KR20050009703A

KR20050009703A - 정보기록 매체용 기판, 정보기록 매체 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR20050009703A
Application number: KR10-2004-7017865A
Authority: KR
Inventors: 이케니시미키오; 쩌우쉐루
Original assignee: 호야 가부시키가이샤
Priority date: 2002-06-03
Filing date: 2003-06-02
Publication date: 2005-01-25
Also published as: AU2003241745A1; CN1653523A; CN100373462C; JP4549184B2; US7462411B2; MY142816A; WO2003102928A1; JPWO2003102928A1; US20050117438A1

Abstract

알칼리금속 산화물 함유 유리로 이루어지는 정보기록 매체용 기판에 있어서, 상기 유리의 전이 온도 (Tg) 가 620℃ 이상이고, 또한 온도 80℃ 로 유지된 수중에 24 시간 침지하였을 때의 알칼리금속 이온의 용출량이, 단위면적당 0.2μ몰/cm²이하인 정보기록 매체용 기판, 그리고 그 기판 상에 정보기록층을 갖는 정보기록 매체 및 그 제조방법이다.

Description

정보기록 매체용 기판, 정보기록 매체 및 그 제조방법{SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM, INFORMATION RECORDING MEDIUM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME}

종래, 자기기록 매체용 기판재료로서는, 알루미늄, 유리, 세라믹스 등이 사용되어 왔다. 현재, 사이즈나 용도에 따라 주로 알루미늄과 유리가 실용화되어 있다. 그 중에서 유리 기판은 표면결함이 적고, 평활성이나 표면경도가 우수하기 때문에, 그 사용범위가 해마다 확대되고 있다. 자기기록 매체용 기판으로서 사용되는 유리로서는, 이온교환에 의한 화학 강화 유리, 결정화 유리 등이 알려져 있다. 화학 강화 유리로서는, 중량% 표시로, SiO₂:50∼85%, Al₂O₃:0.5∼14%, R₂O (단 R 은 알칼리금속 이온):10∼32%, ZnO:1∼15%, B₂O₃:1.1∼14% 를 함유하는 유리를 알칼리 이온에 의한 이온교환법에 의해서 유리 기판의 표면에 압축응력층을 형성하여, 화학 강화된 자기디스크용 유리 기판이 알려져 있다 (예를 들어 일본 공개특허공보 평1-239036호 참조). 또한, 결정화 유리로서는, 중량% 표시로, SiO₂:65∼83%, Li₂O:8∼13%, K₂O:0∼7%, MgO:0.5∼5%, ZnO:0∼5%, PbO:0∼5%, 단, MgO＋ZnO＋PbO: 0.5∼5%, P₂O₅:1∼4%, A1₂O₃:0∼7%, As₂O₃＋Sb₂O₃:0∼2% 를 함유하고, 주결정으로서 미세한 Li₂Oㆍ2SiO₂결정입자를 함유하는 자기디스크용 결정화 유리 기판이 알려져 있다 (예를 들어 미국특허 제5391622호 명세서 참조).

그러나, 최근 하드디스크로 대표되는 자기디스크 등의 정보기록장치에는, 기록의 고밀도화의 진전에 수반하여, 장수 자기기록 방식에서 수직 자기기록 방식으로의 변환이 요청되고 있다. 장수 자기기록 방식에서는, 실온 정도의 열에 의해서 자구가 용이하게 회전하기 때문에, 기록 밀도가 높아지면 기입을 할 수 없게 되고, 기입한 정보가 쉽게 손실되는 것이 지적되고 있다. 이러한 현상은 열 요동의 문제로서 알려져 장수 자기기록 방식의 장애가 되고 있다. 그래서, 장수 자기기록 방식에 의한 열 요동의 문제에 대처하기 위해, 수직 자기기록 방식이 실용화를 향해 최근 활발히 검토되고 있다.

이 수직 자기기록 방식의 막 구성으로서는, 비자성 기판 상에 수직 자기기록층을 형성한 단층막, 연자성층과 자기기록층을 차례로 적층한 2 층막, 그리고 경자성층, 연자성층 및 자기기록층을 차례로 적층한 3 층막 등이 알려져 있다. 그 중에서 2 층막과 3 층막은 단층막보다 고기록 밀도화 및 자기 모멘트의 안정유지에적합하기 때문에 실용화를 향한 개발이 최근 활발히 실시되고 있다. 그리고, 이러한 다층 자성막 수직 자기기록 매체의 특성을 향상시키기 위해서, 고온 스퍼터기에 의한 막형성이나 막형성 후의 고온 열처리가 필요로 되고 있다.

그러나, 지금까지 일반적으로 사용되어 온 알루미늄 기판은, 내열성이 280℃ 이하로 낮다. 또한, 종래의 화학 강화 유리 기판은 통상의 화학 강화온도 (350∼420℃) 범위 또는 그보다 높은 온도에서 사용되면 화학 강화를 위한 이온교환에 의한 표면응력이 완화되어 기판강도가 급격히 저하되기 때문에, 일반적으로 화학 강화 유리는 350℃ 이하의 온도에서의 사용을 강요받고 있다. 그러나, 수직 자기기록 방식에서는 자성막의 자기특성을 높이기 위해서, 400℃ 이상의 고온 스퍼터기에 의한 막형성 또는 적층한 자성막을 400℃ 이상의 고온에서 어니일하는 것이 요구되고 있다. 따라서, 이러한 고온에서는 현재 시판되고 있는 알루미늄 기판이나 화학 강화 유리 기판은 모두 대응할 수 없는 것이 분명하여 내열성이 높은 유리 기판이 요구되고 있다.

우수한 내열성을 얻기 위해서, 지금까지 화학 강화용 유리에서는 필수성분이었던 알칼리금속 산화물을 사용하지 않는 유리재료도 생각해 볼 수 있으나, 이 경우, 용해시의 점성이 상승하여 용해성이 저하된다는 문제가 생긴다. 또한, 자기디스크를 드라이브 장치에 장착할 때, 디스크를 고정하기 위한 금속 고정구와의 열팽창 특성을 맞추기 위해서, 유리 기판의 열팽창 계수를 크게할 필요가 있지만, 알칼리금속 산화물을 함유하지 않은 유리에서는 열팽창 계수를 정보기록 매체용 기판에 요구되는 범위로 하기가 어렵다.

한편, 유리의 용해성, 열팽창 계수를 양호하게 하기 위해서 알칼리금속 산화물을 도입하면, 유리 기판으로부터 알칼리가 용출되어 기판 상에 형성되어 있는 정보기록층에 악영향을 미친다는 문제도 있다.

이상, 정보기록 매체용 기판의 유리재료에 요구되는 조건을 종합하면 다음과 같다.

① 높은 내열성

② 우수한 용해성

③ 저알칼리 용출특성

본 발명은 내열성이 높고, 알칼리금속 산화물을 함유하면서도 알칼리금속 이온의 용출량이 매우 낮은 정보기록 매체용 기판, 그리고 상기 기판을 구비한 정보기록 매체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 특히, 고온 스퍼터기에서의 수직 자기기록 방식용 자성막의 제작에 적합한 자기기록 매체용 기판, 그리고 자기기록 매체 및 그 제조방법에 관한 것이다.

발명의 개시

본 발명은, 이러한 사정 하에서, 상기 요구특성을 만족하는 고내열성, 저알칼리 용출성 등을 구비한 유리로 이루어지는 정보기록 매체용 기판, 및 그 기판을 사용한 정보기록 매체 및 그 제조방법, 특히 고온 스퍼터기로 수직 자기기록 방식용 자성막의 제작에 적합한 자기기록 매체용 기판, 그리고 자기기록 매체 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.

본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 연구를 거듭한 결과, 알칼리금속 산화물을 함유하고, 또한 일정 온도 이상의 유리 전이 온도 (Tg) 를 갖는 동시에, 특정한 조건에서 수중에 침지하였을 때의 알칼리금속 이온의 용출량이 일정 값 이하인 유리로 이루어지는 정보기록 매체용 기판에 의해, 그 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하고, 이 지견에 기초하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명은,

(1) 알칼리금속 산화물 함유 유리로 이루어지는 정보기록 매체용 기판에 있어서, 상기 유리의 전이 온도 (Tg) 가 620℃ 이상이고, 또한 온도 80℃ 로 유지된 수중에 24 시간 침지하였을 때의 알칼리금속 이온의 용출량이, 단위면적당 0.2μ몰/cm²이하인 것을 특징으로 하는 정보기록 매체용 기판,

(2) 알칼리금속 산화물 함유 유리가, 필수성분으로서 SiO₂, A1₂O₃, CaO, BaO 및 K₂O 를 함유하는 상기 (1) 에 기재된 정보기록 매체용 기판,

(3) 알칼리금속 산화물 함유 유리가, SiO₂, A1₂O₃, CaO, BaO, K₂O, MgO, SrO, TiO₂, ZrO₂, Li₂O, Na₂O, ZnO 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 (1) 에 기재된 정보기록 매체용 기판,

(4) 화학 강화층이 존재하지 않고, 알칼리금속 산화물 함유 유리가 실질적으로 몰% 표시로, SiO₂50% 초과 또한 70% 이하, Al₂O₃1∼12%, CaO 2∼25%, BaO 0% 초과 또한 15% 이하, K₂O 3∼15%, MgO 0∼10%, SrO 0∼15%, TiO₂0∼10%, ZrO₂0∼12%, Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만, Na₂O 0∼8%, ZnO 0∼1% 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 (3) 에 기재된 정보기록 매체용 기판,

(5) 표면에 화학 강화층을 갖고, 알칼리금속 산화물 함유 유리가 실질적으로 몰% 표시로, SiO₂50% 초과 또한 70% 이하, A1₂O₃1∼10%, CaO 2∼25%, BaO 1∼15%,K₂O 3∼15%, MgO 0∼3%, SrO 0∼15%, TiO₂0∼10%, ZrO₂0% 초과 12% 이하, Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만, Na₂O 1∼8%, ZnO 0∼1% 로 이루어지고, SiO₂, Al₂O₃및 ZrO₂의 합계량이 70 중량% 초과인 것을 특징으로 하는 상기 (3) 에 기재된 정보기록 매체용 기판,

(6) 표면에 화학 강화층을 갖고, 알칼리금속 산화물 함유 유리가 실질적으로 몰% 표시로, SiO₂50% 초과 또한 70% 이하, A1₂O₃1∼10%, CaO 15∼25%, BaO 1∼15%, K₂O 3∼15%, MgO 0∼3%, SrO O∼15%, TiO₂0∼1O%, ZrO₂0% 초과 12% 이하, Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만, Na₂O 1∼8%, ZnO 0∼1% 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 (3) 에 기재된 정보기록 매체용 기판,

(7) 알칼리금속 산화물 함유 유리의 온도 100∼300℃ 에서의 평균 선열팽창계수 (α) 가 70 ×10^－7/℃ 이상인 상기 (1) 내지 (6) 중 어느 한 항에 기재된 정보기록 매체용 기판,

(8) 알칼리금속 산화물 함유 유리의 비중이 3.5 이하인 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 한 항에 기재된 정보기록 매체용 기판,

(9) 수직 자기기록 방식의 정보기록 매체용인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (8) 중 어느 한 항에 기재된 정보기록 매체용 기판,

(10) 상기 (1) 내지 (9) 중 어느 한 항에 기재된 정보기록 매체용 기판 상에, 정보기록층을 갖는 것을 특징으로 하는 정보기록 매체,

(11) 수직방식의 자기기록 매체인 상기 (10) 에 기재된 정보기록 매체,

(12) 정보기록 매체용 기판 상에 정보기록층의 형성을 포함하는 공정을 구비한 정보기록 매체의 제조방법에 있어서, 상기 기판에 상기 (1) 내지 (9) 중 어느 한 항에 기재된 정보기록 매체용 기판을 사용하고, 상기 공정 중에 상기 기판을 400∼600℃ 로 가열하는 것을 특징으로 하는 정보기록 매체의 제조방법을 제공하는 것이다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

본 발명의 정보기록 매체용 기판은, 종래의 유리 기판의 고평활성, 고평탄성 등이 우수한 특성을 유지하면서도, 400∼600℃ 의 온도범위에서의 고온 막형성에 적합하고, 400∼600℃ 온도범위에서 고온 열처리하더라도 변형되지 않고, 또한 용해성을 손상시키지 않기 때문에 알칼리금속 산화물을 함유하면서도 알칼리금속 이온의 용출량 (이하, 알칼리 용출량이라고 하는 경우가 있다.) 이 매우 적은 비정질성 유리로 이루어지는 기판이다. 상기 고온 열처리를 하더라도 기판이 변형되지 않기 때문에, 유리 전이 온도 (Tg) 가 620℃ 이상, 바람직하게는 650℃ 이상, 보다 바람직하게는 680℃ 이상, 더욱 바람직하게는 700℃ 이상의 유리에 의해 기판을 구성한다. 그 유리의 전이 온도의 상한에 대해서는 특별한 제한이 없지만, 통상 900℃ 정도이다.

또, 후술하는 화학 강화층이 존재하는 정보기록 매체용 기판의 경우에는, 알칼리금속 화합물을 함유하는 용융염 중에 유리를 침지하여 이온교환을 한다. 유리 전이 온도 (Tg) 가 현저하게 높은 유리를 화학 강화하기 위해서는, 용융염의온도도 현저하게 높게 해야 한다. 그렇게 하면 용융염의 분해가 일어나, 분해생성물에 의해서 유리 표면이 침식되게 된다. 이러한 침식을 방지하기 위해서는 화학 강화층을 갖는 기판의 경우에는 유리 전이 온도 (Tg) 를 800℃ 이하로 하는 것이 바람직하다.

본 발명의 유리 기판은 우수한 용해성을 부여하기 위해서, 알칼리금속 산화물을 함유하지만, 한편 알칼리 용출량은 매우 적은 것이다. 이 알칼리 용출량은 온도 80℃ 로 유지된 수중에 24 시간 침지하였을 때의 단위면적당 용출량으로 표시되지만, 그 값은 0.2μ몰/cm²이하 (0.2 ×10^－6몰/cm²이하) 이다. 이상과 같은 특성이 합쳐져서 고기록 밀도화에 적합한 정보기록 매체용 기판이 얻어진다. 또, 상기 알칼리 용출량이 0.2μ몰/cm²보다 크면, 기판의 세정공정 등에 있어서 유리 중의 알칼리금속이 용출되어 기판 표면이 거칠어져, 연마가공에 의해서 마무리된 기판 표면의 평활성이 손상된다. 또한, 정보기록층을 형성한 후, 기판으로부터 석출되는 알칼리금속에 의해서 정보기록층이 침식되는 문제도 발생한다. 바람직한 알칼리 용출량은 0.1μ몰/cm²이하, 보다 바람직하게는 0.05μ몰/cm²이하이다.

또, 상기 알칼리 용출량은 이하에 나타내는 측정방법에 의해 구한 값이다.

〈알칼리금속 이온의 용출량 (알칼리 용출량) 의 측정방법〉

청정한 표면을 갖는 유리시료를 밀폐가능한 용기에 넣어 칭량하여 이 질량을 질량 A 로 한다. 다음에 용기 중에 유리시료가 완전히 침지하도록 70∼75℃ 의초순수를 약 20 ml 첨가하고, 밀폐한 상태에서 용기 내의 온도가 80℃ 로 유지되는 상태로 24 시간 방치한다. 그 후, 밀폐상태의 용기를 칭량하여 이 질량을 질량 B 로 한다. 그 후, 유리시료를 꺼낸다. 유리시료를 침지하고 있던 물의 질량은 질량 B 에서 질량 A 를 뺀 것이다. 이어서, 유리시료를 침지시키고 있던 물에 용출된 알칼리금속 원소의 농도를 ICP-AES (바리안제 ICP 발광 분광 분석장치「VISTA AX」) 를 사용하여 측정한다. 알칼리금속 원소의 농도와 물의 질량을 바탕으로 용출한 알칼리금속 원소의 양을 산출하여 이 값 (몰 표시) 을 유리시료의 표면적으로 나누면 알칼리의 용출량이 구해진다. 또, 측정함에 있어, 유리시료를 침지시키는 물의 순도, 용기의 세정성, 용기에서 물로의 용출 등, 측정 정밀도 저하의 요인이 되는 점에 대하여 충분히 주의를 기울일 필요가 있다. 유리 중에 함유되는 알칼리금속 원소가 복수종 있는 경우에는 각각의 알칼리금속 이온의 농도로부터 침지된 물에 포함되는 각 알칼리금속 이온의 양 (몰표시) 을 측정, 산출하여 그 합계량을 유리시료의 표면적으로 나눈 값을 알칼리금속 이온의 용출량으로 한다.

본 발명의 유리 기판은, 화학 강화공정을 생략할 수 있다는 관점에서는, 화학 강화층이 존재하지 않는 것이 바람직하다. 본 발명의 유리 기판에 의하면 화학 강화하지 않더라도 알칼리 용출량을 낮은 레벨로 억제할 수 있어 화학 강화 공정을 생략할 수 있다.

본 발명의 유리 기판은, 높은 기계강도를 부여함으로써 기판 파손을 방지한다는 관점에서는, 화학 강화층이 존재하는 것이 바람직하다.

화학 강화층이 존재하지 않는 유리 기판 및 표면에 화학 강화층을 갖는 유리 기판에 공통되는 유리의 조성은 필수성분으로서 SiO₂, Al₂O₃, CaO, BaO 및 K₂O 를 함유하는 것이다. 또한, 상기 조성으로서 바람직한 것은, SiO₂, A1₂O₃, CaO, BaO, K₂O, MgO, SrO, TiO₂, ZrO₂, Li₂O, Na₂O, ZnO 로 이루어지는 것이다.

화학 강화층이 존재하지 않는 유리 기판을 구성하는 유리로서는 필수성분으로서 SiO₂, Al₂O₃, CaO, BaO 및 K₂O 를 함유하는 것 (이하, 유리 I 이라고 한다.) 이 바람직하다. 이러한 조성에 의하면 고내열성, 고팽창 특성, 저알칼리 용출성, 높은 유리 안정성을 겸비한 정보기록 매체용 기판을 얻을 수 있다.

또한 상기 조성의 유리 I 에서, 바람직한 유리로서는, 실질적으로 몰% 표시로 (이하, 특별한 기재가 없는 한 유리의 각 성분의 함유량은 몰% 표시로 한다. 또한, ( ) 안에 중량% 로 표시한 경우의 바람직한 함유량을 나타낸다.), SiO₂50% 초과 또한 70% 이하 (단, 58 중량% 미만), A1₂O₃1∼12% (단, 20 중량% 이하), CaO 2∼25% (단, 6 중량% 초과 또한 21 중량% 미만), BaO 0% 초과 또한 15% 이하 (단, 5 중량% 초과), K₂O 3∼15% (단, 3 중량% 초과), MgO 0∼10% (단, 12 중량% 미만), SrO 0∼15%, TiO₂0∼10%, ZrO₂0∼12%, Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만 (단, 1중량% 미만), Na₂O 0∼8%, ZnO 0∼1% (단, 1 중량% 미만) 으로 이루어지는 알칼리금속 산화물 함유 유리를 들 수 있다.

이하, 유리 I 에서의 각 성분의 역할 및 상기 조성 범위에 관해서 자세히 설명한다.

SiO₂는 유리의 망목구조를 형성하는 주성분이고, 그 함유량이 50% 이하에서는 유리의 내구성이 악화되어 유리가 실투되기 쉬워진다. 한편, 70% 를 초과하면 (또한 58 중량% 이상이 되면), 유리의 영률이 작아지는 데다, 고온 점성이 높아지기 때문에 유리가 녹기 어려워진다. 따라서, SiO₂의 함유량은 50% 초과 또한 70% 이하의 범위로서, 58 중량% 미만으로 하는 것이 바람직하다. 특히 50% 초 또한 67% 이하의 범위가 보다 바람직하다.

A1₂O₃는 유리의 내구성이나 내열성의 향상에 크게 기여하는 성분으로서도, SiO₂와 함께 유리구조의 안정화 및 그 강성도를 높이는 성분으로서도 매우 중요하다. 그러나, 그 함유량이 1% 미만에서는 유리로부터의 알칼리의 용출을 억제하는 효과가 감소하는 경향이 있어 내구성이 좋은 유리를 제작하기 어려워지는 것에 비해, 12% 를 넘게 (또한 20 중량% 를 넘게) 도입하면 유리의 고온 용융성이 악화되는 경향이 있기 때문에 그 함유량을 1∼12% (단, 20 중량% 이하) 로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 2∼12% 의 범위이다.

상기 SiO₂와 Al₂O₃의 합계 함유량은 57∼79% 의 범위가 바람직하다. 이 합계 함유량이 57% 미만에서는 유리의 내구성이 불충분해질 우려가 있다.

Mg0, Ca0, Zn0, Sr0, 및 Ba0 는 유리 용해시의 점성을 낮추고, 용해를 촉진하는 동시에 영률의 상승, 열팽창 계수의 증가에 효과가 크다. 그러나 그 합계 함유량이 30% 를 초과하면 유리의 내구성이 악화되는 경향이 있고 실투온도도 높아지는 경향이 있다.

CaO 는 영률이나 열팽창의 향상, 용해점성의 저점성화에 효과가 커 중요한 성분이다. 그러나, CaO 의 도입량이 2% 미만에서는 그 효과가 적고, 25% 를 넘게 도입하면 안정성이 악화되는 경향이 있기 때문에 2∼25% 의 범위가 바람직하다. 보다 바람직하게는 3∼20% 의 범위이다.

BaO 는 열팽창의 향상에 기여하고, 내구성의 향상에도 효과가 있지만, 너무 많이 도입되면 오히려 내구성이 악화되는 경향이 있다. 또한 BaO 의 도입에 의해 비중의 상승이 크기 때문에 0% 초과 15% 이하 (단, 5 중량% 초과) 의 범위가 바람직하다. 보다 바람직하게는 14% 이하이다.

그 밖의 Mg0, Zn0, Sr0 는 합계량이 바람직한 범위를 초과하지 않은 범위에서 첨가함으로써 유리구조의 안정화, 영률, 열팽창의 상승에 효과를 기대할 수 있다. Mg0, Zn0, Sr0 는 이들 중 하나를 대량 도입하는 것보다, 소량씩 다종류의 2 가 성분을 도입함으로써 보다 효과가 커지기 때문에, MgO 를 0∼10% (단, 12 중량% 미만), SrO 를 0∼15% (단, 4.5 중량% 이하), ZnO 를 0∼1% (단, 1 중량% 미만) 의 범위로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 SrO 가 0∼10%, ZnO가 0% 이다.

Mg0, Ca0, Sr0, Ba0 및 Zn0 의 합계 함유량은 상기 이유에 의해, 30% 이하의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3∼30%, 더욱 바람직하게는 3∼25% 의 범위이다.

Li₂O, Na₂O, K₂O 는 유리 용해시의 점성을 낮추고, 용해를 촉진하는 동시에, 열팽창을 크게 상승시키는 유용한 성분이다. 그러나, 그 도입량이 합계로 15% 를 넘어 많아지면 화학적 내구성이 악화될 뿐만 아니라, 알칼리가 유리 표면에 많이 석출하게 되기 때문에, 자성막 등의 정보기록층을 침식시켜버릴 우려가 있다. 또한 유리 전이 온도가 저하되어 필요한 내열성이 얻어지지 않는 경우가 있다. 그 도입량이 합계로 3% 보다 적어지면 유리의 용해성이 저하되거나, 소정의 열팽창 특성을 얻기 어려워진다.

Li₂O 는 열팽창의 상승과 영률의 상승에 효과가 크지만, 유리 표면으로 석출되는 정도가 크고, 유리 전이 온도를 저하시키는 효과가 크기 때문에 1% 미만 (단, 1 중량% 미만) 으로 하는 것이 바람직하다. Li₂O 를 도입하지 않는 것이 보다 바람직하다.

Na₂O 는 열팽창의 상승에 효과가 크지만 K₂O 만큼 크지는 않다. 또한 유리 표면으로 석출되는 정도도 크기 때문에 0∼8% 가 바람직하다. 보다 바람직하게는 0∼5% 이다.

K₂O 는 열팽창 계수의 상승에 효과가 크고, 유리 표면으로 석출되는 정도도 작기 때문에 중요한 성분이다. 요컨대, 원하는 열팽창 특성 그리고 유리 용해성을 부여하면서, 알칼리 용출량을 낮은 레벨로 억제하는 데에 중요한 성분이다.그러나, 대량의 도입은 유리의 내구성을 저하시켜, 유리 전이 온도의 저하에 의한 내열성의 악화를 야기하기 때문에 3∼15% (단, 3 중량% 초과) 의 범위로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 4∼13% 이다.

K₂O, Li₂O 및 Na₂O 의 합계 함유량은 상기 이유에 의해, 3∼15% 의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 4∼12% 의 범위이다. ZrO₂, TiO₂는 유리의 화학적 내구성을 향상시켜 강성도를 높이기 위해 도입되는 성분이다. 소량의 ZrO₂및 TiO₂를 유리에 첨가하면 유리의 내구성, 탄성률, 취성이 모두 개선되지만 비중이 급증하고, 보다 많이 도입하면 유리의 실투 경향이 강해진다.

ZrO₂는 그 도입에 의해 영률을 상승시키는 성분이지만, 비중도 커지기 때문에 0∼12% 로 하는 것이 바람직하고, 0∼10% 로 하는 것이 보다 바람직하다.

TiO₂는 영률의 상승효과는 ZrO₂보다 열등하지만, 비중의 상승은 그다지 크지 않기 때문에, 0∼10% 로 하는 것이 바람직하고, 0∼8% 로 하는 것이 보다 바람직하다.

유리 I 은 상기 성분으로 실질적으로 이루어지는 조성을 갖는다.

단, 유리 I 은 유리의 용해성, 청징성, 성형성 등을 개선시키기 위해, 상기 성분 이외에 As₂O₃, Sb₂O₃, 플루오르화물, 염화물, SO₃을 도입할 수 있다. 그 도입량은 탈포제로서 사용되는 적량의 범위이면 되지만, 외할(外割)의 합계량으로 2 중량% 이하의 비율을 목표로 한다. 보다 바람직하게는 1 중량% 이하이다.Sb₂O₃은 As₂O₃과 함께 상기 다른 탈포제보다 탈포효과가 우수하다. 정보기록 매체용 기판을 구성하는 유리에서는 충분한 탈포가 이루어지지 않으면 유리 중에 미소한 기포가 남는다. 이러한 유리의 표면을 연삭, 연마하면 유리 중에 잔존하고 있는 기포가 표면에 나타나, 연마면에 오목한 부분이 생기게 된다. 정보기록 매체용 기판의 표면에는 매우 높은 평활성이 요구되고 있고, 이러한 기포가 잔존하는 것은 불량품으로 되어 버린다. 이 때문에, Sb₂O₃및/또는 As₂O₃을 함유하는 것이 바람직하다. 그 도입량 (외할) 은 Sb₂O₃과 As₂O₃의 합계량으로 0∼2 중량% 의 범위로 하는 것이 바람직하고, 0.1∼2 중량% 가 보다 바람직하고, 0.1∼1 중량% 의 범위가 더욱 바람직하다. 그러나, 환경에 대한 영향을 배려한다는 관점에서는 As₂O₃등의 비소 화합물을 사용하지 않는 것이 바람직하다. 따라서, Sb₂O₃만을 도입하는 것이 더 한층 바람직하다. Sb₂O₃만을 도입하는 경우의 도입량은 외할로 0∼2 중량% 로 하는 것이 바람직하고, 0.1∼2 중량% 로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.1∼1 중량% 로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또, As₂O₃이나 Sb₂O₃을 함유하는 유리는 유리 중의 As₂O₃이나 Sb₂O₃이 주석 등의 용융금속과 반응하기 때문에, 플로트 성형에는 적합하지 않다. 따라서, 정보기록 매체용 기판은 플로트 성형법이 아니라, 프레스 성형법을 사용하여 제작하는 것이 바람직하다.

상기 바람직한 조성 범위에 있어서 각 성분의 보다 바람직한 범위를 임의로조합하여 더욱 바람직한 조성 범위를 선택할 수 있지만, 그 중에서도 특히 바람직한 조성 범위는 SiO₂50% 초과 또한 67% 이하, Al₂O₃2∼12% (단, SiO₂와 Al₂O₃의 합계량이 57∼79%), CaO 3∼20%, BaO 14% 이하, Mg0 0∼10%, Sr0 0∼10%, Zn0 0% (단, MgO, CaO, SrO, BaO 및 ZnO 의 합계량이 3∼30%), Li₂O 0%, Na₂O 0∼5%, K₂O 4∼13% (단, K₂O, Li₂O 및 Na₂O 의 합계량이 4∼12%), ZrO₂0∼10% 및 TiO₂0∼8% 이다.

본 발명의 유리 기판을 구성하는 상기 유리 I 을 포함하는 유리에 있어서는 TiO₂을 함유하지 않는 것이, 기판 표면이 거칠어지는 것을 저감시키는 데에 특히 우수하다.

또, 상기 어느 태양에서나 유리의 용해성은 우수하고, 유리 중에 미용해물은 관찰되지 않고, 또한 결정입자도 관찰되지 않는다. 즉 비정질성의 유리이었다.

유리 I 은 화학 강화층이 존재하지 않는 정보기록 매체용 기판재료로서 바람직한 것이다.

다음에, 표면에 화학 강화층이 존재하는 정보기록 매체용 기판재료로서 특히 바람직한 유리 (이하, 유리 II 라고 한다.) 의 조성에 관해서 설명한다.

유리 II 는 필수성분으로서 SiO₂, A1₂O₃, CaO, Na₂O, K₂O, BaO 및 ZrO₂를 함유하는 알칼리금속 산화물 함유 유리이다. 유리 II 에서는 유리 중의 Na 이온과 용융염 중의 K 이온을 이온교환함으로써 표면에 화학 강화층을 형성한다.따라서, Na₂O 를 필수성분으로 한다.

유리 II 에서, 바람직한 제 1 태양으로서는 실질적으로 몰% 표시로, SiO₂50% 초과 또한 70% 이하 (단, 58 중량% 미만), A1₂O₃1∼10% (단, 20 중량% 미만), CaO 2∼25% (단, 6 중량% 초과, 또한 21 중량% 미만), BaO 1∼15% (단, 5 중량% 초과), K₂O 3∼15% (단, 3 중량% 초과), MgO 0∼3% (단, 1 중량% 미만), SrO 0∼15% (단, 4.5 중량% 미만), TiO₂0∼10%, ZrO₂0% 초과 12% 이하 (단, 6 중량% 초과), Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만 (단, 1 중량% 미만), Na₂O 1∼8%, ZnO 0∼1% (단, 1 중량% 미만) 로 이루어지고, SiO₂, A1₂O₃및 ZrO₂의 합계량이 70 중량% 초과인 유리를 들 수 있다.

각 성분의 역할 및 상기 조성 범위의 한정이유에 관해서 상세히 설명하겠지만, 유리 I 과 공통되는 점에 관해서는 상기 설명 내용과 동일하므로 생략한다.

BaO 는 열팽창의 향상에 기여하고, 내구성 향상에도 효과가 있으므로 1% 이상 도입한다. 지나치게 도입하면 오히려 내구성이 악화되는 경향이 있다. 또한 BaO 의 도입에 의해 비중의 상승이 크기 때문에 도입량은 1∼15% (단, 5 중량% 초과) 의 범위가 바람직하다. 보다 바람직하게는 1∼14% 이다.

Na₂O, K₂O 는 유리 용해시의 점성을 낮추고 용해를 촉진하는 동시에, 열팽창을 크게 상승시키는 유용한 성분이다. 특히, Na₂O 는 이온교환에 이용되고, 유리 중의 나트륨 이온은 이온교환에 의해 용융염 중의 칼륨 이온과 치환됨으로써 강화가 이루어진다. 그러나, Na₂O 와 K₂O 의 도입량이 합계로 16% 를 넘어 많아지면 화학적 내구성이 악화될 뿐만 아니라, 알칼리가 유리 표면에 많이 석출하게 되기 때문에, 자성막 등의 정보기록층을 침식할 우려가 있다. 또한 유리 전이 온도가 저하되어 필요한 내열성을 얻을 수 없게 되는 경우가 있다. 그 도입량이 합계로 4% 보다 적어지면 양호한 화학 강화를 하기 어려워지거나, 유리의 용해성이 저하되거나, 소정의 열팽창 특성을 얻기 어렵게 된다. 따라서, 그 합계량은 4∼16% 로 하는 것이 바람직하다.

Na₂O 는 유리 전이 온도를 저하시키지 않고, 화학 강화를 가능하게 하기 위한 중요한 성분이다. 양호한 화학 강화를 하기 위해서는 그 도입량을 1% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, Na₂O 는 열팽창의 상승에 효과가 크지만 K₂O 만큼 크지는 않다. 또한 유리 표면으로 석출되는 정도도 크기 때문에, 그 도입량은 1∼8% 가 바람직하다. 보다 바람직하게는 1∼7% 이고, 더욱 바람직하게는 1∼5% 이다.

Li₂O 는 열팽창의 상승과 영률의 상승에 효과가 크지만, 유리 표면으로 석출되는 정도가 커서, 소량만 도입하더라도 유리 전이 온도를 크게 낮추는 작용을 한다. 따라서, 그 도입량은 1% 미만 (단, 1 중량% 미만) 으로 억제하는 것이 바람직하다. 도입하지 않는 것이 바람직하다.

또한, SiO₂, A1₂O₃및 ZrO₂의 합계량을 70% 초과, 바람직하게는 70.5% 이상으로 한다. 상기 합계량을 70 중량% 초과로 함으로써 유리의 내열성을 향상시킬 수 있다.

상기 화학 강화용 유리는 실질적으로 상기 성분으로 이루어지지만, 유리의 용해성, 청징성, 성형성 등을 개선하기 위해서, As₂O₃, Sb₂O₃, 플루오르화물, 염화물, SO₃를 도입할 수 있다. 그 도입량은 탈포제로서 사용되는 적량의 범위이면 되지만, 외할의 합계량으로 2 중량% 이하의 비율을 목표로 한다. 이 중에서 Sb₂O₃와 As₂O₃의 탈포효과가 높기 때문에, 유리 중의 거품을 배제하기 위해서 Sb₂O₃및/또는 As₂O₃를 도입하는 것이 바람직하고, 그 도입량은 Sb₂O₃과 As₂O₃의 외할로 합계 0∼2 중량% 의 범위가 바람직하고, 0.1∼2 중량% 가 보다 바람직하고, 0.1∼1 중량% 의 범위가 더욱 바람직하다. 그러나, 환경에 대한 영향을 배려한다는 관점에서는 As₂O₃등의 비소 화합물을 사용하지 않는 것이 바람직하다. 따라서, Sb₂O₃만을 도입하는 것이 더 한층 바람직하다. Sb₂O₃만을 도입하는 경우의 도입량은 외할로 0∼2 중량% 로 하는 것이 바람직하고, 0.1∼2 중량% 로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.1∼1 중량% 로 하는 것이 더욱 바람직하다.

상기 바람직한 조성 범위에 있어서 각 성분의 보다 바람직한 범위를 임의로 조합하여 더욱 바람직한 조성 범위를 선택하는 것이 가능하지만, 그 중에서도 더욱 바람직한 조성 범위는 실질적으로 몰% 표시로, SiO₂50% 초과 또한 70% 이하, Al₂O₃1∼9% (단, SiO₂과 Al₂O₃의 합계량이 57% 이상), CaO 3∼25%, BaO 1∼14%, Na₂O 1∼5%, K₂O 3∼15% (단, Na₂O 와 K₂O 의 합계량이 4∼16%), ZrO₂1∼12%, MgO 0∼3%, SrO 0∼15%, ZnO 0∼1% (단, MgO, CaO, SrO, BaO 및 ZnO 의 합계량이 3∼30%), TiO₂0∼10% 로 이루어지는 조성이고, 그 중에서 보다 바람직한 조성 범위는 ZrO₂가 1∼10% 인 것, SiO₂, A1₂O₃및 ZrO₂의 합계량이 70.5 중량% 이상인 것이다.

특히 바람직한 조성 범위는 실질적으로 SiO₂50% 초과 또한 67% 이하, A1₂O₃2∼9% (단, SiO₂와 A1₂O₃의 합계량이 57% 이상), CaO 3∼20%, BaO 1∼14%, Na₂O 1∼5%, K₂O 4∼13%, ZrO₂1∼1O%, TiO₂0∼8% 로 이루어지는 조성이다.

상기 특히 바람직한 조성 범위에 있어서, Mg0, Ca0, Sr0, Ba0 및 ZnO 의 합계량을 3∼25% 로 하는 것이 더욱 바람직하다.

이 조성에 상기 탈포제를 첨가해도 된다. 알칼리 용출량을 억제하면서, 우수한 용해성, 내열성을 얻기 위해서, 알칼리금속 산화물을 Na₂O 와 K₂O 로 한정하는 것이 바람직하다. 첨가하는 탈포제로서는 Sb₂O₃이 특히 바람직하고, 그 도입량은 외할로 0∼1% 의 범위로 하는 것이 더욱 바람직하다.

유리 II 중에서 또 하나의 바람직한 태양은 SiO₂50% 초과 또한 70% 이하 (단, 58 중량% 미만), A1₂O₃1∼10% (단, 20 중량% 이하), CaO 15∼25% (단, 13 중량% 초과 또한 21 중량% 미만), BaO 1∼15% (단, 5 중량% 초과), K₂O 3∼15% (단, 3 중량% 초과), MgO 0∼3% (단, 1 중량% 미만), SrO 0∼15% (단, 4.5 중량% 미만), TiO₂0∼10%, ZrO₂0% 초과 12% 이하 (단, 6 중량% 초과), Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만 (단, 1 중량% 미만), Na₂O 1∼8%, ZnO 0∼1% (단, 1 중량% 미만) 로 이루어지는 유리이다. SiO₂, A1₂O₃및 ZrO₂의 합계량, CaO 의 함유량 이외에는 유리 II 의 제 1 바람직한 태양과 동일하다. CaO 함유량의 하한을 크게 함으로써, SiO₂, Al₂O₃및 ZrO₂의 합계량을 70% 이하로 하더라도 내열성을 손상시키지 않고, 고온 점성을 저하시킬 수 있다. 따라서, 용융 상태의 유리를 판상으로 성형하는 데에 특히 적합하다. 용융 유리를 판상으로 성형하는 방법으로서는 프레스법, 플로트법이 특히 적합하다. CaO 함유량의 바람직한 범위는 14 중량% 이상이다.

또, 유리 II 도 용해성은 우수하여 유리 중에 미용해물은 관찰되지 않고, 또한 결정입자도 관찰되지 않는다.

본 발명의 유리 기판은 상기 고내열성과 저알칼리 용출성에 더하여, 정보기록 매체용 기판으로서 바람직한 열팽창 특성 즉 100∼300℃ 에서의 평균 선열팽창계수 (α) 가 70 ×10^－7/℃ 이상이라는 특성을 겸비하는 것이 바람직하고, 80 ×10^－7/℃ 이상이라는 특성을 겸비하는 것이 보다 바람직하다. 그 평균 선열팽창계수 (α) 의 상한은 통상 120 ×10^－7/℃ 정도이다.

또한 비중이 3.5 이하인 것이 바람직하다. 비중 3.5 이하의 기판을 사용함으로써 매체의 회전시의 토크를 저감할 수 있다. 비중 3.2 이하가 보다 바람직하다. 또한, 정보기록 매체를 고속회전시켰을 때에 높은 안정성을 얻기 위해서 고강성을 구비하는 것, 즉 영률이 72GPa 이상인 것이 바람직하다. 또한, 내실투성 향상의 면에서, 액상온도가 1200℃ 이하인 것이 바람직하고, 1050℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.

상기 기술한 바와 같이, 본 발명의 정보기록 매체용 유리 기판은 표면에 화학 강화층이 존재하지 않는 것 및 존재하는 것 양자를 모두 포함하지만, 특별히 표면에 화학 강화층이 존재하는 정보기록 매체용 기판에 관해서 설명한다.

표면에 화학 강화층이 존재하는 정보기록 매체용 기판에 의하면, 화학 강화에 의해 고강도가 부여되기 때문에 기판의 파손방지에 유효하다. 또한, 상기 기판에 고온 막형성, 고온 어니일 등의 고온 처리를 실시하더라도 필요한 강도를 유지할 수 있음과 동시에, 상기 고온 처리시에 급격한 온도변화에 노출되더라도 기판의 강도가 높아 파손되기 어렵고, 핸들링이 쉬워진다는 효과도 얻을 수 있다.

상기 기판으로서는 중심구멍을 갖는 디스크형상의 유리 또는 중심구멍이 없는 원반형상의 유리를 알칼리금속 용융염, 바람직하게는 칼륨을 함유하는 용융염 (예를 들어 질산칼륨 용융염) 에 침지하여, 유리 중의 알칼리금속 이온 (특히 유리 표면 부근) 과 용융염 중의 알칼리금속 이온을 이온교환하여 유리 표면에 압축응력층을 형성 (화학 강화) 한 것을 예시할 수 있다.

표면에 화학 강화층이 존재하는 정보기록 매체용 기판을 구성하는 유리재료로서는 570℃ 에서 2 시간 가열한 후의 굽힘강도가 15kgf/mm²이상인 것이 바람직하고, 17kgf/mm²이상인 것이 보다 바람직하고, 20kgf/mm²이상인 것이 더욱 바람직하다. 상기 범위에 있어서, 안정성이 높은 유리를 용이하게 얻기 위해서는 상기 굽힘강도를 100kgf/mm²이하로 하면 된다. 이러한 기판에 의하면, 화학 강화에 의해서 형성된 유리 표면 부근의 압축응력층의 고온 열처리 후의 완화가 적기 때문에, 가열처리 후에도 높은 강도를 유지할 수 있는 유리제 정보기록 매체용 기판을 제공할 수 있다. 또, 상기 굽힘강도는 상기 기판을 측정시료로 하여 570℃ 에서 2 시간 가열은 대기중에서 실시한다.

또한, 표면에 화학 강화층이 존재하는 정보기록 매체용 기판을 구성하는 유리재료로서는 상기 유리재료의 상기 화학 강화 전의 굽힘강도를 fb, 상기 화학 강화 후에 온도 T[℃] (단, T 는 20∼570℃ 의 임의의 온도) 로 2 시간 유지한 후의 굽힘강도를 fT 라 하였을 때, (fT－fb)/fb 의 값이 0.5 이상인 것이 바람직하고, 0.52 이상인 것이 보다 바람직하다.

이 조건에 의하면, 정보기록층의 형성이나 열처리, 예를 들어 수직 자기기록 방식의 정보기록 매체에 있어서의 정보기록층의 형성이나 열처리를 하더라도, 충분한 굽힘강도를 갖는 정보기록 매체용 기판을 제공할 수 있다. 또, 상기 온도 T 에서의 2 시간의 가열은 대기중에서 실시한다.

또한, 유리로서 보다 높은 안정성을 부여함과 동시에 보다 양호한 화학 강화를 가능하게 한다는 관점에서, (fT－fb)/fb 의 값을 9 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. (fT－fb)/fb 의 값이 소정치 이상이라는 판정은 굽힘강도 fb 와 화학 강화 후에 570℃ 로 2 시간 유지한 기판의 굽힘강도 f570 을 측정하여 (f570－fb)/fb 의 값을 산출하고, 이 값이 상기 소정치 이상으로 되어 있는 것을 확인함으로써 행해도 된다. 또, (fT－fb)/fb 의 값이 소정치 이하라는 판정은 굽힘강도 fb 와 화학 강화 후에 570℃ 로 2 시간 유지한 기판의 굽힘강도 f570 을 측정하여 (f570－fb)/fb 의 값을 산출하고, 이 값이 상기 소정치 이하로 되어 있는 것을 확인함으로써 행해도 된다.

또한, 20℃ 에서의 굽힘강도 f20 에 대하여, (f20－fb)/fb 의 값이 1 이상인 것이 바람직하고, 1.2 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 유리로서 보다 높은 안정성을 부여함과 동시에 보다 양호한 화학 강화를 가능하게 한다는 관점에서, (f20－fb)/fb 의 값을 9 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.

또, 상기 굽힘강도의 평가를 다음과 같이 실시한다. 우선, 정보기록 매체용 기판을 구성하는 유리재료로 이루어지는 40mm ×10mm ×1mm 의 박판상 시료를 사용하고, 30mm 스팬, 가중속도 0.5mm/초의 3 점 굽힘시험에 의해 상기 굽힘강도를 측정한다. 또, 상기 박판상 시료는 단면 (40mm ×1mm 의 면과 10mm ×1mm 의 면의 합계 4 면) 및 주표면 (40mm ×10mm 의 표리 2 면) 이 연마된 것이다. 단면의 연마는 광학연마로 하는 것이 바람직하고, 주표면의 연마도 광학연마 또는 정보기록 매체용 기판의 주표면 (정보기록층이 형성되게 되는 면이기도한다) 의 연마상태와 동등하게 하는 것이 보다 바람직하다.

상기 표면에 화학 강화층이 존재하는 정보기록 매체용 기판을 구성하는 유리로서는 유리 I 또는 유리 II 가 바람직하지만, 유리 II 가 특히 바람직하다.

또한, 본 발명의 정보기록 매체용 기판은 높은 유리 전이 온도, 저알칼리 용출성을 구비하고 있기 때문에, 고온 처리 예를 들어 400∼600℃ 라는 고온의 열처리를 하여 얻어지는 정보기록 매체용 기판에 적합하다. 특히, 고온 스퍼터, 고온 어니일 등을 하는 수직 자기기록 방식의 정보기록 매체용 기판에 적합하다.

다음에, 고내열성을 구비함과 동시에, 물에 침지한 후라도 충분한 평활성을 유지할 수 있는 정보기록 매체용 기판에 관해서 설명한다. 이 기판을 구성하는 비정질성 유리의 유리 전이 온도 (Tg) 도 620℃ 이상, 바람직하게는 650℃ 이상, 보다 바람직하게는 680℃ 이상, 더욱 바람직하게는 700℃ 이상이다. 그 유리의 전이 온도의 상한에 관해서는 특별히 제한은 없지만, 통상 900℃ 정도인 것, 800℃ 이하로 하는 것이 바람직하다는 것은 앞서 설명한 바이다. 이 기판을 구성하는 유리의 특징은 알칼리금속 산화물을 함유하는 동시에, TiO₂를 함유하지 않는 것이다. 상기 알칼리금속 산화물은 Na₂O 및/또는 K₂O 로 이루어지는 것이 바람직하고, Na₂O 및 K₂O 로 이루어지는 것이 바람직하다.

알칼리금속 산화물을 함유하는 유리로 이루어지는 기판을 사용한 정보기록 매체는 앞서 설명한 바와 같이 기판 중의 알칼리금속이 정보기록층을 포함하는 박막층을 침식하는 문제가 있으므로, 표면 부근의 알칼리금속 이온의 농도를 저하시키기 위해, 기판을 순수에 침지시켜 기판 표면의 알칼리금속 이온을 순수 중에 용출시키는 방법이 생각된다. 이 방법은 알칼리 용출량이 매우 적은 유리에 대해서도 유효하다. 그 때, 유리 중에 TiO₂가 함유되어 있으면 유리 표면에서 순수 중으로 용출하고자 하는 미량의 티탄 성분과 알칼리금속이 반응하여 난용성의 이물이 발생하여 유리 표면에 부착된다. 이물의 부착은 기판 표면의 평활성을 손상시키는 원인이 되므로, 이러한 이물의 발생을 방지해야 한다. 이 때문에, 상기 기판을 구성하는 유리는 TiO₂을 배제한다. 또, 상기 유리로서는 유리 I 에서 TiO₂를 함유하지 않는 유리 또는 유리 II 에서 TiO₂를 함유하지 않는 유리가 바람직하다. 또한, 상기 유리로 이루어지는 정보기록 매체용 기판은 화학 강화층이 존재하는 것이어도, 화학 강화층이 존재하지 않는 것이어도 좋다.

이러한 유리로 이루어지는 기판을 순수에 침지하여 표면 부근의 알칼리금속 이온의 농도를 감소시켜 알칼리 용출에 의한 정보기록층의 침식을 저감할 수도 있다.

다음에 정보기록 매체용 기판의 제조방법에 관해서 설명한다. 상기 제법은 적절히 공지된 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 고온 용융법 즉 소정의 비율의 유리원료를 공기 중이나 불활성 가스 분위기로 용해하여, 버블링이나 교반 등에 의해서 유리를 균질화시키고, 주지의 프레스법, 다운로드법 및 플로트법에 의해 판유리로 성형되고, 그 후, 원형가공, 심 뽑기, 내외 원주면 가공, 연삭, 연마 등이 실시되어 원하는 사이즈, 형상의 정보기록 매체용 기판으로 된다. 또, 연마에서는 연마재나 다이아몬드 펠릿에 의해 래핑 및 산화세륨 등의 연마재에 의한 폴리싱 가공을 실시함으로써, 표면정밀도를 예를 들어 0.1∼0.6nm 의 범위로 할 수있다. 가공 후, 기판 표면은 세정액에 의해 세정되지만, 알칼리 용출량이 매우 낮은 레벨에 있기 때문에, 세정에 의해서 기판 표면의 평활성, 청정성이 손상되는 일이 없다. 또한, 청정 후의 기판을 대기중에 노출시키더라도 알칼리 용출에 의해 표면이 거칠어지지는 않는다. 이와 같이, 본 발명의 정보기록 매체용 기판에 의하면, 고온 열처리에 적합하고 알칼리 용출이 적은 기판을 제공할 수 있다. 예를 들어, 이 기판을 자기기록 매체용 기판으로서 사용함으로써, 바람직한 수직기록 방식의 자기기록 매체를 제공할 수 있고, 종래의 장수 자기기록 방식의 자기기록 매체의 면 기록 밀도 100GBit/(2.5cm) 2 보다 고기록 밀도 (예를 들어 1TBit/(2.5cm) 2 의 자기기록 매체를 제공하는 길이 열리게 된다.

또, 화학 강화층을 형성하는 경우에는 연삭, 연마가공이 실시된 유리 기판을 전술한 바와 같이 알칼리금속 이온, 바람직하게는 칼륨 이온을 함유하는 용융염에 침지한다.

또한, 기판을 순수에 침지하여 기판 표면 부근의 알칼리금속 이온을 감소시키는 처리를 실시해도 된다.

또한, Sb₂O₃또는 As₂O₃을 함유하는 유리 기판을 제작하기 위해서는 전술한 이유에 의해 용융 유리, 또는 연화 상태에 있는 유리를 프레스 성형하는 방법이 바람직하고, 플로트성형은 부적당하다.

다음에, 본 발명의 정보기록 매체 및 그 제조방법에 관해서 설명한다.

본 발명의 정보기록 매체는 전술의 정보기록 매체용 기판 상에 정보기록층을갖는 것이다. 전술한 유리 기판을 사용하여 자기디스크 등의 정보기록 매체를 제작하기 위해서는 유리 기판 위에 차례로, 기초층, 자성층, 보호층, 윤활층 등을 형성하면 된다. 자성층 (정보기록층) 으로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, Co-Cr 계, Co-Cr-Pt 계, Co-Ni-Cr 계, Co-Ni-Pt 계, Co-Ni-Cr-Pt 계, 및 Co-Cr-Ta 계 등의 자성층이 바람직하다. 기초층으로서는 Ni 층, Ni-P 층, Cr 층 등을 채용할 수 있다. 보호층으로서는 카본막 등을 사용할 수 있고, 윤활층을 형성하기 위해서는 퍼플루오로폴리에테르계 등의 윤활재를 사용할 수 있다.

본 발명의 정보기록 매체용 기판은 특히, 수직 자기기록 방식의 자기기록 매체에 바람직하다. 수직 자기기록 방식의 자기기록 매체에 있어서의 막 구성은 비자성 기판 상에 수직 자기기록층을 형성한 단층막, 연자성층과 자기기록층을 차례로 적층한 2 층막, 및 경자성층, 연자성층 및 자기기록층을 차례로 적층한 3 층막 등을 바람직한 것으로 예시할 수 있다. 그 중에서 2 층막과 3 층막은 단층막보다 고기록 밀도화 및 자기 모멘트의 안정유지에 적합하기 때문에 바람직하다.

이러한 다층 자성막 수직 자기기록 매체의 특성을 향상시키기 위해서, 고온 스퍼터기에 의한 막형성이나 막형성 후의 400∼600℃ 에서의 고온 열처리 (어니일 처리) 가 필요하다. 본 발명의 정보기록 매체용 기판은 유리 전이 온도 (Tg) 가 650℃ 이상인 유리로 이루어지기 때문에, 상기 고온 열처리에 의해서도 기판이 변형되지 않고 우수한 평탄성을 유지할 수 있다. 또한, 기판의 알칼리 용출량이 작기 때문에 정보기록층 등의 막형성 후에도 기판으로부터의 알칼리금속 석출에 의해서 기판 상에 형성된 막이 침식되는 것을 방지할 수 있다.

다음에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하겠지만, 본 발명은 이들 예에 조금도 한정되지 않는다.

실시예 1∼16 및 비교예 1

유리 I 에 상당하는 표 1∼표 3 에 나타내는 조성의 유리가 얻어지도록, 출발원료로서 SiO₂, A1₂O₃, Al(OH)₃, MgO, Mg(OH)₂, MgCO₃, CaCO₃, SrCO₃, BaCO₃, ZnO, Li₂CO₃, Na₂CO₃, K₂CO₃, TiO₂, ZrO₂등을 사용하여 300∼1500g 칭량하고, 충분히 혼합하여 조합 뱃치로 하고, 이것을 백금 도가니에 넣어, 1400∼1600℃ 의 온도에서 공기 중 약 3∼8 시간 유리를 용해시켰다. 용해 후, 유리 용액을 40 ×40 ×20mm 카본 금형에 붓고, 유리의 전이점 온도까지 방랭한 다음 즉시 어니일 노에 넣고 1 시간 유지한 후, 노 내에서 실온까지 방랭하였다. 얻어진 유리는 현미경으로 관찰할 수 있을 정도의 결정이 석출되지 않았다. 또한, 얻어진 유리는 균질성이 높고 미용해물도 관찰되지 않아 높은 용해성을 확인할 수 있었다.

이렇게 하여 얻어진 유리를, 40 ×20 ×15mm, 5φ×20mm, 30 ×30 ×2mm 로 가공하여 각 물성 평가용 시료를 제작하고 하기에 나타내는 방법에 따라서 각 물성을 측정하였다. 실시예 1∼16 및 비교예 1 의 유리의 유리조성 (몰%) 과 물성 측정 결과를 표 1∼표 3 에 나타낸다. 또한, 표 1∼표 3 에 기재된 조성에 기초하여 산출한 실시예 1∼16 및 비교예 1 의 유리조성 (중량%) 을 표 4∼6 에 나타낸다.

또, 실시예 1∼16 의 유리에 Sb₂O₃을 외할로 0.5 중량% 첨가한 유리도 제작하여 표 1∼표 3 에 나타난 평가결과와 동일한 결과를 얻었다. 이들 Sb₂O₃이 첨가된 유리를 현미경을 사용하여 관찰한 바, 유리 중의 기포는 전무하였다.

(1) 유리 전이 온도 (Tg)

5mmφ×20mm 의 시료에 대해, 리가쿠사 제의 열 기계 분석 장치 (TMA8140) 를 사용하여 ＋4℃/분의 승온속도로 측정하였다. 또, 표준시료로서는 SiO₂를 사용하였다. 또, 유리 전이 온도는 유리의 점도가 1013.3dPaㆍs 가 되는 온도에 상당한다.

(2) 평균 선열팽창계수

100∼300℃ 에서의 평균 선열팽창계수를 의미하고, 유리 전이 온도의 측정시에 함께 측정하였다.

(3) 비중

40 ×20 ×15mm 의 시료에 대해, 아르키메데스법에 의해 측정하였다.

(4) 영률

40 ×20 ×15mm 의 시료에 대해, 초음파법에 의해 측정하였다.

(5) 알칼리 용출량

에탄올욕에서 초음파 세정처리한 30 ×30 ×2mm 의 시료를, 미리 산세정된 폴리프로필렌제 용기에 넣어 명세서 본문에 기재된 방법에 따라서 측정하였다.

표 1∼표 3 을 통해 분명히 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1∼16 에 나타낸 유리의 전이 온도는 650℃ 이상으로 높고, 100∼300℃ 에서의 평균 선열팽창계수는 80 ×10^－7/℃ 이상, 알칼리 용출량도 0.2μ몰/cm²이하이었다. 또한 영률도 72GPa 이상으로 높은 강성이 얻어지고 있다.

이상과 같이 각 실시예의 유리의 특성을 측정한 후, 실시예 1∼16 의 각 유리 및 이들 유리에 Sb₂O₃을 외할로 0.5 중량% 첨가한 유리가 얻어지는 균질화된 유리 용액을 프레스 성형형에 공급하여 디스크형상의 유리를 프레스 성형하였다. 또, 프레스 성형 이외에, 예를 들어 플로트 성형법이라고 불리는 방법을 사용하여 유리 디스크를 성형해도 된다. 그러나, Sb₂O₃을 첨가한 유리의 경우에는 플로트 성형은 부적당하다. 성형된 유리 디스크를 서랭한 후, 표면에 래핑 가공을 실시하는 동시에, 중심구멍이나 외경, 단면 등의 가공을 실시하였다. 이어서, 주표면에 다시 래핑 가공을 행한 후, 연마가공을 실시하여 평탄하고 평활한 면으로 마무리하였다. 이렇게 하여 얻어진 정보기록 매체용 기판은 세정액을 사용하여 세정되지만, 기판을 구성하는 유리의 알칼리 용출량이 매우 낮은 레벨이기 때문에 세정시에 기판이 거칠어지는 것을 억제할 수 있었다. 세정 후의 각 유리 기판의 주표면의 중심선 평균조도 Ra 는 0.1∼0.6nm 이었다. 앞서 설명한 바와 같이 세정 후의 기판을 순수에 침지하여 기판 표면의 알칼리금속 이온 농도를 저감하는 처리를 실시해도 된다.

또, 유리 기판의 중심선 평균조도 Ra는 원자간력 현미경 (AFM) 으로 측정하였다.

세정, 건조한 유리 기판을 사용하여 수직기록 방식의 자기디스크를 제작하였다. 자기기록층의 형성에 있어서, 연자성층과 자기기록층을 차례로 적층한 2 층막, 및 경자성층, 연자성층 및 자기기록층을 차례로 적층한 3 층막의 2 개의 타입의 수직기록 방식의 자기디스크를 제작하였다. 이 공정 중, 자기기록막을 400∼600℃ 에서 고온 열처리하였지만, 모든 기판이 유리 전이 온도 (Tg) 650℃ 이상의 고내열성을 갖고 있으므로, 기판은 변형되지 않고 높은 평탄성을 유지하였다.

이에 비해 비교예의 유리로 이루어지는 기판에서는 전이 온도가 554℃ 로 낮아, 자기기록 기판의 제조과정에서의 자기기록막의 스퍼터 공정 등을 통한 고온 처리에 의해서 기판이 변형되기 때문에 수직기록 방식의 자기디스크용 기판으로서 사용할 수 없었다.

실시예 17∼27

다음에 유리 II 에 상당하는 표 7∼9 에 나타내는 실시예 17∼27 의 유리가 얻어지도록, 출발원료로서 SiO₂, Al₂O₃, Al(OH)₃, CaCO₃, BaCO₃, Na₂CO₃, K₂CO₃, TiO₂, ZrO₂등을 사용하여 유리원료를 300∼1500g 칭량하고, 충분히 혼합하여 조합 뱃치로 하고, 이것을 백금 도가니에 넣어 1400∼1600℃ 의 온도에서 공기 중 약 3∼8 시간 유리를 용해시켰다. 용해 후, 유리 용액을 40 ×40 ×20mm 카본 금형에 붓고, 유리의 전이점 온도까지 방랭한 다음 즉시 어니일 노에 넣고 1 시간 유지한 후, 노 내에서 실온까지 방랭하였다. 얻어진 유리는 현미경으로 관찰하였지만, 유리 중에 결정입자는 관찰되지 않았다. 또한, 얻어진 유리는 균질성이 높고, 미용해물도 인정되지 않아 높은 용해성을 확인할 수 있었다. 또한, 실시예 17∼27 의 유리에 Sb₂O₃을 외할로 0.5 중량% 첨가한 유리를 제작하였다. Sb₂O₃을 첨가한 유리를, 현미경을 사용하여 관찰한 바, 유리 중의 결정입자, 미용해물, 기포는 전무하였다.

이렇게 하여 얻어진 유리시료의 유리 전이 온도, 굴복점, 30∼300℃ 에서의 평균 선 팽창 계수, 100∼300℃ 에서의 평균 선 팽창 계수, 비중, 영률, 강성률, 포아송비, 비탄성률, 액상온도, 화학 강화를 실시하기 전의 굽힘강도 f0, 화학 강화 후의 굽힘강도 f1, 화학 강화 후에 다시 570℃ 에서 2 시간 대기중에서 가열한 후의 굽힘강도 f2 를 측정하였다. 화학 강화는 시료를 소정 온도의 질산칼륨용융염에 소정 시간 침지함으로써 실시하였다. 각 실시예의 화학 강화의 조건 및 특성을 유리조성 (몰%) 과 함께 표 7, 8 및 9 에 나타낸다. 또한, 표 7∼표 9 에 기재된 조성에 근거하여 산출한 실시예 17∼27 의 유리의 유리 조성 (중량%) 을 표 10 및 11 에 나타낸다.

또, Sb₂O₃을 첨가한 유리에서도 표 7∼9 에 나타난 특성이 얻어졌다. 또, 실시예 17∼21 은 동일한 조성의 유리를 사용하여 다른 조건으로 화학 강화한 것이다.

각 특성의 측정방법은 실시예 1∼16 에서의 방법과 동일하다. 굴복점, 강성률, 포아송비, 비탄성률, 액상온도, 굽힘강도의 측정은 다음과 같이 하여 실시하였다.

(6) 굴복점

상기 시료와 동일한 유리를 5mmφ×20mm 의 형상으로 가공하고, 리가쿠사 제의 열 기계 분석 장치 (TMA8140) 를 사용하여 ＋4℃/분의 승온속도로 측정하였다. 또, 표준시료로서는 SiO₂를 사용하였다.

(7) 강성률, 포아송비

상기 시료와 동일한 유리를 40 ×20 ×15mm 의 형상으로 가공하여 초음파법에 의해 측정하였다.

(8) 비탄성률

상기 영률과 비중으로부터 (비탄성률 ＝ 영률/비중) 의 식에 의해 산출하였다.

(9) 액상온도

시료 유리를 덮개가 부착된 백금 용기 내에 넣고 1500℃ 에서 전부 용융시키고, 그 후 소정의 온도로 설정된 노 내에서 유지하고, 소정 시간 후에 꺼내서 유리 내에 생긴 결정을 광학현미경에 의해 관찰하여 결정이 생기지 않는 최저온도를 액상온도로 하였다.

(10) 굽힘강도

40 ×10 ×1mm 의 박판상으로 가공하고, 장단면 (40mm ×1mm 의 2 면) 에 라운딩 연마를 실시하여 4 개의 단면과 2 개의 주표면을 연마한 시료를 사용하고, 30mm 스팬, 가중속도 0.5mm/초의 3 점 굽힘시험에 의해 굽힘강도를 측정하였다.

표 7, 8 및 9 를 통해 분명히 알 수 있는 바와 같이, 실시예 17∼27 의 유리 및 이들에 Sb₂O₃을 첨가한 유리에 의하면, 유리 전이 온도 (Tg) 가 620℃ 이상, 30∼300℃ 에서의 평균 선 팽창 계수가 60 ×10^－7K^－1이상, 100∼300℃ 에서의 평균 선팽창 계수가 70 ×10^－7K^－1이상, 비중이 2.4∼3.0, 영률이 75GPa 이상, 강성률이 30GPa 이상, 비탄성률이 26 ×10⁶Nm/kg 이상, 포아송비가 0.22∼0.25, 화학 강화 후의 굽힘강도가 15kgf/mm²이상, 570℃ 에서 2 시간 가열한 후의 굽힘강도가 15kgf/mm²이상, (fT－fb)/fb 의 값이 0.5 이상, (f20－fb)/fb 의 값이 1 이상이라는 우수한 특성이 얻어져 있다.

다음에, 표 7, 8 및 9 에 나타낸 유리재료를 이번에는 외경 65.0mm, 중심구멍 내경 20.0mm, 두께 0.635mm 의 디스크형상 기판으로 가공하였다. 이들 디스크형상 기판은 모두 주표면에는 평탄, 평활화의 연마가공이 실시되어 있고, 주표면 이외의 표면에도 강도저하의 원인이 되는 미세한 손상 등이 없도록 연마를 실시하여 평활한 면으로 한 후, 기판을 세정하여 청정한 상태의 정보기록 매체용 기판을 얻는다. 또, 최종공정에서, 앞서 설명한 바와 같이 기판을 순수에 침지하여 기판 표면의 알칼리금속 이온농도를 저감시켜도 된다.

실시예 17∼27 및 Sb₂O₃을 첨가한 유리로 이루어지는 각 디스크형상 유리 기판은 공칭 2.5 인치의 정보기록 매체용 기판으로서 적합하고, 특히 화학 강화를실시한 것은 고내열성 및 고강도를 구비한 기판으로서, 자기기록 매체용 기판, 특히 수직기록 방식의 자기기록 매체용 기판으로서 바람직하다.

상기 각 디스크형상 기판은 균질화된 유리 용액을 프레스 성형형에 공급하여 디스크형상의 유리를 원반형상의 유리성형체로 프레스 성형, 서냉하고, 얻어진 유리성형체에 연삭, 연마 등의 기계가공을 실시한 후, 화학 강화하여 만든다. 또, 상기 유리성형체를 제작하는 방법으로서는 프레스 성형 이외에, 예를 들어, 플로트 성형법이라고 불리는 방법을 이용하여 박판 유리를 성형하고, 이 박판 유리를 원반형상으로 가공하도록 해도 된다. 그러나, Sb₂O₃을 첨가한 유리에서는 플로트 성형은 부적당하다. 이렇게 하여 얻어지는 정보기록 매체용 기판은 세정액을 사용하여 세정되지만, 기판을 구성하는 유리의 알칼리 용출량이 매우 낮은 레벨이므로 세정시에 기판 표면이 거칠어지는 것을 억제할 수 있다. 세정 후의 각 유리 기판의 주표면의 중심선 평균조도 Ra 는 0.1∼0.6nm 이었다.

또, 유리 기판의 중심선 평균조도 Ra 는 원자간력 현미경 (AFM) 으로 측정하였다.

실시예 28

세정, 건조한 유리 기판을 사용하여 수직기록 방식의 자기디스크를 제작하였다. 자기기록층의 형성에 있어서, 연자성층과 자기기록층을 차례로 적층한 2 층막, 및 경자성층, 연자성층 및 자기기록층을 차례로 적층한 3 층막의 두 가지 타입의 수직기록 방식의 자기디스크를 제작하였다. 이 공정 중, 자기기록막을400∼600℃ 에서 고온 열처리하였지만, 모든 기판이 유리 전이 온도 (Tg) 620℃ 이상의 고내열성을 갖고 있으므로, 기판은 변형되지 않고 높은 평탄성을 유지하였다.

이와 같이, 본 발명의 유리 기판은 유리 전이 온도가 높기 때문에, 자기기록 매체 특성 향상을 위한 고온 처리, 고온 스퍼터기에 의한 자기막 작성에 적합하다. 또한, 알칼리금속을 함유하는 유리 기판을 사용하였음에도 불구하고, 정보기록층의 형성 후에도 기판 중으로부터의 알칼리 석출에 의한 악영향은 관찰되지 않았다.

또, 상기 실시예에서는 자기기록 매체를 예로 설명하였지만, 그 밖의 정보기록 매체용 기판 및 정보기록 매체, 예를 들어 광기록 방식이나 광자기기록 방식의 것에서도 동일하게 양호한 결과를 얻을 수 있다.

본 발명의 정보기록 매체용 기판에 의하면, 유리 전이 온도 (Tg) 가 620℃ 이상이고, 또한 알칼리 용출량이 0.2μ몰/cm²이하로 매우 적으므로, 정보기록층 형성시의 고온 열처리시의 기판변형을 억제하여 기판의 평탄성을 유지할 수 있음과 동시에, 알칼리 용출에 의한 기판 표면의 평활성 저하나 정보기록층에 대한 영향을 억제할 수 있다. 따라서, 본 발명의 정보기록 매체용 기판은 고기록 밀도의 정보기록 매체, 예를 들어 수직기록 방식의 자기기록 매체 등에 바람직하게 사용할 수 있다.

또한, 본 발명의 정보기록 매체용 기판에 의하면, 100∼300℃ 에서의 평균 선열팽창계수를 70 ×10^－7/℃ 이상으로 할 수 있고, 이 기판을 사용한 정보기록 매체를 드라이브장치에 장착할 때, 고정 금구와의 열팽창 특성을 맞출 수 있게 된다.

또한, 본 발명의 정보기록 매체용 기판에 의하면, 고내열성, 저알칼리 용출성을 겸비하면서 비중을 3.5 이하로 할 수 있으므로, 구동 토크를 저감할 수 있는 정보기록 매체를 제공할 수 있다.

본 발명의 정보기록 매체는 정보기록층 면에서도 기판의 평탄성, 평활성 면에서도 고기록 밀도화가 가능하고, 또 기판으로부터의 알칼리금속 석출에 의한 정보기록층의 침식도 방지할 수 있으므로, 장기간에 걸쳐 안정적으로 사용할 수 있다.

Claims

알칼리금속 산화물 함유 유리로 이루어지는 정보기록 매체용 기판에 있어서, 상기 유리의 전이 온도 (Tg) 가 620℃ 이상이고, 또한 온도 80℃ 로 유지된 수중에 24 시간 침지하였을 때의 알칼리금속 이온의 용출량이, 단위면적당 0.2μ몰/cm²이하인 것을 특징으로 하는 정보기록 매체용 기판.
제 1 항에 있어서, 알칼리금속 산화물 함유 유리가, 필수성분으로서 SiO₂, A1₂O₃, CaO, BaO 및 K₂O 를 함유하는 정보기록 매체용 기판.
제 1 항에 있어서, 알칼리금속 산화물 함유 유리가, SiO₂, A1₂O₃, CaO, BaO, K₂O, MgO, SrO, TiO₂, ZrO₂, Li₂O, Na₂O, ZnO 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 정보기록 매체용 기판.
제 3 항에 있어서, 화학 강화층이 존재하지 않고, 알칼리금속 산화물 함유 유리가 실질적으로 몰% 표시로, SiO₂50% 초과 또한 70% 이하, Al₂O₃1∼12%, CaO 2∼25%, BaO 0% 초과 또한 15% 이하, K₂O 3∼15%, MgO 0∼10%, SrO 0∼15%, TiO₂0∼10%, ZrO₂0∼12%, Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만, Na₂O 0∼8%, ZnO 0∼1% 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 정보기록 매체용 기판.
제 3 항에 있어서, 표면에 화학 강화층을 갖고, 알칼리금속 산화물 함유 유리가 실질적으로 몰% 표시로, SiO₂50% 초과 또한 70% 이하, A1₂O₃1∼10%, CaO 2∼25%, BaO 1∼15%, K₂O 3∼15%, MgO 0∼3%, SrO 0∼15%, TiO₂0∼10%, ZrO₂0% 초과 12% 이하, Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만, Na₂O 1∼8%, ZnO 0∼1% 로 이루어지고, SiO₂, Al₂O₃및 ZrO₂의 합계량이 70 중량% 초과인 것을 특징으로 하는 정보기록 매체용 기판.
제 3 항에 있어서, 표면에 화학 강화층을 갖고, 알칼리금속 산화물 함유 유리가 실질적으로 몰% 표시로, SiO₂50% 초과 또한 70% 이하, A1₂O₃1∼10%, CaO 15∼25%, BaO 1∼15%, K₂O 3∼15%, MgO 0∼3%, SrO O∼15%, TiO₂0∼1O%, ZrO₂0% 초과 12% 이하, Li₂O 0% 이상 또한 1% 미만, Na₂O 1∼8%, ZnO 0∼1% 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 정보기록 매체용 기판.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 알칼리금속 산화물 함유 유리의 온도 100∼300℃ 에서의 평균 선열팽창계수 (α) 가 70 ×10^－7/℃ 이상인 정보기록 매체용 기판.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 알칼리금속 산화물 함유 유리의 비중이 3.5 이하인 정보기록 매체용 기판.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 수직 자기기록 방식의 정보기록 매체용인 것을 특징으로 하는 정보기록 매체용 기판.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 정보기록 매체용 기판 상에, 정보기록층을 갖는 것을 특징으로 하는 정보기록 매체.
제 10 항에 있어서, 수직방식의 자기기록 매체인 정보기록 매체.
정보기록 매체용 기판 상에 정보기록층의 형성을 포함하는 공정을 구비한 정보기록 매체의 제조방법에 있어서, 상기 기판에 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 정보기록 매체용 기판을 사용하고, 상기 공정 중에 상기 기판을 400∼600℃ 로 가열하는 것을 특징으로 하는 정보기록 매체의 제조방법.