KR20020065759A - 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막 - Google Patents

광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막 Download PDF

Info

Publication number
KR20020065759A
KR20020065759A KR1020010005938A KR20010005938A KR20020065759A KR 20020065759 A KR20020065759 A KR 20020065759A KR 1020010005938 A KR1020010005938 A KR 1020010005938A KR 20010005938 A KR20010005938 A KR 20010005938A KR 20020065759 A KR20020065759 A KR 20020065759A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
thin film
component
concentration gradient
thickness
external light
Prior art date
Application number
KR1020010005938A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100708640B1 (ko
Inventor
최천기
도영락
이준배
박창원
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020010005938A priority Critical patent/KR100708640B1/ko
Priority to DE10152411A priority patent/DE10152411A1/de
Priority to GB0126124A priority patent/GB2372042B/en
Priority to CNB011379103A priority patent/CN1250984C/zh
Priority to US09/994,786 priority patent/US6623862B2/en
Priority to JP2002027532A priority patent/JP2002323605A/ja
Publication of KR20020065759A publication Critical patent/KR20020065759A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100708640B1 publication Critical patent/KR100708640B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/225—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3607—Coatings of the type glass/inorganic compound/metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3642—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating containing a metal layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3668—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having electrical properties
    • C03C17/3676—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having electrical properties specially adapted for use as electromagnetic shield
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3694—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer having a composition gradient through its thickness
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/027—Graded interfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0617—AIII BV compounds, where A is Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C23C14/0652—Silicon nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/10—Glass or silica
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/91—Coatings containing at least one layer having a composition gradient through its thickness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

본 발명은 알루미늄(Al) 또는 규소(Si)로부터 선택되는 제 1 성분과, 산소(O) 및 질소(N)로부터 선택되는 하나 이상의 제 2 성분을 포함하여 이루어지며, 상기 제 1 성분과 제 2 성분이 박막의 두께를 따라 점진적인 농도 구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하는 것을 특징으로 하는 기능성 박막을 제공한다.

Description

광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막{Functional film having an improved optical and electrical properties}
본 발명은 기능성 박막 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하기로는 광학적, 전기적 특성의 조절이 가능한 기능성 박막에 관한 것이다.
외광 반사율을 최소화함과 동시에 전기 전도성을 갖는 기능성 박막은 그 용도가 다양할 수 있는데, 구체적으로 선글래스, 외광 차폐 유리, 자외선 차단 및보온제, 전자파 차폐재 등을 예로 들 수 있다.
또한, 칼라 음극선관과 같은 칼라 표시소자의 형광막 사이에는 외광 흡수 및 인접한 패턴으로부터의 산란광 흡수를 목적으로 형성되어 있는 블랙 매트릭스를 예로 들 수 있다. 표시소자 스크린의 외광 반사율이 커지면 가시적인 이미지가 흐려지는데, 표시소자의 스크린에 있어서 이러한 외광 반사는 주로 블랙 매트릭스 상에서 발생한다. 따라서, 표시소자의 픽셀을 둘러싸고 있는 블랙 매트릭스의 외광흡수율을 증대시킴으로써 휘도 및 콘트라스트 특성을 향상시키려는 노력은 계속되어 왔다.
이러한 이유로 인하여 블랙 매트릭스는 흡수율이 큰 크롬을 이용하여 크롬층 및 크롬 산화물층의 구조를 갖도록 제조되고 있으며, 흡수율을 보다 더 향상시키기 위하여 산화물층에 카본을 첨가하는 방법도 사용되고 있다.
또한, 미국특허 제5,976,639호에는 디스플레이 패널의 내면에 전이층(transition layer)과 금속층을 포함하는 필름층을 적층하여 액정 표시소자용 블랙 매트릭스를 형성하는 방법이 개시되어 있다.
상기 특허에 의하면, 상기 필름층은 빛이 입사하는 방향으로 Cr, W, Ta, Ti, Fe, Ni, Mo 등의 금속 성분의 함량이 막두께 100Å당 0.5 내지 20% 정도로 증가하도록 분포되어 있는 전이층을 포함하고 있으며, 이 전이층은 산소(O), 질소(N) 및 탄소(C) 중에서 선택된 성분을 더 함유하고 있다. 그리고 금속성분으로는 주로 크롬을 사용하고 있다. 또한, 상기 전이층은 금속을 조금 함유하는 층과 금속을 많이 함유하는 층 사이에 개재되는데, 금속 함량이 많은 층은 금속 함량이 50 내지 100%범위이며, 금속 함량이 낮은 층의 금속 함량은 10 내지 50 중량% 범위임을 개시하고 있다.
그러나, 상기 미국 특허 제5,976,639호에 개시된 블랙매트릭스는 크롬과 같은 환경오염 물질을 주로 사용할 뿐만 아니라, 굴절률 뿐만 아니라 전기전도도의 조절이 가능하여 그 효용이 큰 기능성 박막에 대해서는 전혀 제시하는 바가 없다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 크롬이 아닌 무독성 금속과 유전성 물질의 혼합물을 이용하여 기계적 특성이 우수할 뿐만 아니라 광학적, 전기적 특성이 우수한 기능성 박막을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 기능성 박막의 구조를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 기능성 박막의 원리를 설명하기 위한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기능성 박막에 대하여, 박막의 두께에 따라 규소(Si)와 산소(O)의 성분 분포 변화를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기능성 박막에 대하여, 박막의 두께에 따라 규소(Si), 산소(O) 및 질소(N)의 성분 분포 변화를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기능성 박막에 대하여, 박막의 두께에 따라 알루미늄(Al)과 산소(O)의 성분 분포 변화를 나타낸 도면이다.
상기 첫번째 목적을 달성하기 하여 본 발명에서는,
알루미늄(Al) 또는 규소(Si)로부터 선택되는 제 1 성분과, 산소(O) 및 질소(N)로부터 선택되는 하나 이상의 제 2 성분을 포함하여 이루어지며, 상기 제 1 성분과 제 2 성분이 박막의 두께를 따라 점진적인 농도 구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하는 것을 특징으로 하는 기능성 박막을 제공한다.
본 발명에 의하면, 상기 점진적인 농도 구배는 상기 박막의 두께를 따라 외부광이 입사되는 방향으로부터 멀어질수록 굴절률이 점진적으로 증가 또는 감소하도록 되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 상기 점진적인 농도 구배는 상기 박막의 두께를 따라 외부광이 입사되는 방향으로부터 멀어질수록 광흡수율이 점진적으로 증가하도록 되어있는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 상기 점진적인 농도 구배는 상기 박막의 두께를 따라 전기 전도도가 점진적으로 증가 또는 감소하도록 되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 상기 점진적인 농도 구배는, 상기 박막에 외부광이 입사되는 방향으로부터 멀어질수록 상기 제 1 성분의 함량은 점차적으로 증가하고 상기 제 2 성분의 함량은 점차적으로 감소하도록 분포되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 상기 제 1 성분과 제 2 성분의 상대적인 함량에 의해 결정되는 박막의 어느 한 면의 굴절률과 굴절률 차가 0.5 이하인 기판 상에 적층되는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 실시예에 의하면, 상기 기능성 박막은 제 1성분이 규소(Si)인 경우에, 티타늄(Ti), 알루미늄(Al), 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 코발트(Co), 철(Fe) 및 인듐주석산화물(ITO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 성분으로 이루어진 도전층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 의하면, 상기 박막이 기판과 접하는 면의 반대면에 상기 도전층이 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 기능성 박막은 표시소자의 블랙매트릭스로서 유용하게 사용될 수 있다.
본 발명에 의한 기능성 박막이 도전층을 포함하고 있는 경우에는 표시소자의 전극으로도 유용하게 사용될 수 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 원리를 보다 구체적으로 설명하고자 한다.
본 발명은, 알루미늄(Al) 또는 규소(Si)로부터 선택되는 제 1 성분과, 산소(O) 및 질소(N)로부터 선택되는 하나 이상의 제 2 성분을 반응성 스퍼터링법으로 박막을 증착하여, 상기 제 1 성분과 제 2 성분이 박막의 두께를 따라 점진적인 농도 구배를 갖는 전이층을 포함하도록 한 것을 특징으로 한다.
일반적으로 도 1에 나타낸 바와 같이 기판(10) 상에 코팅된 박막(20)의 반사율은 하기 수학식 1로 나타낼 수 있다.
상기 식에서, Ns, Nf는 각각 기판과 박막의 복소굴절률이며,n s , n f 는 각각 기판과 박막의 굴절률,k s , k f 는 각각 기판과 박막의 흡광계수이다.
따라서, 박막의 빛 반사율을 줄이기 위해서는 기판과 박막의 굴절률의 차이가 적을수록 유리하다는 것을 알 수 있다. 즉, 기판과 박막의 굴절률이 같아지면 반사가 전혀 일어나지 않게 된다.
본 발명자들은 이와 같은 원리에 입각하여, 도 2와 같은 기능성 박막의 구조를 고안하게 되었다. 즉, 기판과 바로 인접한 부분에는 알루미늄 또는 규소로부터 선택되는 제 1 성분과, 산소 또는 질소로부터 선택되는 제 2 성분을 반응성 스퍼터링으로 증착하여 제1 성분과 제2 성분이 증착되는 속도를 조절함으로써 기판과 인접한 부분에는 기판과 굴절률과 비슷한 굴절률을 갖는 유전물질(예를 들어, 제 1물질)이 증착되도록 한다.
이 때 기판의 굴절률은 ns, 흡광계수 ks라 하고, 제 1 물질의 굴절률을 n1, 흡광계수를 k1이라 한다. 제 1물질과 기판의 굴절률차가 거의 없기 때문에 상기 수학식 1의 원리에 의해 빛의 반사가 거의 없어질 수 있다.
다시, 점차적으로 제 1 성분과 제 2 성분의 비를 조절하여 반응성 스퍼터링을 실시함으로써 제 1 물질 위에는 제 1 물질과 굴절률이 거의 유사한 제 2 물질(굴절률 n2, 흡광계수 k2)을 적층함으로써 전술한 바와 동일한 원리에 의해 빛의 반사를 줄일 수 있다. 계속해서 동일한 방식으로 굴절률이 미소한 차이를 갖고 점진적으로 변하도록 제 3 물질(n3, k3), 제 4 물질(n4, k4), 제 5 물질(n5, k5) 등을 적층할 수 있다.
도 2에는 설명의 편의상, 박막이 조성 및 물리적 성질이 뚜렷이 구별되는 여러 개의 층으로 이루어진 것처럼 도시하였으나 실제로는 그 차이가 아주 미소하기 때문에 여러 개의 층으로 이루어져 있다고 보기는 어렵다.
이러한 굴절률의 구배는 굴절률이 점차적으로 증가하는 방식으로 또는 점차 감소하는 방식으로 어느 것이든지 가능하나, 외부 입사광에 대한 반사를 줄이고 흡수율을 높이기 위해서는 외부 입사광의 진행 방향에 따라 흡수계수가 증가하는 방식으로 적층하는 것이 바람직하다. 이와 같이 박막의 두께에 따라 흡수계수가 점차적으로 증가하도록 하면 박막을 통과하는 빛의 양이 점차적으로 감소하여 일정 두께 이상이 되면 빛이 전혀 투과되지 않도록 하는 것도 가능하다.
또한, 박막의 두께에 따라 굴절률 뿐 아니라 전기 전도도가 점진적으로 변하도록 함으로써 박막의 효용가치를 극대화할 수 있다. 즉, 박막의 두께를 따라 기판과 접하는 면으로부터 반대 면을 향해 갈수록 금속 함량이 증대되어 전기전도도가 점진적으로 증가되도록 하면, 외광 반사율이 최소화되면서 전기 전도성이 큰 광학 구조체를 실현할 수 있게 된다. 이와 같은 구조체는 전자파 차폐재나 디스플레이 소자의 블랙 매트릭스에 사용되는 경우 전자의 전하축적을 효과적으로 방지할 수 있다.
본 발명의 기능성 박막에서 제1 성분으로 사용되는 규소(Si) 또는 알루미늄(Al)은 그 산화물의 특성이 일반적으로 기판 재질로 채택되는 글래스와 비슷한 특성 대문에 바람직하다.
또한, 본 발명의 기능성 박막에서 제 1 성분과 반응하여 스퍼터링되는 제 2 성분으로는 산소 또는 질소가 바람직하다. 즉, 규소 또는 알루미늄의 산화물 또는 질화물이 바람직하며, 산화물 또는 질화물을 이루고 있는 각 성분의 조성비가 점차적으로 변화되면서 증착된다.
본 발명에 의한 기능성 박막은, 반응성 스퍼터링법을 이용하여 하기 과정에 따라 제조하는 것이 바람직하다.
반응성 스퍼터링은 펌핑 시스템을 갖춘 진공 챔버, 진공챔버 내에 위치한 마그네트론 캐소드, 마그네트론 캐소드 상에 위치한 타겟(예를 들면, 규소 또는 알루미늄), 마그네트론 방출을 위한 가스 도입을 위한 제 1 가스 도입 시스템, 스퍼터링된 금속 원소와 반응하는 반응성 가스( 예를 들면, 산소 또는 질소 가스)를 도입하는 제 2 가스 도입 시스템, 기판이 방출공간을 향하도록 기판을 운반하는 시스템을 구비하는 장치를 이용하여 실시될 수 있다.
제 1 가스 도입 시스템 및 제 2 가스 도입 시스템의 노즐은 방출 공간을 통하여 서로 마주하도록 위치한다. 또한 제 2 가스 도입 시스템 및 제 1 가스 도입 시스템의 노즐은 기판의 운반 라인 상에서 각각 상류 및 하류에 위치한다.
이러한 배치에서 방출 공간에는 반응성 가스의 분압이 기판의 운반 방향을 따라 점점 감소하도록 하는 분위기가 형성된다.
또한, 산소와 질소를 동시에 사용하는 경우에는 이들 중 어느 한 기체의 분압은 점점 감소하고 다른 기체의 분압은 점점 증가하도록 할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 의하면, 규소(Si)의 산화물(SiOx) 또는 질화물(SiNx)로 이루어진 기능성 박막이 제공된다. 소다 라임 유리 기판에 규소 산화물을 증착하는 경우에는 타겟으로 Si를 사용하고, 반응성 가스인 제 2 가스로서 산소(O2)를 사용한다. 증착을 시작하는 시점에서는 소다 라임 기판과 굴절률이 거의 유사한 SiO2가 증착되도록 챔버내 반응성 제 2가스의 분압을 조절하고, 증착이 진행됨에 따라 O2의 분압이 점차 감소하도록 하여 마지막에는 Si 만이 증착되도록 한다. 도 3은 이와 같은 경우 박막의 두께가 증가함에 따른 조성변화를 개략적으로 나타낸 것이다.
또한, 본 발명의 다른 태양에 의하면, Si 층을 증착한 후 스퍼터링 장치의 타겟을 티타늄(Ti), 알루미늄(Al), 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 코발트(Co), 철(Fe) 및 인듐주석산화물(ITO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나이상의 금속 또는 이들의 합금으로 교체하여 금속층을 증착시킴으로써 도전 능력까지 구비한 기능성 박막을 제공할 수 있다. 이와 같이 금속 도전층을 구비한 기능성 박막은 PDP의 전극을 비롯한 다양한 디스플레이의 블랙매트릭스로 활용될 수 있다.
본 발명의 또다른 태양에 의하면, 도 4에 도시된 것처럼 질소를 함께 증착할 수 있다.
본 발명의 또다른 태양에 의하면, 알루미늄(Al)의 산화물 또는 질화물로 이루어진 기능성 박막이 제공된다. 알루미늄 산화물을 증착하는 경우에는 타겟으로 알루미늄(Al)을 사용하고, 반응성 가스인 제 2 가스로서 산소(O2) 또는 질소(N2)를 사용한다. 이후 증착하는 과정은 전술한 규소(Si)의 경우와 동일하다.
타겟으로 알루미늄(Al)을 사용하는 경우에는 알루미늄 산화물 또는 질화물로부터 시작하여 최종적으로 알루미늄 만으로 증착된 층을 가질 수 있다. 알루미늄의 경우에는 그 저체가 금속이기 때문에 별도의 금속 도전층을 형성하지 않더라도 박막의 도전성이 요구되는 여러 가지 용도에 후속 과정없이 곧바로 적용될 수 있다는 이점이 있다. 도 5는 알루미늄 산화물을 증착하는 경우 박막의 두께에 따른 조성 변화를 개략적으로 나타낸 것이다. 소다 라임 기판의 경우 기판과 초기 박막의 굴절률이 비슷하게 하기 위해서는 알루미늄과 산소의 비가 대략 2 : 3 인 것이 바람직하다.
이하, 본 발명을 하기 실시예를 들어 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
반응성 스퍼터링 장치를 이용하여, 소다 라임 유리기판 위에 규소 타겟과 반응성 가스로서 산소를 이용하여, 산소의 분압을 점차 감소시킴으로써 박막의 두께가 두거워짐에 따라 규소와 산소가 농도 구배를 갖고 증착되도록 하였다.
증착 개시 단계에서는 규소와 산소의 원자비가 1 : 2 이 되도록 조절하였고, 박막의 두께가 1500Å에 이르렀을 때 규소만이 증착되도록 산소의 분압을 점차적으로 감소시켰다.
박막의 총두께가 2000Å가 되었을 때 은(Ag) 타겟을 사용하여 1000Å의 도전층을 더 형성하였다.
실시예 2
반응성 가스로서 산소와 질소를 동시에 사용하여 도 4에 도시된 것과 같은 조성변화를 갖는 박막을 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 실질적으로 동일하게 실시하였다.
실시예 3
타겟으로서 규소 대신 알루미늄을 사용하고, 별도의 도전층 형성단계를 실시하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 실질적으로 동일하게 실시하였다. 단 증착 개시단계에서 알루미늄과 산소의 원자비가 대략 2 : 3 이 되도록 조절하였다.
상기 실시예 1 - 3에 따라 제조된 블랙 매트릭스의 전기적 및 광학적 특성을 평가하였고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
하기 표 1에서, 반사율과 광학밀도는 자외선-가시광선 분광계를 사용하여 파장이 550 nm 일 때 측정하였다. 면저항은 4 포인트 프로브법을 이용하여 측정하였다.
구분 성분 Rs(mΩ/?) 반사율(550nm, %) 광학밀도(O.D) 두께(Å)
실시예 1 Si/O/Ag 240 0.05 4.5 3000
실시예 2 Si/N/O/Ag 210 0.2 4.2 3300
실시예 3 Al/O 352 0.5 4.6 3500
상기 표 1로부터, 실시예 1-3에 따라 제조된 기능성 박막에 있어서, 면저항은 200-350 mΩ/?이고 반사율은 0.5 이하, 광학밀도는 4.0 이상으로서 반사율, 면저항 및 광학밀도 특성이 모두 우수하다는 것을 알 수 있다.
본 발명에 대해 상기 실시예를 참고하여 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명에 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
본 발명의 기능성 박막은, 박막의 반사율을 대폭 감소시키기 위하여 박막의 굴절률을 기판의 굴절률과 비슷해지도록 용이하게 조절할 수 있으며, 박막의 굴절률이 점차적으로 변화되면서 최종적으로는 원하는 전기적 특성을 가지므로 광흡수층과 전도층을 동시에 구비할 수 있으므로 광특성 및 전기적 특성이 동시에 필요한 다양한 용도에 적용될 수 있다.

Claims (8)

  1. 알루미늄(Al) 또는 규소(Si)로부터 선택되는 제 1 성분과, 산소(O) 및 질소(N)로부터 선택되는 하나 이상의 제 2 성분을 포함하여 이루어지며, 상기 제 1 성분과 제 2 성분이 박막의 두께를 따라 점진적인 농도 구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하는 것을 특징으로 하는 기능성 박막.
  2. 제1항에 있어서, 상기 점진적인 농도 구배는 상기 박막의 두께를 따라 외부광이 입사되는 방향으로부터 멀어질수록 굴절률이 점진적으로 증가 또는 감소하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 기능성 박막.
  3. 제1항에 있어서, 상기 점진적인 농도 구배는 상기 박막의 두께를 따라 외부광이 입사되는 방향으로부터 멀어질수록 광흡수율이 점진적으로 증가하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 기능성 박막.
  4. 제1항에 있어서, 상기 점진적인 농도 구배는 상기 박막의 두께를 따라 전기 전도도가 점진적으로 증가 또는 감소하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 기능성 박막.
  5. 제1항에 있어서, 상기 점진적인 농도 구배는, 상기 박막에 외부광이 입사되는 방향으로부터 멀어질수록 상기 제 1 성분의 함량은 점차적으로 증가하고 상기 제 2 성분의 함량은 점차적으로 감소하도록 분포되어 있는 것을 특징으로 하는 기능성 박막.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제 1 성분과 제 2 성분의 상대적인 함량에 의해 결정되는 박막의 어느 한 면의 굴절률과 굴절률차가 0.5 이하인 기판 상에 적층되는 것을 특징으로 하는 기능성 박막.
  7. 제1항 또는 제6항에 있어서, 상기 제1 성분이 Si인 경우에는 티타늄(Ti), 알루미늄(Al), 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 코발트(Co), 철(Fe) 및 인듐주석산화물(ITO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 성분으로 이루어진 도전층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기능성 박막.
  8. 제7항에 있어서, 상기 박막이 기판과 접하는 면의 반대면에 상기 도전층이 형성되는 것을 특징으로 하는 기능성 박막.
KR1020010005938A 2001-02-07 2001-02-07 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막 KR100708640B1 (ko)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010005938A KR100708640B1 (ko) 2001-02-07 2001-02-07 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막
DE10152411A DE10152411A1 (de) 2001-02-07 2001-10-24 Filmschicht mit bestimmten optischen und elektrischen Eigenschaften
GB0126124A GB2372042B (en) 2001-02-07 2001-10-31 Functional film having improved optical and electrical properties
CNB011379103A CN1250984C (zh) 2001-02-07 2001-11-05 改善了光学性能和电性能的功能薄膜
US09/994,786 US6623862B2 (en) 2001-02-07 2001-11-28 Functional film having optical and electrical properties
JP2002027532A JP2002323605A (ja) 2001-02-07 2002-02-05 光学的電気的特性を有する機能性薄膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010005938A KR100708640B1 (ko) 2001-02-07 2001-02-07 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020065759A true KR20020065759A (ko) 2002-08-14
KR100708640B1 KR100708640B1 (ko) 2007-04-18

Family

ID=19705448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010005938A KR100708640B1 (ko) 2001-02-07 2001-02-07 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6623862B2 (ko)
JP (1) JP2002323605A (ko)
KR (1) KR100708640B1 (ko)
CN (1) CN1250984C (ko)
DE (1) DE10152411A1 (ko)
GB (1) GB2372042B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101034574B1 (ko) * 2011-01-14 2011-05-12 박형민 좌훈 기능을 갖는 온열 발열장치

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60125338T2 (de) 2000-03-07 2007-07-05 Asm International N.V. Gradierte dünne schichten
US7419903B2 (en) 2000-03-07 2008-09-02 Asm International N.V. Thin films
US9139906B2 (en) 2001-03-06 2015-09-22 Asm America, Inc. Doping with ALD technology
US6960537B2 (en) 2001-10-02 2005-11-01 Asm America, Inc. Incorporation of nitrogen into high k dielectric film
JP2004247077A (ja) * 2003-02-12 2004-09-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置及びその作製方法
US6955986B2 (en) 2003-03-27 2005-10-18 Asm International N.V. Atomic layer deposition methods for forming a multi-layer adhesion-barrier layer for integrated circuits
JP2006120356A (ja) * 2004-10-19 2006-05-11 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd プラズマディスプレイパネル及びその製造方法
KR101427142B1 (ko) 2006-10-05 2014-08-07 에이에스엠 아메리카, 인코포레이티드 금속 규산염 막의 원자층 증착
DE102007049930B4 (de) * 2007-10-18 2011-04-28 Universität Hamburg Oberflächenmodifizierte Hohlraumstrukturen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
JP4951482B2 (ja) * 2007-12-10 2012-06-13 三菱電機株式会社 反射板、表示装置、及びその製造方法
JP5197418B2 (ja) * 2008-08-26 2013-05-15 三菱電機株式会社 反射防止膜及びその製造方法、並びに表示装置
US8557702B2 (en) 2009-02-02 2013-10-15 Asm America, Inc. Plasma-enhanced atomic layers deposition of conductive material over dielectric layers
JP5827578B2 (ja) 2011-02-14 2015-12-02 株式会社半導体エネルギー研究所 光学素子の作製方法
JP2014081522A (ja) * 2012-10-17 2014-05-08 Fujifilm Corp 反射防止膜を備えた光学部材およびその製造方法
JP2015172617A (ja) * 2014-03-11 2015-10-01 日本真空光学株式会社 テラヘルツ帯光学素子
WO2018139528A1 (ja) * 2017-01-26 2018-08-02 株式会社 アルバック 酸化アルミニウム膜の形成方法
JP6428905B2 (ja) * 2017-12-20 2018-11-28 王子ホールディングス株式会社 微細構造体および微細構造体の製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2806436C2 (de) 1978-02-15 1984-03-01 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Verfahren zur Herstellung einer Schwarzumrandung von Leuchtpunkten auf dem Schirmglas eines Farbbildschirmes
JPS60114811A (ja) * 1983-11-28 1985-06-21 Hitachi Ltd 光導波路およびその製造方法
US4861671A (en) * 1985-10-23 1989-08-29 Kerdix, Inc. Magneto-optic recording media with protective layer
US5808714A (en) 1993-09-30 1998-09-15 Optical Coating Laboratory, Inc. Low reflection shadow mask
US5668649A (en) * 1994-03-07 1997-09-16 Hitachi, Ltd. Structure of liquid crystal display device for antireflection
JPH08190091A (ja) * 1995-01-11 1996-07-23 Aneruba Kk 液晶ディスプレイ用薄膜基板及びこの薄膜基板を使用した液晶ディスプレイ並びに液晶ディスプレイ用薄膜基板の作成装置
JP3390579B2 (ja) * 1995-07-03 2003-03-24 アネルバ株式会社 液晶ディスプレイ用薄膜の作成方法及び作成装置
US5926239A (en) * 1996-08-16 1999-07-20 Si Diamond Technology, Inc. Backlights for color liquid crystal displays
JP3249407B2 (ja) * 1996-10-25 2002-01-21 昭和シェル石油株式会社 カルコパイライト系多元化合物半導体薄膜光吸収層からなる薄膜太陽電池
US6015323A (en) * 1997-01-03 2000-01-18 Micron Technology, Inc. Field emission display cathode assembly government rights
US6495251B1 (en) * 1997-06-20 2002-12-17 Ppg Industries Ohio, Inc. Silicon oxynitride protective coatings
JPH1131650A (ja) * 1997-07-14 1999-02-02 Kokusai Electric Co Ltd 反射防止膜、被処理基板、被処理基板の製造方法、微細パターンの製造方法、および半導体装置の製造方法
JP2001192821A (ja) * 2000-01-07 2001-07-17 Nippon Sheet Glass Co Ltd 被膜を基体に被覆する方法およびその方法を用いた物品

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101034574B1 (ko) * 2011-01-14 2011-05-12 박형민 좌훈 기능을 갖는 온열 발열장치

Also Published As

Publication number Publication date
GB2372042B (en) 2005-01-26
GB0126124D0 (en) 2002-01-02
CN1250984C (zh) 2006-04-12
CN1368649A (zh) 2002-09-11
KR100708640B1 (ko) 2007-04-18
US20020187354A1 (en) 2002-12-12
US6623862B2 (en) 2003-09-23
GB2372042A (en) 2002-08-14
DE10152411A1 (de) 2002-08-08
JP2002323605A (ja) 2002-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100768176B1 (ko) 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막
KR100708640B1 (ko) 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막
KR100768175B1 (ko) 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막
KR100563419B1 (ko) 광 흡수성 반사방지체 및 그 제조 방법
CA1335887C (en) Neutral sputtered films of metal alloy oxides
TWI506154B (zh) 吸光層系統，彼之製法以及適合彼所用之濺射靶材
JP2010034577A (ja) 電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置
US20160224151A1 (en) Electrode to be used in input device and method for producing same
JPH07178866A (ja) 熱線遮断膜とその製造方法
TW538421B (en) CRT panel glass and production method thereof and CRT
JP5675896B2 (ja) 光吸収性層構造体
KR100777718B1 (ko) 기능성 박막 형성용 타겟 및 이를 이용한 기능성 박막의형성방법
US5952781A (en) Electrode for high contrast gas discharge panel and the method for manufacturing the same
KR20010071668A (ko) 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품 및 이를사용한 음극선관
Ohsaki et al. Low resistance AR stack including silver layer
KR100388911B1 (ko) 블랙 매트릭스 및 그 제조방법
KR20040008623A (ko) 금속막과 투명 유전체막이 교대로 적층된 다층구조를 갖는투명도전막
KR100618374B1 (ko) 다층박막 구조를 갖는 피디피 필터
JP2003139909A (ja) 導電性反射防止膜および陰極線管用ガラスパネル
JP3373298B2 (ja) 機能性物品とその製造方法
JPH09243801A (ja) 低反射薄膜基板
FR2820510A1 (fr) Film fonctionnel aux proprietes optiques et electriques ameliorees

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee