KR20060030892A - 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면다듬질하기 위한 방법 - Google Patents

기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면다듬질하기 위한 방법 Download PDF

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KR20060030892A
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미찌히로 야마하라
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쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
    • B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
    • B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain

Abstract

기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지 상에 경면 다듬질을 제공하기 위한 방법이 개시되며, 이에 의해 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 피트가 단순한 처리와 저비용으로 짧은 시간 내에 제거된다. 자유 연마 입자를 사용하지 않고, 세라믹 플레이트로 이루어진 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 연마 입자를 포함하는 수지 브러시(2, 2')로 연삭하는 단계를 포함하는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법이 또한 개시된다.
기록 매체 디스크 미가공 플레이트, 경면 다듬질, 수지 브러시, 연마 입자

Description

기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법{PROCESS FOR MIRROR-FINISHING EDGE OF RECORDING MEDIA DISK RAW PLATE}
본 발명은 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질(mirror-finishing)하기 위한 방법, 특히 자유 연마 입자(free abrasive grains)를 사용하지 않고 세라믹 플레이트로부터 펀칭된 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법에 관한 것이다.
종래에, 디스크 재료는 퍼스널 컴퓨터용 하드 디스크와 같은 정보 기록 매체 및 음향 매체, 예를 들어 콤팩트 디스크 및 미니 디스크를 위한 기판에 널리 사용되었다. 최근에는, 고밀도로 정보를 기록할 수 있는 세라믹 플레이트에 대한 수요가 급격히 증가하였고, 이에 대한 처리 기술의 개발에 연구가 집중되었다.
정보 기록 매체용 디스크 기판은 일반적으로 다음의 방식으로 형성된다. 세라믹 플레이트는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트를 형성하도록 먼저 세라믹 커터로 펀칭되고 나서 에지가 모따기 된다. 일반적으로, 모따기 공정은 디스크 미가공 플레이트의 에지를 다이아몬드 휠로 사다리꼴 단면으로 연삭하고 형체를 이루게 하는 것으로 수행된다. 다이아몬드 휠이 세라믹보다 훨씬 더 단단하기 때문에, 많은 피트(pit)가 연삭 및 형상화 공정 중에 연삭된 플레이트 면 상에 발생된다.
연삭 지꺼기(grounding-wastes) 및 연삭 보조제로부터 파생된 미세한 미립자는 이물질로서 피트에 들어가서, 다음의 공정들 중에 그로부터 배출되어, 기판 표면상의 오염을 일으킨다. 그러므로, 다듬질 공정은 디스크 미가공 플레이트의 에지를 위하여 피트를 제거하기 위해서 수행된다.
본 발명은 상술된 종래의 문제를 해결하기 위하여 의도되어 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하는 방법이 제공됨으로써, 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지의 피트가 단순한 처리와 저비용으로 짧은 시간 내에 제거된다.
본 발명은, 자유 연마 입자를 사용하지 않고, 세라믹 플레이트로 이루어진 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 연마 입자를 포함하는 수지 브러시로 연삭하는 단계를 포함하는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법을 제공함으로써, 상술된 목적이 달성된다.
본 발명의 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법은,
(1) 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 형체를 이루도록 연삭하는 단계와,
(2) 자유 연마 입자를 사용하지 않고, 디스크 미가공 플레이트의 에지를 연마 입자를 포함하는 수지 브러시로 연삭하는 단계를 포함한다.
도1은 다이아몬드 휠을 이용하여 연삭되고 형체를 이루는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지의 형상을 도시하는 개략적인 단면도이다.
도2는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하는 방법의 일실시예를 도시하는 개략적인 단면도이다.
도3은 두 종류의 수지 브러시가 결합된 휠형 수지 브러시의 일례를 도시하는 사시도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
a : 사다리꼴의 상부 측면
Theta : 사다리꼴의 두 단부 상의 경사각
1 : 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의
2 : 휠형 수지 브러시
본 발명에 있어서, 기록 매체 디스크 미가공 플레이트는 전자 정보가 저장되고 판독될 수도 있는, 하드 디스크 세라믹 기판 및 실리콘 웨이퍼 기판과 같은, 정보 기록 매체를 위한 디스크 기판으로서 사용되는 디스크 재료를 언급한다.
기록 매체 디스크 미가공 플레이트로서 유리를 사용하는 경우에, 그 재료는 다공성 유리 또는 결정성 유리일 수도 있다. 디스크 미가공 플레이트의 두께는, 하드 디스크로서 사용될 때, 일반적으로 0.4 내지 1.4 mm이고, 보다 일반적으로 0.6 내지 0.8 mm 이다.
세라믹 플레이트가 정보 기록 매체용 디스크 기판으로 처리될 때, 세라믹 플 레이트는 일반적으로 세라믹 커터로 사다리꼴 형상으로 펀칭된다. 다음에, 펀칭된 디스크 미가공 플레이트의 에지는 에지의 모서리를 절단하기 위하여 다이아몬드 휠로 전형적으로 사다리꼴 단면으로 연삭되고 형상화된다.
도1은 다이아몬드 휠을 이용하여 연삭되고 형상화되는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지의 일 실시예를 도시하는 개략적인 단면도이다. 디스크 미가공 플레이트의 두께가 0.6 mm인 경우에, 사다리꼴의 상부 측면 "a"은 길이가 약 300 ㎛이고, 두 단부 상의 경사각 "theta"는 약 45도이다.
세라믹과 같은 취성 재료가 다이아몬드 휠을 이용하여 형상화되도록 연삭될 때, 피트는 모두 연삭 표면을 통해 형성된다. 디스크 미가공 플레이트의 에지는 사다리꼴 단면으로 연삭되고 형상화되고, 모든 연삭 표면을 통해 직경이 20 내지 50 ㎛를 갖는 피트가 존재한다.
피트는 연삭 지꺼기와 같은 이물질로 흔히 채워지고, 이물질은 기판상의 오염을 일으키도록 다음의 공정 중에 그로부터 배출된다. 최근에, 특히 고밀도가 기록 매체에 요구되었고, 기판 표면상의 오염은 최대한 제거되어야만 한다. 이에 따라, 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지에서 존재하는 피트는 제거되어야만 한다.
본 개시 내용의 일 태양에 따라서, 피트는 사다리꼴 단면으로 형체를 이루도록 연삭된 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질에 의해 제거된다. 특히, 디스크 미가공 플레이트의 에지는, 슬러리(slurry)에서의 것들과 같은, 자유 연마 입자를 사용하지 않고 연마 입자를 포함하는 수지 브러시로 연삭된다. 수지 브러 시 없이 부수어진 입자는 자유 연마 입자로서 고려되지 않는다. 또한 디스크 미가공 플레이트의 에지는 디스크 미가공 플레이트의 외부 에지 및 내부 에지 모두를 포함한다는 것을 유의해야 한다.
연마 입자를 포함하는 수지 브러시는 마찰 기능을 제공하는 브러시, 필라멘트 부분 또는 강모(bristle) 부분을 언급하며, 연마 입자를 포함하는 수지로 이루어진다. 필라멘트(또는 강모)는 굽힘 가능한 작은 단면을 갖는 긴 형상 부재를 언급한다. 입자를 포함하는 수지 브러시의 예는 아래에 기술된다.
필라멘트는 종횡비(aspect ratio)가 일반적으로 적어도 1, 보다 일반적으로 적어도 5, 보다 전형적으로 적어도 10, 가장 전형적으로 적어도 20을 갖는다.
이 종횡비는 평균 넓이로 나누어진 길이의 값으로 한정된다. 필라멘트 부분은 바람직한 임의의 길이 또는 넓이를 가질 수도 있고, 그 단면의 형상은 예를 들어 원형, 타원형, 정사각형, 삼각형, 직사각형, 다각형 또는 {3타원형(triellipse) 및 4타원형(quadrellipse)과 같은} 복잡한 타원형일 수도 있다. 그러므로, 필라멘트 부분은 단면에서 다양한 영역을 가질 수 있다. 필라멘트 부분은 예를 들어 아치형 또는 웨이브형 만곡부, 그 위의 패턴일 수도 있으며, 저부로부터 상부로 테이퍼될 수도 있다.
필라멘트 부분의 직경은 일반적으로 범위가 0.01 내지 100 mm, 보다 일반적으로 0.05 내지 50 mm, 전형적으로 0.1 내지 25 mm, 보다 전형적으로 0.2 내지 10 mmm, 가장 전형적으로 0.25 내지 5 mm이다. 필라멘트의 길이, 즉 트림(trim)의 길이는 범위가 1 내지 1000 mm, 전형적으로 2 내지 100 mm, 바람직하게 3 내지 75 mm, 보다 바람직하게 4 내지 50 mm, 가장 바람직하게 5 내지 50 mm이다.
필라멘트 부분을 구성하는 수지는 바람직하게 가요성을 갖는다. 이것은 필라멘트 부분이 균일하게 연삭을 행하도록 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지에서의 불규칙성을 따르게 할 수 있기 때문이다.
수지는 열가소성 폴리머 또는 열가소성 엘라스토머일 수도 있다. 수지의 실내 온도에서 쇼어 D 경도계 경도(shore D durometer hardness)는, ASTM D790에 의해 결정된 값인, 전형적으로 적어도 약 30, 보다 전형적으로 약 30 내지 약 90이다.
열가소성 폴리머의 예는 폴리카보네이트, 폴리에테르 이미드, 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리설폰, 폴리스틸렌, 폴리부틸렌, 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌 블록 혼성 폴리머, 폴리프로필렌, 아세탈 폴리머, 폴리우레탄, 폴리아미드 및 그 조합을 포함한다. 열가소성 엘라스토머의 예는 세그먼트화(segmented) 폴리에스테르 열가소성 엘라스토머, 세그먼트화 폴리우레탄 열가소성 엘라스토머, 세그먼트화 폴리아미드 열가소성 엘라스토머, 열가소성 엘라스토머 및 열가소성 폴리머의 조합, 및 아이오노머(ionomer) 열가소성 엘라스토머를 포함한다.
상술된 수지로서 바람직한 열가소성 폴리머 및 열가소성 엘라스토머는, 예를 들어, 본 명세서에 참조된, 일본 특허 고효(Kohyo) 공보 제2001-502185호의 45페이지의 아래로부터 7열 내지 50페이지 6열에서 더 상세히 기술된다.
연마 입자의 예는 용해된 산화 알루미늄, 열처리된 용해된 산화 알루미늄, 세라믹 산화 알루미늄, 열처리된 산화 알루미늄, 실리콘 카바이드, 붕화티타늄 (titanium diboride), 알루미늄 지르코니아(aluminum zirconia), 다이아몬드, 탄화붕소(boron carbide), 산화 세륨(ceria), 입방정 질화붕소(cubic boron nitride), 석류석(garnet)의 입자, 및 이들 입자의 조합을 포함한다.
연마 입자는 일반적으로 범위가 0.1 내지 1500 ㎛의 입자 크기를 갖는다. 입자 크기는 전형적으로 약 1 내지 1300 ㎛, 보다 전형적으로 50 내지 500 ㎛이다. 표1에서 나타낸 바와 같이, 연마 입자의 입자 크기는 연마 입자를 포함하는 수지 브러시의 바람직한 기능 및 용도와 일치하여 적절하게 조정될 수 있다.
[표1]
Figure 112006000308595-PCT00001
연마 입자는 수지에 대한 연마 입자의 중량비가 0.25 내지 1, 바람직하게 0.4 내지 0.8이 되도록 양에서 필라멘트 부분 내에 함유된다. 중량비가 0.25 아래의 연마 입자의 양은 너무 작아서 다듬질하기에 너무 많은 시간이 걸리는 반면에, 중량비가 1을 넘는 연마 입자의 양은 수지에 대하여 너무 많아서 브러시의 강도가 더 저하되고 유효수명이 짧아진다.
일반적으로 연마 입자는 실질적으로 잘 분산된 분포를 형성하기 위해서 산재되지만, 이것이 요구되지는 않는다. 또한, 대부분의 연마 입자가 수지 내에 완전 히 끼워지는 동안, 이것은 입자가 수지 표면의 바깥쪽으로 부분적으로 노출되는 가능성을 배제하려는 의도는 아니다.
본 발명에서 채택된 연마 입자를 포함하는 수지 브러시는 디스크형 허브(hub) 부분과 반경 방향에서 허브(hub) 부분의 외면으로부터 연장되는 복수의 필라멘트(또는 강모) 부분을 갖는 형상이 바람직하다. 이것은 디스크 미가공 플레이트의 외부 에지 및 내부 에지가 디스크형 수지 브러시의 외면을 이용하여 쉽게 연삭될 수 있기 때문이다. 부가적으로, 복수의 디스크형 수지 브러시는 더 넓은 브러시가 되도록 동축으로 적층될 수도 있다.
연마 입자를 포함하는 수지 브러시는 모놀리식(또는 일체식) 성형에 의해 연마 입자를 함유하는 플라스틱 수지로부터 조합될 수 있다. 즉, 처음에 수지는 수지가 유동하는 용융점을 넘어 가열되고, 연마 입자는 슬러리를 제공하도록 수지 내로 분산시키고, 그리고 나서 수지 슬러리는 소정의 형상으로 챔버(chamber)를 포함하는 금속 주형으로 도입되고, 수지 슬러리는 수지 브러시의 형상을 형성하도록 금속 주형의 챔버 내로 유동시키며, 수지는 금속 주형의 밖으로 형상화된 수지 브러시를 취하도록 냉각시킴으로써 고형화된다. 결과적인 연마 입자를 포함하는 수지 브러시는, 허브 부분과 모놀리식으로 성형되는 필라멘트 부분을 포함하고, 단일체들 중에 형상의 변화는 없으며, 인성 및 내구성이 뛰어나다.
이러한 연마 입자를 포함하는 수지 브러시의 상업적인 예는 미네소타 마이닝 엔드 매뉴팩처링 콤파니(Minnesota Mining and Manufacturing Company)로부터 입수할 수 있는 "3M BRISTLE DISK(상표명)"와 스미또모 3M 인코포레이트(Sumitomo 3M Inc.)로부터 입수할 수 있는 "3M RADIAL BRISTLE MARGARET DISK(상표명)"를 포함한다.
연삭의 과정에서, 부하(load)는 디스크 미가공 플레이트의 에지, 즉 내부 에지 및/또는 외부 에지와 접촉하고 마찰하기 위해서 연마 입자를 포함하는 수지 브러시의 필라멘트 부분에 인가된다. 연삭 조건은 다듬질의 요구된 레벨에 따라 적절히 조절될 수도 있고, 특정한 조건의 선택은 당업자의 응용범위 내이다. 일반적으로, 수지 브러시의 외면 속도는 디스크 미가공 플레이트의 에지에 대하여 범위가 1000 내지 3000 m/분으로 조정된다. 플런지(plunge)는 범위가 약 0.5 내지 2.0 mm 내이다. 연삭 시간은 범위가 5 내지 60초 내이다.
연마 입자를 포함하는 수지 브러시의 적당한 시트는 사용하기 위하여 적층될 수도 있다. 연마 입자를 포함하는 수지 브러시가 디스크형일 때의 경우에, 복수의 브러시는 동축으로 적층될 수 있고, 휠형 다중 요소 브러시(wheel-like muti-element brush)로서 사용될 수 있다. 이러한 휠형 브러시는 적층되고 고정되는 복수의 디스크 미가공 플레이트의 에지를 모두 함께 연삭하기에 편리하다.
도2는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하는 방법의 일 실시예를 도시하는 개략적인 단면도이다. 복수의 디스크 미가공 프레이트는 적층부(1)를 형성하도록 동축으로 적층되고 축 상에 고정된다. 적층부(1)는 축을 경유하여 모터(3)에 연결되고 회전된다. 디스크형 연마 입자를 포함하는 수지 브러시는 휠형 브러시(2, 2')를 이루기 위해서 동축으로 적층되고, 휠형 브러시는 디스크 미가공 플레이트의 적층부(1)에 인접하여 고정된다. 휠형 브러시(2, 2')는 축 을 경유하여 모터(4, 4')에 또한 연결되고 회전된다. 휠형 브러시(2, 2')는 레일(5)을 따라 이동하도록 허용되고 0.5 내지 2.0 mm의 플런지를 갖춘 디스크 미가공 플레이트의 적층부(1)의 외부 에지와 접촉하도록 허용된다.
디스크 미가공 플레이트의 내부 에지는 디스크 미가공 플레이트의 중앙 구멍의 직경으로 조종된 크기를 갖춘 연마 입자를 포함하는 수지 브러시를 사용하여 경면 다듬질될 수도 있다. 또한, 디스크 미가공 플레이트의 내부 에지 및 외부 에지는 소위 센터리스 연삭(centerless grinding)을 행함으로써 경면 다듬질될 수도 있다.
슬러리를 포함하는 자유 연마 입자는 본 발명의 연삭에서 사용될 필요가 없다. 연마 입자가 수지 브러시 내에 포함되기 때문에, 수지 브러시의 종류의 변경은 연마 입자의 종류를 변경시키기에 충분하다. 즉, 연삭 표면의 조건에 따른 연마 입자의 선택은, 큰 입자 크기를 갖는 연마 입자로의 연삭이 연삭 공정의 초기 단계에서 거친 연삭 표면을 위해 수행되는 반면에 작은 입자 크기를 갖는 연마 입자로의 연삭이 연삭 공정의 추후 단계에서 미세한 연삭 표면을 위하여 수행되도록, 거친 다듬질용 수지 브러시로부터 미세한 다듬질용 수지 브러시로 수지 브러시의 종류을 변경시킴으로써 간단히 그리고 연속적으로 이루어질 수 있다. 결과적으로, 연삭 시간은 연삭 표면상의 다듬질의 레벨을 유지하면서 아주 짧아진다.
자유 연마 입자를 채택하는 종래의 연삭 방법에서는, 연마 입자가 디스크 미가공 플레이트에 부착되어 그 위에 흐르게 함에 따라 디스크 미가공 플레이트는 연마 입자의 종류를 변경시키기 위하여 일단 세척될 필요가 있다는 점을 주목해야 한 다. 그러므로, 연마 입자의 종류의 변경은 연마 공정에서 실용적이지 않으며, 일반적으로 연마 입자의 같은 종류가 연삭 공정 전체에 걸쳐서 사용된다. 따라서, 중간 다듬질 또는 미세한 다듬질의 등급을 위한 연마 입자는 연삭의 초기 단계부터 사용되며, 연삭의 열등한 효율과 비교적 긴 연삭 시간을 초래한다.
수지 브러시의 종류 또는 형태는 연삭 장치에서 수지 브러시를 대체함으로써 변경될 수도 있다. 그렇지 안으면, 복수의 수지 브러시가 휠형 브러시를 이루기 우해서 동축으로 적층될 때의 경우에, 수지 브러시의 다른 종류의 여역이 내부에 준비될 수도 있다. 따라서, 수지 브러시의 종류는 수지 브러시의 휠을 따라 디스크 미가공 플레이트를 이동시킴으로써 단순히 변경될 수 있다.
도3은 두 종류의 수지 브러시가 결합된 휠형 수지 브러시의 일례를 도시한 사시도이다. 제1 수지 브러시가 동축으로 적층되는 영역(6)과 제2 수지 브러시가 동축으로 적층되는 영역(7)이 제공되어 있다. 제1 수지 브러시 영역의 넓이(l1)는 제2 수지 브러시 영역의 넓이(l2)에 반드시 동일하지 않고, 넓이(l1) 및 넓이(l2)는 적절히 변경될 수도 있다.
[예]
본 발명은 다음의 예에 의해 또한 설명되고 그에 제한되지 않는다.
예1
두께가 2 mm이고 직경이 63.5 mm인 도넛형 유리 플레이트와 직경이 20 mm인 중앙 구멍이 기록 매체 디스크 미가공 플레이트로서 준비되었다. 이 디스크 미가 공 플레이트의 에지는 직경이 63.5 mm인 JIS#500 다이아몬드 연삭 휠과 직경이 20 mm인 구멍을 이용함으로써 도1에 도시된 바와 같이 사다리꼴로 연삭되고 형상화되었고, 휠은 미쯔비시 매터리얼(Mitsubishi Material) K.K로부터 상표명 "ED 500" 으로 입수할 수 있다. 사다리꼴의 상부 측면 "a"의 길이는 약 400 ㎛이고, 두 단부의 경사각 "theta"는 약 45도이다. 피트는 디스크 미가공 플레이트의 에지의 오른쪽 및 왼쪽 경사면 및 상부면 모두를 통해 형성된다.
JIS#120(평균 입자 크기가 120 ㎛) 산화 알루미늄 연마 입자를 포함하는 수지 브러시는 외부 직경이 50 mm이고 쇼어 D 경도가 95이고, 5개의 시트에 의해 동축으로 적층되며, 이 브러시는 스미또모 3M 콤파니로부터 상표명 "3M RADIAL BRISTLE MARGARET DISK"로 입수할 수 있다. 다음에, JIS#400 산화 알루미늄 연마 입자를 포함하는 수지 브러시는 외부 직경이 50 mm이고 쇼어 D 경도가 95이고, 5개의 디스크에 의해 그 위에 동축으로 적층되며, 이 브러시는 스미또모 3M 콤파니로부터 상표명 "3M RADIAL BRISTLE MARGARET DISK"로 입수할 수 있다. 결과적으로, 두 종류의 연마 입자를 포함하는 수지 브러시가 결합되는 도3에 도시된 바와 같은 휠형 수지 브러시가 얻어졌다.
먼저, 휠형 수지 브러시와 디스크 미가공 플레이트는 서로 반대 방향으로 회전되고, 디스크 미가공 플레이트의 외부 에지는 부하의 적용과 함께 JIS#120 산화 알루미늄 연마 입자를 포함하는 수지 브러시의 영역과 접촉되도록 허용된다. 연삭 조건은, 휠형 수지 브러시의 외면 속도가 1600 m/분이고, 디스크 미가공 플레이트의 외면 속도가 46 RPM이고, 플런지가 1 mm이며, 연삭 시간은 20초이다.
다음에, 디스크 미가공 플레이트의 외부 에지는 부하의 적용과 함께 JIS#400 (평균 입자 크기가 30 ㎛) 산화 알루미늄 연마 입자를 포함하는 수지 브러시의 영역과 접촉되도록 허용된다. 연삭 조건은, 휠형 수지 브러시의 외면 속도가 1600 m/분이고, 디스크 미가공 플레이트의 외면 속도가 46 RPM이고, 진입(entering)이 1 mm이며, 연삭 시간은 20초이다.
연삭 이후에, 연삭면은 레이저 현미경으로 가시적으로 관찰되고, 피트 제거율이 계산된다. 결과는 표2에 나타낸다.
예2
디스크 미가공 플레이트의 외부 에지는 JIS#400 산화 알루미늄 연마 입자를 포함하는 수지 브러시의 범위에서 연삭 시간이 40초가 채택된 것을 제외하고는 예1과 동일한 방식으로 경면 다듬질된다. 연삭면의 피트 제거율은 예1과 동일한 방식으로 계산된다. 결과는 표2에서 나타낸다.
참조 예
일본 특허 고까이(Kokai) 공보 제2001-246536호의 예
예1에 사용된 바와 같은 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 동일한 형태의 에지는 예1과 동일한 방식으로 사다리꼴로 연삭되고 형상화된다. 이들 플레이트의 복수의 시트는 적층되고 회전축에 고정된다.
다음의 연삭 휠이 준비된다. JIS#600(평균 입자 크기가 15 ㎛) 산화 알루미늄 연삭 휠은 직경이 160 mm이고 밀도가 1.8 g/cm3이고 쇼어 D 경도가 90이고 스미 또모 3M 콤파니로부터 상표명 "DLO WHEEL"로 입수할 수 있으며, JIS#10000 산화 세륨 연삭 휠은 직경이 160 mm이고 밀도가 2.0 g/cm3이고 쇼어 D 경도가 95이고 스미또모 3M 콤파니로부터 상표명 "DLO WHEEL"로 입수할 수 있다. 디스크 미가공 플레이트의 에지의 형상에 대응하는 형상을 갖는 홈(groove)은 드레서(dresser)를 이용하여 연삭 휠 각각에 제공된다.
먼저, 디스크 미가공 플레이트의 에지는 JIS#600 산화 알루미늄 연삭 휠을 이용하여 연삭된다. 연삭 방법은 다음과 같다. JIS#600 산화 알루미늄 연삭 휠과 디스크 미가공 플레이트는 서로 반대 방향으로 회전되고, 그들의 에지들이 서로 접촉하도록 하기 위해서 부하가 인가된다. 연삭 조건은, 연삭 휠의 외면 속도가 2000 m/분이고, 디스크 미가공 플레이트의 외면 속도가 46 RPM이고, 부하가 2 내지 5 kg이며, 연삭 시간은 10초이다.
다음에, JIS#600 산화 알루미늄 연삭 휠은 JIS#10000 산화 세륨 연삭 휠로 교체되고, 동일한 방법이 디스크 미가공 플레이트의 에지를 연삭하기 위하여 수행된다. 연삭 조건은, 휠의 외면 속도가 2000 m/분이고, 부하가 2 내지 5 kg이고, 디스크 미가공 플레이트의 외면 속도가 46 RPM이며, 연삭 시간은 20초이다.
연삭면의 피트 제거율은 예1과 동일한 방식으로 계산된다. 결과는 표2에 도시된다.
비교 예
예1에서 사용된 바와 같은 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 동일한 형태 의 에지는 예1과 동일한 방식으로 사다리꼴로 연삭되고 형상화된다. 이들 플레이트의 복수의 시트는 적층되고 회전축에 고정된다.
디스크 미가공 플레이트의 에지는 연삭 브러시로 연삭된다. 연삭 방법은 다음과 같다. 연삭 브러시와 디스크 미가공 플레이트는 서로 반대 방향으로 회전되고, 디스크 미가공 플레이트의 에지와 브러시는 연삭 보조물로서 산화 세륨 10 내지 20%를 함유하는 물 슬러리를 10 리터/분(liter/min)의 비율로 공급하면서 서로 접촉하도록 허용된다. 연삭 조건은 연삭 브러시의 외면 속도가 1000 m/분이고, 진입이 5 mm이고, 디스크 미가공 플레이트의 외면 속도가 46 RPM이며, 연삭 시간은 1800초이다.
연삭면의 피트 제거율은 예1과 동일한 방식으로 계산된다. 결과는 표2에 나타낸다.
[표2]
Figure 112006000308595-PCT00002
본 발명의 기록 매체 디스크 미가공 플레이트를 경면 다듬질하는 방법에 따라서, 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지의 피트는 단순한 처리 및 저비용으로 짧은 시간 내에 제거된다.

Claims (6)

  1. 자유 연마 입자를 사용하지 않고, 세라믹 플레이트로 이루어진 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 연마 입자를 포함하는 수지 브러시로 연삭하는 단계를 포함하는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법.
  2. 제1항에 있어서, 연마 입자를 포함하는 수지 브러시는 디스크형 허브 부분과 반경 방향에서 허브 부분의 외면으로부터 연장되는 복수의 필라멘트 부분을 포함하고, 상기 필라멘트 부분은 연마 미립자를 포함하는 플라스틱 수지로 이루어지는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 연마 입자를 포함하는 수지 브러시는 모놀리식 성형에 의해 연마 입자를 포함하는 플라스틱 수지로 조합되는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 연마 입자와 수지는 중량비가 0.25 내지 1인 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 디스크 미가공 플레이트의 에지를 연마 입자를 포함하는 수지 브러시로 연삭하는 단계는,
    거친 다듬질용 연마 입자를 포함하는 수지 브러시로 연삭하는 단계와,
    중간 다듬질을 위한 또는 미세한 다듬질을 위한 연마 입자를 포함하는 수지 브러시로 연삭하는 단계를 더 포함하는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 디스크 미가공 플레이트의 에지를 연마 입자를 포함하는 수지 브러시로 연삭하는 단계 이전에, 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 형체를 이루도록 연삭하는 단계를 더 포함하는 기록 매체 디스크 미가공 플레이트의 에지를 경면 다듬질하기 위한 방법.
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