KR20030081475A - 회로 레이아웃 설계 방법 및 그 시스템 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (24)
- 네트 리스트 및 부품 라이브러리로 표시된 회로 전체를, 각 준정상 폐회로로부터 복사되는 전자파의 강도가 소정값 이하인 규모까지 축소된 복수의 준정상 폐회로로 나누는 준정상 회로 축소 단계와,상기 복수의 준정상 폐회로를 서로 연결하는 각 배선으로부터 복사되는 전자파의 강도가 소정값 이하가 되도록 각 배선의 구속 조건을 산출하는 배선 구속 조건 산출 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법.
- 제1항에 있어서,상기 구속 조건을 만족하도록, 상기 네트 리스트 및 상기 부품 라이브러리에 기초하여 부품 및 배선의 레이아웃을 행하는 레이아웃 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 준정상 회로 축소 단계 및 배선 구속 조건 산출 단계를, 높은 주파수로부터 낮은 주파수의 순으로, 각 주파수에 대하여 행하고, 임의의 주파수에 있어서의 각 상기 준정상 폐회로가 그보다 높은 주파수에 있어서의 상기 준정상 폐회로를 1 이상 포함하도록 한 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구속 조건은 배선의 최대 길이를 적어도 갖는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 준정상 회로 축소 단계는,전원 단자 모델 및 IBIS(I/O buffer information specification) 모델 또는 IMIC(I/O interface model for integrated circuit) 모델을 이용하여 SPICE(simulation program with integrated circuit emphasis)에 의해 전류 파형을 구하는 단계와,상기 전류 파형을 푸리에 변환하여 전류 스펙트럼을 구하는 단계와,전류 스펙트럼을 이용하여 다이폴 안테나의 방사식 또는 전자계 해석에 의해 먼 곳에서의 전계 강도 스펙트럼을 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 방법은 프린트 기판의 레이아웃 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 방법은 반도체 장치의 레이아웃 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 방법은 반도체 장치 및 프린트 기판의 통합 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법.
- 네트 리스트 및 부품 라이브러리로 표시된 회로 전체를 각 준정상 폐회로로부터 복사되는 전자파의 강도가 소정값 이하인 규모까지 축소된 복수의 준정상 폐회로로 나누는 준정상 회로 축소 수단과,상기 복수의 준정상 폐회로를 서로 연결하는 각 배선으로부터 복사되는 전자파의 강도가 소정값 이하가 되도록 각 배선의 구속 조건을 산출하는 배선 구속 조건 산출 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 시스템.
- 제9항에 있어서,상기 구속 조건을 만족하도록, 상기 네트 리스트 및 상기 부품 라이브러리에 기초하여 부품 및 배선의 레이아웃을 행하는 레이아웃 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 시스템.
- 제9항 또는 제10항에 있어서,상기 준정상 회로 축소 수단 및 배선 구속 조건 산출 수단은, 높은 주파수로부터 낮은 주파수의 순서로, 각 주파수에 대하여 동작하고, 임의의 주파수에 있어서의 각 상기 준정상 폐회로가 그보다 높은 주파수에 있어서의 상기 준정상 폐회로를 1 이상 포함하도록 한 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 시스템.
- 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구속 조건은 배선의 최대 길이를 적어도 갖는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 시스템.
- 제9항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,상기 준정상 회로 축소 수단은,전원 단자 모델 및 IBIS(I/O buffer information specification) 모델 또는 IMIC(I/O interface model for integrated circuit) 모델을 이용하여 SPICE(simulation program with integrated circuit emphasis)에 의해 전류 파형을 구하는 수단과,상기 전류 파형을 푸리에 변환하여 전류 스펙트럼을 구하는 수단과,전류 스펙트럼을 이용하여 다이폴 안테나의 방사식 또는 전자계 해석에 의해 먼 곳에서의 전계 강도 스펙트럼을 산출하는 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 시스템.
- 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 시스템은 프린트 기판의 레이아웃 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 시스템.
- 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 시스템은 반도체 장치의 레이아웃 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 시스템.
- 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 시스템은 반도체 장치 및 프린트 기판의 통합 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 시스템.
- 네트 리스트 및 부품 라이브러리로 표시된 회로 전체를, 각 준정상 폐회로로부터 복사되는 전자파의 강도가 소정값 이하인 규모까지 축소된 복수의 준정상 폐회로로 나누는 준정상 회로 축소 단계와,상기 복수의 준정상 폐회로를 서로 연결하는 각 배선으로부터 복사되는 전자파의 강도가 소정값 이하가 되도록 각 배선의 구속 조건을 산출하는 배선 구속 조건 산출 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로 레이아웃 설계 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 기록 매체.
- 제17항에 있어서,상기 방법은,상기 구속 조건을 만족하도록, 상기 네트 리스트 및 상기 부품 라이브러리에 기초하여 부품 및 배선의 레이아웃을 행하는 레이아웃 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기록 매체.
- 제17항 또는 제18항에 있어서,상기 방법은,상기 준정상 회로 축소 단계 및 배선 구속 조건 산출 단계를 높은 주파수로부터 낮은 주파수의 순으로, 각 주파수에 대하여 행하고, 임의의 주파수에 있어서의 각 상기 준정상 폐회로가 그보다 높은 주파수에 있어서의 상기 준정상 폐회로를 1 이상 포함하도록 한 것을 특징으로 하는 기록 매체.
- 제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구속 조건은 배선의 최대 길이를 적어도 갖는 것을 특징으로 하는 기록 매체.
- 제17항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,상기 준정상 회로 축소 단계는,전원 단자 모델 및 IBIS(I/O buffer information specification) 모델 또는 IMIC(I/O inerface model for integrated circuit) 모델을 이용하여 SPICE(simulation program with integrated circuit emphasis)에 의해 전류 파형을 구하는 단계와,상기 전류 파형을 푸리에 변환하여 전류 스펙트럼을 구하는 단계와,전류 스펙트럼을 이용하여 다이폴 안테나의 방사식 또는 전자계 해석에 의해 먼 곳에서의 전계 강도 스펙트럼을 산출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기록 매체.
- 제17항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 방법은 프린트 기판의 레이아웃 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 기록 매체.
- 제17항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 방법은 반도체 장치의 레이아웃 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 기록 매체.
- 제17항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,상기 방법은 반도체 장치 및 프린트 기판의 통합 설계에 이용되는 것을 특징으로 하는 기록 매체.
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