JP2002071906A - 導電性反射防止膜およびそれが被覆形成された陰極線管用ガラスパネル - Google Patents
導電性反射防止膜およびそれが被覆形成された陰極線管用ガラスパネルInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射光の低減とコントラストの向上が図れ、
優れた帯電防止性と電磁波遮蔽性を付与し、シール工程
や排気工程における熱処理の前後で反射率や抵抗値が変
動し難く、しかも光透過率の高いガラスパネルに被覆形
成しても、映像が二重に見えることがない導電性反射防
止膜と、それがフェース部の外表面に被覆形成された陰
極線管用ガラスパネルを提供することを目的とする。 【解決手段】 第１の層は、金、銀、白金族の元素およ
びそれらの化合物から選ばれる少なくとも１種と、コバ
ルト含有無機顔料を含み、幾何学的厚みが７０〜２５０
ｎｍの層であり、第２の層は、屈折率が１．３〜１．６
の層である。
優れた帯電防止性と電磁波遮蔽性を付与し、シール工程
や排気工程における熱処理の前後で反射率や抵抗値が変
動し難く、しかも光透過率の高いガラスパネルに被覆形
成しても、映像が二重に見えることがない導電性反射防
止膜と、それがフェース部の外表面に被覆形成された陰
極線管用ガラスパネルを提供することを目的とする。 【解決手段】 第１の層は、金、銀、白金族の元素およ
びそれらの化合物から選ばれる少なくとも１種と、コバ
ルト含有無機顔料を含み、幾何学的厚みが７０〜２５０
ｎｍの層であり、第２の層は、屈折率が１．３〜１．６
の層である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、導電性反射防止膜と、
それがフェース部の外表面に被覆形成された陰極線管用
ガラスパネルに関するものである。
それがフェース部の外表面に被覆形成された陰極線管用
ガラスパネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、陰極線管には、反射光の低減
やコントラストの向上が要求されており、最近では、帯
電防止や人体に影響を及ぼす電磁波を遮蔽することも求
められるようになってきている。
やコントラストの向上が要求されており、最近では、帯
電防止や人体に影響を及ぼす電磁波を遮蔽することも求
められるようになってきている。
【０００３】そのため、陰極線管の表示面であるガラス
パネルのフェース部の外表面に導電性反射防止膜を形成
することによって、反射光を低減し、コントラストを向
上し、さらに帯電防止や電磁波遮蔽の機能を付与するこ
とが試みられている。
パネルのフェース部の外表面に導電性反射防止膜を形成
することによって、反射光を低減し、コントラストを向
上し、さらに帯電防止や電磁波遮蔽の機能を付与するこ
とが試みられている。
【０００４】例えば、特表平６−５１０３８２号には、
基体側から順に、ＮｂＮを含む層、ＴｉＯ2を含む層、
ＳｉＯ2を含む層からなる導電性反射防止膜が提案さ
れ、また特開平９−１５６９６４号には、基体側から順
に、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆから選ばれた金属の酸化物を主
成分とする層、Ｓｉ又はＳｉの窒化物を主成分とする
層、ＳｉＯ2層からなる導電性反射防止膜が提案されて
いる。
基体側から順に、ＮｂＮを含む層、ＴｉＯ2を含む層、
ＳｉＯ2を含む層からなる導電性反射防止膜が提案さ
れ、また特開平９−１５６９６４号には、基体側から順
に、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆから選ばれた金属の酸化物を主
成分とする層、Ｓｉ又はＳｉの窒化物を主成分とする
層、ＳｉＯ2層からなる導電性反射防止膜が提案されて
いる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで陰極線管用ガ
ラスパネルの光透過率は、陰極線管に映像を映し出した
際の輝度とコントラストに影響する。すなわち、陰極線
管用ガラスパネルの光透過率が高くなるほど、輝度は高
くなるが、コントラストが低下し、逆にガラスパネルの
光透過率が低くなるほど、コントラストは向上するが、
輝度が低下する。
ラスパネルの光透過率は、陰極線管に映像を映し出した
際の輝度とコントラストに影響する。すなわち、陰極線
管用ガラスパネルの光透過率が高くなるほど、輝度は高
くなるが、コントラストが低下し、逆にガラスパネルの
光透過率が低くなるほど、コントラストは向上するが、
輝度が低下する。
【０００６】近年、フェース部の外表面が平坦な陰極線
管用ガラスパネルが普及しつつあるが、このようなフラ
ットガラスパネルは、所望の機械的強度を得る目的で、
フェース部の内表面の曲率半径が小さくなるように設計
されており、フェース部の中央領域の肉厚に比べて、周
辺領域の肉厚が非常に大きくなっている。
管用ガラスパネルが普及しつつあるが、このようなフラ
ットガラスパネルは、所望の機械的強度を得る目的で、
フェース部の内表面の曲率半径が小さくなるように設計
されており、フェース部の中央領域の肉厚に比べて、周
辺領域の肉厚が非常に大きくなっている。
【０００７】従って、このようなフラットガラスパネル
を、光透過率の低いガラスから作製すると、フェース部
の中央部と周辺部の肉厚差による光の透過量の違いが大
きくなり、中央部と周辺部の映像に輝度差が生じること
になる。そのため、ガラスパネルを光透過率の高い（例
えば７０％以上）ガラスから作製することによって、そ
の中央領域と周辺領域の透過率差を低減し、さらにフェ
ース部の外表面に着色膜を被覆形成することによって光
透過率を下げ（例えば４０〜６０％）、コントラストを
向上することが試みられている。
を、光透過率の低いガラスから作製すると、フェース部
の中央部と周辺部の肉厚差による光の透過量の違いが大
きくなり、中央部と周辺部の映像に輝度差が生じること
になる。そのため、ガラスパネルを光透過率の高い（例
えば７０％以上）ガラスから作製することによって、そ
の中央領域と周辺領域の透過率差を低減し、さらにフェ
ース部の外表面に着色膜を被覆形成することによって光
透過率を下げ（例えば４０〜６０％）、コントラストを
向上することが試みられている。
【０００８】上記した特表平６−５１０３８２号や特開
平９−１５６９６４号に開示された導電性反射防止膜
は、導電層としてＮｂＮやＴｉＮ等の着色膜が使用さ
れ、このような着色膜を用いて、陰極線管のコントラス
トを向上させるために透過率が５０％程度の膜を成膜す
る場合、それぞれ２５ｎｍ、８ｎｍ程度の幾何学的厚み
が必要となるが、抵抗値は十分低くなる。さらにこのよ
うな着色膜に加えてＳｉＯ 2を主成分とする層等を積層
し多層膜にすると、各層の干渉作用により表面反射率は
十分に低くなる。
平９−１５６９６４号に開示された導電性反射防止膜
は、導電層としてＮｂＮやＴｉＮ等の着色膜が使用さ
れ、このような着色膜を用いて、陰極線管のコントラス
トを向上させるために透過率が５０％程度の膜を成膜す
る場合、それぞれ２５ｎｍ、８ｎｍ程度の幾何学的厚み
が必要となるが、抵抗値は十分低くなる。さらにこのよ
うな着色膜に加えてＳｉＯ 2を主成分とする層等を積層
し多層膜にすると、各層の干渉作用により表面反射率は
十分に低くなる。
【０００９】しかしながらＮｂＮ、ＴｉＮの着色膜は、
可視光の屈折率が、それぞれ１．３〜１．８、２．５〜
３．７であり、また可視光の吸収係数がそれぞれ１．４
〜２．４、２．１〜３．１であり、強い光吸収性を有し
ているため、これを使用した導電性反射防止膜は、裏面
反射率が高くなるという問題がある。
可視光の屈折率が、それぞれ１．３〜１．８、２．５〜
３．７であり、また可視光の吸収係数がそれぞれ１．４
〜２．４、２．１〜３．１であり、強い光吸収性を有し
ているため、これを使用した導電性反射防止膜は、裏面
反射率が高くなるという問題がある。
【００１０】このような裏面反射率の高い導電性反射防
止膜を、光透過率の高いガラスから作製されたフラット
ガラスパネルのフェース部外表面に被覆形成すると、陰
極線管内面の蛍光体の光が導電性反射防止膜の裏面で反
射され、再び陰極線管内面で反射されるので、陰極線管
の表面には蛍光体からの直接光による映像と、反射光に
よる位置がずれた映像とが同時に映し出され、映像が二
重に見えるという欠点を有している。
止膜を、光透過率の高いガラスから作製されたフラット
ガラスパネルのフェース部外表面に被覆形成すると、陰
極線管内面の蛍光体の光が導電性反射防止膜の裏面で反
射され、再び陰極線管内面で反射されるので、陰極線管
の表面には蛍光体からの直接光による映像と、反射光に
よる位置がずれた映像とが同時に映し出され、映像が二
重に見えるという欠点を有している。
【００１１】さらに陰極線管を生産する場合、ガラスパ
ネル上に各種の機能膜を形成した後で、ファンネルとフ
リットシールされ、さらに内部が排気されるが、このよ
うなシール工程や排気工程では４００℃以上の熱処理が
施される。ところが上記した従来の導電性反射防止膜
は、この熱処理の前後で反射率や抵抗値が変動しやすい
ため、所期の反射率や電磁波遮蔽能力が得られなくなる
可能性がある。
ネル上に各種の機能膜を形成した後で、ファンネルとフ
リットシールされ、さらに内部が排気されるが、このよ
うなシール工程や排気工程では４００℃以上の熱処理が
施される。ところが上記した従来の導電性反射防止膜
は、この熱処理の前後で反射率や抵抗値が変動しやすい
ため、所期の反射率や電磁波遮蔽能力が得られなくなる
可能性がある。
【００１２】また特開平１１−２３０８６３号には、Ｔ
ｉとＣｕの金属微粒子からなる第１の層と、ＳｉＯ2か
らなる第２の層から構成される導電性反射防止膜が開示
され、この導電性反射防止膜は、反射低減、コントラス
ト向上、帯電防止性と電磁波遮蔽性について優れた能力
を有しており、裏面反射率も低いが、やはり熱処理によ
って反射率や抵抗値が変動しやすいという問題がある。
ｉとＣｕの金属微粒子からなる第１の層と、ＳｉＯ2か
らなる第２の層から構成される導電性反射防止膜が開示
され、この導電性反射防止膜は、反射低減、コントラス
ト向上、帯電防止性と電磁波遮蔽性について優れた能力
を有しており、裏面反射率も低いが、やはり熱処理によ
って反射率や抵抗値が変動しやすいという問題がある。
【００１３】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あり、反射光の低減とコントラストの向上が図れ、優れ
た帯電防止性と電磁波遮蔽性を付与し、シール工程や排
気工程における熱処理の前後で反射率や抵抗値が変動し
難く、しかも光透過率の高いガラス基体に被覆形成して
も、映像が二重に見えることがない導電性反射防止膜
と、それがフェース部の外表面に被覆形成された陰極線
管用ガラスパネルを提供することを目的とする。
あり、反射光の低減とコントラストの向上が図れ、優れ
た帯電防止性と電磁波遮蔽性を付与し、シール工程や排
気工程における熱処理の前後で反射率や抵抗値が変動し
難く、しかも光透過率の高いガラス基体に被覆形成して
も、映像が二重に見えることがない導電性反射防止膜
と、それがフェース部の外表面に被覆形成された陰極線
管用ガラスパネルを提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の導電性反射防止
膜は、基体上に形成される２つの層を含み、基体側から
順に第１の層、第２の層と呼ぶとき、第１の層は、金、
銀、白金族の元素およびそれらの化合物から選ばれる少
なくとも１種と、コバルト含有無機顔料を含み、幾何学
的厚みが７０〜２５０ｎｍの層であり、第２の層は、屈
折率が１．３〜１．６の層であることを特徴とする。
膜は、基体上に形成される２つの層を含み、基体側から
順に第１の層、第２の層と呼ぶとき、第１の層は、金、
銀、白金族の元素およびそれらの化合物から選ばれる少
なくとも１種と、コバルト含有無機顔料を含み、幾何学
的厚みが７０〜２５０ｎｍの層であり、第２の層は、屈
折率が１．３〜１．６の層であることを特徴とする。
【００１５】また本発明の陰極線管用ガラスパネルは、
導電性反射防止膜がフェース部の外表面に被覆形成さ
れ、フェース部の外表面の平均曲率半径がフェース部中
央を通全放射方向において１００００ｍｍ以上であり、
肉厚を１０．１６ｍｍに換算した場合の波長５５０ｎｍ
における光透過率が７０％以上のガラスからなり、前記
導電性反射防止膜は、フェース側から順に第１の層、第
２の層と呼ぶとき、第１の層は、金、銀、白金族の元素
およびそれらの化合物から選ばれる少なくとも１種と、
コバルト含有無機顔料を含み、幾何学的厚みが７０〜２
５０ｎｍの層であり、第２の層は、屈折率が１．３〜
１．６の層であることを特徴とする。
導電性反射防止膜がフェース部の外表面に被覆形成さ
れ、フェース部の外表面の平均曲率半径がフェース部中
央を通全放射方向において１００００ｍｍ以上であり、
肉厚を１０．１６ｍｍに換算した場合の波長５５０ｎｍ
における光透過率が７０％以上のガラスからなり、前記
導電性反射防止膜は、フェース側から順に第１の層、第
２の層と呼ぶとき、第１の層は、金、銀、白金族の元素
およびそれらの化合物から選ばれる少なくとも１種と、
コバルト含有無機顔料を含み、幾何学的厚みが７０〜２
５０ｎｍの層であり、第２の層は、屈折率が１．３〜
１．６の層であることを特徴とする。
【００１６】
【作用】本発明における第１の層、すなわち金、銀、白
金族の元素およびそれらの化合物から選ばれる少なくと
も１種と、コバルト含有無機顔料を含む層は、屈折率が
１．２〜２．５、可視光の吸収係数が０．０５〜１．０
の導電性を備えた光吸収性の低い着色層であり、膜と基
体との密着強度を向上させると共に、第２の層との干渉
作用により表面反射光を低減したり、裏面反射光を低減
する作用を有している。因みに白金族元素とは、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔの６元素であり、コバル
ト含有無機顔料としては、例えばコバルトブルー（Ｃ
ｏ，Ｍｇ）Ｏ・Ａｌ2Ｏ3、コバルトグリーンＣｏＯ−Ｚ
ｎＯ，セルリアンブルー２（Ｃｏ，Ｍｇ）Ｏ・ＳｎＯ2
等が適している。特に第１層として、Ｒｕとコバルトブ
ルーを含む層を使用することが最も望ましい。その理由
は、Ｒｕは、可視光領域における短波長側の光吸収が強
く、長波長側の光吸収が弱いという特徴を有し、逆にコ
バルトブルーは、短波長側の光吸収が弱く、長波長側の
光吸収が強いという特徴を有しており、Ｒｕとコバルト
ブルーを含む層は、光吸収のバランスが非常に良いから
である。
金族の元素およびそれらの化合物から選ばれる少なくと
も１種と、コバルト含有無機顔料を含む層は、屈折率が
１．２〜２．５、可視光の吸収係数が０．０５〜１．０
の導電性を備えた光吸収性の低い着色層であり、膜と基
体との密着強度を向上させると共に、第２の層との干渉
作用により表面反射光を低減したり、裏面反射光を低減
する作用を有している。因みに白金族元素とは、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔの６元素であり、コバル
ト含有無機顔料としては、例えばコバルトブルー（Ｃ
ｏ，Ｍｇ）Ｏ・Ａｌ2Ｏ3、コバルトグリーンＣｏＯ−Ｚ
ｎＯ，セルリアンブルー２（Ｃｏ，Ｍｇ）Ｏ・ＳｎＯ2
等が適している。特に第１層として、Ｒｕとコバルトブ
ルーを含む層を使用することが最も望ましい。その理由
は、Ｒｕは、可視光領域における短波長側の光吸収が強
く、長波長側の光吸収が弱いという特徴を有し、逆にコ
バルトブルーは、短波長側の光吸収が弱く、長波長側の
光吸収が強いという特徴を有しており、Ｒｕとコバルト
ブルーを含む層は、光吸収のバランスが非常に良いから
である。
【００１７】この第１の層の幾何学的厚みは７０〜２５
０ｎｍである。すなわち、第１の層の幾何学的厚みが、
７０ｎｍ未満では、表面反射率や裏面反射率を低減する
効果が十分に発揮され難い。特に陰極線管用ガラスパネ
ルの場合、膜の裏面反射率がガラスの反射率（４．５
％）を超えると、映像が二重に見えやすくなるが、第１
の層の幾何学的厚みが７０ｎｍ未満では、裏面反射率を
４．５％以下に抑えることが非常に困難となる。また、
第１層をスピンコート法等のように液体を利用する方法
で成膜する場合、厚みをあまり大きくすることは技術的
に困難であり、さらにスパッタリング法等のように気相
を利用する方法で成膜する場合、厚みを大きくするほど
時間がかかり、作業面、コスト面で実用的でないため、
２５０ｎｍまでに抑えるべきである。第１層の好ましい
幾何学的厚みは、８０〜２２０ｎｍ、より好ましい幾何
学的厚みは、８５〜２００ｎｍである。
０ｎｍである。すなわち、第１の層の幾何学的厚みが、
７０ｎｍ未満では、表面反射率や裏面反射率を低減する
効果が十分に発揮され難い。特に陰極線管用ガラスパネ
ルの場合、膜の裏面反射率がガラスの反射率（４．５
％）を超えると、映像が二重に見えやすくなるが、第１
の層の幾何学的厚みが７０ｎｍ未満では、裏面反射率を
４．５％以下に抑えることが非常に困難となる。また、
第１層をスピンコート法等のように液体を利用する方法
で成膜する場合、厚みをあまり大きくすることは技術的
に困難であり、さらにスパッタリング法等のように気相
を利用する方法で成膜する場合、厚みを大きくするほど
時間がかかり、作業面、コスト面で実用的でないため、
２５０ｎｍまでに抑えるべきである。第１層の好ましい
幾何学的厚みは、８０〜２２０ｎｍ、より好ましい幾何
学的厚みは、８５〜２００ｎｍである。
【００１８】また第２の層は、可視光の屈折率が１．３
〜１．６の透明層であり、第１の層との干渉効果により
表面反射光と裏面反射光を低減する作用を有している。
第２の層の幾何学的厚みとしては、６０〜１５０ｎｍが
適しており、また使用する材料としては、二酸化珪素
（ＳｉＯ2）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、フッ化マ
グネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化カルシウム（Ｃａ
Ｆ2）、フッ化セリウム（ＣｅＦ3、ＣｅＦ4）、フッ化
アルミニウム（ＡｌＦ3）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ
3）が適している。特にＳｉＯ2を主成分とする層は、可
視光の屈折率が１．４〜１．６の透明層であり、第１の
層との干渉効果により表面反射光と裏面反射光を低減す
る作用に優れ、しかも低コストで、成膜の作業性にも優
れているため好適である。
〜１．６の透明層であり、第１の層との干渉効果により
表面反射光と裏面反射光を低減する作用を有している。
第２の層の幾何学的厚みとしては、６０〜１５０ｎｍが
適しており、また使用する材料としては、二酸化珪素
（ＳｉＯ2）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、フッ化マ
グネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化カルシウム（Ｃａ
Ｆ2）、フッ化セリウム（ＣｅＦ3、ＣｅＦ4）、フッ化
アルミニウム（ＡｌＦ3）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ
3）が適している。特にＳｉＯ2を主成分とする層は、可
視光の屈折率が１．４〜１．６の透明層であり、第１の
層との干渉効果により表面反射光と裏面反射光を低減す
る作用に優れ、しかも低コストで、成膜の作業性にも優
れているため好適である。
【００１９】尚、上記した可視光の吸収係数とは、物体
を透過する前後の光強度の対数比を意味している。記号
を用いて説明すると、物体に吸収される吸収光の放射束
をａ、物体に入射する入射光の放射束をｉ、物体表面で
反射される反射光の放射束をｒ、物体を透過する透過光
の放射束をｔとするとき、ａ＝ｉ−ｒ−ｔという式が成
り立つ。Ｌａｍｂｅｒｔ−Ｂｏｕｇｕｅｒの法則によ
り、入射光の放射束ｉに対する透過光の放射束ｔの比の
対数は、物体を透過する光の透過距離ｘに比例するの
で、ｌｎ（ｔ／ｉ）＝−ｋｘの関係が成り立つ。このと
きの比例係数ｋを吸収係数という。基板上に薄膜を形成
した場合、薄膜の表面の反射と、基板と薄膜との界面で
の反射とが生じ、これら二つの反射光が干渉するため、
吸収係数ｋは薄膜の反射率にも影響する。この吸収係数
ｋが０．０５未満であると、薄膜の厚さｘが同じ場合、
入射光の放射束ｉに対して透過光の放射束ｔが大きくな
り着色性が弱く、コントラストが悪くなる。一方、１．
０を越えると入射光の放射束ｉに対して透過光の放射束
ｔが小さくなり着色性が強すぎて薄膜の裏面反射率が大
きくなり、光透過率の高いガラスからなる陰極線管用ガ
ラスパネル上に薄膜を形成すると、陰極線管に映し出さ
れた映像が二重に見えることになる。
を透過する前後の光強度の対数比を意味している。記号
を用いて説明すると、物体に吸収される吸収光の放射束
をａ、物体に入射する入射光の放射束をｉ、物体表面で
反射される反射光の放射束をｒ、物体を透過する透過光
の放射束をｔとするとき、ａ＝ｉ−ｒ−ｔという式が成
り立つ。Ｌａｍｂｅｒｔ−Ｂｏｕｇｕｅｒの法則によ
り、入射光の放射束ｉに対する透過光の放射束ｔの比の
対数は、物体を透過する光の透過距離ｘに比例するの
で、ｌｎ（ｔ／ｉ）＝−ｋｘの関係が成り立つ。このと
きの比例係数ｋを吸収係数という。基板上に薄膜を形成
した場合、薄膜の表面の反射と、基板と薄膜との界面で
の反射とが生じ、これら二つの反射光が干渉するため、
吸収係数ｋは薄膜の反射率にも影響する。この吸収係数
ｋが０．０５未満であると、薄膜の厚さｘが同じ場合、
入射光の放射束ｉに対して透過光の放射束ｔが大きくな
り着色性が弱く、コントラストが悪くなる。一方、１．
０を越えると入射光の放射束ｉに対して透過光の放射束
ｔが小さくなり着色性が強すぎて薄膜の裏面反射率が大
きくなり、光透過率の高いガラスからなる陰極線管用ガ
ラスパネル上に薄膜を形成すると、陰極線管に映し出さ
れた映像が二重に見えることになる。
【００２０】また幾何学的厚みとは、λ／４等の光学的
厚みと区別するもので、波長に依存しない厚みを意味す
るものである。
厚みと区別するもので、波長に依存しない厚みを意味す
るものである。
【００２１】さらに本発明においては、上記したような
第１、第２の層以外にも、必要に応じて膜の密着性を向
上させたり、色調を調整する目的で、付加的な薄膜の層
を適宜設けることも可能である。
第１、第２の層以外にも、必要に応じて膜の密着性を向
上させたり、色調を調整する目的で、付加的な薄膜の層
を適宜設けることも可能である。
【００２２】本発明の導電性反射防止膜の成膜方法とし
ては、一般的な薄膜形成手段が使用できる。例えばスピ
ンコート法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ
法、ゾルゲル法等が適用可能であるが、厚みの大きい薄
膜（例えば幾何学的厚みが１００ｎｍ程度）を比較的安
価に作製できるという理由からスピンコート法が最も適
している。
ては、一般的な薄膜形成手段が使用できる。例えばスピ
ンコート法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ
法、ゾルゲル法等が適用可能であるが、厚みの大きい薄
膜（例えば幾何学的厚みが１００ｎｍ程度）を比較的安
価に作製できるという理由からスピンコート法が最も適
している。
【００２３】
【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００２４】表１〜３は、実施例と比較例の導電性反射
防止膜を構成する各層の材料と、幾何学的厚みを示すも
のである。
防止膜を構成する各層の材料と、幾何学的厚みを示すも
のである。
【００２５】
【表１】
【００２６】
【表２】
【００２７】
【表３】
【００２８】表中の実施例１〜４と比較例２、３の導電
性反射防止膜の作製方法は次のとおりである。まずフェ
ース部の外表面の平均曲率半径の最小値（フェース部中
央を通る全放射方向において）が５００００ｍｍで、肉
厚を１０．１６ｍｍに換算した場合の波長５５０ｎｍに
おける光透過率が８０％のガラスからなる陰極線管用ガ
ラスパネル（１７インチサイズ）を準備した。次いで第
１層と第２層の所定の分量の膜材料を含む溶液を準備
し、ガラスパネルのフェース部の外表面に対し、周知の
スピンコート法を用いて第１層を成膜し、次いで第２層
を成膜した。
性反射防止膜の作製方法は次のとおりである。まずフェ
ース部の外表面の平均曲率半径の最小値（フェース部中
央を通る全放射方向において）が５００００ｍｍで、肉
厚を１０．１６ｍｍに換算した場合の波長５５０ｎｍに
おける光透過率が８０％のガラスからなる陰極線管用ガ
ラスパネル（１７インチサイズ）を準備した。次いで第
１層と第２層の所定の分量の膜材料を含む溶液を準備
し、ガラスパネルのフェース部の外表面に対し、周知の
スピンコート法を用いて第１層を成膜し、次いで第２層
を成膜した。
【００２９】また比較例１の導電性反射防止膜は、上記
と同じ陰極線管用ガラスパネルのフェース部の外表面に
マグネトロンスパッタ装置を用いて各層を順番に成膜し
た。
と同じ陰極線管用ガラスパネルのフェース部の外表面に
マグネトロンスパッタ装置を用いて各層を順番に成膜し
た。
【００３０】因みに、上記の膜は、波長５５０ｎｍにお
ける光透過率が５０％となるように調整したものであ
り、Ｒｕ＋（Ｃｏ，Ｍｇ）Ｏ・Ａｌ2Ｏ3の層は、Ｒｕと
（Ｃｏ，Ｍｇ）Ｏ・Ａｌ2Ｏ3の比率を変えることによっ
て、その厚みを調整した。
ける光透過率が５０％となるように調整したものであ
り、Ｒｕ＋（Ｃｏ，Ｍｇ）Ｏ・Ａｌ2Ｏ3の層は、Ｒｕと
（Ｃｏ，Ｍｇ）Ｏ・Ａｌ2Ｏ3の比率を変えることによっ
て、その厚みを調整した。
【００３１】こうして得られた実施例と比較例の膜付き
陰極線管用ガラスパネルを箱型電気炉に入れ、４５０
℃、６０分間の熱処理を行い、熱処理前後の波長５５０
ｎｍにおける表面反射率と抵抗値、熱処理後の裏面反射
率を測定し、その結果を表４に示した。
陰極線管用ガラスパネルを箱型電気炉に入れ、４５０
℃、６０分間の熱処理を行い、熱処理前後の波長５５０
ｎｍにおける表面反射率と抵抗値、熱処理後の裏面反射
率を測定し、その結果を表４に示した。
【００３２】
【表４】
【００３３】表４から明らかなように、実施例１〜４の
膜は、熱処理前と熱処理後の表面反射率の変動が小さ
く、抵抗値の変動も小さかった。また裏面反射率が、ガ
ラスの反射率（４．５％）より低いため、陰極線管の映
像が二重に見えることがないと推察される。
膜は、熱処理前と熱処理後の表面反射率の変動が小さ
く、抵抗値の変動も小さかった。また裏面反射率が、ガ
ラスの反射率（４．５％）より低いため、陰極線管の映
像が二重に見えることがないと推察される。
【００３４】それに対し、比較例１の膜は、熱処理前後
の表面反射率と抵抗値の変動が大きく、しかも裏面反射
率が高かった。また比較例２の膜は、熱処理前後の表面
反射率と抵抗値の変動が大きかった。さらに比較例３の
膜は、裏面反射率が大きかった。
の表面反射率と抵抗値の変動が大きく、しかも裏面反射
率が高かった。また比較例２の膜は、熱処理前後の表面
反射率と抵抗値の変動が大きかった。さらに比較例３の
膜は、裏面反射率が大きかった。
【００３５】尚、表中の表面反射率は、瞬間マルチ反射
率測定器を用いて１５°正反射を測定したものである。
また抵抗値は、ガラスパネルのフェース部の短辺両側の
中央部に超音波ハンダで電極を取り付け、電極間の抵抗
をテスターで測定したものである。さらに裏面反射率
は、瞬間マルチ反射率測定器を用い、ガラスの反射率と
吸収率を考慮して求めたものである。
率測定器を用いて１５°正反射を測定したものである。
また抵抗値は、ガラスパネルのフェース部の短辺両側の
中央部に超音波ハンダで電極を取り付け、電極間の抵抗
をテスターで測定したものである。さらに裏面反射率
は、瞬間マルチ反射率測定器を用い、ガラスの反射率と
吸収率を考慮して求めたものである。
【００３６】
【発明の効果】以上のように本発明の導電性反射防止膜
は、反射光の低減、コントラストの向上、帯電防止及び
電磁波遮蔽について優れた能力を有し、４００℃以上の
熱処理を施す前後の反射率や抵抗値の変動が小さく、し
かも光透過率の高い陰極線管用ガラスパネルのフェース
部外表面に被覆形成しても、裏面反射率が低いため、映
像が二重に見えることがなく、特にフェース部外表面が
平坦な陰極線管用フラットガラスパネルに成膜される導
電性反射防止膜として好適である。
は、反射光の低減、コントラストの向上、帯電防止及び
電磁波遮蔽について優れた能力を有し、４００℃以上の
熱処理を施す前後の反射率や抵抗値の変動が小さく、し
かも光透過率の高い陰極線管用ガラスパネルのフェース
部外表面に被覆形成しても、裏面反射率が低いため、映
像が二重に見えることがなく、特にフェース部外表面が
平坦な陰極線管用フラットガラスパネルに成膜される導
電性反射防止膜として好適である。
【００３７】また本発明の導電性反射防止膜は、スピン
コート法によって成膜でき、しかも膜総数が基本的に２
層構造でありながら所期の特性が得られるため、安価に
作製することができ、陰極線管以外にも、成膜後に高温
の熱処理が施される液晶ディスプレイ基板やプラズマデ
ィスプレイ基板等の各種ディスプレイに適用できる。
コート法によって成膜でき、しかも膜総数が基本的に２
層構造でありながら所期の特性が得られるため、安価に
作製することができ、陰極線管以外にも、成膜後に高温
の熱処理が施される液晶ディスプレイ基板やプラズマデ
ィスプレイ基板等の各種ディスプレイに適用できる。
【００３８】さらに本発明の陰極線管用ガラスパネル
は、フェース部の外表面の平均曲率半径がフェース部中
央を通る全放射方向において１００００ｍｍ以上のフラ
ットパネルであるが、肉厚を１０．１６ｍｍに換算した
場合の波長５５０ｎｍにおける光透過率が７０％以上の
ガラスからなるため、フェース部の中央部と周辺部の輝
度差が小さく、またフェース部の外表面に上記した導電
性反射防止膜が被覆形成されてなるため、表面反射率が
低く、コントラストが高く、優れた帯電防止性と電磁波
遮蔽性を有し、しかも裏面反射率が低いため、映像が二
重に見えることのない陰極線管を得ることが可能とな
る。
は、フェース部の外表面の平均曲率半径がフェース部中
央を通る全放射方向において１００００ｍｍ以上のフラ
ットパネルであるが、肉厚を１０．１６ｍｍに換算した
場合の波長５５０ｎｍにおける光透過率が７０％以上の
ガラスからなるため、フェース部の中央部と周辺部の輝
度差が小さく、またフェース部の外表面に上記した導電
性反射防止膜が被覆形成されてなるため、表面反射率が
低く、コントラストが高く、優れた帯電防止性と電磁波
遮蔽性を有し、しかも裏面反射率が低いため、映像が二
重に見えることのない陰極線管を得ることが可能とな
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０３Ｃ 17/36 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９Ａ ５Ｇ４３５ Ｇ０２Ｂ 1/10 ３１３ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９ Ｈ０１Ｊ 29/88 ３１３ Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｚ Ｈ０１Ｊ 29/88 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ // Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｚ Ｆターム(参考） 2K009 AA05 BB02 CC01 CC02 CC03 CC06 CC14 EE00 EE01 EE03 4F100 AA17 AA17H AA18 AA18H AA19 AA19H AA28 AA28H AB15B AB15H AB24B AB25B AG00D AR00C AT00A BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C BA10D CA13B EH46 GB41 JA20B JD08 JG01 JG03 JN06 JN06C JN08 JN08D YY00B YY00C YY00D 4G059 AA07 AC04 AC12 DA01 DA02 DA03 DB04 EA01 EA05 EB05 GA01 GA04 GA12 GA14 5C032 AA02 DD02 DE01 DF05 DG01 DG02 5G307 GA06 GA08 GC01 GC02 5G435 AA01 AA02 AA03 AA16 BB02 DD11 FF01 GG33 HH12
Claims (2)
- 【請求項１】 基体上に形成される２つの層を含み、基
体側から順に第１の層、第２の層と呼ぶとき、第１の層
は、金、銀、白金族の元素およびそれらの化合物から選
ばれる少なくとも１種と、コバルト含有無機顔料を含
み、幾何学的厚みが７０〜２５０ｎｍの層であり、第２
の層は、屈折率が１．３〜１．６の層であることを特徴
とする導電性反射防止膜。 - 【請求項２】 導電性反射防止膜がフェース部の外表面
に被覆形成され、フェース部の外表面の平均曲率半径が
フェース部中央を通る全放射方向において１００００ｍ
ｍ以上であり、肉厚を１０．１６ｍｍに換算した場合の
波長５５０ｎｍにおける光透過率が７０％以上のガラス
からなり、前記導電性反射防止膜は、フェース側から順
に第１の層、第２の層と呼ぶとき、第１の層は、金、
銀、白金族の元素およびそれらの化合物から選ばれる少
なくとも１種と、コバルト含有無機顔料を含み、幾何学
的厚みが７０〜２５０ｎｍの層であり、第２の層は、屈
折率が１．３〜１．６の層であることを特徴とする陰極
線管用ガラスパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000267953A JP2002071906A (ja) | 2000-09-05 | 2000-09-05 | 導電性反射防止膜およびそれが被覆形成された陰極線管用ガラスパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000267953A JP2002071906A (ja) | 2000-09-05 | 2000-09-05 | 導電性反射防止膜およびそれが被覆形成された陰極線管用ガラスパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002071906A true JP2002071906A (ja) | 2002-03-12 |
Family
ID=18754784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000267953A Pending JP2002071906A (ja) | 2000-09-05 | 2000-09-05 | 導電性反射防止膜およびそれが被覆形成された陰極線管用ガラスパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002071906A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010107543A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | 反射防止フィルム |
| CN113540303A (zh) * | 2019-11-15 | 2021-10-22 | 厦门三安光电有限公司 | 一种发光二极管及其制作方法 |
-
2000
- 2000-09-05 JP JP2000267953A patent/JP2002071906A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010107543A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | 反射防止フィルム |
| CN113540303A (zh) * | 2019-11-15 | 2021-10-22 | 厦门三安光电有限公司 | 一种发光二极管及其制作方法 |
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