KR20030008221A - 3-치환된 벤조트리플루오라이드의 선택적 탈양자화 및작용화 방법 - Google Patents
3-치환된 벤조트리플루오라이드의 선택적 탈양자화 및작용화 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20030008221A KR20030008221A KR1020027017059A KR20027017059A KR20030008221A KR 20030008221 A KR20030008221 A KR 20030008221A KR 1020027017059 A KR1020027017059 A KR 1020027017059A KR 20027017059 A KR20027017059 A KR 20027017059A KR 20030008221 A KR20030008221 A KR 20030008221A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- alkyl
- substituted
- amine
- added
- primary
- Prior art date
Links
- -1 3-substituted benzotrifluorides Chemical class 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 title description 9
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 title description 9
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 title description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims description 18
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical group [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 12
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical class [H]N([*:1])[*:2] 0.000 abstract 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N dipropyl disulfide Chemical compound CCCSSCCC ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 8
- 102100032373 Coiled-coil domain-containing protein 85B Human genes 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 101000868814 Homo sapiens Coiled-coil domain-containing protein 85B Proteins 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 4
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- XHONYVFDZSPELQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound COC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 XHONYVFDZSPELQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- RBHJBMIOOPYDBQ-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;propan-2-one Chemical compound O=C=O.CC(C)=O RBHJBMIOOPYDBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N dimethyl disulfide Chemical compound CSSC WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006138 lithiation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCUZRHULSCKWSN-UHFFFAOYSA-N 1-(1-ethoxyethoxy)-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound CCOC(C)OC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 PCUZRHULSCKWSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPMQODYMPBTRRN-UHFFFAOYSA-N 1-(2-fluoropropylsulfanyl)-2-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(CSC1=CC=CC=C1C(F)(F)F)C LPMQODYMPBTRRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZCVGFQARVVIH-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)-2-propylsulfanyl-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound CCCSC1=C(OCOC)C=CC=C1C(F)(F)F KEZCVGFQARVVIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVAJDXRDOOVXBO-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound COCOC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 ZVAJDXRDOOVXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical class CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBOWGKOVMBDPJF-UHFFFAOYSA-N 1-fluoro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 GBOWGKOVMBDPJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-ethyl Chemical group C[CH]OC JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRNJYZXEWTWFSS-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethoxy)-6-(trifluoromethyl)benzenesulfonyl chloride Chemical compound COCOC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1S(Cl)(=O)=O JRNJYZXEWTWFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUHLBQUPTQLQLQ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1-propylsulfanyl-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound CCCSC1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1OC MUHLBQUPTQLQLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFTUAGLVBMETPF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-4-(trifluoromethyl)benzenesulfonyl chloride Chemical compound COC1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1S(Cl)(=O)=O ZFTUAGLVBMETPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBZJAHPYJUXLQC-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-(trifluoromethyl)benzenesulfonyl chloride Chemical compound COC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1S(Cl)(=O)=O NBZJAHPYJUXLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAIXVXBWRASJMU-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-(trifluoromethyl)benzenethiol Chemical compound COC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1S AAIXVXBWRASJMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUDFOJKTJLAIK-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethanamine Chemical compound COCCN ASUDFOJKTJLAIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUQBPLLDLXBJSX-UHFFFAOYSA-N 2-propylsulfanyl-3-(trifluoromethyl)phenol Chemical compound CCCSC1=C(O)C=CC=C1C(F)(F)F JUQBPLLDLXBJSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGEJOEBBMPOJMT-UHFFFAOYSA-N 3-(trifluoromethyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 UGEJOEBBMPOJMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQHYUUBBIJGBNR-UHFFFAOYSA-N OP(O)(=O)S(O)(=O)=O Chemical class OP(O)(=O)S(O)(=O)=O LQHYUUBBIJGBNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000008331 benzenesulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DOUHZFSGSXMPIE-UHFFFAOYSA-N hydroxidooxidosulfur(.) Chemical compound [O]SO DOUHZFSGSXMPIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPJNIDYTSSIIY-UHFFFAOYSA-N methoxy(methoxymethoxy)methane Chemical compound COCOCOC NSPJNIDYTSSIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/02—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F1/00—Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table
- C07F1/02—Lithium compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
3-치환된 벤조트리플루오라이드가 2-위치에서 선택적으로 탈양자화되고 작용화된다. 선택성은, 1급 또는 2급 아민 촉매의 존재하에 초기에 형성된 리티오벤조트리플루오라이드의 혼합물을 평형시켜 이루어진다.
Description
본 발명은 특정 3-치환된 벤조트리플루오라이드의 2-위치에서의 선택적 탈양자화 및 작용화 방법에 관한 것이다.
미국 특허 제5,858,924호는 특정 치환된 벤젠설폰아미드 화합물 및 제초제로서의 이들 용도를 기재한다. 미국 특허 제5,272,128호는 특정 포스포노설포네이트 화합물 및 제초제로서의 이들 용도를 기재한다. 2-치환된-6-(트리플루오로메틸)벤젠설포닐 클로라이드는 이들 제초제의 제조에 유용한 중간체이다.
미국 특허 제5,272,128호에서, 2-메톡시-6-(트리플루오로메틸)벤젠설포닐 클로라이드는 3-(트리플루오로메틸)아니솔을 n-부틸 리튬으로 탈양자화한 후, 이산화황으로 급냉시키고, 수득한 리튬 설피네이트를 설푸릴 클로라이드로 처리하여 82/18의 비율로 2-메톡시-4-(트리플루오로메틸)-벤젠설포닐 클로라이드와 함께 제조된다.
미국 특허 제5,858,924호에서, 2-프로필티오-3-(트리플루오로메틸)아니솔은 3-(트리플루오로메틸)아니솔을 n-부틸 리튬으로 탈양자화한 후, 디프로필 디설파이드로 급냉시켜 82/10의 비율로 2-프로필티오-5-(트리플루오로메틸)아니솔과 함께제조된다. 염소의 연속적 처리로 상응하는 설포닐 클로라이드 혼합물이 제조된다.
이들 물질을 보다 고수율 및 목적하는 생성물에 대한 보다 우수한 선택성으로 제조하는 것이 이로울 것이다.
본 발명은 1급 또는 2급 아민의 존재하에 알킬 리튬 화합물을 사용하여 3-치환된 벤조트리플루오라이드를 2-위치에서 고도로 선택적으로 탈양자화시키는 것에 관한 것이다. 수득한 3-치환된-2-리티오벤조트리플루오라이드는 친전자성 제제와의 반응으로 추가로 유도체화되거나 작용화된다. 보다 특히, 본 발명은 화학식 Ⅱ의 벤조트리플루오라이드를 촉매량의 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민의 존재하에 불활성 유기 용매 중에서 벤조트리플루오라이드 및 1급 또는 2급 알킬 아민의 몰량의 합 이하로 존재하는 알킬 리튬과 접촉시키고, 반응 혼합물을 평형시키는 것을 포함하는 화학식 I의 2-리티오벤조트리플루오라이드의 제조 방법에 관한 것이다.
상기식에서,
X는 F, Cl 또는 OR을 나타내고,
R은 비치환되거나 C1-C4알콕시 그룹으로 치환된 C1-C4알킬 그룹을 나타낸다.
본 발명의 또다른 양태에서, 3-치환된-2-리티오벤조트리플루오라이드는 친전자성 제제와 추가로 접촉된다.
본원에 사용된 바와 같이, 용어 알킬 및 알콕시와 같은 유도체 용어는 직쇄, 측쇄 및 사이클릭 그룹을 포함한다. 따라서, 전형적인 알킬 그룹은 메틸, 에틸, 1-메틸에틸, 프로필, 사이클로프로필, 부틸, 1,1-디메틸에틸, 사이클로부틸 및 1-메틸프로필이다. 메틸 및 에틸이 대개 바람직하다. 알킬 그룹은 때때로 노말(n), 이소(i), 2급(s), 또는 3급(t)으로서 언급된다. 비치환되거나 C1-C4알콕시 그룹으로 치환된 전형적인 알킬은 메톡시메틸, 1-메톡시에틸 및 1-에톡시에틸을 포함한다.
3-치환된 벤조트리플루오라이드 출발물질은 공지된 화합물이고, 당해 분야 숙련가에게 공지된 방법으로 제조될 수 있다. 메톡시메틸 및 에톡시에틸 에테르의 제조에 있어서 문헌[참고문헌: Protective Groups in Organic Synthesis, third edition, T. W. Greene and P. G. M. Wuts, John Wiley & Sons, Inc., 1999]을 참조한다.
2-위치에서 선택적 탈양자화는 3-치환된 벤조트리플루오라이드 출발물질을 촉매량의 1급 또는 2급 알킬 아민의 존재하에 불활성 유기 용매 중의 알킬 리튬과접촉시키고, 반응 혼합물을 평형시켜 이루어진다.
알킬 리튬 화합물은 강염기로서 작용한다. 임의의 알킬 리튬 화합물; 메틸 리튬, n-부틸 리튬 및 s-부틸 리튬과 같은 시판중인 알킬 리튬 화합물이 바람직하다. 완전한 전환에는 1당량의 알킬 리튬 염기를 필요로 하는 반면, 대개 경미한 과량의 3-치환된 벤조트리플루오라이드 출발물질로 반응을 수행하는 것이 보다 더 이롭다. 전형적으로 1 내지 10몰% 과량의 3-치환된 벤조트리플루오라이드 출발물질이 바람직하고, 2 내지 5몰% 과량이 보다 바람직하다. 3-치환된 벤조트리플루오라이드에 비해 몰 과량의 알킬 리튬을 가질 수 있지만, 목적하지 않는 부가 반응을 피하기 위해서 알킬 리튬의 몰량은 3-치환된 벤조트리플루오라이드 및 1급 또는 2급 알킬 아민의 몰량의 합 이하이어야 한다.
C1-C8알킬 아민의 존재하에 반응을 수행하는 것으로, 2-위치에서 탈양자화에 대한 선택성이 증가된다. 알킬 아민은 1급(R'NH2) 또는 2급(R'R''NH)일 수 있고, 여기서, R' 및 R''는 독립적으로 비치환되거나 C1-C4알콕시 그룹으로 치환된 C1-C8알킬 그룹이다. R' 및 R''는 함께 1 내지 8개의 탄소 원자 및 O, S 또는 NH 원자를 함유하는 지방족 이작용성 잔기를 나타낼 수 있다. 적절한 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민은 옥틸아민, 메톡시에틸아민, 디(i-프로필)아민, 디(n-프로필)아민, 디(s-부틸)아민, 디(헥실)아민, 피페리딘, 피페라진 및 모르폴린을 포함한다. 2급 아민이 일반적으로 바람직하다. 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민은 촉매량으로 존재한다. 촉매적으로 유효량의 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민은 일반적인 실험에 의해서 각각 3-치환된 벤조트리플루오라이드 출발물질에 대해서 용이하게 측정될 수 있다. 대부분의 경우, 3-치환된 벤조트리플루오라이드 출발물질의 양을 기준으로 하여 0.01 내지 20몰%의 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민의 양이 사용된다; 일반적으로 0.1 내지 10%가 바람직하고, 1 내지 5%가 가장 바람직하다. 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민 촉매는 탈양자화전 또는 탈양자화후에 반응 혼합물로 부가될 수 있다.
당해 반응은 불활성 유기 용매, 즉, 반응물이 적어도 부분적으로 가용성이고, 반응물에 대해서는 화학적으로 불활성인 유기 물질 중에서 무수 조건하에 수행된다. 반응물에 대해서 화학적으로 불활성이다라는 것은, 용매가 알킬 리튬 강염기에 대해 3-치환된 벤조트리플루오라이드 및 1급 또는 2급 알킬 아민이 반응성인 것보다 적어도 덜 반응성임을 의미한다. 적절한 불활성 유기 용매는 펜탄, 헥산, 사이클헥산 및 이소-옥탄과 같은 C5-C8직쇄, 측쇄 또는 사이클릭 탄화수소, 및 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산 및 글리콜 에테르와 같은 에테르를 포함한다. 일반적으로 에테르가 바람직하다. 탄화수소 및 에테르의 혼합물이 대개 바람직하고, 테트라하이드로푸란 및 시판중인 옥탄 혼합물의 혼합물이 가장 바람직하다. 임의로, 테트라메틸에틸렌 디아민과 같은 3급 아민의 1몰 당량(3-치환된 벤조트리플루오라이드 출발물질의 양을 기준으로 하여)까지 용매, 특히 단독으로 사용된 경우, 탄화수소 용매에 이롭게 부가될 수 있다. 1당량 이상의 3급 아민 사용이 어떠한 추가 잇점을 제공하지는 않는다.
탈양자화는 치환체 X, 사용된 용매 및 알킬 리튬의 성질에 따라서 -100℃ 내지 50℃의 온도에서 수행된다. 최적의 온도는 일반적인 최적화로 용이하게 측정될 수 있다. 예를 들면, X가 F 또는 Cl인 경우, 탈양자화에 바람직한 온도는 -100℃ 내지 -50℃이다. X가 OR인 경우, 탈양자화에 바람직한 온도는 -70℃ 내지 25℃이다. 알킬 리튬이 부가된 후, 리티오벤조트리플루오라이드의 운동성(kinetic) 혼합물은 열역학적 평형이 이루어질 때까지 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민의 존재하에 평형된다.
평형은 대개 바람직하게는 탈양자화와 동일한 온도 또는 보다 높은 온도에서 수행된다. 그러나, X가 F 또는 Cl을 나타내는 경우와 같은 몇몇 경우에, 평형은 벤진 형성을 피하기 위해서 보다 낮은 온도에서 수행되어야 한다. 따라서, 평형은 일반적으로 -100℃ 내지 50℃, X가 OR을 나타내는 경우, 바람직하게는 0℃ 내지 25℃, X가 F 또는 Cl을 나타내는 경우, -70℃ 내지 -50℃의 온도에서 수행된다. 평형 시간은 일반적으로 0.5 내지 3시간이다.
당해 방법은 압력에 민감하지 않고, 일반적으로 대기압에서 또는 이보다 경미하게 높은 압력에서 수행된다. 당해 방법은 바람직하게는 질소 블랭킷으로 제공되는 바와 같은 건조 불활성 대기하에서 수행된다.
3-치환된-2-리티오벤조트리플루오라이드는 전형적으로 분리되지 않지만, 평형후, 친전자성 제제와 반응된다. 친전자성 제제는 한 쌍의 전자를 구하는 제제로서 정의된다. 적절한 친전자성 제제는 브롬, 요오드, 황, 디설파이드, 이산화황,이산화탄소, 설푸릴 할라이드, 포스포릴 할라이드, 알데하이드, 아미드 및 알킬 또는 아실 할라이드를 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다. 황, 알킬 디설파이드 및 이산화황이 특히 바람직한 친전자성 제제이다. 리티오벤조트리플루오라이드 반응 혼합물의 평형후, 혼합물을 냉각시키고, 친전자성 제제를 리티오벤조트리플루오라이드에 부가할 수 있다. 대안으로, 리티오벤조트리플루오라이드는, X가 OR을 나타내는 경우 0 내지 25℃에서, 및 X가 F 또는 Cl을 나타내는 경우 -100℃ 내지 -60℃에서 친전자성 제제에 부가될 수 있다. 특성이 친전자성 제제의 성질에 좌우되는 최종 생성물은 당해 분야 숙련가에게 공지된 통상적인 방법으로 분리 및 회수될 수 있다.
전형적 반응에서, 3-치환된 벤조트리플루오라이드를 질소 대기하에 무수 에테르 용매에 용해시킨다. 이어서, 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민은 기타 임의의 3급 아민과 함께 부가된다. 반응 혼합물을 냉각시키고, 알킬 리튬 화합물을 부가한다; 반응 혼합물을 탈양자화가 완료될 때까지 교반한다. 이어서, 리티오벤조트리플루오라이드를 평형화시킨다. 평형이 이루어진 후, 반응 혼합물을 다시 냉각시킨 다음 친전자성 제제로 처리한다. 리티오벤조트리플루오라이드를 완전하게 급냉시킨 후, 반응 혼합물을 후처리하여 생성물을 회수한다.
하기 실시예는 본 발명을 예시하고자 나타낸 것이다.
1. 2-메톡시-6-트리플루오로메틸티오페놀.
3목 125 밀리리터(mL) 플라스크를 N2로 퍼징하고, 이어서 N2주입구, 마그네틱 교반 막대, 온도계 및 격막을 장착시켰다. 플라스크에 3-트리플루오로메틸아니솔(12.8g, 73mmol), 테트라하이드로푸란(THF; 37mL) 및 디(i-프로필)-아민(DIPA; 0.2mL, 1.4mmol)을 부가하였다. 용액을 0℃로 냉각시켰고, 이어서 n-BuLi(헥산 중의 2.5M의 28mL, 약 70mmol)를 10 내지 15℃로 온도를 유지하는 속도로 부가하였다. 수득한 슬러리를 5℃로 냉각시켜 15분(min) 동안 교반하였다. 기체 크로마토그래피(GC) 분석(디-n-프로필 디설파이드(DPS)내로 급냉된)은 77:5의 이성체비를 나타냈다. DIPA(0.2mL)를 부가하여 50분 동안 계속 교반하였다. GC 분석은 138:1의 이성체비를 나타냈다. 2번째 125mL 3목 플라스크를 N2로 퍼징하고, N2주입구, TeflonTM캐뉼러, 교반 막대 및 온도계를 장착시켰다. 이 용기를 황(2.3g, 72mmol) 및 THF(20mL)로 채웠다. 수득한 슬러리를 5℃로 냉각시키고, 이어서 아릴 리튬 슬러리를 15 내지 20℃로 온도를 유지하는 속도로 캐뉼러를 통해 부가하였다. 부가가 완료된 후, 수득한 황색 용액을 10 내지 15℃로 35분 동안 교반하였다. 혼합물을 2M HCl(50mL)내로 넣고, 상을 분리하였다. 수성상을 에틸 아세테이트(EtoAc; 25mL)로 추출하였다. 합한 유기 추출물을 염수(75mL)로 세척하고, 건조(MgSO4)시켰다. 용매를 진공에서 제거하여 황색 오일(16.5g)을 수득하였다: 기체 크로마토그래피/질량 분광계(GC/MS) 분석은 약 4%의 출발 아니솔 및 2%의 목적하지 않는 이성체 생성물이 함유된 오일을 나타냈다.1H NMR(CDCl3): 3.93(s, 3H), 4.54(q, J=5 Hz, 1H), 6.99(d, J=8 Hz, 1H), 7.16(apparent t, J=8 Hz, 1H), 7.24(dd, J=8Hz, 2Hz, 1H); MS(GC, 70 eV) 208(M+, 100%), 187(95%), 145(80%).
2. 2-(메톡시메톡시)-6-트리플루오로메틸벤젠-설포닐 클로라이드.
3-트리플루오로메틸페놀의 메톡시메틸 에테르(12.0g, 58.3mmol)를 무수 에틸 에테르를 함유하는 1리터(L) 플라스크내에 넣고, 테트라메틸에틸렌-디아민(TMEDA; 7.0g, 60mmol)에 이어서 DIPA(0.3mL, 2.2mmol)를 부가하였다. -70℃로 냉각시킨 후, n-부틸 리튬(헥산 중의 2.5M n-BuLi의 23mL, 58mmol BuLi)을 서서히 부가하였다. 이어서 반응을 0℃로 승온시켜 1시간 동안 교반하였고, 이때, 디메틸디설파이드로 분취액을 급냉시키면, GC에 의해 나타난 바와 같이, 리튬화가 80% 초과로 발생하고, 단 하나의 이성체만이 존재하였다. 이어서, 용액을 -78℃로 재냉각시켰다. 이산화황을 건조 빙-아세톤조로 냉각시킨 100mL 무수 에테르를 함유하는 2번째 플라스트 내로 응축시켰다. 이어서, 이 용액을 전달하기 위해 양쪽으로 사용할 수 있는 바늘을 사용하여 리튬화 반응 혼합물에 부가하였다. 반응물을 실온으로 승온시켰고, 추가의 에테르(100mL)를 부가하고, 반응물을 흡입 여과시켰다. 수거한 고체를 에테르로 세정하고, 진공하에 건조시켰다. 이어서 고체를 헥산(500mL) 중에 교반하며 현탁시키고, 설푸릴 클로라이드(10.0g, 74mmol)를 서서히 부가하였다. 이 현탁액을 실온에서 1시간 동안 교반하고, 이어서 여과하였다. 고체를 소량의 디클로로메탄으로 세정하고, 여과물을 농축시켰다. 잔사를 300mL의 디클로로메탄 중에 용해/현탁시켰고, 염수로 1회 세척하였다. 이어서, 유기 용액을 MgSO4상에서 건조시켰고, 여과 및 농축시켜 12.7g의 흐린 황색조의 오일을 수득했다.1H NMR에 의하면, 생성물은 목적하지 않는 어떠한 이성체도 함유하지 않은 목적하는 설포닐 클로라이드였다.1H NMR (CDCl3): 7.76(t, J=8Hz, 1H); 7.67(d, J=7.8 Hz, 1H); 7.56(d, J=7.8 Hz, 1H); 5.45(s, 2H); 3.59(s, 3H);13C NMR (CDCl3): 157.70; 136.04; 131.23; 129.4(q, J=34 Hz); 121.9(q, J=275 Hz); 121.1; 120.6(q, J=7.5 Hz); 95.45; 57.22.
3. 2-n-프로필티오-3-트리플루오로메틸페놀.
N2로 퍼징된 12L, 4목 환저 플라스크에 교반기, 부가 깔때기, 온도계 및 응축기/N2주입구를 장착시켰다. 용기를 O-(1-(에톡시)에틸)-3-(트리플루오로메틸)-페놀(875g, 3.74mol) 및 THF(4.3L)로 채웠다. 용액을 10 내지 15℃로 냉각시키고, 이어서 TMEDA(564mL, 3.7mol) 및 DIPA(35mL, 0.035mol)를 부가하였다. n-BuLi(헥산 중의 2.4M의 1.5L, 3.75mol)를 부가 끝까지 23℃로 발열을 야기하는 속도로 적가하였다. 갈색 용액을 음이온 평형이 완료되도록 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 용액을 -50℃로 냉각시키고, DPS(700mL, 4.6mol)를 15분 동안 부가하여 -30℃로 서서히 발열을 야기시켰다. 냉각조를 제거하고, 혼합물을 실온으로 서서히 승온시키고 밤새 교반하였다. 수득한 슬러리를 빙수(4.3L) 및 헥산(2.8L)에 부가하여 12 내지 19℃로 발열을 야기하였다. 상을 잘 혼합하고, 이어서 분리하였다. 수성상을 폐기하고, 유기상을 1/2 포화된 염수(3.0L)로 세척하였다. 용매를 회전 증발기상에서 제거하여 반응되지 않은 출발 물질, DPS 및 생성물을 함유하는 짙은 황색 오일(1316g, 약 90% 수율, 80 GC 영역%)을 수득하였다. 이 조물질을 하기 단계에서 사용하였다.
조황색 오일을 메탄올(1700mL) 중에 용해시키고, 농축된 HCl(95mL)로 처리하여 약 15분 이상 38℃로 서서히 발열을 야기시켰다. 30분 더 교반한 후, GC 분석은 탈양자화가 완료되었음을 나타냈다. 메탄올을 진공하에 제거하여 몇몇 고체가 존재하는 황색 잔사를 수득하였다. 잔사를 톨루엔(1200mL) 및 1/2 포화된 염수(600mL) 사이에서 분배시켰다. 유기상을 1/2 포화된 염수(600mL)의 제2 분획으로 세척하였고, 용매를 진공하에 제거하여 황색/갈색 액체(1050g)을 수득하였다. 경질물을 충전된 증류 칼럼(유리 Raschig 링으로 충전된 20cm ×4cm) 및 전체 증류 동안 3/1의 환류비를 사용하여 50 내지 80℃/3mmHg에서 제거하였다. 상층물을 분획물이 목적하는 생성물의 80 GC 영역%를 함유할 때까지 수거하였다. 용기 바닥을 벌브별로(bulb-to-bulb) 증류(60 내지 75℃, 1.0mmHg)시켰고, 생성물을 엷은 황색 액체로서 수거하였다(735g; 98.8 GC 영역%);1H NMR (CDCl3) 1.0(t, J=7.3 Hz, 3H), 1.62(m, 2H), 2.70(t, J=7.5 Hz, 2H), 7.22(d, J=8.1 Hz, 1H), 7.28(d, J=7.9 Hz,1H), 7.38(m, 1H), 7.50(bs, 1H).
4. O-(메톡시메틸)-2-n-프로필티오-3-(트리플루오로메틸)페놀.
O-(메톡시메틸)-3-(트리플루오로메틸)페놀(0.5g, 2.27mmol)을 N2대기하에 건조 3목 플라스크로 부가하였다. 오일을 무수 THF(12mL), TMEDA(0.38mL, 2.49mmol) 및 DIPA(0.016mL, 0.11mmol)로 희석시켰다. 수득한 용액을 건조 빙-아세톤조(-70℃)로 냉각시켰다. 냉각된 용액에 온도가 -65℃ 이상으로 올라가지 않도록 용액 n-부틸 리튬(0.9mL, 헥산 중의 2.5M의 2.25mmol)을 적가하였다. 반응 혼합물을 -70℃에서 1시간 동안 교반하였고, 0℃로 승온시켜 45분 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 -70℃로 냉각시켰고, DPS(0.39mL, 2.49mmol)를 부가한 다음 혼합물을 -10℃로 승온시켰다. 포화된 수성 염화암모늄(20mL)을 부가하였다. 수득한 혼합물을 15분 교반하고, 디에틸 에테르(120mL) 및 H2O(50mL)로 희석하여 층을 분리시켰다. 유기층을 염수(3 ×150mL)로 세척하고, 건조(MgSO4), 여과시키고, 용매를 진공하게 제거하여 금색 오일(0.60g)을 수득하였다:1H NMR (CDCl3): 7.38(t, J=8 Hz, 1H); 7.23(m, 2H); 5.64(s, 2H); 3.38(s, 3H); 2.69(t, 3H); 1.59(q, 2H); 0.97(t, 3H).
5. 2-플루오로-6-트리플루오로메틸-n-프로필티오벤젠.
125mL 3목 용기를 N2로 퍼징하고, 이어서 N2주입구, 교반 막대, 온도계 및 격막을 장착시켰다. 용기를 3-플루오로벤조-트리플루오라이드(9.0g, 55mmol), THF(25mL) 및 DIPA(0.2mL, 1.4mmol)로 채웠다. 용액을 -65℃로 냉각시키고, n-BuLi(헥산 중의 2.5M의 20mL, 50mmol)로 -60 내지 -65℃로 온도를 유지하는 속도로 적가 처리하였다. 부가가 완료된 후, 용액을 -75℃로 냉각시켜 20분 동안 교반하였고, 이때, GC 분석(DPS 급냉)은 40:3의 이성체비를 나타냈다. 용액을 -75℃에서 1.4시간 동안 더 교반하였고, 이때, GC 분석은 81:1의 이성체비를 나타냈다. DPS(8.3g, 55mmol)를 하나의 분획물로 부가하여 -45℃로 발열 및 진한 슬러리의 형성을 야기하였다. 슬러리를 실온으로 승온시켰고, 이어서 헥산(50mL) 및 물(50mL)로 희석시켰다. 상을 잘 혼합한 다음 분리시켰다. 유기상을 물(2 ×50mL)로 세척, 건조(Na2SO4)시켰고, 용매를 진공하에 제거하여, GC 분석에서 측정된 바와 같이, 6% DPS 및 1% 미만의 목적하지 않은 이성체를 함유하는 금색 액체(11.0g)로서 생성물을 수득하였다.1H NMR (CDCl3): 1.0(t, J=7 Hz, 3H), 1.55(m, 2H), 2.89(t, J=7 Hz, 3H), 7.27(m, 1H), 7.37(m, 1H), 7.50(d, J=8 Hz, 1H).
Claims (8)
- 화학식 Ⅱ의 벤조트리플루오라이드를 촉매량의 1급 또는 2급 C1-C8알킬 아민의 존재하에 불활성 유기 용매 중에서, 벤조트리플루오라이드 및 1급 또는 2급 알킬 아민의 몰량의 합 이하의 몰량으로 존재하는 알킬 리튬과 접촉시키고, 반응 혼합물을 평형시키는 것을 포함하는, 화학식 I의 2-리티오벤조트리플루오라이드의 제조 방법.화학식 I화학식 Ⅱ상기식에서,X는 F, Cl 또는 OR을 나타내고,R은 비치환되거나 C1-C4알콕시 그룹으로 치환된 C1-C4알킬 그룹을 나타낸다.
- 제1항에 있어서, 알킬 리튬이 n-부틸 리튬인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, C1-C8알킬 아민이 2급 아민인 방법.
- 제3항에 있어서, C1-C8알킬 아민이 디(i-프로필) 아민인 방법.
- 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 불활성 유기 용매가 탄화수소, 에테르 또는 이의 혼합물인 방법.
- 제5항에 있어서, 용매가 테트라하이드로푸란 및 옥탄의 혼합물인 방법.
- 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, X가 OR을 나타내고, R이 1-에톡시에틸을 나타내는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 평형된 반응 혼합물이 친전자성 제제와 추가로 접촉되는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US21141500P | 2000-06-14 | 2000-06-14 | |
| US60/211,415 | 2000-06-14 | ||
| PCT/US2001/019072 WO2001096348A1 (en) | 2000-06-14 | 2001-06-14 | Process for the selective deprotonation and functionalization of 3-substituted benzotrifluorides |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20030008221A true KR20030008221A (ko) | 2003-01-24 |
| KR100741413B1 KR100741413B1 (ko) | 2007-07-23 |
Family
ID=22786837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020027017059A KR100741413B1 (ko) | 2000-06-14 | 2001-06-14 | 3-치환된 벤조트리플루오라이드의 선택적 탈양자화 및작용화 방법 |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6462240B2 (ko) |
| EP (1) | EP1290001B1 (ko) |
| JP (1) | JP4170091B2 (ko) |
| KR (1) | KR100741413B1 (ko) |
| CN (1) | CN1274693C (ko) |
| AT (1) | ATE281461T1 (ko) |
| AU (2) | AU2001268409B2 (ko) |
| BR (1) | BR0111675B1 (ko) |
| DE (1) | DE60106911T2 (ko) |
| DK (1) | DK1290001T3 (ko) |
| HU (1) | HU228033B1 (ko) |
| IL (2) | IL153344A0 (ko) |
| TW (1) | TWI287547B (ko) |
| WO (1) | WO2001096348A1 (ko) |
| ZA (1) | ZA200210150B (ko) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19858855A1 (de) * | 1998-12-19 | 2000-06-21 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von ortho-substituierten Arylmetallverbindungen und deren Umsetzung mit Elektrophilen |
| WO2009089310A1 (en) * | 2008-01-11 | 2009-07-16 | Dow Agrosciences Llc | Process for the selective deprotonation and functionalization of 1-fluoro-2-substituted-3-chlorobenzenes |
| CN104341326A (zh) * | 2013-08-08 | 2015-02-11 | 天津诺维康生物技术有限公司 | 2-取代基-6-三氟甲基苯磺酰氯的制备方法 |
| CN104557800B (zh) * | 2014-12-31 | 2017-04-26 | 常州大学 | 2‑苯氧基四氢呋(吡)喃衍生物及其在五氟磺草胺合成中的应用 |
| CN106518738A (zh) * | 2016-10-17 | 2017-03-22 | 天津市津绿宝农药制造有限公司 | 一种五氟磺草胺中间体的制备方法 |
| CN107935863A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-04-20 | 厦门海乐景生化有限公司 | Elagolix的关键原料化合物C的合成方法 |
| CN108003076B (zh) * | 2017-12-25 | 2019-03-05 | 淮安国瑞化工有限公司 | 一种在微结构反应器中制备2-(丙硫基)-3-(三氟甲基)苯酚的方法 |
| CN110590623B (zh) * | 2019-09-27 | 2022-04-19 | 江苏好收成韦恩农化股份有限公司 | 连续流微通道反应器中制备6-取代-2-三氟甲基苯丙硫醚的方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5162577A (en) | 1990-02-13 | 1992-11-10 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process for lithiation of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene |
| US5272128A (en) * | 1992-04-01 | 1993-12-21 | Rohm And Haas Company | Phosphosulfonate herbicides |
| AR012020A1 (es) | 1996-09-24 | 2000-09-27 | Dow Agrosciences Llc | COMPUESTOS DE N - (TRIAZOLOAZINIL)ARILSULFONAMIDAS, COMPOSICIONES HERBICIDAS QUE LOS COMPRENDEN, MÉTODO PARA CONTROLAR VEGETACIoN INDESEABLE MEDIANTE SU APLICACIoN Y COMPUESTOS INTERMEDIARIOS uTILES COMO INTERMEDIARIOS EN SU PREPARACIoN. |
-
2001
- 2001-06-13 TW TW090114269A patent/TWI287547B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-06-14 HU HU0301051A patent/HU228033B1/hu not_active IP Right Cessation
- 2001-06-14 DE DE60106911T patent/DE60106911T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-14 KR KR1020027017059A patent/KR100741413B1/ko active IP Right Grant
- 2001-06-14 DK DK01946346T patent/DK1290001T3/da active
- 2001-06-14 US US09/881,498 patent/US6462240B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-14 AU AU2001268409A patent/AU2001268409B2/en not_active Expired
- 2001-06-14 JP JP2002510489A patent/JP4170091B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-14 EP EP01946346A patent/EP1290001B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-14 WO PCT/US2001/019072 patent/WO2001096348A1/en active IP Right Grant
- 2001-06-14 IL IL15334401A patent/IL153344A0/xx active IP Right Grant
- 2001-06-14 BR BRPI0111675-4A patent/BR0111675B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-06-14 AU AU6840901A patent/AU6840901A/xx active Pending
- 2001-06-14 AT AT01946346T patent/ATE281461T1/de active
- 2001-06-14 CN CNB018110088A patent/CN1274693C/zh not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-12-09 IL IL153344A patent/IL153344A/en unknown
- 2002-12-13 ZA ZA200210150A patent/ZA200210150B/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA200210150B (en) | 2003-12-15 |
| HU228033B1 (hu) | 2012-08-28 |
| TWI287547B (en) | 2007-10-01 |
| KR100741413B1 (ko) | 2007-07-23 |
| IL153344A0 (en) | 2003-07-06 |
| IL153344A (en) | 2006-12-31 |
| DE60106911T2 (de) | 2005-03-10 |
| WO2001096348A1 (en) | 2001-12-20 |
| EP1290001B1 (en) | 2004-11-03 |
| AU6840901A (en) | 2001-12-24 |
| HUP0301051A2 (hu) | 2003-08-28 |
| EP1290001A1 (en) | 2003-03-12 |
| US20020010375A1 (en) | 2002-01-24 |
| BR0111675A (pt) | 2003-04-01 |
| CN1274693C (zh) | 2006-09-13 |
| DE60106911D1 (de) | 2004-12-09 |
| CN1436194A (zh) | 2003-08-13 |
| JP4170091B2 (ja) | 2008-10-22 |
| JP2004503558A (ja) | 2004-02-05 |
| US6462240B2 (en) | 2002-10-08 |
| AU2001268409B2 (en) | 2005-07-07 |
| ATE281461T1 (de) | 2004-11-15 |
| DK1290001T3 (da) | 2005-03-14 |
| BR0111675B1 (pt) | 2012-06-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2409263T3 (es) | Un procedimiento para la preparación del promotor de la apoptosis ABT-263 | |
| KR100741413B1 (ko) | 3-치환된 벤조트리플루오라이드의 선택적 탈양자화 및작용화 방법 | |
| US5380861A (en) | Process for preparing pyridine 2-carboxamides | |
| AU2001268409A1 (en) | Process for the selective deprotonation and functionalization of 3-substituted benzotrifluorides | |
| JPS6014022B2 (ja) | トリアルキルアミン／二酸化硫黄で触媒されたカルバメ−ト類のスルフエニル化 | |
| FI72508C (fi) | Foerfarande foer framstaellning av n-propylacetonitrilderivat. | |
| McCarthy et al. | A facile synthesis of β-substituted-α-allenyl primary amines | |
| CN109438299B (zh) | 一种苯磺酰肼类衍生物与三乙胺无金属催化合成苯磺酰烯胺类化合物的方法 | |
| JP2002030046A (ja) | アリールオレフィンのアミノ化によるアリールエチルアミンの製造法 | |
| JP2002509141A (ja) | 芳香族オレフィンおよび１−アリールピペラジンから１−アリール−４−（アリールエチル）ピペラジンの塩基性触媒による合成 | |
| JP3799580B2 (ja) | Ｎ−置換−ｎ−スルホニルアミド類の製造方法 | |
| JP3799637B2 (ja) | メタンスルホン酸エステル類の製造法 | |
| JP4465674B2 (ja) | ベンジル（ジフルオロメチル）スルフィド化合物の製造方法 | |
| US6268503B1 (en) | 2-phenylpyridine derivative and production method thereof | |
| JP3959178B2 (ja) | ヒドラジン誘導体の製造方法、その中間体および中間体の製造方法 | |
| JP4617551B2 (ja) | ジ−ｔ−ブチルジカーボネートの製造方法 | |
| JPH07258176A (ja) | アリールベンジルアミンの製法 | |
| JP4162891B2 (ja) | テトラヒドロチオフェン誘導体の製造方法 | |
| JPH0672987A (ja) | メタンスルホニルフルオライド誘導体の製造方法 | |
| JPH0441128B2 (ko) | ||
| JPH0131505B2 (ko) | ||
| JP4105482B2 (ja) | トリハロ置換芳香族化合物の製造法 | |
| WO2004082565A2 (en) | Asymmetric cyclization in the presence of substituted pseudophedrines | |
| KR19980032426A (ko) | 아민 제조방법 | |
| KR20030078245A (ko) | 구리 촉매와 요오도늄염을 이용한 아릴기 또는 알케닐기로일치환 또는 이중치환된 말단 알킨 화합물의 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130620 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140702 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150619 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160616 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170616 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190617 Year of fee payment: 13 |