KR20050010760A - 광경화성 수지 조성물 및 광학 부재 - Google Patents

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KR20050010760A
KR20050010760A KR10-2004-7014204A KR20047014204A KR20050010760A KR 20050010760 A KR20050010760 A KR 20050010760A KR 20047014204 A KR20047014204 A KR 20047014204A KR 20050010760 A KR20050010760 A KR 20050010760A
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photocurable resin
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다카세히데아키
다카하시아츠야
다나베다카요시
이타이신고
후타미사토치
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디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이.
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Abstract

본 발명은
(A) (A1) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트, 또는 (A2) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 에폭시 화합물;
(B) (A1)과 다른 3개 이상의 작용기들을 갖는 (메트)아크릴레이트;
(C) 라디칼 광개시제;
(D) (A2)와 다른 분자내에 3개 이상의 환형 에테르 결합을 갖는 화합물; 및
(E) 양이온성 광개시제를 포함하는 광경화성 수지 조성물 및 본 발명의 수지로 제조된 광학 부재 및 다른 용도에 사용되는 상기 수지의 용도 관한 것이다.
(화학식 1)
(화학식 2)
[상기 화학식 1 및 화학식 2에서,
R1은 수소 원자 또는 할로겐 원자(불소 원자는 제외함)를 나타내며;
R2는 수소 원자, 할로겐 원자(불소 원자는 제외함), Ph-C(CH3)2-, Ph-, 또는 1-20개의 탄소 원자들을 갖는 알킬기를 나타내고;
R3은 -CH2-, -S- 또는 -C(CH3)2-를 나타낸다]

Description

광경화성 수지 조성물 및 광학 부재{PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND OPTICAL COMPONENT}
종래에는, 프레즈넬 렌즈 및 렌티큘러 렌즈와 같은 렌즈들이 프레스-성형 방법 또는 주조 방법을 사용하여 제조되었다. 그러나, 상기 방법들은 렌즈를 제조하는데 장시간이 요구되어 생산성이 떨어진다. 상기 문제를 해결하기 위해, UV-경화성 수지를 사용한 렌즈의 제조 방법이 최근에 연구되었다. 상기 방법의 예로는: 렌즈 형태의 몰드와 투명한 수지 기재 사이에 UV-경화성 수지 조성물을 붓고, 상기 조성물을 기재 한쪽으로부터 자외선을 사용한 조사에 의해 경화시킴으로써 렌즈를단시간내에 제조할 수 있는 방법이 있다.
몰드로부터의 렌즈의 이형성(releasability)과 같은 기재에 대한 접착력과 관련된 제조 중의 문제들을 해결하기 위해, 일본 특허 출원 공개 제8-259649호에는 에틸렌계 불포화기 함유 화합물, 라디칼 광개시제, 양이온성 중합성 화합물 및 양이온성 광개시제를 포함하는 렌즈 형성용 수지 조성물을 제시하고 있다.
발명이 해결하고자 하는 과제
경질의 렌즈 시트를 사용하는 경우에, 제조 중에 상기 시트가 구부러지거나 또는 약 60℃와 같은 고온에서 렌즈 시트를 사용한 후 사용 조건에 따라 실온으로 냉각시킬 때 렌즈 형태가 변형될 수 있다. 그 결과로서, 수득된 영상(imagine)에도 일그러짐(distortion)이 일어날 수 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 약간의 변형만을 나타내는, 내열성이 우수한 경화물(cured product)을 제조할 수 있는 광경화성 수지 조성물을 제공하는 것이다. 바람직하게는, 경화물은 광학 부재로서 사용가능하다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명자들은 광범위한 연구를 실시하여 약간의 변형만을 나타내는 내열성이 우수한 경화물을 제조하는 광경화성 수지 조성물을 발견하였다.
본 발명의 제1 실시형태는 특정 구조(도 1 또는 도 2)를 포함하는 (메트)아크릴레이트 및/또는 유사한 특정 구조를 포함하는 에폭시 화합물, 라디칼 광개시제 및 양이온성 광개시제를 포함하는 광경화성 수지 조성물이다.
본 발명의 제2 실시형태는 특정 구조(도 1 및 도 2)를 갖는 2종 이상의 (메트)아크릴레이트 및 라디칼 광개시제를 포함하는 광경화성 조성물(조성물 중의 전체 아크릴 성분들의 5-50 중량%는 메타크릴레이트 성분임)이다.
본 발명은 광경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 예를 들면, 본 발명은 액정 표시 장치의 백라이트용으로 사용되는 프리즘 렌즈 시트 및 프로젝션 TV의 스크린에 사용되는 프레스넬 렌즈 시트(Fresnel lens sheet) 또는 렌티큘러 렌즈 시트(lenticular lens sheet)의 렌즈부, 또는 상기 시트를 사용한 백라이트와 같은 광학 부재를 제조하는데 유용한 광경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 광경화성 수지 조성물은 스테레오리소그래피(stereolithography), 여러 기재들용 코팅재 및 예를 들어 DVD용 접착제와 같은 다른 용도에 사용될 수도 있다.
바람직하게, 본 발명은
(A) (A1) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트, 또는 (A2) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 에폭시 화합물;
(B) (A1)과 다른 3개 이상의 작용기들을 갖는 (메트)아크릴레이트;
(C) 라디칼 광개시제;
(D) 선택적으로 (A2)와 다른 분자내에 3개 이상의 환형 에테르 결합을 갖는 화합물; 및
(E) 적당한 양이온성 광개시제를 포함하는 광경화성 수지 조성물을 제공한다.
바람직하게, 상기 조성물은 (A2) 및/또는 (D) 및 (E)가 존재하지 않는 경우에 5-50 중량%의 메타크릴레이트 화합물들을 함유한다. 본 발명은 또한, 본 발명의 수지 조성물로부터 제조된 물품들을 제공한다.
성분 (A)는 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조를 포함한다:
[상기 화학식 1 및 화학식 2에서,
R1은 수소 원자 또는 할로겐 원자(불소 원자는 제외함)를 나타내고;
R2는 수소 원자, 할로겐 원자(불소 원자는 제외함), Ph-C(CH3)2-, Ph-, 또는 1-20개의 탄소 원자들을 갖는 알킬기를 나타내며;
R3은 -CH2-, -S- 또는 -C(CH3)2-를 나타낸다]
화학식 1 및 화학식 2에서 R1으로 표시되는 할로겐 원자(불소원자는 제외함)의 예로는 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자가 있다. 이 중에서, 브롬 원자가 바람직하다.
바람직하게, 화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트로서, 성분(A1)은 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물일 수 있다:
[상기 화학식 3에서,
R4는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;
R5는 -C(OCH2CH2)k, -(OCH2CH(CH3))l-, 또는 -OCH2CH(OH)CH2-(여기서, k 및 l은 각각 0 내지 10의 정수임)를 나타내며;
R1및 R2는 상기 정의된 바와 같다]
화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트로서, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물이 바람직하다:
(상기 화학식 4에서,
R6은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;
R7및 R8은 -CH2CH2-, -CH2CH(CH3)- 또는 -CH2CH(OH)CH2-를 나타내며;
R9는 -CH2-, -S- 또는 -C(CH3)2)-를 나타내고;
p, q 및 r은 각각 0 내지 10의 정수이며;
R1은 상기 정의된 바와 같다)
화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 (A1)의 예로는 페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 페녹시-2-메틸에틸 (메트)아크릴레이트, 페녹시에톡시에틸 (메트)아크릴레이트, 3-페녹시-2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 2-페닐페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 4-페닐페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 3-(2-페닐페닐)-2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드와 반응하는 p-쿠밀페놀의 (메트)아크릴레이트, 2-브로모페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 2,4-디브로모페녹시에틸 (메트)아크릴레이트 및 2,4,6-트리브로모페녹시에틸 (메트)아크릴레이트가 있다. 이 중에서, 페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 페녹시에톡시에틸 (메트)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드와 반응하는 p-쿠밀페놀의 (메트)아크릴레이트, 2,4,6-트리브로모페녹시에틸 (메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다.
화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 (A1)의 예로는 에틸렌 옥사이드 부가 (테트라브로모)비스페놀 A (메트)아크릴레이트, 프로필렌 옥사이드 부가 (테트라브로모)비스페놀 A (메트)아크릴레이트, (테트라브로모)비스페놀 A 디글리시딜 에테르와 (메트)아크릴산의 에폭시 개환 반응에 의해 수득된 (테트라브로모) 비스페놀 A 디글리시딜 에테르 에폭시 (메트)아크릴레이트 및 (테트라브로모)비스페놀 F 디글리시딜 에테르와 (메트)아크릴산의 에폭시 개환 반응에 의해 수득된 (테트라브로모)비스페놀 F 디글리시딜 에테르 에폭시 (메트)아크릴레이트가 있다. 이 중에서, 에틸렌 옥사이드 부가 (테트라브로모)비스페놀 A (메트)아크릴레이트, (테트라브로모)비스페놀 A 디글리시딜 에테르와 (메트)아크릴산의 에폭시 개환 반응에 의해 수득된 (테트라브로모)비스페놀 A 디글리시딜 에테르 에폭시 (메트)아크릴레이트가 특히 바람직하다. (테트라브로모)비스페놀은 비스페놀 또는 테트라브로모비스페놀을 나타낸다. (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 나타낸다.
화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 상업적으로 사용가능한 제품들의 예로는 아로닉스(Aronix) M113, M110, M101, M102, M5700, TO-1317(Toagosei Co., Ltd.제) 비스코트(Viscoat) #192, #193, #220, 3BM(Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.제), NK Ester AMP-10G, AMP-20G(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.제), 저급 아크릴레이트 PO-A, P-200A, 에폭시 에스테르 M-600A(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제), PHE, CEA, PHE-2, BR-30, BR-31, BR-31M, BR-32(Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.제)가 있다.
화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트의 상업적으로 사용가능한 제품들의 예로는 비스코트 #700, #540(Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.제), 아로닉스 M-208, M210(Toagosei Co., Ltd.제), NK Ester BPE-100, BPE-200, BPE-500, A-BPE-4(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.제), 저급 에스테르 BP-4EA, BP-4PA, 에폭시 에스테르 3002M, 3002A, 3000M, 3000A(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제), 가야라드(Kayarad) R-551, R-712(Nippon Kayaku Co., Ltd.제), BPE-4, BPE-10, BR-42M(Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.제), 리폭시 VR-77, VR-60, VR-90, SP-1506, SP-1507, SP-1509, SP-1563(Showa Highpolymer Co., Ltd.제), Neopole V779 및 Neopole V779MA(Japan U-PiCA Co., Ltd.제)가 있다.
에폭시 화합물 (A2)의 예로는 분자내에 1개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물, 가령 페닐 글리시딜 에테르 및 비스페놀형 에폭시 수지, 가령 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S 및 테트라비스페놀 A와 같은 비스페놀을 에피클로로히드린 및/또는 메틸에피클로로히드린과 반응시킴으로써 수득된 화합물 및 비스페놀 A 디글리시딜 에테르 또는 비스페놀 F 디글리시딜 에테르를 상기 비스페놀 및 에피클로로히드린의 축합물과 반응시킴으로써 수득된 화합물; 에피클로로히드린을 갖는 산 촉매의 존재하에서, 가령 페놀, 크레졸, 할로겐화 페놀 및 알킬페놀을 포름알데히드와 반응시킴으로써 수득된 화합물인 노볼락 에폭시 수지가 있다.
상기 에폭시 화합물들의 상업적으로 사용가능한 제품들의 예로는 에포라이트(Epolight) 3002(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제), 플라셀(Placcel) GL61, G101, G401(Daicel Chemical Industries, Ltd.제), 에피코테(Epikote) 828, 807, 5050, 5051, 5054(Japan Epoxy Resins Co., Ltd.제)가 있다.
성분 (A1) 및 성분 (A2)는 개별적으로 또는 둘 이상을 배합하여 사용될 수 있다.
조성물 중의 성분 (A)의 함량은 바람직하게는 20-80 중량%, 및 특히 바람직하게는 30-70 중량%이다. 상기 함량의 하한은 굴절율의 관점에서 바람직하다. 상기 함량의 상한은 경화물의 점도 및 내열성의 관점에서 바람직하다.
에폭시 성분 (A2) 또는 (D)가 존재하지 않는 경우 또는 적당한 양이온성 광개시제가 존재하지 않는 경우, 메타크릴레이트 화합물의 양은 바람직하게는 조성물 중의 전체 아크릴 성분들을 기준으로 5-50 중량%이다. 메타크릴레이트 화합물은 1개 이상의 메타크릴레이트기를 갖는 화합물이다.
성분 (B)는 3개 이상의 작용기들을 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물이다. 성분 (B)는 (A1)과 상이하다. 성분 (B)의 예로는 3개 이상의 히드록실기를 갖는 알콜의 (메트)아크릴레이트, 가령 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리옥시에틸(메트)아크릴레이트 및 트리스(2-아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트가 있다. 상기 화합물들은 개별적으로 또는 둘 이상을 배합하여 사용될 수 있다.
상기 화합물들의 상업적으로 사용가능한 제품들의 예로는 아로닉스 M305, M309, M310, M315, M320, M350, M360, M408(Toagosei Co., Ltd.제), 비스코트 #295, #300, #360, GPT, 3PA, #400(Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.제), NK 에스테르 TMPT, A-TMPT, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMMT(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.제), 저급 아크릴레이트 TMP-A, TMP-6EO-3A, PE-3A, PE-4A, DPE-6A(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제), 가야라드 PET-30, GPO-303, TMPTA, TPA-320, DPHA, D-310, DPCA-20 및 DPCA-60(Nippon Kayaku Co., Ltd.제)가 있다.
조성물 중의 성분 (B)의 함량은 바람직하게는 5-40 중량% 및 특히 바람직하게는 10-30 중량%이다. 상기 함량의 하한은 경화물의 내열성의 관점에서 바람직하다. 상기 함량의 상한은 굴절율 감소 방지의 관점에서 바람직하다.
성분 (C)는 라디칼 광개시제이다. 라디칼 광개시제의 예로는 아세토페논, 아세토페논 벤질 케탈, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 크산톤, 플루오레논, 벤즈알데히드, 플루오렌, 안트라퀴논, 트리페닐아민, 카르바졸, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 미클러 케톤(Michler's ketone), 벤조인 프로필 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤질 디메틸 케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 티옥산톤, 디에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드 및 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀 옥사이드가 있다.
라디칼 광개시제의 상업적으로 사용가능한 제품의 예로는 이르가큐어(Irgacure) 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI11850, CG24-61, 다로큐(Darocur) 116, 1173(Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.제), 루시린(Lucirin) LR8728(BASF제) 및 우베크릴(Ubecryl) P36(UCB제)이 있다.
조성물 중의 성분 (C)의 함량은 바람직하게는 0.01-10 중량% 및 특히 바람직하게는 0.5-7 중량%이다. 상한은 조성물의 경화 특성, 경화물의 기계적 특성 및 광학 특성, 취급 능력 등을 확보한다는 관점에서 바람직하다. 하한은 경화 속도감소 방지의 관점에서 바람직하다.
본 발명의 조성물은 (A2)와 달리 분자내에 3개 이상의 환형 에테르를 갖는 화합물인 성분 (D)를 함유할 수 있다. 임의 성분 (D)의 예로는 옥시란 화합물, 옥세탄 화합물 및 옥솔란 화합물과 같이 분자내에 3개 이상의 지환족 에폭시기를 갖는 지환족 에폭시 화합물들이 있다. 옥시란 화합물의 예로는 에폭시 노볼락 수지, 글리세롤 트리글리시딜 에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 테트라글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 트리글리시딜 에테르, 디글리세롤 테트라글리시딜 에테르, 디글리세롤 트리글리시딜 에테르, 소르비톨 헥사글리시딜 에테르, 소르비톨 펜타글리시딜 에테르, 소르비톨 테트라글리시딜 에테르, 소르비톨 트리글리시딜 에테르; 글리세롤 및 소르비톨과 같은 지방족 다가 알콜에 1개 이상의 알킬렌 옥사이드 및 카프로락톤을 첨가함으로써 수득된 폴리글리시딜 에테르 및 폴리시클로헥센 옥사이드가 있다. 옥세탄 화합물의 예로는 트리메틸올프로판 트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타에리트리톨 트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타에리트리톨 테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸) 에테르 등이 제공될 수 있다. 상기 화합물들은 개별적으로 또는 둘 이상을 배합하여 사용될 수 있다.
상기 화합물들의 상업적으로 사용가능한 제품들로서 에포라이트(Epolite) 40E, 100E, 70P, 1500NP, 100MF, 4000, 3002(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제), 에포리드(Epolead) GT301, GT302, GT401, GT402, EHPE, PB3600, 에포프렌드(Epofriend) A1005, A1010, A1020(Daicel Chemical Industries, Ltd.제), 데나콜(Denacol) EX-611, 612, 512, 521, 411, 421, 313, 314, 321(Nagase Kasei Co., Ltd.제), PA36-PEP(Yokkaichi Gosei Co., Ltd.제) 등이 제공될 수 있다.
조성물 중의 성분 (D)의 함량은 바람직하게는 5-40 중량% 및 특히 바람직하게는 10-30 중량%이다. 상기 함량의 하한은 경화물의 변형의 관점에서 바람직하다. 상기 함량의 상한은 굴절율 감소 방지의 관점에서 바람직하다.
성분 (A2) 및/또는 성분 (D)가 존재하는 경우에, 양이온성 광개시제(E)가 또한 존재할 것이다. 본 발명의 수지 조성물내에서 촉매적 활성을 갖는 양이온성 광개시제면 어느 것이나 적당하게 사용될 수 있다. 바람직하게는, 성분 (E)는 인 원자를 함유하는 양이온성 광개시제이다. 성분 (E)의 예로는 하기 화학식 7로 표시되는 구조를 갖는 오늄염이 있다. 오늄염은 빛에 노출시에 루이스산을 발생시킨다.
[R15 aR16 bR17 cR18 dW]+m[MXn+m]-m
[상기 화학식 7에서,
양이온은 오늄 이온이고;
W는 S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl 또는 N≡N이며;
R15, R16, R17및 R18은 동일하거나 상이한 유기 기이고;
a, b, c 및 d는 0 내지 3의 정수((a+b+c+d)가 W의 원자가와 동일한 조건하에)이다]
M은 할라이드 착화합물[MXn+m]의 중심 원자로 이루어져 있다. 바람직하게는, 인 원자는 M으로서 사용된다. X는 F, Cl 또는 Br과 같은 할로겐 원자이며; m은 할라이드 착화합물 착체 이온의 유효 전하량이며; n은 M의 원자가이다.
화학식 7에서 오늄 이온의 특정 예로는 디페닐요오도늄, 4-메톡시디페닐요오도늄, 비스(4-메틸페닐)요오도늄, 비스(4-tert-부틸페닐)요오도늄, 비스(도데실페닐)요오도늄, 트리페닐설포늄, 디페닐-4-티오-페녹시페닐설포늄, 비스[4-(디페닐설포니오)-페닐]설파이드, 비스[4-(디(4-(2-히드록시에틸)페닐)설포니오)-페닐]설파이드 및 η5-[2,4-(시클로펜타디에닐)(1,2,3,4,5,6-η)-(메틸에틸)벤젠]-철(1+)이 있다.
화학식 7에서 음이온 [MXn+m]의 특정 예로는 헥사플루오로포스페이트(PF6 -) 등이 제공될 수 있다.
양이온성 광개시제의 상업적으로 사용가능한 제품으로서, UVI-6990(Union Carbide제), 아데카옵토머(Adekaoptomer) SP-150, SP-152(Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.제), 사나이데(Sanaide) SI-110, SI-180(Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.제) 등이 제공될 수 있다.
조성물 중의 성분 (E)의 함량은 바람직하게는 0.01-10 중량% 및 특히 바람직하게는 0.5-7 중량%이다. 상한은 조성물의 경화 특성들, 경화물의 기계적 특성들 및 광학 특성들 및 조성물의 저장 안정성을 확보한다는 관점에서 바람직하다. 하한은 경화 속도 감소의 방지의 관점에서 바람직하다.
본 발명의 조성물은 감광제를 추가로 포함할 수 있다. 감광제의 예로는 트리에틸아민, 디에틸아민, N-메틸디에탄올아민, 에탄올아민, 4-디메틸아미노벤조산, 메틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 에틸 4-디메틸아미노벤조에이트 및 이소아밀 4-디메틸아미노벤조에이트가 있다. 감광제의 상업적으로 사용가능한 제품들의 예로는 예를 들어, 우베크릴(Ubecryl) P102, P103, P104 및 P105(UCB제)가 있다.
본 발명에서, 성분들 (A) 내지 (E)이외에 (메트)아크릴로일기 또는 비닐기를 갖는 화합물은 임의 성분(이하에 "불포화 단량체"라고 함)으로서 첨가될 수 있다. 불포화 단량체로서, 비닐 단량체, 가령 예를 들면 N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐, 비닐이미다졸 및 비닐피리딘, 이소보르닐 (메트)아크릴레이트, 보르닐 (메트)아크릴레이트, 트리시클로데카닐 (메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 (메트)아크릴레이트, 시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 벤질 (메트)아크릴레이트, 4-부틸시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 아크릴로일모르폴린, 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 프로필 (메트)아크릴레이트, 이소프로필 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 아밀 (메트)아크릴레이트, 이소부틸 (메트)아크릴레이트, t-부틸 (메트)아크릴레이트, 펜틸 (메트)아크릴레이트, 이소아밀 (메트)아크릴레이트, 헥실 (메트)아크릴레이트, 헵틸 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 이소옥틸 (메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 노닐 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 이소데실 (메트)아크릴레이트, 운데실 (메트)아크릴레이트, 도데실 (메트)아크릴레이트, 라우릴 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트, 이소스테아릴 (메트)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 (메트)아크릴레이트, 부톡시에틸 (메트)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌 글리콜 모노(메트)아크릴레이트, 메톡시에틸렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 에톡시에틸 (메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 디아세톤 (메트)아크릴아미드, 이소부톡시메틸 (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸 (메트)아크릴아미드, t-옥틸 (메트)아크릴아미드, 디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 7-아미노-3,7-디메틸옥틸 (메트)아크릴레이트, N,N-디에틸 (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필 (메트)아크릴아미드, 히드록시부틸 비닐 에테르, 라우릴 비닐 에테르, 세틸 비닐 에테르, 2-에틸헥실 비닐 에테르 및 하기 화학식 5 및 화학식 6으로 표시되는 1관능성 단량체가 제공될 수 있다:
(상기 화학식 5에서,
R10은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;
R11은 2-8개의 탄소 원자들을 갖는 알킬렌기를 나타내며;
s는 0 내지 8의 정수이다)
(상기 화학식 6에서,
R12및 R14는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;
R13은 2-8개의 탄소 원자들을 갖는 알킬렌기를 나타내며;
t는 1 내지 8의 정수이다)
또 다른 예로는 분자내에 2개의 (메트)아크릴로일기 또는 2개의 비닐기를 갖는 불포화 단량체, 가령 알킬디올 디아크릴레이트, 가령 1,4-부탄디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 및 1,9-노난디올 디아크릴레이트, 폴리알킬렌 글리콜 디아크릴레이트, 가령 테트라에틸렌 글리콜 디아크릴레이트 및 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리시클로데칸메탄올 디아크릴레이트가 있다.
본 발명의 조성물은 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머를 추가로 포함할 수 있다. 우레탄 (메트)아크릴레이트의 예로는 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리테트라메틸 글리콜과 같은 폴리에테르 폴리올로부터 제조된 우레탄 (메트)아크릴레이트, 숙신산, 아디프산, 아젤라산, 세바스산, 프탈산, 테트라히드로프탈산(무수물), 헥사히드로프탈산(무수물)과 같은 2가 산을 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올 및 네오펜틸 글리콜과 같은 디올과 반응시킴으로써 수득된 폴리에스테르 폴리올, 폴리 □-카프로락톤-변성 폴리올, 폴리메틸발레로락톤-변성 폴리올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올 및 1,6-헥산디올, 알킬 폴리올(가령 네오펜틸 글리콜), 비스페놀 A 골격(skeleton) 알킬렌 옥사이드 변성 폴리올(가령 에틸렌 옥사이드 부가 비스페놀 A 및 프로필렌 옥사이드 부가 비스페놀 A), 비스페놀 F 골격 알킬렌 옥사이드 변성 폴리올(가령 에틸렌 옥사이드 부가 비스페놀 F 및 프로필렌 옥사이드 부가 비스페놀 F) 또는 이들의 혼합물들, 유기 폴리이소시아네이트, 가령 톨일렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 디이소시아네이트 및 크실일렌 디이소시아네이트 및 히드록실기-함유 (메트)아크릴레이트, 가령 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트 및 2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트 등으로부터 제조된 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머가 제공될 수 있다. 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머를 사용하는 것은 본 발명의 경화성 조성물의 점도를 적당한 수준에서 유지하기 위해 바람직하다. 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머는 바람직하게는 4.99-40 중량% 및 보다 더 바람직하게는 4.99-20 중량%의 양으로 본 발명의 조성물 중에 사용된다.
우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머의 상업적으로 사용가능한 제품들의 예로는 아로닉스 M-120, M-150, M-156, M-215, M-220, M-225, M-240, M-245, M-270(Toagosei Co., Ltd.제), AIB, TBA, LA, LTA, STA, 비스코트 #155, IBXA, #158, #190, #150, #320, HEA, HPA, #2000, #2100, DMA, #195, #230, #260, #215, #335HP, #310HP, #310HG, #312(Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.제), 저급 아크릴레이트 IAA, L-A, S-A, BO-A, EC-A, MTG-A, DMP-A, THF-A, IB-XA, HOA, HOP-A, HOA-MPL, HOA-MPE, 3EG-A, 4EG-A, 9EG-A, NP-A, 1,6HX-A, DCP-A(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제), 가야라드(Kayarad) TC-110S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620(Nippon Kayaku Co., Ltd.제), FA-511A, 512A, 513A(Hitachi Chemical Co., Ltd.제), VP(BASF제), ACMO, DMAA, DMAPAA(Kohjin Co., Ltd.제) 등이 제공될 수 있다.
상기 단량체들의 상업적으로 사용가능한 제품들의 예로는 아로닉스 M-120, M-150, M-156, M-215, M-220, M-225, M-240, M-245, M-270(Toagosei Co., Ltd.제), AIB, TBA, LA, LTA, STA, 비스코트 #155, IBXA, #158, #190, #150, #320, HEA, HPA, #2000, #2100, DMA, #195, #230, #260, #215, #335HP, #310HP, #310HG, #312(Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.제), 저급 아크릴레이트 IAA, L-A, S-A, BO-A, EC-A, MTG-A, DMP-A, THF-A, IB-XA, HOA, HOP-A, HOA-MPL, HOA-MPE, 3EG-A, 4EG-A, 9EG-A, NP-A, 1,6HX-A, DCP-A(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제), 가야라드 TC-110S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620(Nippon Kayaku Co., Ltd.제), FA-511A, 512A, 513A(Hitachi Chemical Co., Ltd.제), VP(BASF제), ACMO, DMAA, DMAPAA(Kohjin Co., Ltd.제) 등이 제공될 수 있다.
본 발명의 조성물은 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머를 추가로 포함할수 있다. 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머는 (a) 히드록실기-함유 (메트)아크릴레이트, (b) 유기 폴리이소시아네이트 및 (c) 디올의 반응 생성물로서 수득된다. 우레탄 (메트)아크릴레이트는 히드록실기-함유 (메트)아크릴레이트(a)를 유기 폴리이소시아네이트(b)와 반응시키고, 생성된 생성물을 디올(c)과 반응시킴으로써 수득된 반응 생성물이다.
상기 성분들에 더해, 산화방지제, UV 흡수제, 광 안정화제, 실란 결합제, 코팅면 개선제, 열중합 억제제, 레벨링제(leveling agent), 계면활성제, 착색제, 방부제, 가소제, 윤활제, 용매, 충진제, 숙성 방지제 및 습윤력 개선제와 같은 첨가제들이 선택적으로 첨가될 수 있다. 산화방지제의 예로는 이르가녹스(Irganox) 1010, 1035, 1076, 1222(Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.제), 안티겐(Antigene) P, 3C, FR 및 GA-80(Sumitomo Chemical Industries Co., Ltd.제)이 있다. UV 흡수제의 예로는 티누빈(Tinuvin) P, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 213(Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.제), 시소르브(Seesorb) 102, 103, 110, 501, 202, 712 및 704(Sypro Chemical Co., Ltd.제)가 있다. 광 안정화제의 예로는 티누빈 292, 144, 622LD(Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.제), 사놀(Sanol) LS770(Sankyo Co., Ltd.제) 및 스미소르브(Sumisorb) TM-061(Sumitomo Chemical Industries Co., Ltd.제)가 있다. 실란 결합제의 예로는 γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란 및 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 및 상업적으로 사용가능한 제품, 가령 SH6062, SH6030(Toray-Dow Corning Silicone Co., Ltd.제) 및 KBE903, KBE603, KBE403(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.제)가 있다. 코팅면 개선제의 예로는 디메틸실록산 폴리에테르와 같은 실리콘 첨가제 및 상업적으로 사용가능한 제품들, 가령 DC-57, DC-190(Dow-Corning제), SH-28PA, SH-29PA, SH-30PA, SH-190(Toray-Dow Corning Silicone Co., Ltd.제), KF351, KF352, KF353, KF354(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.제) 및 L-700, L-7002, L-7500, FK-024-90(Nippon Unicar Co., Ltd.제)가 있다.
본 발명의 수지 조성물은 종래의 방법을 사용하여 상기 성분들을 혼합함으로써 제조될 수 있다. 이와 같이 제조된 본 발명의 수지 조성물의 점도는 보통 200 내지 50,000 cp/25℃ 및 바람직하게는 500 내지 30,000 cp/25℃이다. 조성물의 점도가 너무 높으면, 불균일한 코팅 또는 부서짐이 일어날 수 있거나 또는 렌즈를 성형할때 목적하는 렌즈 두께가 수득될 수 없어서 렌즈의 성능이 불충분할 수 있다. 점도가 너무 낮으면, 렌즈 두께를 조절하기가 어려워져서 균일한 두께를 갖는 렌즈가 형성될 수 없다. 렌즈를 제조하는 것 외의 용도에서, 본 발명의 수지 조성물의 점도는 특정 용도에 따라 상기 값과 다를 수 있다.
렌즈와 같은 용도를 위해, 본 발명의 수지 조성물을 방사선으로 경화함으로써 수득된 경화물은 하기 특성들을 가진다. 경화물의 25℃에서의 굴절율은 바람직하게는 1.55 이상 및 보다 바람직하게는 1.56 이상이다. 굴절율이 1.55 미만이면, 본 발명의 수지 조성물을 사용하여 프리즘 렌즈 시트를 형성할 때 충분한 정면 휘도(frontal brightness)가 확보되지 않는다.
경화물의 연화점은 바람직하게는 40℃ 이상 및 특히 바람직하게는 50℃ 이상이다. 경화물의 연화점이 40℃ 미만이면, 내열성이 불충분할 수 있다.
본 발명은 본 실시예에 의해 상세히 기술되며, 이는 본 발명의 범주를 제한하는 것으로 간주되지 않아야 한다.
실시예 1-4 및 비교 실시예 1-5
표 1에 개시된 성분들을 반응 용기에 채웠다. 상기 혼합물을 1 시간 동안 50-60 ℃에서 교반하여 점도가 500-10000 cps/25 ℃인 경화성 액체 수지 조성물을 수득하였다. 표 1에 개시된 각 성분의 양에 대한 단위는 "중량부(part by weight)"이다.
표 1에서의 우레탄 (메트)아크릴레이트는 하기 방법으로 합성하였다. 교반기를 구비한 반응 용기에 35.47 중량%의 2,4-톨일렌 디이소시아네이트, 0.08 중량%의 디-n-부틸틴 디라우레이트 및 0.02 중량%의 2,6-디-t-부틸-p-크레졸을 채웠다. 30 ℃ 이하에서 교반하면서 23.65 중량%의 2-히드록시에틸 아크릴레이트를 한 방울씩 첨가하였다. 첨가한 이후에, 혼합물을 1 시간 동안 30 ℃에서 반응시켰다. 40.77 중량%의 비스페놀 A 에틸렌 옥사이드 부가 디올(에틸렌 옥사이드 구조 단위의 수=4; 평균 분자량=400)을 첨가한 이후에, 상기 혼합물을 2 시간 동안 50-70 ℃에서 반응시켰다. 잔류 이소시아네이트가 0.1 중량% 이하인 경우에 상기 반응을 종결시켰다.
평가 방법
1. 내열성 측정
경화성 액체 수지 조성물을 어플리케이터 바아(applicator bar)를 사용하여125 ㎛ 두께 내지 70 ㎛ 두께를 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 막에 도포하였다. 질소 대기 하에서 조성물에 1.0 J/㎠의 양으로 자외선을 조사하여 경화 막을 수득하였다. 시료는 1 ㎝ ×1 ㎝의 정사각형으로 절단하였다. 시험편 두께의 변위량(the amount of displacement)을 측정하기 위해서 온도를 변화시키면서 열 기계 분석 시스템[thermal mechanical analysis(TMA) system, Seiko Instruments Inc.제]을 사용하여 20 gf의 하중으로 직경이 5 ㎜인 탑 모양의 석영 막대(column-shaped quartz stick)로 시험편을 압착시켰다. 온도 증가 속도는 분 당 5 ℃로 하였다. 변위량은 온도가 증가되는 것 만큼 증가된다. 변위량이 감소되는 시점의 변곡점(inflection point)은 연화점(softening point)으로 측정하였다. 본 발명의 경화성 수지 조성물을 사용하여 렌즈 시트를 성형하는 경우에 변곡점이 40 ℃ 미만이라면, 렌즈의 모양은 고온에서 변형될 것이다. 따라서, 변곡점이 40 ℃ 미만인 경우에 "나쁨(Bad)"이라고 판정하였으며, 변곡점이 40 ℃ 이상인 경우에 "좋음(Good)"이라고 판정하였다.
측정은 자외선 조사 직후 3 일 동안 60 ℃에서 경화막을 가열시킨 후에 실행하였다.
2. 뒤틀림(warping) 측정
어플리케이터 바아를 사용하여 125 ㎛의 두께 내지 40 ㎛의 두께를 갖는 PET 막에 경화성 액체 수지 조성물을 도포하였다. 질소 대기하에서 조성물에 1.0 J/㎠의 양으로 자외선을 조사하여 경화막을 수득하였다. 시료는 8 ㎝ ×8 ㎝의 정사각형으로 절단하고, 경화막을 편편한 데스크의 상면에 놓았다. 시료의 네 모서리에서 데스크로부터의 높이를 측정하였다. 높이의 평균값을 뒤틀림(warping)의 양으로 규정하였다. 본 발명의 경화성 수지 조성물을 사용하여 렌즈 시트를 성형하는 경우, 뒤틀림의 양이 20 ㎜를 초과한다면, 휘도를 비롯한 광학 특성이 렌즈의 컬링(curling) 때문에 손상될 것이다. 따라서, 뒤틀림의 양이 20 ㎜를 초과하는 경우는 "나쁨(Bad)"이라고 판정하고, 뒤틀림의 양이 20 ㎜ 이하이면 "좋음(Good)"이라고 판정하였다. 실시예 5-8에 있어서, 뒤틀림의 양이 10 ㎜ 이하인 경우는 "매우 좋은(very good)"이라고 판정하였다.
자외선으로 조사한 직후 3 일 동안에 60 ℃에서 경화막을 가열시킨 후 및 30 분 동안 85 ℃에서 경화막을 가열시킨 후에 측정을 실행하였다.
결과는 표 1에 나타내었다.
네오폴 V779(Japan U-PiCA Co., Ltd.제): 테트라브롬화된 비스페놀 A 에폭시 디아크릴레이트
네오폴 V779MA(Japan U-PiCA Co., Ltd.제): 테트라브로모비스페놀 A 에폭시 메타크릴레이트
아로닉스 M110(Toagosei Co., Ltd.제): 파라쿠밀페녹시 에틸렌 글리콜 아크릴레이트
에피코테 5050(Japan Epoxy Resins Co., Ltd.제): 테트라브롬화 비스페놀 A 디글리시딜 에테르
저급 에스테르 PO(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제): 페녹시에틸 메타크릴레이트
뉴 프론티어(New Frontier) PHE(Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.제): 페녹시에틸 아크릴레이트
뉴 프론티어 BR31(Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.제): 트리브로모페녹시에틸 아크릴레이트
리폭시(Lipoxi) VR-77(Showa Highpolymer Co., Ltd.제): 비스페놀 A 에폭시 아크릴레이트
아로닉스 M315(Toagosei Co., Ltd.제): 트리스(아크릴로일에틸)이소시아누레이트
DPHA(Nippon Kayaku Co., Ltd.제): 디펜타에리트리톨 헥사크릴레이트
비스코트 295(Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.제): 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트
PA36-PEP(Yokkaichi Gosei Co., Ltd.제): 소르비톨 폴리글리시딜 에테르
데나콜(Denacol) EX-411(Nagase ChemteX Corp.제): 펜타에리트리톨 폴리글리시딜 에테르
에포리드 GT401(Daicel Chemical Industries, Ltd.제): 에폭시드화 부탄테트라카르복실산 테트라키스-(3-시클로헥세닐메틸) 변형 ε-카프로락톤
이르가큐어 184(Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.제): 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤
이르가큐어 651(Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.제): 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온
UVI-6990(Union Carbide제): 트리알릴설포늄 헥사플루오로포스페이트 혼합물
SP152(Asahi Denka Kogyo K.K.제): 트리알릴설포늄 헥사플루오로포스페이트 혼합물
셀옥사이드(Seloxide) 2021(Daicel Chemical Industries, Ltd.제): 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트
셀옥사이드 2081(Daicel Chemical Industries, Ltd.제): ε-카프로락톤 변형 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카르복실레이트
에포라이트(Epolight) 4000(Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제): 수소화된 비스페놀 A 디글리시딜 에테르
선닉스(Sunnix) SP-250(Sanyo Chemical Industries, Ltd.제): 프로피온 옥사이드 부가 글리세롤
UVI-6974(Union Carbide제): 트리알릴설포늄 헥사플루오로안티모네이트 혼합물
표 1의 실시예 1-4로부터 명백하게 알 수 있는 것으로서, 화합물들 (A), (B), (C), (D) 및 (E)를 함유하는 본 발명의 조성물의 경화물은 내열성이 뛰어나며, 뒤틀림 및 변형이 적고, 1.55 이상의 굴절률을 가진다. 실시예 5-8로부터 명백하게 알 수 있는 것으로서, 화합물들 (A), (B) 및 (C)를 함유하는 본 발명의 조성물의 경화물은 내열성이 뛰어나며, 뒤틀림 및 변형이 적고, 1.55 이상의 굴절률을 가진다. 따라서, 경화물은 광학 부품으로서 특히 유용하다.
따라서, 경화물은 광학 부재로서 특히 유용하다.
발명의 효과
본 발명의 광경화성 수지 조성물의 경화물은 높은 굴절률을 유지시키면서 내열성이 뛰어나고, 변형이 적다. 따라서, 경화물은 프리즘 렌즈 시트를 비롯한 광학 부재로서 특히 유용하다.

Claims (12)

  1. (A) (A1) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트, 또는 (A2) 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조를 갖는 에폭시 화합물;
    (B) (A1)과 다른 3개 이상의 작용기들을 갖는 (메트)아크릴레이트;
    (C) 라디칼 광개시제; 및
    (E) 양이온성 광개시제를 포함하는 광경화성 수지 조성물.
    (화학식 1)
    (화학식 2)
    [상기 화학식 1 및 화학식 2에서,
    R1은 수소 원자 또는 할로겐 원자(불소 원자는 제외함)를 나타내며;
    R2는 수소 원자, 할로겐 원자(불소 원자는 제외함), Ph-C(CH3)2-, Ph-, 또는1-20개의 탄소 원자들을 갖는 알킬기를 나타내고;
    R3은 -CH2-, -S- 또는 -C(CH3)2-를 나타낸다]
  2. 제 1 항에 있어서,
    성분 (D)도 또한 존재하며, D는 (A2)와 달리 분자내에 3개 이상의 환형 에테르 결합을 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 성분 (D)는 지환족 에폭시 화합물인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (E)는 인 원자를 함유하는 양이온성 광개시제인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
  5. 특정 구조(도 1 및 도 2에 도시됨)를 갖는 2 종류 이상의 (메트)아크릴레이트 및 라디칼 광개시제를 포함하는 광경화성 조성물로서,
    조성물 중의 5-50 중량%의 전체 아크릴 성분들은 메타크릴레이트 성분인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (A)는 하기 화학식 3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
    (화학식 3)
    [상기 화학식 3에서,
    R4는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;
    R5는 -C(OCH2CH2)k-, -(OCH2CH(CH3))l-, 또는 -OCH2CH(OH)CH2-(여기서, k 및 l은 각각 0 내지 10의 정수임)를 나타내며;
    R1은 수소 원자 또는 할로겐 원자(불소 원자는 제외함)를 나타내며;
    R2는 수소 원자, 할로겐 원자(불소 원자는 제외함), Ph-C(CH3)2-, Ph-, 또는 1-20개의 탄소 원자들을 갖는 알킬기를 나타낸다]
  7. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    화합물 A는 하기 화학식 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
    (화학식 4)
    [상기 화학식 4에서,
    R6은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;
    R7및 R8은 -CH2CH2-, -CH2CH(CH3)- 또는 -CH2CH(OH)CH2-를 나타내며;
    R9는 -CH2-, -S- 또는 -C(CH3)2)-를 나타내고;
    p, q 및 r은 각각 0 내지 10의 정수이며;
    R1은 수소 원자 또는 할로겐 원자(불소 원자는 제외함)를 나타낸다]
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (A)는 페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 페녹시에톡시에틸 (메트)아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드와 반응된 p-쿠밀페놀의 (메트)아크릴레이트, 및 2,4,6-트리브로모페녹시에틸 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
  9. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (A)는 에틸렌 옥사이드 부가 (테트라브로모)비스페놀 A (메트)아크릴레이트, (테트라브로모)비스페놀 A 디글리시딜 에테르와 (메트)아크릴산의 에폭시 개환 반응에 의해 수득된 (테트라브로모) 비스페놀 A 디글리시딜 에테르 에폭시 (메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    조성물의 경화물은 25℃에서 1.55 이상의 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    조성물의 경화물의 연화점은 40℃ 이상인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 따른 광경화성 수지 조성물을 경화함으로써 수득가능한 광학 부재.
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