 관심 고조나 환경 부하 물질의 사용 삭감과 같은 움직임으로부터, 특허문헌 2 에 개시된 ZnO-B2O3-K2O 계의 무연 유리 분말을 사용한 유전체 재료도 사용되게 되었다.
그러나, 특허문헌 1 호에 개시된 납계 유리의 유전율이 9∼12 인 데 대하여, 특허문헌 2 에 개시된 ZnO-B2O3-K2O 계 무연 유리의 유전율은 7 이하로 낮기 때문에, 상기한 무연 유리로 제작한 유전체층은 화상을 비춰내기 위한 방전 특성도 낮아진다. 납계 유리 분말로 이루어지는 유전체층과 동등한 방전 효율을 얻기 위해서는 유전체층의 막두께를 얇게 할 필요가 있지만, 유전체층의 막두께가 얇아지 면 절연성의 확보가 곤란해진다. 그 때문에, 무연계 유리 분말과 납계 유리 분말과는 동일한 조건에서 다룰 수 없다는 문제가 있었다.
본 발명의 목적은, 무연계 유리 분말을 사용하더라도, 유전율이 높고, 또한 유리 기판에 적합한 열팽창계수를 가지며, 600℃ 이하의 온도에서 소성할 수 있고, 투명성이 우수한 유전체층을 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료를 제공하는 것이다.
본 발명자들은 여러 가지로 실험한 결과, ZnO-B2O3-K2O 계 무연 유리 분말로 이루어지는 유전체 재료라고 해도, Nb2O5, La2O3 및 WO3 중 어느 하나의 성분을 첨가함으로써 유전율을 높일 수 있다는 것을 발견하여 제안하는 것이다.
즉, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료는, ZnO-B2O3-K2O 계 무연 유리에, Nb2O5＋La2O3＋WO3 1∼30질량% 를 함유하여 이루어지는 유리 분말로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료는, 유전율이 높고, 또한 유리 기판에 적합한 열팽창계수를 가지며, 600℃ 이하의 온도에서 소성할 수 있고, 투명성이 우수한 유전체층을 얻을 수 있다. 그 때문에, 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료로서 적합하다.
바람직한 실시예의 설명
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료는, ZnO-B2O3-K2O 계 무연 유리를 기본 조성으로 한다. 이 계의 유리는, 전극 성분인 Ag 이나 Cu 와의 반응을 막아 유리의 착색을 억제할 수 있는 특성을 갖고 있다. 또, 이 계의 유리에, Nb2O5, La2O3 및 WO3 중 어느 하나의 성분을 첨가하고 있다. 이와 같이 함으로써, 무연계 유리 분말로 이루어지는 유전체 재료라고 해도, 유전율이 높고, 투명성이 우수한 유전체층을 얻을 수 있다.
한편, 유전율은, 25℃, 1MHz 에서, 8.0 이상, 특히 8.2 이상이 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 유전율이 8.0 보다 작아지면 방전 특성을 확보하기 위해서 유전체층의 막두께를 얇게 하지 않으면 안되어, 절연성의 확보가 어려워진다. 그 때문에, 종래부터 사용되고 있는 납계 유리 분말과 동일한 조건에서 취급하기가 어려워진다.
유전율을 8.0 이상으로 하기 위해서는, ZnO-B2O3-K2O 계 유리에, Nb2O5, La2O3 및 WO3 을 합계량으로 1% 이상 함유시키는 필요가 있다. 그러나, 30% 를 초과하여 함유시키면, 유리가 결정화되어 투명한 소성막을 얻기 어려워지거나, 유리의 연화점이 높아져 600℃ 이하의 온도에서 소성하기가 어려워지므로 바람직하지 못하다. 바람직한 범위는 2∼25% 이고, 보다 바람직하게는 3∼20% 이다.
상기 ZnO-B2O3-K2O 계 유리를 사용함에 있어서, 600℃ 이하의 온도에서 소성할 수 있도록 하기 위해서는, B2O3/ZnO 의 값을 0.415∼0.680 의 범위로 하는 것이 바람직하다. B2O3/ZnO 의 값이 0.415 보다 작아지면 결정이 석출되기 쉬운 경향이 있으므로 투명한 소성막이 얻기 어려워진다. 한편, 이 값이 0.680 보다 커지면 유리의 연화점이 높아지는 경향이 있어, 600℃ 이하의 온도에서 소성하기가 어려워진다. 보다 바람직하게는 0.420∼0.675 이고, 더욱 바람직하게는 0.450∼0.675 이다.
또한, 본 발명에 사용하는 ZnO-B2O3-K2O 계 유리 분말은, 투명성이 우수하고, 유리 기판에 적합한 열팽창계수를 가지며, 600℃ 이하의 소성에 의해 양호한 유동성을 나타내는 유리이면 제한되지 않지만, 특히, 실질적으로 PbO 를 함유하지 않고, 질량백분율로, ZnO 20∼50%, B2O3 10∼40%, K2O 2∼20%, Li2O＋Na2O 0∼10%, SiO2 0∼20%, Al2O3 0∼5%, CaO＋SrO＋BaO 0∼20%, Nb2O5＋La2O3＋WO3 1∼30% 를 함유하는 유리를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서 유리의 조성을 상기한 바와 같이 한정한 이유는 다음과 같다.
ZnO 는 유리를 구성하는 주성분인 동시에 연화점을 낮추는 성분으로, 그 함유량은 20∼50%, 바람직하게는 25∼47% 이다. ZnO 의 함유량이 적어지면 상기 효과를 얻기가 어려워진다. 한편, 함유량이 많아지면 유리가 결정화되기 쉬운 경향이 있어, 투명한 소성막이 얻기 어려워진다.
B2O3 는 유리의 골격을 형성함과 함께 유리화 범위를 확대시키는 성분으로, 그 함유량은 10∼40%, 바람직하게는 15∼35% 이다. B2O3 의 함유량이 적어지면 유리가 결정화되기 쉬운 경향이 있어, 투명한 소성막이 얻기 어려워진다. 한편, 함유량이 많아지면 유리의 연화점이 높아지는 경향이 있어, 600℃ 이하의 온도에서 소성하기가 어려워진다. 또한, 열팽창계수가 유리 기판보다 커지는 경향이 있어, 유리 기판의 열팽창계수와의 정합이 어려워진다.
한편, 투명성이 우수하고, 600℃ 이하의 온도에서 소성할 수 있는 유전체층을 얻기 위해서는, B2O3/ZnO 의 값을 0.415∼0.680 (보다 바람직하게는 0.420∼0.675, 더욱 바람직하게는 0.450∼0.675) 의 범위로 하는 것이 바람직하다. 이 값이 작아지면 결정이 석출되기 쉬운 경향이 있어, 투명한 소성막이 얻기 어려워진다. 한편, 이 값이 커지면 유리의 연화점이 높아지는 경향이 있어, 600℃ 이하의 온도에서 소성하기가 어려워진다.
K2O 는 유리의 연화점을 저하시키거나 열팽창계수를 조정하는 기능이 있고, 또, 전극 성분인 Ag 이나 Cu 와의 반응에 의한 황변을 억제하는 성분으로, 그 함유량은 2∼20%, 바람직하게는 3∼15% 이다. K2O 의 함유량이 적어지면 상기 효과를 얻기 어려워진다. 한편, 함유량이 많아지면 열팽창계수가 유리 기판보다 커지는 경향이 있어, 유리 기판의 열팽창계수와의 정합이 어려워진다.
Li2O 나 Na2O 는 유리를 저융점화시키거나 열팽창계수를 조정하기 위해 첨가하는 성분으로, 이들 성분은 합계량으로 0∼10%, 바람직하게는 0∼5% 이다. 이 들 성분의 합계량이 많아지면, K2O 를 사용하더라도 전극과의 반응에 의한 황변을 방지하는 것이 어려워진다. 또한, 결정이 석출되기 쉬운 경향이 있어, 투명한 소성막이 얻기 어려워진다.
한편, Li2O 나 Na2O 를 사용하는 경우, 전극과의 반응에 의한 황변이나 결정의 석출을 방지하기 위해, 몰비로 (Li2O＋Na2O)/K2O≤1 가 되도록 하는 것이 바람직하다.
SiO2 는 유리의 골격을 형성하는 성분으로, 그 함유량은 O∼20%, 바람직하게는 3∼15% 이다. SiO2 의 함유량이 많아지면 유리의 연화점이 높아지는 경향이 있어, 600℃ 이하의 온도에서 소성하기가 어려워진다.
Al2O3 은 유리의 분상성을 억제함과 함께 내후성을 향상시키는 성분으로, 그 함유량은 0∼5%, 바람직하게는 0∼3% 이다. Al2O3 의 함유량이 많아지면 유리의 연화점이 높아지는 경향이 있어, 600℃ 이하의 온도에서 소성하기가 어려워진다.
CaO, SrO 및 BaO 는 유리의 연화점을 저하시키거나 열팽창계수를 조정하기 위해서 첨가하는 성분으로, 이들 성분은 합계량으로 0∼20%, 바람직하게는 0∼16% 이다. 이들 성분의 합계량이 많아지면 열팽창계수가 유리 기판보다 커지는 경향이 있어, 유리 기판의 열팽창계수와의 정합이 어려워진다.
Nb2O5, La2O3 및 WO3 은, 유리의 유전율을 높이는 성분으로, 이들 성분은 합계량으로 1∼30%, 바람직하게는 2∼25% 이고, 보다 바람직하게는 3∼20% 이다. 이들 성분의 합계량이 1% 보다 적어지면 상기 효과를 얻기 어려워진다. 한편, 이들 성분의 합계량이 30% 보다 많아지면, 유리가 결정화되어 투명한 소성막을 얻을 수 없게 되거나, 유리의 연화점이 높아져 600℃ 이하의 온도에서 소성할 수 없게 된다.
한편, La2O3 및 WO3 은, 열팽창계수를 크게 하는 성분이기도 하기 때문에, 열팽창계수를 그다지 크게 하고 싶지 않은 경우에는, Nb2O5 를 필수성분으로 사용하고, 필요에 따라 La2O3 및 WO3 을 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 각 성분의 함유량은, Nb2O5 1∼25%, La2O3 0∼15%, WO3 0∼15% 인 것이 바람직하다.
또한, Nb2O5 및 WO3 은, 원료 가격이 다른 성분에 비하여 현저히 높기 때문에, 비용의 상승을 억제하고 싶은 경우에는, La2O3 를 필수성분으로 사용하고, 필요에 따라 Nb2O5 및 WO3 에 추가하여, BaO 를 병용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 각 성분의 함유량은, La2O3 1∼25%, Nb2O5 0∼15%, WO3 0∼15%, BaO 0∼18 % 인 것이 바람직하다.
그리고, 상기 성분 이외에도, 요구되는 특성을 손상시키지 않는 범위에서 여러 가지 성분을 첨가할 수 있다. 예를 들어, 유리의 연화점을 저하시키기 위해서 Cs2O 나 Rb2O 등을 합계량으로 10% 까지, Ag 이나 Cu 와의 반응에 의한 황변을 한층 더 억제하기 위해서 CuO, Bi2O3, Sb2O3, CeO2, MnO 등을 합계량으로 10% 까지, 유리를 안정화시키거나, 내수성이나 내약품성을 향상시키기 위해서 TiO2, ZrO2, SnO2, Ta2O5, P2O5 등을 합계량으로 10% 까지 첨가할 수 있다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료에 있어서의 유리 분말의 입도는, 평균 입경 (D50) 이 3.0㎛ 이하, 최대 입경 (Dmax) 이 20㎛ 이하인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 어느 하나라도 그 상한을 초과하면, 소성막 중에 큰 기포가 잔존하기 쉬워지기 때문이다.
한편, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료는, 전면판에 사용되는 투명 유전체, 또는 배면판에 사용되는 어드레스 유전체 어느 용도에 있어서도 사용하는 것이 가능하고, 물론 그 이외의 용도에 있어서도 사용할 수 있다. 어드레스 유전체로서 사용하는 경우, 소성 후의 강도나 외관의 조절을 위해, 알루미나, 지르콘, 지르코니아, 뮬라이트, 실리카, 티타니아, 산화주석 등의 세라믹 분말을 45질량% 까지의 범위에서 함유시킬 수 있다.
다음으로, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료의 사용 방법에 대해 설명한다. 본 발명의 재료는, 예를 들어 페이스트나 그린시트 등의 형태로 사용할 수 있다.
페이스트의 형태로 사용하는 경우, 상기 서술한 유리 분말과 함께 열가소성 수지, 가소제, 용제 등을 사용한다. 페이스트 전체에서 차지하는 유리 분말의 비율로는 30∼90질량% 정도가 일반적이다. 한편, 세라믹 분말은 필요에 따라 사용한다.
열가소성 수지는, 건조 후의 막강도를 높이고 또한 유연성을 부여하는 성분으로, 그 함유량은 0.1∼20질량% 정도가 일반적이다. 열가소성 수지로는 폴리부틸메타아크릴레이트, 폴리비닐부티랄, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸메타아크릴레이트, 에틸셀룰로오스 등이 사용가능하고, 이들을 단독으로 또는 혼합하여 사용한다.
가소제는, 건조 속도를 컨트롤함과 함께 건조막에 유연성을 부여하는 성분으로, 그 함유량은 0∼10질량% 정도가 일반적이다. 가소제로는 부틸벤질프탈레이트, 디옥틸프탈레이트, 디이소옥틸프탈레이트, 디카프릴프탈레이트, 디부틸프탈레이트 등이 사용가능하고, 이들을 단독으로 또는 혼합하여 사용한다.
용제는 재료를 페이스트화하기 위한 재료로, 그 함유량은 10∼30질량% 정도가 일반적이다. 용제로는, 예를 들어 테르피네올, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올모노이소부틸레이트 등을 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
페이스트는, 유리 분말, 세라믹 분말, 열가소성 수지, 가소제, 용제 등을 준비하여, 이것을 소정 비율로 혼련함으로써 제작할 수 있다.
이러한 페이스트를 사용하여 유전체층을 형성하기 위해서는, 우선, 이들 페이스트를 스크린 인쇄법이나 일괄 코트법 등을 사용하여 도포하여 소정의 막두께의 도포층을 형성한 후, 건조시킨다. 그 후, 소성함으로써 소정의 유전체층을 얻을 수 있다.
본 발명의 재료를 그린시트의 형태로 사용하는 경우, 상기 유리 분말과 함 께, 열가소성 수지, 가소제 등을 사용한다. 한편, 세라믹 분말은 필요에 따라 첨가한다.
유리 분말의 그린시트 중에서 차지하는 비율은 60∼80질량% 정도가 일반적이다.
열가소성 수지 및 가소제로는, 상기 페이스트의 조제시에 사용되는 것과 동일한 열가소성 수지 및 가소제를 사용할 수 있고, 열가소성 수지의 혼합 비율로는 5∼30질량% 정도가 일반적이고, 가소제의 혼합 비율로는 0∼10질량% 정도가 일반적이다.
그린시트를 제작하는 일반적인 방법으로는, 상기 유리 분말, 세라믹 분말, 열가소성 수지, 가소제 등을 준비하고, 이들에 톨루엔 등의 주용매나, 이소프로필알코올 등의 보조용매를 첨가하여 슬러리로 하여, 이 슬러리를 닥터 블레이드법에 의해 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 등의 필름 위에 시트 성형한다. 시트 성형 후, 건조시킴으로써 용매나 용제를 제거하고, 그린시트로 할 수 있다.
이상과 같이 해서 얻어진 그린시트를, 유리층을 형성해야 할 지점에 열압착하여 도포층을 형성한 후에, 상기 서술한 페이스트의 경우와 같이 소성하여 유전체층을 얻는다.
상기 설명에 있어서는, 유전체 형성 방법으로서 페이스트 또는 그린시트를 사용한 방법을 예로 들어 설명하고 있지만, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료는, 이들 방법에 한정되는 것이 아니라, 감광성 페이스트법, 감광성 그린시트법 등 그 밖의 형성 방법에도 적용될 수 있는 재료이다.
(실시예)
이하, 본 발명의 플라즈마 디스플레이의 유전체 재료를 실시예에 근거하여 상세히 설명한다.
표 1∼6 은, 본 발명의 실시예 (시료 No.1∼19) 및 비교예 (시료 No.20∼22) 를 나타내고 있다. 한편, 시료 No.22 는, 납계 유리로 이루어지는 종래품을 나타내는 것이다.
Figure 112005064998645-PAT00001
Figure 112005064998645-PAT00002
Figure 112005064998645-PAT00003
Figure 112005064998645-PAT00004
Figure 112005064998645-PAT00005
Figure 112005064998645-PAT00006
표의 각 시료는 다음과 같이 하여 조제하였다.
우선, 질량% 로 표에 나타낸 유리 조성이 되도록 원료를 조합하여, 균일하게 혼합하였다. 이어서, 백금 도가니에 넣고 1300℃ 에서 2시간 용융한 후, 용융 유리를 얇은 판모양으로 성형하였다. 계속해서, 이들을 유체 에너지 밀로 분쇄하고 기류(氣流) 분급하여 평균 입경 (D50) 이 3.0㎛ 이하, 최대 입경 (Dmax) 이 20㎛ 이하인 유리 분말로 이루어지는 시료를 얻었다. 이렇게 해서 얻어진 유리 분말에 관해서 유전율, 열팽창계수, 연화점, 유리의 착색 유무 및 결정 석출의 유무를 평가하였다.
표에서 알 수 있듯이, 실시예인 시료 No.1∼19 는, 유전율이 8.4 이상으로 높고, 열팽창계수는 65∼84×10-7/℃ 이며, 유리 기판과 정합하는 것이었다. 또한, 연화점은 605℃ 이하여서 600℃ 이하의 온도에서 소성할 수 있는 것이었다. 그리고, 유리의 착색이나 결정의 석출도 거의 없이 투명한 소성막이 얻어졌다.
이에 대하여, 비교예인 시료 No.20 은, 유전율이 9.8 로 높지만, 연화점이 650℃ 로 높고, 또 연화점 부근의 온도에서 소성하더라도 유리에서 결정이 석출되어 유백색을 띠므로 투명한 소성막이 얻어지지 않았다. 또한, 시료 No.21 은, 유전율이 6.8 로 낮았다.
한편, 유전율에 관해서는, 각 시료를 분말 프레스 성형하여, 소성한 후, 2㎜ 의 판상체로 연마 가공하고, JIS C2141 에 기초하여 측정함으로써, 25℃, 1MHz 에서의 값을 구하였다.
열팽창계수에 관해서는, 각 시료를 분말 프레스 성형하여, 소성한 후, 직경 4㎜, 길이 40㎜ 의 원주모양으로 연마 가공하고, JIS R3102 에 기초하여 측정함으로써, 30∼300℃ 의 온도 범위에 있어서의 값을 구하였다.
유리의 연화점에 관해서는, 매크로형 시차열 분석계를 사용하여 측정하여, 제 4 변곡점의 값을 연화점으로 하였다.
소성 온도에 관해서는, 다음과 같은 방법으로 측정하였다. 우선, 각 시료를 에틸셀룰로오스의 5% 테르피네올 용액에 혼합하고, 3개의 롤 밀로 혼련하여 페이스트화하였다. 이어서, 이 페이스트를, 약 30㎛ 의 소성막이 얻어지도록 유리 기판 상에 스크린 인쇄법으로 도포, 건조시켜서, 전기로 중에 넣은 후 10분간 유지하여 소성하였다. 이렇게 해서 얻어진 소성막 위에 유성 잉크를 바른 후, 알코올로 닦아 내어, 잉크가 스며들지 않고, 양호하게 닦여질 때의 온도를 소성 온도로 하였다.
유리의 착색 유무 및 결정 석출 유무에 관해서는, 상기한 바와 같이 하여 제작한 페이스트를, 약 30㎛ 의 소성막이 얻어지도록 Ag 전극이 형성된 소다라임 유리 기판 상에 스크린 인쇄법으로 도포, 건조시켜서 전기로 중에 넣은 후, 표 중의 소성 온도에서 10분간 유지하였다. 이렇게 해서 얻어진 소성막에 관해서, 전극 주변부나 소성막 전체를 육안으로 관찰하여 착색 유무를 평가하여, 이어서, 광학현미경을 사용하여 결정 석출 유무를 평가하였다. 한편, 관찰한 소성막에, 착색이나 결정의 석출이 전혀 인정되지 않는 것을 「◎」, 미소하게 착색이나 결정 석출이 인정된 것을 「○」, 분명하게 착색이나 결정의 석출이 인정된 것을 「×」로 하여 표 중에 나타내었다.
따라서, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료는, 무연계 유리 분말을 사용하더라도, 유전율이 높고, 또한 유리 기판에 적합한 열팽창계수를 가지 며, 600℃ 이하의 온도에서 소성할 수 있고, 투명성이 우수한 유전체층을 형성할 수 있다.

Claims (5)

  1. ZnO-B2O3-K2O 계 무연 유리에, Nb2O5＋La2O3＋WO3 1∼30질량% 를 함유하여 이루어지는 유리분말로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료.
  2. 제 1 항에 있어서, 무연 유리의 B2O3/ZnO 의 값이, 질량비로 0.415∼0.680 인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 무연 유리가, 질량백분율로, ZnO 20∼50%, B2O3 10∼40%, K2O 2∼20%, Li2O＋Na2O 0∼10%, SiO2 0∼20%, Al2O3 0∼5%, CaO＋SrO＋BaO 0∼20%, Nb2O5＋La2O3＋WO3 1∼30% 를 함유하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 25℃, 1MHz 에서의 유전율이 8.0 이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 유리 분말의 입도는, 평균 입경 (D50) 이 3.0㎛ 이하, 최대 입경 (DMax) 이 20㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 유전체 재료.
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