KR20010071668A - 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품 및 이를사용한 음극선관 - Google Patents

전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품 및 이를사용한 음극선관 Download PDF

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Abstract

본 발명은 금속막, 굴절률 2.O 내지 2.4의 고굴절률 투명 유전체막 및 굴절률 1.35 내지 1.46의 저굴절률 투명 유전체막이 550nm 파장에서의 굴절률이 1.4 내지 1.7인 유리 기본체 위에 당해 유리 기본체측으로부터 차례로 적층된 전기전도성 반사방지막이 피복된 유리 물품으로서, 당해 금속막을 니켈/철 합금 막으로 하고 가시광선 반사율을 1% 이하로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품에 관한 것이다. 전기전도성 반사방지막의 광학 특성 및 전기 저항 특성은 열적으로 안정적이므로, 훤넬(funnel)과 프릿 유리로 가열 접합해도 가열 접합전의 성능을 유지할 수 있으며 광학 특성과 대전방지 기능을 손상하지 않고 음극선관을 제조할 수 있다.

Description

전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품 및 이를 사용한 음극선관{Glass product with conductive antireflection film and cathode ray tube using it}
텔레비젼 등과 같이 음극선관을 사용하는 표시 장치에서는 표시면에서의 외부 광선의 반사율을 낮게 하여 표시 품질을 양호하게 하는 것이 실시되고 있다. 또한, 이러한 음극선관을 사용하는 표시 장치에서는 전자총의 사용으로 고전압이 사용되므로 화상 표시면에 대전(帶電)이 생기며, 이에 따라 공기 중의 먼지나 티끌이 끌어 당겨진다. 이러한 대전에 의해 생기는 현상을 방지하고 억제하기 위해 화상 표시 장치의 전면을 전기전도성으로 하는 것이 실시되고 있다.
또한, 고전압으로 가속된 전자선에 의해 전자파가 발생하면, 이것이 인체에 악영향을 미칠 염려가 있다고 되어 있다. 따라서, 전자파를 차폐할 목적으로 표시부의 전면을 전기전도성 피막으로 피복하는 것이 실시되고 있다.
위와 같은 목적에서, 전기전도성 반사방지막이 피복된 유리판을 음극선관의 페이스 플레이트에 붙이거나 페이스 플레이트의 외표면에 직접 전기전도성 반사방지막을 피복하는 것이 실시되고 있다.
위의 음극선관의 표시 품질을 향상시킬 목적으로 유리 물품에 피복되는 전기전도성 반사방지막으로서는, 일본 공개특허공보 제(소)64-70701호에 기재되어 있는 유리판/금속/산화티타늄/산화규소의 적층체, 일본 공개특허공보 제(평)1-180333호에 기재되어 있는 유리판/플루오르화마그네슘/금속/산화티타늄/플루오르화마그네슘의 적층체 또는 특허공보 제2565538호에 기재되어 있는 유리판/티탄산프라세오디뮴/금속/티탄산프라세오디뮴/플루오르화마그네슘의 적층체가 있다.
그리고, 이들 선행 기술에서 사용되는 금속막으로서는 스텐레스, 티타늄, 크롬, 지르코늄, 몰리브덴, 니켈의 박막으로 구성되는 것이 기재되어 있다.
그러나, 상기한 종래 기술에 구체적으로 기재되어 있는 금속 또는 합금을 금속막으로 하며 이것과 투명 유전체막을 적층하여 전기전도성 반사방지막으로 한 것은 가시광선의 투과율을 높게 하기 위해 금속막을 5nm 이하로 하면, 전기 저항이 현저하게 상승하여 대전방지 기능이나 전자파 차폐기능이 현저하게 저하된다는 문제점이 있다.
또한, 상기한 종래 기술에 기재되어 있는 금속 또는 합금을 금속막에 사용하는 반사방지막을 유리제 페이스 플레이트의 전면에 피복한 다음, 당해 페이스 플레이트와 훤넬(funnel)을 유리 프릿으로 가열 접합하는 음극선관의 제조방법을 채용하는 경우, 가열공정에서 전기전도성 반사방지막의 전기 저항이 현저하게 증가하며, 또한 투과율이 커지므로, 광흡수성을 확보하는 동시에 우수한 대전방지 기능을 갖는 음극선관을 제조하는 것은 곤란하다. 즉, 종래 기술에서는 음극선관의 조립공정에서 열처리를 받아도 전기전도성 반사방지막의 전기 저항 및 가시광선 투과율이 크게 변화되지 않는다는 과제를 해결할 수 없다.
발명의 개시
본 발명의 제1은, 금속막인 제1 층, 55Onm 파장에서의 굴절률이 2.O 내지 2.4인 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층 및 550nm 파장에서의 굴절률이 1.35 내지 1.46인 저굴절률 투명 유전체막인 제3 층이 55Onm 파장에서의 굴절률이 1.4 내지 1.7인 유리 기본체 위에 당해 유리 기본체측으로부터 차례로 적층된 전기전도성 반사방지막이 피복된 유리 물품으로서, 당해 금속막을 니켈/철 합금 막으로 하고 가시광선 반사율을 1% 이하로 함을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품이다.(이하, 제1 양태라고 한다.)
본 발명의 제2는, 금속막인 제1 층, 550nm 파장에서의 굴절률이 2.0 내지 2.4인 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층, 550nm 파장에서의 굴절률이 1.7 내지 1.9인 중굴절률 투명 유전체막인 제3 층 및 550nm 파장에서의 굴절률이 1.35 내지1.46인 저굴절률 투명 유전체막인 제4 층이 550nm 파장에서의 굴절률이 1.4 내지 1.7인 유리 기본체 위에 당해 유리 기본체측으로부터 차례로 적층된 반사방지막이 피복된 유리 물품으로서, 당해 금속막을 니켈/철 합금 막으로 하고 가시광선 반사율을 1% 이하로 함을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품이다.(이하, 제2 양태라고 한다.)
본 발명의 제3은, 금속막인 제1 층, 55Onm 파장에서의 굴절률이 2.0 내지 2.4인 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층, 금속막인 제3 층, 55Onm 파장에서의 굴절률이 2.O 내지 2.4인 고굴절률 투명 유전체막인 제4 층 및 550nm 파장에서의 굴절률이 1.35 내지 1.46인 저굴절률 투명 유전체막인 제5 층이 550nm 파장에서의 굴절률이 1.4 내지 1.7인 유리 기본체 위에 당해 유리 기본체측으로부터 차례로 적층된 전기전도성 반사방지막이 피복된 유리 물품으로서, 금속막인 제1 층과 금속막인 제3 층 중의 적어도 한쪽을 니켈/철 합금 막으로 하며 가시광선 반사율을 1% 이하로 함을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품이다.(이하, 제3양태라고 한다.)
본 발명은 전기전도성과 광흡수성을 겸비한 반사방지막이 피복된 유리 물품에 관한 것이다. 특히, 음극선관 등과 같이 가속된 전자선이 형광체를 여기하여 화상을 표시하는 표시 장치에 사용되는 페이스 플레이트 또는 페이스 플레이트의 표시부 전면(前面)에 수지 또는 유리 프릿(glass frit) 등의 접착제로 붙여 합쳐서 사용되는 유리판 등의 유리 물품에 관한 것이며, 또한 이를 사용한 음극선관에 관한 것이다.
도 1은 본 발명의 전기전도성 반사방지막이 부착된 물품의 한가지 실시예의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 전기전도성 반사방지막의 적층 구성을 설명하기 위한 일부 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예의 가시영역의 투과, 반사 특성을 나타내는 도면이다.
도면 내의 수치는 각각 1: 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품, 2: 전기전도성 반사방지막, 3: 유리 기본체, 4: 금속막, 5: 고굴절률 투명 유전체막, 6: 저굴절률 투명 유전체막, 7: 중굴절률 투명 유전체막, 8: 하지막이다.
발명을 실시하기 위한 최량의 형태
본 발명의 제1 양태의 금속막은 니켈과 철의 합금막인 것이 필요하다. 금속막 중의 니켈 함유량은 5중량% 이상인 것이 바람직하며, 또한 10중량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 7O중량% 이상인 것이 가장 바람직하다. 니켈 함유량이 5% 미만이면, 금속막은 철의 단일 성분으로 이루어진 금속막의 열적 성질에 근접하며 가열됨으로써 전기 저항치가 현저하게 상승하고, 또한 투과율이 크게 변화하므로 바람직하지 않다.
또한, 금속막 중의 니켈 함유량은 95중량% 이하인 것이 바람직하다. 니켈 함유량이 95중량%를 초과하면, 금속막은 니켈의 단일 성분으로 이루어진 금속막의 열적 성질에 근접하며, 특히 금속막의 두께가 4nm 미만인 경우에 전기 저항치가 현저하게 상승하므로 바람직하지 않다.
본 발명의 제1 양태에서는 금속막의 두께가 1.5 내지 8nm인 것이 바람직하다. 두께가 1.5nm 이하이면, 전기 저항치가 현저하게 증가하므로 바람직하지 않다. 또한, 두께가 8nm를 초과하면, 투과율이 저하되며 표시 화상이 어두워지므로바람직하지 않다.
또한, 본 발명의 제1 양태에서는 가시광선 반사율을 1% 이하로 하는 동시에 음극선관에 사용되는 유리 제품으로서 반사 색조가 눈에 띄지 않도록 하는 관점에서, 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층의 두께가 5 내지 14Onm이며, 저굴절률 투명 유전체막인 제3 층의 두께가 5O 내지 120nm인 것이 바람직하다.
본 발명의 제2 양태의 금속막은 니켈과 철의 합금막인 것이 필요하다. 금속막 중의 니켈 함유량은 5중량% 이상인 것이 바람직하며, 10중량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 70중량% 이상인 것이 가장 바람직하다. 니켈 함유량이 5중량% 미만이면, 금속막은 철의 단일 성분으로 이루어진 금속막의 열적 성질에 근접하며 가열됨으로써 전기 저항치가 현저하게 상승하고, 또한 투과율이 크게 변화하므로 바람직하지 않다.
또한, 금속막 중의 니켈 함유량은 95중량% 이하인 것이 바람직하다. 니켈 함유량이 95중량%를 초과하면, 금속막은 니켈의 단일 성분으로 이루어진 금속막의 열적 성질에 근접하며, 특히 금속막의 두께가 4nm 미만인 경우에 전기 저항치가 현저하게 상승하므로 바람직하지 않다.
본 발명의 제2 양태에서는 금속막의 두께가 1.5 내지 8nm인 것이 바람직하다. 1.5nm 이하이면, 전기 저항이 현저하게 증가하므로 바람직하지 않다. 또한, 8nm를 초과하면, 투과율이 현저하게 저하되며 표시 화상이 어두워지므로 바람직하지 않다.
또한, 본 발명의 제2 양태에서는 가시광선 반사율을 1% 이하로 하는 동시에음극선관에 사용되는 유리 제품으로서 반사 색조가 눈에 띄지 않도록 하는 관점에서, 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층의 두께가 5 내지 70nm이며, 중굴절률 투명 유전체막인 제3 층의 두께가 10 내지 100nm이고, 저굴절률 투명 유전체막인 제4 층의 두께가 50 내지 120nm인 것이 바람직하다.
본 발명의 제3 양태에서도 금속막은 니켈과 철의 합금막인 것이 필요하다. 금속막 중의 니켈 함유량은 5중량% 이상인 것이 바람직하며, 10중량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 70중량% 이상인 것이 가장 바람직하다. 니켈 함유량이 5중량% 미만이면, 금속막은 철의 단일 성분으로 이루어진 금속막의 열적 성질에 근접하며 가열됨으로써 전기 저항치가 현저하게 상승하고, 또한 투과율이 크게 변화하므로 바람직하지 않다.
또한, 금속막 중의 니켈 함유량은 95중량% 이하인 것이 바람직하다. 니켈 함유량이 95중량%를 초과하면, 금속막은 니켈의 단일 성분으로 이루어진 금속막의 열적 성질에 근접하며, 특히 두께가 4nm 미만인 경우에 전기 저항치가 현저하게 상승하므로 바람직하지 않다.
본 발명의 제3 양태에서는 금속막인 제1 층과 제3 층의 두께가 각각 1.5 내지 7.5nm이고, 이의 합계 두께가 9nm 이하인 것이 바람직하다. 금속층의 각각의 두께 범위의 한정 이유는 본 발명의 제1 양태 또는 제2 양태와 동일하다. 합계 두께가 9nm을 초과하면, 표시 장치의 전면에 설치된 반사방지막으로서 투명성이 작아지며 표시 화면이 어두워지므로 바람직하지 않다.
또한, 본 발명의 제3 양태에서는 가시광선 반사율을 1% 이하로 하는 동시에음극선관에 사용되는 유리제품으로서 반사 색조가 눈에 띄지 않도록 하는 관점에서, 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층의 두께가 10 내지 70nm이며, 고굴절률 투명 유전체막인 제4 층의 두께가 10 내지 70nm이고, 저굴절률 투명 유전체막인 제5 층의 두께가 70 내지 120nm인 것이 바람직하다.
본 발명의 제1 양태, 제2 양태, 제3 양태의 어느 것에서도 유리 기본체로서 유리제 페이스 플레이트나 투명 또는 무색의 유리판을 사용할 수 있으며, 이들의 유리 조성은 특별히 한정하지 않는다. 예를 들면, 소다석회규산 조성, 붕규산 조성, 알루미노규산 조성, 알루미노붕규산 조성 등의 유리를 필요에 따라 굴곡 가공이나 풍냉 강화 등에 의해 가공한 것을 사용할 수 있다.
본 발명의 제1 양태, 제2 양태, 제3 양태의 어느 것에서도 고굴절률 투명 유전체막으로서 티탄산프라세오디뮴(PrTi03), 산화티타늄(Ti02), 산화탄탈륨(Ta2O5) 및 산화지르코늄(Zr02)의 막을 예시할 수 있다. 이 중에서도, 티탄산프라세오디뮴은 진공 증착으로 막 형성할 때에 산소 가스를 도입하지 않아도 투명하고 치밀한 막이 수득되기 때문에 막 형성 중에 금속막을 산화 약화시키지 않으므로 바람직하다.
본 발명의 제1 양태, 제2 양태, 제3 양태에서 저굴절률 투명 유전체막으로서 플루오르화마그네슘과 이산화규소를 예시할 수 있다. 이 중에서도, 플루오르화마그네슘은 굴절률이 1.35로 낮으며, 고굴절률 투명 유전체막의 굴절률과의 차이가 크기 때문에 반사율을 낮게 하는 것이 용이해지므로 바람직하다.
본 발명의 제2 양태에서 중굴절률 투명 유전체막으로서는산화마그네슘(Mg0), 산화니오븀(Nb2O5) 및 일산화규소(SiO) 등을 예시할 수 있다. 이 중에서도, 산화마그네슘은 진공 증착에 따른 막 형성시에 산소 가스를 도입하지 않아도 투명하고 치밀한 막이 수득되기 때문에 막 형성 중에 금속막을 산화 약화시키지 않으므로 바람직하다.
본 발명의 제1 양태, 제2 양태, 제3 양태에서 유리 기본체와 금속막인 제1 층 사이에 투명 유전체층(이하, 하지막이라고 호칭한다)을 설치할 수 있다. 이러한 하지막은 유리 표면과 금속막인 제1 층과의 접촉을 단절시키고, 즉 유리 표면의 수분 등의 불순물이 금속막 중에 진입하는 것을 방지하여 금속막의 전기 저항이 증대하는 것을 방지할 목적으로 설치된다.
하지막을 구성하는 물질은 특별히 한정되지 않지만, 티탄산프라세오디뮴, 산화마그네슘, 플루오르화마그네슘(MgF2)이 바람직한 것으로서 예시할 수 있다.
하지막의 두께는, 금속막인 제1 층을 평활하게 하여 이에 따라 금속막의 전기 저항을 감소시킨다는 관점에서, 3nm 이상인 것이 바람직하다. 또한, 하지막 자체의 표면 요철을 작게 하는 관점에서 7nm 이하인 것이 바람직하며, 5nm 이하인 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 제1 양태, 제2 양태, 제3 양태의 어느 것에서도, 니켈과 철로 이루어진 금속층에는 광흡수 정도나 반사 색조를 미묘하게 조정하는 등을 위해 상기한 내열성이 크게 약화되지 않는 범위에서 제3의 금속을 첨가할 수 있다.
본 발명의 제1 양태, 제2 양태, 제3 양태의 전기전도성 반사방지막을 구성하는 각 층은 진공 증착법이나 이온 플레이팅법 등의 공지된 방법으로 막 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 음극선관은 본 발명에 따른 전기전도성 반사방지막을 피복한 페이스 플레이트와 훤넬을 가열 접합하는 방법에 따라서도, 페이스 플레이트와 훤넬을 접합한 다음, 본 발명에 따른 전기전도성 반사방지막을 피복하는 방법에 의해 제조할 수 있다.
본 발명을 다음의 도면 및 실시예를 사용하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 전기전도성 반사방지막이 부착된 물품(1)의 한 가지 실시예의 단면도이며, 유리제의 페이스 플레이트(3)의 화상 표시부에 전기전도성 반사방지막(2)이 피복되어 있다.
도 2는 본 발명의 전기전도성 반사방지막(2)의 적층 구성을 설명하기 위한 일부 단면도이다. 도 2a에서, 전기전도성 반사방지막(2)은 페이스 플레이트(3) 위에 금속막(4), 고굴절률 투명 유전체막(5) 및 저굴절률 투명 유전체막(6)이 차례로 적층되어 구성되어 있다. 도 2b에서, 전기전도성 반사방지막(2)은 페이스 플레이트(3) 위에 금속막(4), 고굴절률 투명 유전체막(5), 중굴절률 투명 유전체막(7) 및 저굴절률 투명 유전체막이 차례로 적층되어 구성되어 있다. 도 2c에서, 전기전도성 반사방지막(2)은 페이스 플레이트(3) 위에 하지막(8), 금속막(4), 고굴절률 투명 유전체막(5), 금속막(4), 고굴절률 투명 유전체막(5) 및 저굴절률 투명 유전체막(6)이 차례로 적층되어 구성되어 있다.
도 3은 본 발명의 실시예 6에서 수득된 샘플의 가시광선 영역의 반사, 투과의 분광 특성도이다.
다음 실시예 및 비교예에서 각 막을 진공 증착으로 막 형성할 때 사용되는 증착 재료는 하기와 같다.
·실시예의 니켈/철 막: 소정 조성의 니켈과 철의 합금 와이어
·비교예 1 및 비교예 3의 니켈막: 니켈 와이어
·비교예 2의 철막: 철 와이어
·비교예 4 및 비교예 5의 니켈/철/크롬 막: 소정 조성의 니켈/철/크롬 합금 와이어
·비교예 6의 니켈/크롬 막: 소정 조성의 니켈 크롬 합금 와이어
·티탄산프라세오디뮴막: 머크(Merck)사제 상품명 섭스턴스 에이치 2(SUBSTANCE H2) 펠릿
·산화마그네슘막: 산화마그네슘 입자
·플루오르화마그네슘막: 플루오르화마그네슘 입자
실시예 1
잘 세정한 100mm×100mm×두께 3mm의 소다라임 실리카 조성의 유리판을 진공 증착조에 투입하고, 증착 장치내에 설치된 기판 가열 히터로 300℃로 가열한 상태에서 표 1의 실시예 1의 난에 기재한 적층 구성의 전기전도성 반사방지막을 유리판 위에 피복한다. 증착 재료의 증발을 전자 빔 증착법으로 실시하여 증착 도가니로부터 유리판까지의 거리를 100cm로 하여 유리판을 회전시키면서 실시한다. 증착개시 전의 도달 진공도는 어느 막에 대해서도 오일 확산 펌프로 0.003Pa까지 배기를 실시한다. 니켈/철의 합금막, 티탄산프라세오디뮴막, 산화마그네슘막, 플루오르화마그네슘막에 대해서는 산소 가스를 도입하지 않으면서 증착을 실시한다.
수득된 샘플을 증착 장치로부터 인출하여 투과율(파장: 550nm), 막 피복면측의 반사율(파장: 550nm), 대전방지 성능의 평가 특성으로서 시트 저항을 측정한다. 금속막의 조성을 화학분석에 의해 측정한다. 각 측정 결과를 표 2에 기재한다. 또한, 샘플을 대기 중에서 450℃로 1시간 동안 열처리한 후의 투과율, 막 피복면측의 반사율, 시트 저항을 측정한다. 결과를 표 2의 실시예 1의 난에 기재한다.
샘플의 반사율은 실용적 관점에서 요구되는 1% 이하이며, 이러한 값은 열처리를 받아도 크게 변화되지 않으며, 1% 이하가 유지된다. 또한, 시트 저항이 282Ω/□로서 대전방지 기능을 갖는 데는 충분하게 낮은 저항이며 또한, 열처리를 받아도 저항은 약화되는(커진다) 것은 아니며, 오히려 작아진다. 또한, 투과율은 66.5 내지 67.2%로서 겨우 0.7%의 작은 변화에 머문다. 이러한 값은 음극선관의 페이스 플레이트 또는 투명한 페이스 플레이트에 붙여 사용하는 전면 유리 패널로 하고 실용적 관점에서 유용한 투과율이 40 내지 80%의 범위내이다.
실시예 2 내지 실시예 10
실시예 1과 동일하게 하여 표 1에 기재된 막 구성의 전기전도성 반사방지막을 유리판 위에 피복하여 수득된 샘플에 관해서 실시예 1과 동일한 시험을 한 결과를 표 2에 기재한다. 실시예 2 내지 실시예 10의 샘플의 어느 것이나 반사율에 관해서는 초기 및 열처리 후 모두 1% 이하이다. 초기의 시트 저항은 어떤 샘플도 500Ω/□ 이하로서 낮으며, 또한 열처리를 받아도 크게 증가하지 않으며 오히려 저하하는 것으로 판명됐다. 또한, 투과율의 열처리에 따른 변화는 2.2% 이하로서 작은 값이다.
실시예 2의 막 구성에 티탄산프라세오디뮴의 하지막을 추가한 것이 실시예 4이며, 실시예 6의 막 구성에 티탄산프라세오디뮴 하지막을 추가한 것이 실시예 7이다. 실시예 2와 실시예 4, 실시예 6과 실시예 7을 비교하면, 하지막을 추가 삽입함으로써 시트 저항이 낮아짐을 알 수 있다.
실시예 막 1 막 2 막 3 막 4 막 5 막 6 금속막조성
1 NiFe(3.2) PrTiO3(127.4) MgO(45.4) MgF2(71.7) Fe/Ni20/80
2 NiFe(3.2) PrTiO3(127.4) MgO(45.4) MgF2(71.7) Fe/Ni10/90
3 NiFe(3.2) PrTiO3(127.4) MgO(45.4) MgF2(71.7) Fe/Ni30/70
4 PrTiO3(5.0) NiFe(2.0) PrTiO3(101.4) MgO(36.3) MgF2(80.8) Fe/Ni20/80
5 PrTiO3(5.0) NiFe(3.2) PrTiO3(134.5) MgF2(96.8) Fe/Ni50/50
6 NiFe(4.6) PrTiO3(26.0) NiFe(2.4) PrTiO3(35.0) MgF2(79.0) Fe/Ni20/80
7 MgO(5.0) NiFe(4.6) PrTiO3(26.0) NiFe(2.4) PrTiO3(35.0) MgF2(79.0) Fe/Ni40/60
8 PrTiO3(5.0) NiFe(2.2) PrTiO3(34.8) MgF2(93.6) Fe/Ni95/5
9 PrTiO3(5.0) NiFe(2.4) PrTiO3(34.8) MgF2(93.6) Fe/Ni5/95
10 NiFe(3.2) PrTiO3(34.8) MgF2(93.6) Fe/Ni5/95
상단은 막의 물질이고, 하단은 막의 농도(단위 nm)이며,금속막의 조성은 중량%이다.
투과율(%) 반사율(%) 시트 저항(Ω/□)
전 후 차 전 후 차 전 후 차
실시예 1 66.5 67.2 0.7 0.22 0.25 0.03 282 258 -24
실시예 2 65.2 66.3 1.1 0.26 0.28 0.02 305 245 -60
실시예 3 66.0 67.8 1.8 0.23 0.29 0.06 295 226 -69
실시예 4 75.2 76.2 1.0 0.25 0.26 0.01 207 174 -33
실시예 5 67.0 67.7 0.7 0.19 0.30 0.11 198 184 -14
실시예 6 47.0 49.2 2.2 0.11 0.28 0.17 98 96 -2
실시예 7 46.6 47.5 0.9 0.17 0.20 0.03 87 85 -2
실시예 8 61.2 61.8 0.6 0.81 0.85 0.04 341 330 -11
실시예 9 70.2 70.2 0.0 0.70 0.50 0.20 279 247 -32
실시예 10 67.2 67.6 0.4 0.34 0.41 0.07 486 484 -2
전: 열처리 전, 후: 열처리 후차는 열처리 후 - 열처리 전의 값
비교예 1
금속막을 니켈 단일 조성의 막으로 하여 표 3의 비교예 1의 난에 기재되어 있는 적층 구성의 전기전도성 반사방지막을 실시예 1과 동일한 방법으로 피복한 비교 샘플을 수득한다. 이러한 비교 샘플을 실시예 1과 동일한 방법으로 평가한 결과를 표 4의 비교예 1의 난에 기재한다. 이러한 비교 샘플은 반사율이 1% 이하이며, 또한 투과율의 열안정이 양호하지만, 시트 저항의 초기 및 열처리 후 모두 2M(메가)Ω/□ 이상이며, 양호한 대전방지 기능을 얻을 수 없다.
비교예 2
금속막을 철 단일 조성의 막으로 하여 표 3의 비교예 2의 난에 기재되어 있는 적층 구성의 전기전도성 반사방지막을 실시예 1과 동일한 방법으로 비교 샘플을 수득한다. 이러한 비교 샘플을 실시예 1과 동일한 방법으로 평가한 결과를 표 4의비교예 2의 난에 기재한다. 이러한 비교 샘플의 초기 반사율은 0.43%로서 낮은 값이지만 열처리에 의해 투과율은 18.7%, 반사율은 4.08%로 각각 상승한다. 또한, 시트 저항의 초기 및 열처리 후 모두 2M(메가)Ω 이상이며, 양호한 대전방지 기능을 얻을 수 없다.
비교예 3
금속막을 니켈 단일 조성의 막으로 하여 표 3의 비교예 3의 난에 기재되어 있는 바와 같이 유리판과 제1 금속층 사이에 티탄산프라세오디뮴의 하지막을 설치한 적층 구성의 비교 샘플을 수득한다. 이러한 비교 샘플을 실시예 1과 동일한 방법으로 평가한 결과를 표 4의 비교예 3의 난에 기재한다. 열처리 전 후의 반사율은 1% 이하이며, 또한 투과율의 열 안정성도 양호하지만, 시트 저항의 초기 및 열처리 후 모두 2M(메가)Ω/□ 이상이며, 양호한 대전방지 기능을 얻을 수 없다.
비교예 4 및 비교예 5
금속막을 니켈, 철, 크롬의 3성분계의 막으로서 표 3의 비교예 4 및 비교예 5의 난에 기재되어 있는 적층 구성의 비교 샘플을 수득한다. 이러한 비교 샘플을 실시예 1과 동일한 방법으로 평가한 결과를 표 4의 비교예 4와 비교예 5의 난에 기재한다. 크롬을 28중량% 함유하는 비교 샘플은 투과율의 열처리에 따른 변화가 9.8% 증가하며 크롬을 16% 함유하는 비교 샘플 5는 9.2% 증가하여 열 안정성이 크게 약화되는 것을 알았다. 또한, 시트 저항에 대해서도 열처리에 따라 비교 샘플4에서는 증가되며 비교 샘플 5에서는 감소되는 불규칙적인 변화를 하는 것으로 확인된다.
비교예 6
금속막을 니켈과 크롬의 2성분계로 하는 이외에는 비교예 1과 완전히 동일하게 하여 비교 샘플을 수득한다. 표 4의 비교예 6의 난에 기재되어 있는 바와 같이, 이러한 비교 샘플은 투과율의 열처리에 따른 변화가 12.5%로서 크며, 또한 시트 저항도 3단계의 증가를 볼 수 있다.
비교예 막 1 막 2 막 3 막 4 막 5 막 6 금속막조성
1 Ni(3.2) PrTiO3(127.4) MgO(45.4) MgF2(71.7) Ni100
2 Fe(3.2) PrTiO3(127.4) MgO(45.4) MgF2(71.7) Fe100
3 PrTiO3(5.0) Ni(3.2) PrTiO3(134.5) MgF2(96.8) Ni100
4 NiFeCr(3.2) PrTiO3(127.4) MgO(45.4) MgF2(71.7) Ni/Fe/Cr60/12/28
5 NiFeCr(4.6) PrTiO3(26.0) NiFeCr(2.4) PrTiO3(35.0) MgF2(79.0) Ni/Fe/Cr75/9/16
6 NiCr(3.2) PrTiO3(127.4) MgO(45.4) MgF2(71.7) Ni/Cr80/20
상단은 막의 물질이고, 하단은 막의 농도(단위 nm)이며, 금속막의조성은 중량%이다.
예 투과율(%) 반사율(%) 시트 저항(Ω/□)
전 후 차 전 후 차 전 후 차
비교예 1 62.6 63.1 0.5 0.45 0.58 0.13 >2M >2M
비교예 2 64.3 83.0 18.7 0.43 4.20 4.08 >2M >2M
비교예 3 63.6 64.2 0.6 0.65 0.52 -0.13 >2M >2M
비교예 4 66.7 76.5 9.8 0.37 1.54 1.17 1140 2950 1810
비교예 5 47.3 56.5 9.2 0.25 0.34 0.09 1173 554 -619
비교예 6 63.2 75.7 12.5 0.51 3.10 2.59 769 406K
전: 열처리 전, 후: 열처리 후차는 열처리 후 - 열처리 전의 값
위에서 설명한 바와 같이, 어느 비교 샘플도 열처리에 대하여 투과율 및 시트 저항이 모두 안정적인 특성을 갖는 것은 아니다. 이에 대하여 본 발명의 실시예의 샘플에서는, 투과율 및 반사율은 열처리를 받아도 안정적이며, 또한 시트 저항은 오히려 작아지며 대전방지 기능 및 전자파 차폐기능의 양쪽 기능이 유지되는 것을 알 수 있다.
형광체에 전자선을 가속 조사하여 표시하는 음극선관 등의 표시 장치에서는, 화상 표시부의 전면에 설치된 대전방지 기능을 갖는 전기전도성 반사방지막의 전기전도 성능은 시트 저항이 대략 1kΩ/□ 이하인 것이 바람직하며, 또한 인체에 대한 영향을 고려하여 방사되는 전자파의 차단능을 갖게 하는 데는 약 500Ω/□ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이러한 관점에서, 본 발명의 실시예로부터 수득된 샘플의 전기전도성 반사방지막은 이의 실용적인 성능을 충분하게 구비하고 있는 것을 알 수 있다.
위에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 금속막과 투명 유전체막의 적층체로 이루어진 반사방지막의 금속막을 니켈의 단독막 또는 철의 단독막으로 구성하는 경우, 이들이 열처리를 받으면 전기 저항이 약화(상승)되지만 놀랍게도 니켈과 철의 합금막으로 함으로써 전기 저항의 안정성이 향상된다는 예기치 않은 효과를 실험에 의해 밝혀냄으로써 이루어진 것이다.
본 발명의 전기전도성 반사방지막을 구성하는 금속막을 니켈과 철의 합금막으로 구성하는 것으로 전기전도성 반사방지막은 열 안정성이 우수하게 된다. 따라서 고온의 열처리를 받아도 이의 투과율 및 반사율의 변화가 적다. 또한, 전기전도성 반사방지막의 금속막을 니켈과 철의 합금의 막으로 구성하므로 고온 열처리를 받아도 이의 시트저항은 안정적이다.
본 발명의 전기전도성 반사방지막의 광학 특성 및 전기 저항 특성은 열적으로 안정적이므로, 본 발명의 전기전도성 반사방지막을 피복한 유리제 페이스 플레이트를 훤넬과 프릿 유리로 가열 접합해도 가열 접합전의 성능을 유지할 수 있으며 광학 특성과 대전방지 기능을 손상시키지 않고 음극선관을 제조할 수 있다.

Claims (15)

  1. 금속막인 제1 층, 55Onm 파장에서의 굴절률이 2.O 내지 2.4인 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층 및 550nm 파장에서의 굴절률이 1.35 내지 1.46인 저굴절률 투명 유전체막인 제3 층이 55Onm 파장에서의 굴절률이 1.4 내지 1.7인 유리 기본체 위에 당해 유리 기본체측으로부터 차례로 적층된 전기전도성 반사방지막이 피복된 유리 물품으로서, 당해 금속막을 니켈/철 합금 막으로 하고 가시광선 반사율을 1% 이하로 함을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  2. 제1항에 있어서, 금속막 중의 니켈 함유량이 5중량% 이상 95중량% 이하임을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 금속막의 두께가 1.5 내지 8nm임을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층의 두께가 5 내지 140nm이며, 저굴절률 투명 유전체막인 제3 층의 두께가 50 내지 120nm인, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  5. 금속막인 제1 층, 550nm 파장에서의 굴절률이 2.0 내지 2.4인 고굴절률 투명유전체막인 제2 층, 550nm 파장에서의 굴절률이 1.7 내지 1.9인 중굴절률 투명 유전체막인 제3 층 및 550nm 파장에서의 굴절률이 1.35 내지 1.46인 저굴절률 투명 유전체막인 제4 층이 550nm 파장에서의 굴절률이 1.4 내지 1.7인 유리 기본체 위에 당해 유리 기본체측으로부터 차례로 적층된 반사방지막이 피복된 유리 물품으로서, 당해 금속막을 니켈/철 합금 막으로 하고 가시광선 반사율을 1% 이하로 함을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  6. 제5항에 있어서, 금속막 중의 니켈 함유량이 5중량% 이상 95중량% 이하임을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 금속막의 두께가 1.5 내지 8nm임을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  8. 제5항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층의 두께가 5 내지 70nm이고, 중간 굴절률 투명 유전체막인 제3 층의 두께가 10 내지 100nm이며, 저굴절률 투명 유전체막인 제4 층의 두께가 50 내지 120nm임을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  9. 금속막인 제1 층, 55Onm 파장에서의 굴절률이 2.0 내지 2.4인 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층, 금속막인 제3 층, 55Onm 파장에서의 굴절률이 2.O 내지 2.4인고굴절률 투명 유전체막인 제4 층 및 550nm 파장에서의 굴절률이 1.35 내지 1.46인 저굴절률 투명 유전체막인 제5 층이 550nm 파장에서의 굴절률이 1.4 내지 1.7인 유리 기본체 위에 당해 유리 기본체측으로부터 차례로 적층된 전기전도성 반사방지막이 피복된 유리 물품으로서, 금속막인 제1 층과 금속막인 제3 층 중의 적어도 한쪽을 니켈/철 합금 막으로 하며 가시광선 반사율을 1% 이하로 함을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  10. 제9항에 있어서, 니켈/철 합금 금속막 중의 니켈 함유량이 5중량% 이상 95중량% 이하임을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 금속막인 제1 층과 제3 층의 두께가 각각 1.5 내지 7.5nm이고, 이의 합계 두께가 9nm 이하임을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  12. 제9항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 있어서, 고굴절률 투명 유전체막인 제2 층의 두께가 10 내지 70nm이고, 고굴절률 투명 유전체막인 제4 층의 두께가 10 내지 70nm이며, 저굴절률 투명 유전체막인 제5 층의 두께가 70 내지 120nm임을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  13. 제1항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 있어서, 유리 기본체와 금속막인 제1층 사이에 투명 유전체막을 설치함을 특징으로 하는, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  14. 제1항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서, 유리 기본체가 음극선관용 유리제 페이스 플레이트인, 전기전도성 반사방지막이 부착된 유리 물품.
  15. 제14항에 따르는 전기전도성 반사방지막 유리 물품을 훤넬에 유리 프릿으로 가열 접합하여 수득한 음극선관.
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