KR20040043116A - 유기 박막 트랜지스터를 이용한 고성능 액티브 매트릭스화소 제공방법 및 제공장치 - Google Patents

유기 박막 트랜지스터를 이용한 고성능 액티브 매트릭스화소 제공방법 및 제공장치 Download PDF

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KR20040043116A
KR20040043116A KR10-2003-7012959A KR20037012959A KR20040043116A KR 20040043116 A KR20040043116 A KR 20040043116A KR 20037012959 A KR20037012959 A KR 20037012959A KR 20040043116 A KR20040043116 A KR 20040043116A
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프랭크 쿠오모
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Abstract

본 발명은 게이트와 화소간 커패시턴스를 최소화하는 적어도 하나의 유기 박막 트랜지스터(OTFT)(210)를 가진 화소 구조(200)를 개시한다. 일 실시예에서, 화소 구조는 트랜지스터의 데이터-라인 측 상의 OTFT 전극(212)이 화소 측 전극(214)에 대해 트랜지스터의 세 개의 측면 주위로 연장되거나 그에 의해 둘러싸이는, 새로운 트랜지스터 구조를 제공한다. 따라서, 화소 측 전극은 트랜지스터의 유효폭(및 이에 따른 온-전류)을 감소시키지 않고서도 매우 작게 만들어질 수 있다.

Description

유기 박막 트랜지스터를 이용한 고성능 액티브 매트릭스 화소 제공방법 및 제공장치{METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING A HIGH-PERFORMANCE ACTIVE MATRIX PIXEL USING ORGANIC THIN-FILM TRANSISTORS}
종래의 화소가 도 1에 도시되어 있다. TFT용의 소스와 드레인 접촉은 유기 층(organic layer)에 오옴 접촉(ohm contact)을 만드는, 팔라듐(palladium)과 같은 금속화 층(metallization layer)으로부터 만들어진다. 이러한 금속화 층은 또한 디스플레이의 데이터-라인(컬럼 라인)을 형성하기 위해서 사용되는데, 여기서 상기 데이터-라인은 화소 트랜지스터의 일측에 접촉한다. 투명한 인듐-주석 산화물(ITO) 화소 전극은 트랜지스터의 타측 상의 금속화 층과 접촉한다. 금속화 층의 "패드(pad)"는 도 1에 도시된 바와 같이 TFT와 접촉하고 ITO 상부에 놓인다. 게이트 금속화 층은 게이트 금속화 층을 상기 유기 층으로부터 분리하는, 실리콘이산화물 또는 실리콘 질화물과 같은 게이트 유전체 층 하부에 놓인다.
도 1의 구조는 게이트 전극과, ITO 화소 전극 밖으로 나오는 소스-드레인 금속화 층 사이에 높은 커패시턴스를 가지는데, 상기 기생 커패시턴스(parasitic capacitance)는 두 개의 전극 사이의 중첩 면적에 대체로 비례한다. 상기 기생 커패시턴스는 심각한 문제인데, 왜냐하면, 트랜지스터가 "온(on)" 상태로부터 "오프(off)" 상태로 전이함에 따라, 이러한 커패시턴스는 트랜지스터가 턴 오프(turn off)될 때 큰 용량성(capacitive) "푸쉬-다운(push-down)"(n-채널 TFT에 대해) 또는 "푸쉬-업(push-up)"(p-채널에 대해)을 초래하기 때문이다. 화소 전압에서의 이러한 변화는 종래의 구조를 사용하여 제조되는 화소에서 약 15 볼트이다. 커패시턴스는 화소에서 화소까지 불균일하여서, 디스플레이에 걸린 화소 전압을 불균일하게 하고, 이에 따라 디스플레이에 걸친 빛의 세기도 또한 변화하게 되어 눈에 띄게 될 것이다. 이는 또한 OTFT가 용량성 효과 없는 상태에 있을 경우 보다 게이트, 소스 및 드레인 사이에서 더 높은 전압을 견딜 수 있을 것을 요구한다.
따라서, 게이트와 화소간의(gate-to-pixel) 커패시턴스를 최소화하는 OTFT 구조를 가진 새로운 화소 구조가 필요하다.
본 발명은 적어도 하나의 유기 박막 트랜지스터(OTFT)를 사용하는 새로운 화소 구조(pixel structure)에 관한 것이다. 더 특정해서는, 본 발명은 트랜지스터의 데이터-라인 측(data line side) 상의 OTFT 전극이 화소-측(pixel-side) 전극에 대해 트랜지스터의 세 개의 측면 주위로 연장되거나 그에 의해 둘러싸이는 새로운 트랜지스터 구조를 제공한다.
도 1은 종래의 OTFT 화소를 도시하고;
도 2는 본 발명의 새로운 OTFT 화소를 를 도시하고;
도 3은 도 2의 라인 3-3에 따른 OTFT의 단면도를 도시하고;
도 4는 다수의 둘러싸인(wrap-around) 소스/핑거(finger) 드레인 쌍을 가진 본 발명의 택일적인 트랜지스터 구조를 도시하며;
도 5는 본 발명에 따른 다수의 OTFT 화소 구조를 가진 디스플레이를 사용하는 시스템의 블록도를 도시한다.
본 발명은 게이트와 화소간의 커패시턴스를 최소화하는 OTFT 구조를 가진 새로운 화소 구조에 관한 것이다. 일 실시예에서, 본 발명은 트랜지스터의 데이터-라인 측 상의 OTFT 전극이 화소-측 전극에 대해 트랜지스터의 세 개의 측 주위로 연장되거나 그에 의해 둘러싸이는, 새로운 트랜지스터 구조를 제공한다.
따라서, 화소-측(pixel-side) 전극이 트랜지스터의 유효 폭(effective width) 및, 이에 따른 온-전류(on-current)를 감소시키지 않고서도 매우 작게 만들어질 수 있다. 상기 새로운 구조를 사용하여 게이트와 화소간의, 여러 겹(several-fold)의 커패시턴스를 감소시키는 것이 가능하다.
상기 본 발명의 특징은 첨부 도면을 참조한 다음의 상세히 기술된 설명을 참고하여 쉽게 이해될 것이다. 도면들에서, 이해를 돕기 위해서, 가능하다면 동일한 참조 번호는 동일한 요소들을 지시하는 것으로 도면들에서 공통으로 사용되었다.
도 2는 본 발명의 새로운 OTFT 화소(200)("화소(I, J)")를 도시한다. "화소(I, J)"로 표시된 것은 (1 =< I =< M)인 M 컬럼(column)과 (1 =< J =< N)인 N 로우(row)를 가진 디스플레이의 특정 그리드 좌표(particular grid coordinate)에서의 화소를 나타낸다.
특히, 도 2는 유기 박막 트랜지스터(210)와 화소 전극, 예를 들어 투명한 인듐-주석 산화물(ITO) 화소 전극(220)을 포함하는 OTFT 화소(200)를 도시한다. ITO 화소 전극(220)이 본 발명의 바람직한 실시예로 개시되지만, 본 발명은 이에 제한되지는 않는 것으로 여겨져야 한다. 즉, 상기 새로운 OTFT 구조는 화소의 광-제어 소자(도시되지 않음)에 결합되는 다른 타입의 화소 전극과 협력하도록 적용될 수 있다.
각각의 OTFT 화소 구조는 데이터-라인(230)(컬럼 라인) 및 선택 라인(240)(로우 라인)과 함께 동작된다. 이러한 라인들은 데이터를 화소에 로딩하고 저장된 데이터가 디스플레이되도록 하기 위해서 사용된다. 따라서, 각각의 OTFT 화소는 데이터-라인(230)에 연결된 일측상에 소스/드레인 금속화 층을 가진 트랜지스터(210)를 포함한다. 부가적으로, 게이트 전극(242)이 선택 라인(240)에 연결된다.
도 3은 도 2의 라인 3-3 을 따른 OTFT 화소의 단면도이다. 본 발명의 설명을 잘 이해할 수 있도록 도 2와 도 3 모두를 참조하라. 유기 박막 트랜지스터(210)는 한쌍의 소스-드레인 전극(212와 214), 유기 반도체 층(250), 게이트 유전체 층(320) 및 게이트 전극(242)을 포함한다. 이러한 층들과 전극들은 기판(310), 예를 들어 폴리에스테르 기판 상으로 증착된다.
본 발명에서, 도 2는 새로운 트랜지스터 구조를 도시하는데, 트랜지스터(210)의 데이터-라인 측 상의 OTFT 전극(소스 전극(212))은 드레인 전극(214)에 대해 트랜지스터의 세 개의 측면 주위로 연장되거나 그에 의해 둘러싸인다. 즉, 반원 홈통(semi-circular trough)이 소스 전극(212)의 한쪽 말단 내로 패터닝되고(patterned), 더 작은 드레인 전극(214)의 한쪽 말단은 반원 홈통 내에 측면으로 위치된다. 상기 더 작은 드레인 전극(214)의 한쪽 말단이 소스 전극(212)의 상기 더 큰 반원 또는 반원 모양의 홈통 말단에 의해 세 측면 상에 둘러 싸이는 결과를 가져온다.
따라서, 화소-측 전극(드레인 전극(214))은 트랜지스터의 유효폭( 및 그에 따른 온-전류)을 감소시키지 않고서도 매우 작게 만들어질 수 있다. 상기 새로운 트랜지스터의 레이아웃(layout)에서, 게이트와 화소간 여러 겹의 기생 커패시턴스를 감소시키는 것이 가능하다. 다시 말하면, OTFT 액티브 매트릭스 화소의 상기 새로운 레이아웃을 사용함으로써, 게이트와 화소 전극 사이의 커패시턴스가 상당히 감소될 수 있다. 이는 화소가 선택되지 않을(deselect) 때 화소 전압에서의 용량성 푸쉬-다운 또는 푸쉬-업(또는 전하 주입)을 감소시켜서, 디스플레이 균일성을 양호하게 하고 트랜지스터 상의 전압 요구를 감소시킨다.
본 구조의 한가지 중요한 장점은 전체 트랜지스터(210)에 대해 낮은 저향을 여전히 유지한다는 점이다. 즉, 낮은 저항은 화소를 충전하기 위한 더 빠른 충전 시간을 가져온다. 트랜지스터의 저항은 상기 폭에 반비례하고 소스-드레인 전극의 길이에 정비례한다는 것이 유의되어야 한다. 다시 말하면, 기생 커패시턴스의 효과를 감소시키면서, 소스와 드레인 전극 모두의 폭을 단순히 감소시키는 것은 실제로는 전체 트랜지스터의 저항을 증가시킬 것이다. 따라서, 상기 새로운 비 대칭 구조는 전체 트랜지스터에 대해 원하는 낮은 저항을 유지시키면서 기생 커패시턴스를 감소시키는 완벽한 균형을 가져온다.
도 3이 소스 전극(212)가 왼쪽 측면 상에 있고 드레인 전극(214)이 오른쪽 측면 상에 있는 것으로 도시되고 있지만, 당업자는 이러한 전극들은 간단하게 소스-드레인 전극으로 서로 바뀌어서 종종 언급된다는 것을 알 수 있다고 유의되어야 한다. 따라서, 청구범위의 이해를 위해서, 용어 "제 1 소스-드레인 전극(first source-drain electrode)"과 "제 2 소스-드레인 전극(second source-drain electrode)"은 소스 전극과 드레인 전극 또는 그 역인 것으로 넓게 해석되어야 한다. 다시 말하면, 특정한 실행이나 관례(convention)에 따라, 드레인 전극을 소스 전극 대신에 반원 말단을 가진 더 큰 전극이라고 하는 것도 가능하다.
부가적으로, 본 발명은 한쪽 말단에 반원 홈통을 가진 소스-드레인 전극을 언급하고 있지만, 본 발명은 이에 제한되지는 않는다. 즉, 상기 홈통의 내측은 곡면일 필요는 없지만, 대신에 도 2에 도시된 바와 같이 다수의 측면(직선 및/또는 곡선)으로 구성될 수 있다. 실제로는, 상기 홈통은 반-타원(semi-oval) 홈통일 수 있다.
부가적으로, 본 발명은 드레인 전극이 "세 개 측면들(three sides)" 상의 소스 전극의 홈통 말단에 의해 둘러싸인 것으로 언급하고 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 특히, 도 2는 이러한 직사각형 전극의 한쪽 말단의 세 측면이 소스 전극의 홈통 말단에 의한 세 측면으로 둘러싸이도록, 직사각형 형상인 드레인 전극을 도시한다. 그러나, 당업자는 드레인 전극이 여전히 소스 전극의 홈통 말단 내에 배치되도록 하기 위해서, 드레인 전극의 말단이 원형이거나(round) 뽀족한 모양이 되도록(화살촉처럼) 만들어질 수 있다는 것을 인식할 것이다. 드레인 전극의 이러한 택일적인 말단 구조는 여전히 본 발명의 범위 내에 있다.
도 4는 본 발명의 택일적인 트랜지스터 구조를 도시한다. 특히, 드레인 전극(414)의 한쪽 말단은 다수의 "핑거들(fingers)"(410)을 포함하는 반면, 소스 전극(412)의 한쪽 말단은 다수의 반원 홈통(420)을 포함한다. 상기 새로운 구조는, 전체 트랜지스터의 저항이 배치되는 핑거/홈통 쌍의 개수에 기초하여 더 조정될 수 있는 부가적인 장점을 가지는 동시에, 도 2에 대해 전술한 바와 같은 장점을 가진다. 따라서, 상기 부가적인 장점은 더 복잡한 소스-드레인 전극 구조를 갖지 않고서도 얻어진다.
마지막으로, 본 트랜지스터 구조는 유기 TFT와 사용될 때 특히 잘 적용된다고 유의되어야 한다. TFT에 대해 사용되는 비결정질 실리콘과 달리, 유기 층은 상온에서 형성될 수 있고, 다른 새로운 기판 물질 뿐만 아니라, 값싸고 가볍고 울퉁불퉁한 플라스틱 기판 상에 액티브-매트릭스 액정 디스플레이(AMLCD)를 만들 가능성을 열어놓는다. 유기 TFT는 비결정질 실리콘 TFT의 것과 동등한 전기적 특징을 가져서, 플라스틱 AMLCD의 성능은 기존의 유리에 기초한 AMLCD의 것과 유사할 것으로 기대된다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 유기 층(250)은 펜타센(pentacene)인데, 이는 선형 다환형 방향성 탄화수소(linear polycyclic aromatic hydrocarbon)이다. 그러나, 유기 층(250)은 또한 다른 유기 물질 및, 특히 다른 레벨의 비용과 성능을 가진 나프탈렌(naphthalene), 안트라센(anthracene) 및 테트라센(tetracene)과 같은 다른 선형 다환형 방향성 탄화수소를 사용하여 실행될 수 있다.
도 5는 본 발명에 따른 다수의 액티브 매트릭스 화소 구조(200 및/또는 400)를 가진 디스플레이(520)를 사용하는 시스템(500)의 블록도를 도시한다. 상기 시스템(500)은 디스플레이 제어기(510) 및 디스플레이(520)를 포함한다.
더 상세하게는, 상기 디스플레이 제어기는 중앙 처리 장치(CPU)(512), 메모리(514) 및 다수의 I/O 장치(516)(예를 들어, 마우스, 키보드, 자기 및 광 드라이브와 같은 저장 장치, 모뎀 등)를 가진 범용 컴퓨터로서 실행될 수 있다. 디스플레이(520)를 활성화하기 위한 소프트웨어 명령은 메모리(514)로 로딩되어 CPU(512)에 의해 실행될 수 있다.
디스플레이(520)는 화소 인터페이스(522) 및 다수의 화소(예를 들면 화소 구조(200 및/또는 400))를 포함한다. 화소 인터페이스(522)는 화소(200 또는 400)를 구동하기 위한 필수 회로를 포함한다. 예를 들면, 화소 인터페이스(522)는 매트릭스 어드레싱 인터페이스일 수 있다.
따라서, 시스템(500)은 랩탑 컴퓨터로서 실행될 수 있다. 택일적으로, 디스플레이 제어기(510)는 마이크로컨트롤러 또는 주문형 IC(ASIC) 또는 하드웨어와 소프트 웨어 명령의 조합과 같은 다른 수단들로 실행될 수 있다. 요약하면, 시스템(500)은 본 발명의 디스플레이를 편입하는 더 큰 시스템 내에서 실행될 수 있다.
부가적으로, 본 화소 구조는 유연성 있고(flexible) 휠 수 있는(bendable) 디스플레이에 배치될 수 있다. 이 실시예는 Kane 등에 의해 2001년 6월 5일자Society for Information Display(SID) International Symposium Digest에 실린 "폴리에스테르 기판 상에 유기 박막 트랜지스터를 사용하는 AMLCD(AMLSD Using Organic Thin-Film Transistors On Polyester Substrates)"로 명명된 문서에 개시되어 있는데, 이는 본 명세서에 참조로 편입되어 있다.
본 발명의 기술을 편입한 많은 다양한 실시예들이 본 명세서에 예시되고 기술되었지만, 이외에도 당업자는 본 발명의 기술을 편입한 많은 다른 다양한 실시예들을 쉽게 고안할 수 있을 것이다.

Claims (10)

  1. 각각의 화소(pixel)가 적어도 하나의 유기 박막 트랜지스터(organic thin film transistor, OTFT)(210)를 갖는 다수의 화소(200, 400)들을 포함하는 디스플레이(520)로서,
    상기 OTFT는,
    제 1 말단(end) 및, 적어도 하나의 홈통(trough)을 가진 제 2 말단(end)을 포함한 제 1 소스-드레인 전극(212);
    제 1 말단 및 제 2 말단을 가진 제 2 소스-드레인 전극(214)으로서, 상기 제 2 소스-드레인 전극의 상기 제 1 말단은 상기 제 1 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단 내에 배치되는 제 2 소스-드레인 전극(214);
    상기 제 1 및 제 2 소스-드레인 전극들에 결합된 유기 층(organic layer)(250);
    상기 유기 층에 결합된 게이트 유전체 층(320);
    상기 게이트 유전체 층에 결합된 게이트 전극(242); 및
    상기 게이트 전극에 결합된 기판(310)을 포함하는 디스플레이.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단의 상기 홈통은 반원 모양(semi-circular configuration)을 가지는 디스플레이.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 유기 층은 선형 다환형 방향성(linear polycyclic aromatic) 탄화 수소인 디스플레이.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 선형 다환형 방향성 탄화수소는 펜타센(pentacene)인 디스플레이.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단은 적어도 두 개의 홈통들(420)을 가지고, 상기 제 2 소스-드레인 전극의 상기 제 1 말단은 상기 제 1 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단의 상기 적어도 두 개의 홈통들 내에 배치되는 적어도 두 개의 핑거들(fingers)(410)을 가지는 디스플레이.
  6. 다수의 화소들(200)을 포함하는 디스플레이(520)로서,
    각각의 화소는,
    화소 전극(220); 및
    적어도 하나의 유기 박막 트랜지스터(OTFT)(210)를 포함하고,
    상기 OTFT는,
    제 1 말단 및, 적어도 하나의 홈통을 가진 제 2 말단을 포함하는 제 1소스-드레인 전극(212);
    제 1 말단 및 제 2 말단을 가진 제 2 소스-드레인 전극(214)으로서, 상기 제 2 소스-드레인 전극의 상기 제 1 말단은 상기 제 1 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단 내에 배치되고, 상기 제 2 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단은 상기 화소 전극에 결합되는 제 2 소스-드레인 전극(214);
    상기 제 1 및 제 2 소스-드레인 전극들에 결합된 유기 층(250);
    상기 유기 층에 결합된 게이트 유전체 층(320);
    상기 게이트 유전체 층에 결합된 게이트 전극(242); 및
    상기 게이트 전극에 결합된 기판(310)을 포함하는 디스플레이.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 제 1 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단의 상기 홈통은 반원 모양을 가지는 디스플레이.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 유기 층은 선형 다환형 방향성 탄화수소인 디스플레이.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 선형 다환형 방향성 탄화수소는 펜타센인 디스플레이.
  10. 시스템(500)으로서,
    디스플레이 제어기(510); 및
    상기 디스플레이 제어기에 결합되고, 다수의 화소들(200)을 포함하는 디스플레이(520)를 포함하고,
    상기 각각의 화소는,
    화소 전극(220); 및
    적어도 하나의 유기 박막 트랜지스터(OTFT)(210)를 포함하며,
    상기 OTFT는,
    제 1 말단 및, 적어도 하나의 홈통을 가진 제 2 말단을 포함하는 제 1 소스-드레인 전극(212);
    제 1 말단 및 제 2 말단을 가진 제 2 소스-드레인 전극(214)으로서, 상기 제 2 소스-드레인 전극의 상기 제 1 말단은 상기 제 1 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단 내에 배치되고, 상기 제 2 소스-드레인 전극의 상기 제 2 말단은 상기 화소 전극에 결합되는 제 2 소스-드레인 전극(214);
    상기 제 1 및 제 2 소스-드레인 전극들에 결합된 유기 층(250);
    상기 유기 층에 결합된 게이트 유전체 층(320);
    상기 게이트 유전체 층에 결합된 게이트 전극(242); 및
    상기 게이트 전극에 결합된 기판(310)을 포함하는 디스플레이.
KR10-2003-7012959A 2001-04-10 2002-03-07 유기 박막 트랜지스터를 이용한 고성능 액티브 매트릭스화소 제공방법 및 제공장치 KR20040043116A (ko)

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