KR20050120752A - 폴리머 피복 금속산화물 및 그 제조방법 - Google Patents

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KR20050120752A
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자이단호진 리코가쿠신코카이
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Abstract

본 발명은, 새로운 폴리머 피복 금속산화물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 폴리머 피복 금속산화물은, 폴리머가 실록산 골격을 가진다. 본 발명의 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법은, 실록산 골격을 가지는 폴리머의 용액에, 금속산화물을 접촉시키는 방법이다. 이것에 의해, 폴리머를 금속산화물의 표면에 결합시킬 수 있다. 여기에서, 폴리머는 분기구조를 가지는 것이 바람직하다. 또한, 그 분기구조를 가지는 폴리머가 덴드리틱폴리머인 것이 바람직하다. 또한, 금속산화물이, 유리, 실리카 겔, 산화티탄, 티탄산바륨, 인듐틴오키시드(ITO), 산화알루미늄, 산화니켈, 산화철 등인 것이 바람직하다.

Description

폴리머 피복 금속산화물 및 그 제조방법{Polymer-coated metal oxide and process for producing the same}
본 발명은, 폴리머 피복 금속산화물 및 그 제조방법에 관한 것이다.
종래, 금속산화물의 표면처리에는 실란커플링제가 사용되었었다(Yoshioka, Hiroshi.Silane coupling agents. Nippon Setchaku kyokaishi(1985), 21(6), 252-60.CODEN;NSKSAZ ISSN0001-8201, CAN103;105586 AN 1985:505586 CAPLUS(Copyright 2003ACS), 또는, Tadanaga, Kiyoharu;Ueyama, Kaori;Sueki, Toshitsugu;Matsuda, Atsunori;Minami, tsutomu, Micropatterning of Inorganic-Organic Hybrid Coating Films from Various Tri-Functional SiliCon Alkoxides with a Double Bond in Their Organic Components. Journal of Sol-Gel Science and Technology(2003), 26(1-3), 431-434, CODEN;JSGTEC ISSN;0928-0707, AN2002;815093 CAPLUS(Copyright2003ACS)).
한편, 덴드리틱폴리머가 직쇄형(直鎖狀)폴리머와 달리, 다수의 말단을 고밀도로 가진다고 하는 점에서 주목받고 있다(특표평8-510761호 공보).
도 1은, 참고 예 1에 의해 합성된 중간체의 NMR 스펙트럼이다.
도 2는, 참고 예 2에 의해 합성된 폴리머의 NMR 스펙트럼이다.
도 3은, 참고 예 3에 의해 합성된 폴리머의 NMR 스펙트럼이다.
도 4는, 참고 예 3에 의해 합성된 폴리머의 적외흡수 스펙트럼이다.
도 5는, 참고 예 3에 의해 합성된 폴리머의 GPC 차트이다.
도 6은, 실시 예 1에 있어서의, 미처리 실리카 겔의 XPS 스펙트럼이다.
도 7은, 실시 예 1에 있어서의, 처리가 끝난 실리카 겔 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 8은, 비교 예 1에 있어서의, 처리가 끝난 실리카 겔 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 9는, 실시 예 2에 있어서의, 미처리 실리카 겔의 XPS 스펙트럼이다.
도 10은, 실시 예 2에 있어서의, 처리가 끝난 실리카 겔 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 11a는, 실시 예 2에 있어서의, 미처리 실리카 겔의 SEM 사진이다.
도 11b는, 실시 예 2에 있어서의, 처리가 끝난 실리카 겔 입자의 SEM 사진이다.
도 12는, 실시 예 3에 있어서의, 미처리 산화티탄 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 13은, 실시 예 3에 있어서의, 처리가 끝난 산화티탄 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 14a는, 실시 예 3에 있어서의, 미처리 산화티탄의 SEM 사진이다.
도 14b는, 실시 예 3에 있어서의, 처리가 끝난 산화티탄 입자의 SEM 사진이다.
도 15는, 비교 예 2에 있어서의, 처리가 끝난 산화티탄 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 16은, 비교 예 2에 있어서의, 처리가 끝난 산화티탄 입자의 SEM 사진이다.
도 17은, 실시 예 4에 있어서의, 미처리 티탄산바륨 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 18은, 실시 예 4에 있어서의, 미처리 티탄산바륨 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 19는, 실시 예 4에 있어서의, 미처리 티탄산바륨 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 20은, 실시 예 4에 있어서의, 미처리 티탄산바륨 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 21은, 실시 예 4에 있어서의, 처리가 끝난 티탄산바륨 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 22는, 실시 예 4에 있어서의, 처리가 끝난 티탄산바륨 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 23은, 실시 예 4에 있어서의, 처리가 끝난 티탄산바륨 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 24는, 실시 예 4에 있어서의, 처리가 끝난 티탄산바륨 입자의 XPS 스펙트럼이다.
도 25는, 실시 예 6에 있어서의, 처리가 끝난 티탄산바륨 입자(왼쪽의 시험관) 및 미처리 티탄산바륨 입자(오른쪽의 시험관)의 메틸에틸케톤 중에서의 분산상태를 나타내는 사진이다.
상술한 종래의 실란커플링제에서는, 도입할 수 있는 기능단은 1분자당 1개만이었다. 이것으로는, 표면처리에 의한 기능의 제어가 곤란하다고 하는 문제가 있다. 그 때문에, 한번에 많은 기능단의 도입이 가능한 화합물이 요망되고 있다.
한편, 종래의 덴드리틱폴리머는 금속산화물과의 밀착성이 나쁘기 때문에 금속산화물에 피복하려고 하는 시도는 실행되지 않았었다.
본 발명의 목적은, 새로운 폴리머 피복 금속산화물 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 폴리머 피복 금속산화물은, 폴리머가 실록산 골격을 가지는 것이다. 이것에 의해, 폴리머를 금속산화물의 표면에 결합시킬 수 있다.
여기에서, 폴리머는 분기(分岐)구조를 가지는 것이 바람직하다. 또한, 그 분기구조를 가지는 폴리머가 덴드리틱폴리머인 것이 바람직하다. 또한, 그 폴리머가, 비스(디메틸비닐실록시)메틸실란, 트리스(디메틸비닐실록시)실란, 비스(디메틸아릴실록시)메틸실란, 트리스(디메틸아릴실록시)실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합(重合)한 것, 혹은 비스(디메틸실록시)메틸비닐실란, 트리스(디메틸실록시)비닐실란, 비스(디메틸실록시)메틸아릴실란, 트리스(디메틸실록시)아릴실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합한 것인 것이 바람직하다. 또한, 금속산화물이, 유리, 실리카 겔, 산화티탄, 티탄산바륨, 인듐틴오키시드(ITO), 산화알루미늄, 산화니켈, 산화철의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법은, 실록산 골격을 가지는 폴리머의 용액에, 금속산화물을 접촉시키는 방법이다. 이것에 의해, 폴리머를 금속산화물의 표면에 결합시킬 수 있다.
여기에서, 폴리머가 분기구조를 가지는 것이 바람직하다. 또한, 그 분기구조를 가지는 폴리머가 덴드리틱폴리머인 것이 바람직하다. 또한, 그 폴리머가, 비스(디메틸비닐실록시)메틸실란, 트리스(디메틸비닐실록시)실란, 비스(디메틸아릴실록시)메틸실란, 트리스(디메틸아릴실록시)실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합(重合)한 것, 혹은 비스(디메틸실록시)메틸비닐실란, 트리스(디메틸실록시)비닐실란, 비스(디메틸실록시)메틸아릴실란, 트리스(디메틸실록시)아릴실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합한 것인 것이 바람직하다. 또한, 금속산화물이, 유리, 실리카 겔, 산화티탄, 티탄산바륨, 인듐틴오키시드(ITO), 산화알루미늄, 산화니켈, 산화철의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것인 것이 바람직하다.
본 발명은 이하에 기재되는 바와 같은 효과를 이룬다.
실록산 골격을 가지는 폴리머로 피복하는 금속산화물로 함으로써, 또는, 실록산 골격을 가지는 폴리머의 용액에, 금속산화물을 접촉시킴으로써, 새로운 화합물을 제공할 수 있다.
이하, 폴리머 피복 금속산화물 및 그 제조방법에 관련된 발명을 실시하기 위한 최량의 형태에 대해서 설명한다.
우선, 폴리머 피복 금속산화물의 출발원료에 대해서 설명한다. 출발원료로서는, 금속산화물과 폴리머를 사용한다.
금속산화물에 대해서 설명한다. 금속산화물로서는, 특히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 유리, 실리카 겔, 산화티탄, 티탄산바륨, 인듐틴오키시드(ITO), 산화알루미늄, 산화니켈, 산화철의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것을 들 수 있다. 이러한 것은 목적에 따라서 처리하면 좋다.
또한, 그 형상도 한정되는 것은 아니고, 알맹이 모양(粒狀), 실 모양, 판자 모양의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것으로 좋다.
또한, 금속산화물은, 화합물 전체가 산화물일 필요는 없다. 예를 들면, 마그네슘, 알루미늄, 티탄, 크롬, 철, 코발트, 니켈, 동, 아연, 은, 주석 등의 금속에 있어서, 그 금속표면에 형성된 금속산화물 피막이어도 좋다.
폴리머에 대해서 설명한다. 본 발명의 폴리머와는 폴리실록산 골격을 가지는 폴리머라면 특히 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 그 폴리머는 분기구조를 가지는 것이 좋고, 더 바람직하게는, 그 분기구조를 가지는 폴리머가 덴드리틱폴리머인 것이 좋다. 그 덴드리틱폴리머의 일례를 들면 식(화학식 1~8)에 나타내는 바와 같은 비스(디메틸비닐실록시)메틸실란, 트리스(디메틸비닐실록시)실란, 비스(디메틸아릴실록시)메틸실란, 트리스(디메틸아릴실록시)실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합한 것, 혹은 비스(디메틸실록시)메틸비닐실란, 트리스(디메틸실록시)비닐실란, 비스(디메틸실록시)메틸아릴실란, 트리스(디메틸실록시)아릴실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합한 것 등이 있다.
에서 선택되는 1개.
R은 동일 또는 서로 다른 수소원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기.
n은 1~10.
X는 Cl, Br로부터 선택되는 1개.
에서 선택되는 1개.
R은 동일 또는 서로 다른 수소원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기.
n은 1~10.
X는 Cl, Br로부터 선택되는 1개.
피복되는 폴리머의 분자량은 특히 한정되는 것은 아니지만, 1000~80000의 범위 내인 것이 좋고, 바람직하게는 1000~60000, 더욱 바람직하게는 1000~45000의 것이 좋다. 분자량이 1000 미만이라면, 분자량이 너무 낮은 금속산화물에 피복시켜도 충분한 피복량을 얻을 수 없고, 또한 분자량이 80000을 넘으면, 이번에는 폴리머의 분자량이 너무 높기 때문에 분자의 부피가 커지며 피복량도 감소해 버리게 된다.
본 발명의 폴리머는 금속산화물에 공고히 피복되어 있다. 폴리머는 금속산화물에 피복되어 있다면 특히 한정되는 것은 아니고, 그 결합양식은 공유결합이어도 좋고, 혹은 이온결합, 수소결합, 소수(疎水)결합 등에 의한 것이어도 좋고, 또한 그것들이 조합된 것이어도 좋다.
금속산화물이 입자형이었던 경우, 폴리머의 피복량은 금속산화물 1g 당 0.005~0.2g 의 범위 내가 좋고, 바람직하게는 0.007~0.19g 이 좋고, 더욱 바람직하게는, 0.008~0.19g 이 좋다. 피복량이 0.005g 미만이라면 피복한 효과가 작고, 또한 0.2g 을 넘으면 피복되었지만 기능을 소실시키는 것으로 되어 바람직하지 않다.
폴리머 피복 금속산화물의 제조방법에 대해서 설명한다. 폴리머 피복 금속산화물은, 실록산 골격을 가지는 폴리머의 용액에, 금속산화물을 접촉하는 것에 의해 만들 수 있다.
그때에 이용되는 용매는 폴리머를 용해 혹은 분산시키는 것이라면 좋고, 예를 들면, 아세톤, 헥산, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 메틸알코올, 에틸알코올, 물의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것을 들 수 있지만, 특별히 제약되는 것은 아니다.
반응습도는 폴리머와 피복시키는 금속산화물과의 사이에서 무언가 반응이 일어난다면 한정되는 것은 아니지만, 용액 중에서 가열하는 경우에는, 통상 3~200℃의 범위에서 실시되며, 바람직하게는 5~180℃, 더욱 바람직하게는 10~150℃의 범위 내에서 실시된다.
또한, 실록산 골격을 가지는 폴리머를 용액 중에서, 금속산화물과 접촉시킨 후에, 공기 중 또는 질소가스 분위기 하에서 가열하여 공고히 결합시키는 것도 가능하다. 이 경우의 가열습도는 20~250℃의 범위에서 실시되며, 바람직하게는 30~200℃, 더욱 바람직하게는 50~150℃의 범위 내에서 실시된다.
본 발명에서는, 반응액 중 폴리머 농도에 대해서도 특별히 제약되는 것은 아니지만 바람직하게는 0.01~10질량% 에서 실시되며, 바람직하게는 0.05~8질량%, 더욱 바람직하게는 0.5~5질량%에서 실시된다.
폴리머 피복 금속산화물의 제조방법은, 금속산화물을 폴리머용액에 담그는 것에 한정되지 않는다. 이 밖에, 폴리머용액을 도포하거나, 전계 중에서 전착(電着)시키는 등의 방법을 채용할 수 있다.
폴리머 피복 금속산화물에 대해서 설명한다. 폴리머와 금속산화물의 결합상태는, 다음과 같다고 생각된다. 폴리머 골격 중 실록산 결합과 금속산화물 중의 M-OH(M은 금속)와의 사이에서 재편성 반응이 일어나며, M-O-Si 결합이 생성하는 것에 의한 것으로 추정된다.
이상의 것으로부터, 본 실시의 형태에 의하면, 실록산 골격을 가지는 폴리머로 피복하는 금속산화물로 함으로써, 또는, 실록산 골격을 가지는 폴리머의 용액에 금속산화물을 접촉시킴으로써, 폴리머를 금속산화물의 표면에 결합시킬 수 있다. 이 결과, 새로운 화합물을 제공할 수 있다.
분기구조의 폴리머는, 직쇄형 폴리머와 달리, 많은 말단기를 가지고 있고, 여기에 다양한 관능기를 도입할 수 있다. 따라서, 금속산화물 표면을 다양한 관능기로 수식할 수 있다.
본 발명은, 크로마토그래피 담체(擔體), 오염방지처리 유리, 표면처리 콤퍼짓필러, 표면처리 콘덴서, 화장품용 기재, 모발 세정제, 모발 처리제, 의류용 세정제, 의류용 처리제 등에 적용할 수 있다.
또한, 본 발명은 상술의 발명을 실시하기 위한 최량의 형태에 한정되지 않고 본 발명의 요지를 일탈하지 않고 기타 다양한 구성을 취할 수 있는 것은 물론이다.
본 발명에 관련되는 실시 예에 대해서 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이러한 실시 예에 한정되는 것이 아닌 것은 물론이다.
참고 예 1
디메틸비닐실라놀의 합성
환류관(還流管)을 부착한 1L의 삼구(三口) 프라스코를 질소 치환한 후, 빙욕(氷浴) 중에서 에틸에테르 700ml을 넣고, 아닐린 8.38g(0.09mol), 물1.48g(0.087mol)을 더하여 뒤섞었다. 50ml의 에틸에테르에 미리 용해하여 둔 비닐디메틸클로로실란 10g(0.082mol)을 천천히 떨어뜨리고, 실온에서 15분 뒤섞었다. 반응은 화학식 9에 나타내는 대로이다. 생성하는 소금을 여과에 의해 제거 후, 물이 없는 황산 마그네슘으로 탈수를 실시하고, 용매를 감압유거(減壓留去)하고, 목적물을 얻었다. 수율(收率)은 63%였다. NMR 스펙트럼을 도 1에 나타낸다.
참고 예 2
비스(디메틸비닐실록시)메틸실란의 합성
환류관을 부착한 1L의 삼구(三口) 프라스코를 질소 치환한 후, 빙욕(氷浴) 중에서 에틸에테르 500ml, 트리에틸아민 8.21g(0.081mol)을 넣고, 7.54g(0.074mol)의 디메틸비닐실라놀을 더하여 뒤섞었다. 여기에, 50ml의 에틸에테르에 용해한 디클로로메틸실란 4.24g(0.037mol)을 천천히 떨어뜨리고, 실온에서 20분 뒤섞었다. 반응은 화학식 10에 나타내는 대로이다. 생성하는 소금을 여과에 의해 제거 후, 이배퍼레이터에서 낮은 비점 용매 등을 제거했다. 증류에 의해, 무색투명의 비스(디메틸비닐실록시)메틸실란을 얻었다. 수율은 62%였다. 비점(bp)은 46~48℃/10mmHg였다. NMR 스펙트럼을 도 2에 나타낸다.
참고 예 3
분기(하이퍼브랜치) 폴리머의 합성
환류관을 부착한 100ml의 삼구(三口) 프라스코를 질소 치환한 후, 이 프라스코 중에서 비스(디메틸비닐실록시)메틸실란 2.49g(0.01mol)을 50ml의 THF에 용했다. Karstedt 촉매(platinum(0)-1, 3-divinyl-1, 1, 3, 3-tetramethyldisiloxane complex 0.1M in xylenc)를 몇 방울 더하고, IR 스펙트럼에서 완전히 Si-H기(基)가 소실하기까지 가열 환류하고, 실온까지 냉각했다. 이배퍼레이터에서 낮은 비점 용매 등을 제거 후, 아세토니트릴 생성물을 떨어뜨려서 무색 점성액형의 폴리머를 얻었다. 수율은 92%였다.
폴리스티렌을 표준으로 하고, THF를 전개용매로 하는 GPC 분량측정의 결과, 중량평균 분자량은 4700이었다. NMR 스펙트럼을 도 3에, 적외흡수 스펙트럼을 도 4에, GPC 차트를 도 5에 나타낸다. 폴리머의 분자구조는 화학식 11에 나타내는 바와 같다고 생각된다.
참고 예 4
참고 예 3의 분기(하이퍼브랜치) 폴리머의 합성실험을, 반응시간을 변화시켜서 실시했다. 결과를 표 1에 나타낸다. 최대 72시간 실시함에 있어서, 중량평균 분자량은 64000에 달했다.
샘플번호 반응시간(h) 중량평균 분자량
1 1 1000
2 5 3000
3 10 9950
4 18 20100
5 24 32400
6 36 52800
7 48 61500
8 60 63000
9 72 64000
실시 예 1
컬럼크로마토그래피용 실리카 겔 입자(평균 입경 150㎛) 1.0g, 헥산 50ml, 참고 예 3의 폴리머 0.1g을 혼합하고, 하룻밤 뒤섞었다. 실리카 겔 입자를 흡인 여과 후, 헥산으로 세정하고, 100℃의 오븐에서 진공건조하여 처리가 끝난 실리카 겔 입자를 얻었다. 여기에서 이용한 미처리 실리카 겔의 XPS 스펙트럼을 도 6에, 처리가 끝난 실리카 겔 입자의 XPS 스펙트럼을 도 7에 나타낸다. 도 7에 있어서의 C1s 피크가 도 6의 것에 비해 확실하게 커져 있고, 표면에 폴리머가 담지(擔持)된 것을 알 수 있다.
비교 예 1
실시 예 1이 동일한 컬럼크로마토그래피용 실리카 겔 입자(평균 입경 150㎛) 1.0g, 헥산 50ml, 아릴트리에특시실란 0.1g을 혼합하고, 하룻밤 뒤섞었다. 실리카 겔 입자를 흡인 여과 후, 헥산으로 세정하고, 100℃의 오븐에서 진공건조하여 처리가 끝난 실리카 겔 입자를 얻었다. 처리가 끝난 실리카 겔 입자의 XPS 스펙트럼을 도 8에 나타낸다. 도 8에 있어서의 C1s 피크가 도 6의 것에 비해 확실하게 커져 있고, 표면에 폴리머가 담지(擔持)된 것을 알 수 있지만, 그 정도는 실시 예 1(도 7)보다도 작은 것을 알 수 있다.
실시 예 2
컬럼크로마토그래피용 실리카 겔 입자(평균 입경 3㎛) 1.0g, 헥산 50ml, 참고 예 3의 폴리머 0.1g을 혼합하고, 하룻밤 뒤섞었다. 실리카 겔 입자를 흡인 여과 후, 헥산으로 세정하고, 100℃의 오븐에서 진공건조하여 처리가 끝난 실리카 겔 입자를 얻었다. 여기에서 이용한 미처리 실리카 겔의 XPS 스펙트럼을 도 9에, 처리가 끝난 실리카 겔 입자의 XPS 스펙트럼을 도 10에 나타낸다. 도 10에 있어서의 C1s 피크가 도 9의 것에 비해 확실하게 커져 있고, 표면에 폴리머가 담지된 것을 알 수 있다. 또한, 미처리 실리카 겔의 SEM 사진을 도 11a에, 처리가 끝난 실리카 겔 입자의 SEM 사진을 도 11b에 나타낸다. 도 11b의 입자표면은 도 11a의 것과 비교해 매끄럽게 되어 있고, 표면에 폴리머가 담지된 것을 알 수 있다.
실시 예 3
산화티탄 입자(평균 입경 1㎛) 1.0g, 헥산 50ml, 참고 예 3의 폴리머 0.1g을 혼합하고, 하룻밤 뒤섞었다. 산화티탄 입자를 흡인 여과 후, 헥산으로 세정하고, 100℃의 오븐에서 진공건조하여 처리가 끝난 산화티탄 입자를 얻었다. 여기에서 이용한 미처리 산화티탄 입자의 XPS 스펙트럼을 도 12에, 처리가 끝난 산화티탄 입자의 XPS 스펙트럼을 도 13에 나타낸다. Si2s 및 Si2p의 피크가 도 12에서는 확인할 수 없지만, 도 13에서는 나타나 있고, 표면에 폴리머가 담지된 것을 알 수 있다. 미처리 산화티탄의 SEM 사진을 도 14a에, 처리가 끝난 산화티탄 입자의 SEM 사진을 도 14b에 나타낸다. 도 14b의 입자표면은 도 14a의 것과 비교해 매끄럽게 되어 있고, 표면에 폴리머가 담지된 것을 알 수 있다.
비교 예 2
산화티탄 입자(평균 입경 1㎛) 1.0g, 헥산 50ml, 아릴트리에특시실란 0.1g을 혼합하고, 하룻밤 뒤섞었다. 산화티탄 입자를 흡인 여과 후, 헥산으로 세정하고, 100℃의 오븐에서 진공건조하여 처리가 끝난 산화티탄 입자를 얻었다. 처리가 끝난 산화티탄 입자의 XPS 스펙트럼을 도 15에 나타낸다. Si2s 및 Si2p의 피크가 도 12에서는 확인할 수 없지만, 도 15에서는 나타나 있고, 표면에 아릴트리에특시실란이 담지된 것을 알 수 있다. 그러나 그 정도는, 실시 예 3의 도 13에 비해 작은 것이었다. 처리가 끝난 산화티탄 입자의 SEM 사진을 도 16에 나타낸다. 도 16의 입자표면은 도 14a의 것과 비교해 매끄럽게 되어 있고, 표면에 아릴트리에특시실란이 담지된 것을 알 수 있다. 그러나 그 정도는 도 14b 정도가 아닌 것을 알 수 있다.
실시 예 4
티탄산바륨입자(평균 입경 0.9㎛) 1.0g, 헥산 50ml, 참고 예 3의 폴리머 0.1g을 혼합하고, 하룻밤 뒤섞었다. 티탄산바륨입자를 흡인 여과 후, 헥산으로 세정하고, 100℃의 오븐에서 진공건조하여 처리가 끝난 티탄산바륨입자를 얻었다. 여기에서 이용한 미처리 티탄산바륨입자의 XPS 스펙트럼을 도 17~20에, 처리가 끝난 티탄산바륨입자의 XPS 스펙트럼을 도 21~24에 나타낸다. Si2s 및 Si2p의 피크가 도 17에서는 확인할 수 없지만, 도 21에서는 나타나 있고, 또한 O1s 피크의 확대도(도 18, 도 22)에 있어서, 참고 예 3의 폴리머의 실록산 결합에 유래하는 새로운 피크가 도 22에서 관찰되고 있다. 도 19와 23 및 도 20과 24를 비교하면, 처리 전과 처리 후에서 Ba3d와 Ti2p의 피크에 변화는 없다. 이상의 것으로부터, 표면에 폴리머가 담지된 것을 알 수 있다.
실시 예 5
비스(디메틸비닐실록시)메틸실란 0.83g(샘플 1), 3.74g(샘플 2, 3), 4.98(샘플 4, 5), 0.03g(샘플 6), 9.96g(샘플 7)을 50ml의 THF에 용해하는 이외는 참고 예 3과 동일한 방법으로 분기폴리머를 합성했다. 얻어진 각 폴리머의 분기량을 표 2에 나타낸다. 이러한 폴리머를 이용하여, 헥산 50ml 중 0.1g(샘플 1, 2, 4, 6 ,7), 0.2g(샘플 3, 5)을 혼합하는 이외는 실시 예 3에 나타내는 동일한 방법으로, 입경 1㎛의 산화티탄 표면에 폴리머를 피복했다. 각각의 처리가 끝난 산화티탄 입자 표면에 피복된 폴리머 피복량을 표 2에 나타낸다. 또한, 폴리머 피복량의 측정방법은, 산화티탄 입자의 처리 정과 처리 후의 중량을 측정하여 산출한 것이다.
얻어진 처리가 끝난 산화티탄 입자를 이하의 방법으로 기능평가 했다. 우선, 처리가 끝난 산화티탄 입자 0.5g을 메틸에틸케톤 10ml 중에 혼합하고, 5분간 강렬하고 진폭이 큰 진동으로 뒤섞었다. 그 후, 그 혼합액을 2시간 정치(靜置)시켰다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다. 샘플 1~5에서는, 처리가 끝난 산화티탄 입자가 거의 밑으로 가라앉지 않은 것을 확인했다. 샘플 6, 7에서는, 침전물이 많은 것을 확인했다. 샘플 1~5에 있어서, 처리가 끝난 산화티탄 입자가 거의 가라앉지 않은 이유는, 산화티탄 입자의 표면이 메틸에틸케톤과 친화성이 높은 분기 실록산으로 덮였기 때문이라고 생각된다.
샘플번호 폴리머의중량평균 분자량 폴리머의 피복량(g/산화티탄입자1g) 분산안정성(2시간 후의 분산안정성)
1 1200 0.008 양호
2 9800 0.059 양호
3 9800 0.089 양호
4 23500 0.120 양호
5 23500 0.186 양호
6 700 0.002 불량(침강물이 많다)
7 100000 0.362 불량(침강물이 많다)
실시 예 6
시험관에 1g의 티탄산바륨입자를 넣고, 또한 17ml의 메틸에틸게톤을 더한 것을 2개 준비했다. 그 1개에 참고 예 3의 하이퍼브랜치폴리실록산을 0.1g 더했다. 2개의 시험관을 5분간 강렬하고 진폭이 큰 진동으로 뒤섞은 후, 24시간 후에 촬영한 것이 도 25이다. 하이퍼브랜치폴리실록산을 더한 왼쪽의 시험관에서는 티탄산바륨입자의 침강은 일어나지 않지만, 하이퍼브랜치폴리실로산을 더하지 않았던 오른쪽의 시험관에서는 티탄산바륨입자는 밑으로 가라앉아 버리고 있다. 이상의 것으로부터, 하이퍼브랜치폴리실록산이 무기금속산화물입자를 분산시키는 높은 능력을 가지고 있는 것을 알 수 있다.
실시 예 7
유리 표면에 대한 하이퍼브랜치폴리실록산의 밀착성의 검토
미리 세정액과 순수한 물로 세정한 유리기판을, 포화 수산화 칼륨 에탄올 용액에 2시간 담그고, 초음파 세정기를 이용하여 순수한 물로 3회 세정한 후, 클린 벤치 내에서 자연 건조시켰다. 상기 친수성(親水性) 처리한 유리기판을 참고 예 3의 하이퍼브랜치폴리실록산의 헥산 용액에 소정시간 담그고, 대량의 헥산과 아세톤으로 순차 세정한 후, 클린 벤치 내에서 자연 건조시켰다. 순수한 물을 이용하여 정적(靜的) 접촉각을 측정했다. 또한 표 3에 나타내는 샘플 5, 6, 7의 처리를 실시하고, 정적 접촉각을 측정했다. 결과를 표 3에 나타낸다. 겉에서 분명한 바와 같이 하이퍼브랜치폴리머는 유리표면과 공고히 밀착하고 있는 것을 알 수 있다.
샘플번호 샘플 접촉각(°)
1 미처리 친수성 유리기판 7
2 1질량% 폴리머의 용액(표면처리시간 2시간) 54
3 4질량% 폴리머의 용액(표면처리시간 10분) 56
4 4질량% 폴리머의 용액(표면처리시간 2시간) 56
5 샘플 4를 공기 중, 실온에서 1주간 방치 56
6 샘플 4를 공기중, 100℃, 12시간 가열 56
7 샘플 4를 톨루엔 중, 60℃, 15시간 가열 54

Claims (17)

  1. 폴리머가 실록산 골격을 가지는 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  2. 제 1항에 있어서,
    폴리머가 분기구조를 가지도록 구성된 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  3. 제 2항에 있어서,
    분기구조를 가지는 폴리머가 덴드리틱폴리머인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  4. 제 2항에 있어서,
    분기구조를 가지는 폴리머가 피복되는 금속산화물에 공고히 결합하고 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  5. 제 1항에 있어서,
    폴리머가, 비스(디메틸비닐실록시)메틸실란, 트리스(디메틸비닐실록시)실란, 비스(디메틸아릴실록시)메틸실란, 트리스(디메틸아릴실록시)실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합한 것, 혹은 비스(디메틸실록시)메틸비닐실란, 트리스(디메틸실록시)비닐실란, 비스(디메틸실록시)메틸아릴실란, 트리스(디메틸실록시)아릴실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합한 것인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  6. 제 5항에 있어서,
    폴리머의 분자량이 1000~80000의 범위 내인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  7. 제 1항에 있어서,
    금속산화물이, 유리, 실리카 겐, 산화티탄, 티탄산바륨, 인듐틴오키시드(ITO), 산화알루미늄, 산화니켈, 산화철의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  8. 제 1항에 있어서,
    금속산화물이 알맹이 모양, 실 모양, 판자 모양의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  9. 제 7항에 있어서,
    폴리머의 피복량이 금속산화물 1g 당 0.005~0.2g의 범위 내인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물.
  10. 실록시 골격을 가지는 폴리머의 용액에, 금속산화물을 접촉시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법.
  11. 제 10항에 있어서,
    폴리머가 분기구조를 가지도록 구성된 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법.
  12. 제 11항에 있어서,
    분기구조를 가지는 폴리머가 덴드리틱폴리머인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법.
  13. 제 10항에 있어서,
    폴리머가, 비스(디메틸비닐실록시)메틸실란, 트리스(디메틸비닐실록시)실란, 비스(디메틸아릴실록시)메틸실란, 트리스(디메틸비닐실록시)실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합한 것, 혹은 비스(디메틸실록시)메틸비닐실란, 트리스(디메틸실록시)비닐실란, 비스(디메틸실록시)메틸아릴실란, 트리스(디메틸실록시)아릴실란을 단독, 또는 2종 이상을 혼합하여 중합한 것인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법.
  14. 제 13항에 있어서,
    폴리머의 분자량이 1000~80000의 범위 내인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법.
  15. 제 10항에 있어서,
    금속산화물이, 유리, 실리카 겔, 산화티탄, 티탄산바륨, 인듐틴오키시드(ITO), 산화알루미늄, 산화니켈, 산화철의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법.
  16. 제 10항에 있어서,
    금속산화물이 알갱이 모양, 실 모양, 판자 모양의 단독, 또는 2종 이상을 조합한 것인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법.
  17. 제 15항에 있어서,
    폴리머의 피복량이 금속산화물 1g 당 0.005~0.2g의 범위 내인 것을 특징으로 하는 폴리머 피복 금속산화물의 제조방법.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004057707A1 (de) * 2004-11-30 2006-06-01 Degussa Ag Oberflächenmodifizierte Indium-Zinn-Oxide
KR101130404B1 (ko) * 2005-02-16 2012-03-27 삼성전자주식회사 고차가지형 고분자에 분산된 고유전율 절연체를 포함하는유기 절연체 조성물 및 이를 이용한 유기박막 트랜지스터
CN101146872B (zh) * 2005-03-23 2012-08-29 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 生色团涂覆的金属氧化物颗粒
JP2007302721A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Tokyo Institute Of Technology シロキサン誘導体およびシロキサン誘導体被覆無機酸化物
CN101583568B (zh) * 2007-01-18 2013-01-02 日本化学工业株式会社 改性钙钛矿型复合氧化物、其制造方法和复合电介质材料
JP5169484B2 (ja) * 2007-05-31 2013-03-27 東レ株式会社 コア−シェル構造粒子、ペースト組成物およびキャパシタ
CN101302361B (zh) * 2008-06-12 2011-12-14 中国科学院上海硅酸盐研究所 氧化锆包覆氧化铁粉体的制备方法
WO2010023575A1 (en) * 2008-08-26 2010-03-04 Nxp B.V. A capacitor and a method of manufacturing the same
JP5195342B2 (ja) * 2008-11-20 2013-05-08 東レ株式会社 コア−シェル構造粒子、組成物、誘電体組成物およびキャパシタ
CN101921498A (zh) * 2010-08-12 2010-12-22 山东东佳集团股份有限公司 分散性良好的二氧化钛颜料的制造方法
US8690964B2 (en) * 2011-10-11 2014-04-08 The Sweet Living Group, LLC Fabric having ultraviolet radiation protection
CN108735906B (zh) * 2017-04-20 2020-08-18 Tcl科技集团股份有限公司 丙烯酸酯共聚物修饰的金属氧化物、qled及制备方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5562879A (en) * 1995-04-14 1996-10-08 Coble; Gary L. Cast refractory base segments and modular fiber seal system for single-stack annealing furnace
US5562897A (en) * 1995-06-14 1996-10-08 Siltech Inc. Method of protecting the skin
EP0869762B1 (en) * 1995-10-30 2003-07-30 Sunsmart, Inc. Silicone polymer-coated, hydrophobized metal oxides
WO1997038041A1 (en) * 1996-04-04 1997-10-16 Nanophase Technologies Corporation Siloxane star-graft polymers, ceramic powders coated therewith and method of preparing coated ceramic powders
US5993967A (en) * 1997-03-28 1999-11-30 Nanophase Technologies Corporation Siloxane star-graft polymers, ceramic powders coated therewith and method of preparing coated ceramic powders
CA2291280A1 (en) * 1998-11-30 2000-05-30 Haruhiko Furukawa Use of a carbosiloxane dendrimer in electrophotographic technologies, electrostatic recording technologies, and electrostatic printing technologies
JP2000235282A (ja) * 1998-12-15 2000-08-29 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd 静電潜像現像用キャリア
US7015271B2 (en) * 1999-08-19 2006-03-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Hydrophobic particulate inorganic oxides and polymeric compositions containing same
JP4727017B2 (ja) * 1999-11-15 2011-07-20 東レ・ダウコーニング株式会社 熱伝導性シリコーンゴム組成物
DE10138492A1 (de) * 2001-08-04 2003-02-13 Degussa Hydrophobe, nicht getemperte Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad

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