JP2000294173A - 導電性反射防止膜 - Google Patents
導電性反射防止膜Info
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- JP2000294173A JP2000294173A JP11102592A JP10259299A JP2000294173A JP 2000294173 A JP2000294173 A JP 2000294173A JP 11102592 A JP11102592 A JP 11102592A JP 10259299 A JP10259299 A JP 10259299A JP 2000294173 A JP2000294173 A JP 2000294173A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射光の低減、帯電防止及び電磁波遮蔽の能
力を有し、しかも光透過率の高いガラスパネルを用いた
陰極線管であっても映像が二重に見えることのない導電
性反射防止膜を提供する。 【解決手段】 本発明の膜は、基体上に形成される４つ
の層を含み、基体側から順に、第１の層は、ＳｎＯ2、
Ｉｎ2Ｏ3及びＺｎＯから選ばれた少なくとも１種からな
る屈折率が１．７〜２．４の透明導電層で、０．５〜３
０ｎｍの幾何学的厚みを有し、第２の層は、屈折率が
１．４〜１．６の透明層で、０．５〜６０ｎｍの幾何学
的厚みを有し、第３の層は、屈折率が１．９〜２．３の
透明層で、５０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有し、第
４の層は、屈折率が１．４〜１．６の透明層で、５０〜
２００ｎｍの幾何学的厚みを有する。
力を有し、しかも光透過率の高いガラスパネルを用いた
陰極線管であっても映像が二重に見えることのない導電
性反射防止膜を提供する。 【解決手段】 本発明の膜は、基体上に形成される４つ
の層を含み、基体側から順に、第１の層は、ＳｎＯ2、
Ｉｎ2Ｏ3及びＺｎＯから選ばれた少なくとも１種からな
る屈折率が１．７〜２．４の透明導電層で、０．５〜３
０ｎｍの幾何学的厚みを有し、第２の層は、屈折率が
１．４〜１．６の透明層で、０．５〜６０ｎｍの幾何学
的厚みを有し、第３の層は、屈折率が１．９〜２．３の
透明層で、５０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有し、第
４の層は、屈折率が１．４〜１．６の透明層で、５０〜
２００ｎｍの幾何学的厚みを有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、導電性反射防止膜に関
し、特に４００℃以上の熱処理が施される陰極線管用ガ
ラスパネルの前面に形成するのに適した導電性反射防止
膜に関するものである。
し、特に４００℃以上の熱処理が施される陰極線管用ガ
ラスパネルの前面に形成するのに適した導電性反射防止
膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、陰極線管の表示面であるパネ
ル前面には、反射低減が要求されており、最近では、帯
電防止や人体に悪影響を及ぼす極低周波の電磁波を遮蔽
することも求められるようになってきている。
ル前面には、反射低減が要求されており、最近では、帯
電防止や人体に悪影響を及ぼす極低周波の電磁波を遮蔽
することも求められるようになってきている。
【０００３】そのため、陰極線管のパネル前面に各種の
多層膜を形成することによって、陰極線管に、反射光の
低減、コントラストの向上、帯電防止及び電磁波遮蔽の
機能を付与することが試みられており、これらの特性を
満足させる導電性反射防止膜として、例えば特表平６−
５１０３８２号公報には、基体側から順に、ＮｂＮを含
む層、ＴｉＯ2を含む層、ＳｉＯ2を含む層からなる導電
性反射防止膜が提案されている。
多層膜を形成することによって、陰極線管に、反射光の
低減、コントラストの向上、帯電防止及び電磁波遮蔽の
機能を付与することが試みられており、これらの特性を
満足させる導電性反射防止膜として、例えば特表平６−
５１０３８２号公報には、基体側から順に、ＮｂＮを含
む層、ＴｉＯ2を含む層、ＳｉＯ2を含む層からなる導電
性反射防止膜が提案されている。
【０００４】また、特開平９−１５６９６４号公報に
は、基体側から順に、Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆから選択さ
れた金属の窒化物を主成分とする層、ＳｉＯ2層からな
る導電性反射防止膜が提案されている。
は、基体側から順に、Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆから選択さ
れた金属の窒化物を主成分とする層、ＳｉＯ2層からな
る導電性反射防止膜が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特表平
６−５１０３８２号公報や特開平９−１５６９６４号に
開示された導電性反射防止膜は、着色膜であるため、こ
れを透過率の高いガラスからなる陰極線管用ガラスパネ
ル上に形成すると、陰極線管の輝度が低下し、さらにＮ
ｂＮやＴｉＮ等の吸収層の裏面反射率が高いため、陰極
線管パネルに映し出された映像が二重に見えやすいとい
う欠点を有している。
６−５１０３８２号公報や特開平９−１５６９６４号に
開示された導電性反射防止膜は、着色膜であるため、こ
れを透過率の高いガラスからなる陰極線管用ガラスパネ
ル上に形成すると、陰極線管の輝度が低下し、さらにＮ
ｂＮやＴｉＮ等の吸収層の裏面反射率が高いため、陰極
線管パネルに映し出された映像が二重に見えやすいとい
う欠点を有している。
【０００６】また、従来の導電性反射防止膜は、４００
℃以上の熱処理の前後で反射率及び抵抗値の変動が大き
いので、反射光の低減、電磁波遮蔽能力の点で問題があ
る。
℃以上の熱処理の前後で反射率及び抵抗値の変動が大き
いので、反射光の低減、電磁波遮蔽能力の点で問題があ
る。
【０００７】本発明の目的は、反射光の低減、帯電防止
及び電磁波遮蔽の能力を有し、しかも光透過率の高いガ
ラスパネルを用いて作製した陰極線管であっても映像を
映したとき、映像が二重に見えることのない導電性反射
防止膜を提供することである。
及び電磁波遮蔽の能力を有し、しかも光透過率の高いガ
ラスパネルを用いて作製した陰極線管であっても映像を
映したとき、映像が二重に見えることのない導電性反射
防止膜を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の導電性反射防止
膜は、基体上に形成される４つの層を含み、基体側から
順に第１、第２、第３、第４の層と呼ぶ時、第１の層
は、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3及びＺｎＯから選ばれた少なく
とも１種からなる屈折率が１．７〜２．４の透明導電層
で、０．５〜３０ｎｍの幾何学的厚みを有し、第２の層
は、屈折率が１．４〜１．６の透明層で、０．５〜６０
ｎｍの幾何学的厚みを有し、第３の層は、屈折率が１．
９〜２．３の透明層で、５０〜２００ｎｍの幾何学的厚
みを有し、第４の層は、屈折率が１．４〜１．６の透明
層で、５０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有することを
特徴とする。
膜は、基体上に形成される４つの層を含み、基体側から
順に第１、第２、第３、第４の層と呼ぶ時、第１の層
は、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3及びＺｎＯから選ばれた少なく
とも１種からなる屈折率が１．７〜２．４の透明導電層
で、０．５〜３０ｎｍの幾何学的厚みを有し、第２の層
は、屈折率が１．４〜１．６の透明層で、０．５〜６０
ｎｍの幾何学的厚みを有し、第３の層は、屈折率が１．
９〜２．３の透明層で、５０〜２００ｎｍの幾何学的厚
みを有し、第４の層は、屈折率が１．４〜１．６の透明
層で、５０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有することを
特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明において、最も基体側に形成される第１
の層は、０．５〜３０ｎｍの幾何学的厚みを有する屈折
率が１．７〜２．４の透明導電層であり、ＳｎＯ2、Ｉ
ｎ2Ｏ3及びＺｎＯの１種からなる透明導電層やＩＴＯと
称するＳｎＯ2とＩｎ2Ｏ 3とからなる透明層等であるこ
とが好ましく、表面反射光の低減、裏面反射光の低減及
び導電性を付与する作用を有している。また、導電性を
調整するために、ＳｎにはＳｂをＺｎにはＡｌ等をドー
ピング材として使用することもできる。
の層は、０．５〜３０ｎｍの幾何学的厚みを有する屈折
率が１．７〜２．４の透明導電層であり、ＳｎＯ2、Ｉ
ｎ2Ｏ3及びＺｎＯの１種からなる透明導電層やＩＴＯと
称するＳｎＯ2とＩｎ2Ｏ 3とからなる透明層等であるこ
とが好ましく、表面反射光の低減、裏面反射光の低減及
び導電性を付与する作用を有している。また、導電性を
調整するために、ＳｎにはＳｂをＺｎにはＡｌ等をドー
ピング材として使用することもできる。
【００１０】また、第２の層は、０．５〜６０ｎｍの幾
何学的厚みを有する屈折率が１．４〜１．６の透明層で
あり、表面反射光の低減及び裏面反射を防止する作用を
有している。成膜性、生産コスト等を考慮すると、Ｓｉ
Ｏ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯＮ、Ａｌ2Ｏ3及びＡｌＯＮから
選ばれた少なくとも１種からなる透明層であることが好
ましい。
何学的厚みを有する屈折率が１．４〜１．６の透明層で
あり、表面反射光の低減及び裏面反射を防止する作用を
有している。成膜性、生産コスト等を考慮すると、Ｓｉ
Ｏ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯＮ、Ａｌ2Ｏ3及びＡｌＯＮから
選ばれた少なくとも１種からなる透明層であることが好
ましい。
【００１１】さらに、第３の層は、５０〜２００ｎｍの
幾何学的厚みを有する屈折率が１．９〜２．３の透明層
であり、表面反射光の低減、裏面反射光の低減の作用を
有している。成膜性、生産コスト等を考慮すると、Ｔｉ
Ｏ2の透明層であることが好ましい。
幾何学的厚みを有する屈折率が１．９〜２．３の透明層
であり、表面反射光の低減、裏面反射光の低減の作用を
有している。成膜性、生産コスト等を考慮すると、Ｔｉ
Ｏ2の透明層であることが好ましい。
【００１２】また、第４層は、５０〜２００ｎｍの幾何
学的厚みを有する屈折率が１．４〜１．６の透明層であ
り、表面反射光の低減及び裏面反射光の低減を付与する
作用を有している。成膜性、生産コスト等を考慮する
と、ＳｉＯ2またはＳｉＯＮからなる透明層であること
が好ましい。
学的厚みを有する屈折率が１．４〜１．６の透明層であ
り、表面反射光の低減及び裏面反射光の低減を付与する
作用を有している。成膜性、生産コスト等を考慮する
と、ＳｉＯ2またはＳｉＯＮからなる透明層であること
が好ましい。
【００１３】本発明の導電性反射防止膜は、上記第１〜
第４の層の干渉効果により表面反射光、裏面反射光の低
減を付与する作用を有しており、上記に記載の屈折率、
膜厚の範囲外であると、干渉効果が得られない。
第４の層の干渉効果により表面反射光、裏面反射光の低
減を付与する作用を有しており、上記に記載の屈折率、
膜厚の範囲外であると、干渉効果が得られない。
【００１４】本発明においては、上記したような第１〜
第４の層以外にも、膜の密着性をより向上させたり、耐
熱性を付与したり、色調を調整する目的で、付加的な薄
膜層を適宜設けることも可能である。
第４の層以外にも、膜の密着性をより向上させたり、耐
熱性を付与したり、色調を調整する目的で、付加的な薄
膜層を適宜設けることも可能である。
【００１５】本発明の導電性反射防止膜の成膜方法とし
ては、一般的な薄膜形成手段が使用できる。例えばスパ
ッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スピンコート
法、ゾルゲル法などが適用可能であるが、大面積化が容
易であることや膜厚を制御しやすいこと等を考慮すると
スパッタリング法が最も好ましい。
ては、一般的な薄膜形成手段が使用できる。例えばスパ
ッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スピンコート
法、ゾルゲル法などが適用可能であるが、大面積化が容
易であることや膜厚を制御しやすいこと等を考慮すると
スパッタリング法が最も好ましい。
【００１６】このような第１〜第４の層からなる本発明
の導電性反射防止膜は、透明膜であるので、陰極線管パ
ネル上に形成しても輝度が低下せず、またＮｂＮやＴｉ
Ｎの膜を使用していないので、映像が二重に見えること
がない。
の導電性反射防止膜は、透明膜であるので、陰極線管パ
ネル上に形成しても輝度が低下せず、またＮｂＮやＴｉ
Ｎの膜を使用していないので、映像が二重に見えること
がない。
【００１７】尚、各層の屈折率や膜厚は、反射光の低
減、帯電防止、電磁波遮蔽の各特性を考慮して限定した
ものであり、屈折率や膜厚が上記の範囲外になると、こ
れらの特性が不十分となりやすいため、好ましくない。
減、帯電防止、電磁波遮蔽の各特性を考慮して限定した
ものであり、屈折率や膜厚が上記の範囲外になると、こ
れらの特性が不十分となりやすいため、好ましくない。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の導電性反射防止膜を実施例に
基づいて詳細に説明する。
基づいて詳細に説明する。
【００１９】表１及び表２は、実施例１〜５の導電性反
射防止膜及び比較例の導電性反射防止膜を示すものであ
る。
射防止膜及び比較例の導電性反射防止膜を示すものであ
る。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【表２】
【００２２】表中の導電性反射防止膜は、次のようにし
て作製した。
て作製した。
【００２３】まず１７インチサイズの陰極線管用ガラス
パネルを準備し、その前面にマグネトロンスパッタ成膜
装置を用いて、表に示すような４層構造の導電性反射防
止膜を形成した。表中の膜構成の欄には、各層の材料
と、幾何学的厚みを示した。
パネルを準備し、その前面にマグネトロンスパッタ成膜
装置を用いて、表に示すような４層構造の導電性反射防
止膜を形成した。表中の膜構成の欄には、各層の材料
と、幾何学的厚みを示した。
【００２４】こうして得られた各試料を箱型電気炉に入
れ、４５０℃、６０分間の熱処理を行い、熱処理前後の
波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍ、波長６２０ｎｍにお
ける反射率と、抵抗値を測定した。
れ、４５０℃、６０分間の熱処理を行い、熱処理前後の
波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍ、波長６２０ｎｍにお
ける反射率と、抵抗値を測定した。
【００２５】その結果、実施例１〜５の試料は、比較例
の試料に比べて熱処理前と熱処理後の表面反射率の変動
が小さく、抵抗値の変動も小さかった。また実施例の各
試料は、全て透明層からなり膜透過率が高いため、高い
輝度の陰極線管が得られ、さらに比較例の試料に比べて
裏面反射率が低いため、映像が二重に見えることがない
と推測される。
の試料に比べて熱処理前と熱処理後の表面反射率の変動
が小さく、抵抗値の変動も小さかった。また実施例の各
試料は、全て透明層からなり膜透過率が高いため、高い
輝度の陰極線管が得られ、さらに比較例の試料に比べて
裏面反射率が低いため、映像が二重に見えることがない
と推測される。
【００２６】尚、表中の表面反射率は、瞬間マルチ反射
率測定器を用いて１５゜正反射を測定したものである。
率測定器を用いて１５゜正反射を測定したものである。
【００２７】また、抵抗値は、パネル短辺側の中央部に
超音波ハンダで電極を取り付け、電極間の抵抗をテスタ
ーで測定したものである。
超音波ハンダで電極を取り付け、電極間の抵抗をテスタ
ーで測定したものである。
【００２８】さらに、膜透過率は、自記分光光度計によ
って測定し、裏面反射率は、瞬間マルチ反射率測定器に
よって測定した。
って測定し、裏面反射率は、瞬間マルチ反射率測定器に
よって測定した。
【００２９】
【発明の効果】以上のように本発明の導電性反射防止膜
は、反射光の低減、帯電防止及び電磁波遮蔽について優
れた能力を有し、さらに陰極線管用ガラスパネル上に形
成しても、輝度が低下したり、映像が二重に見えること
がないため、陰極線管用ガラスパネル上に成膜される導
電性反射防止膜として好適である。また、これ以外にも
成膜後に高温の熱処理が施される液晶ディスプレイ基板
やプラズマディスプレイ基板等の各種ディスプレイにも
適用可能である。
は、反射光の低減、帯電防止及び電磁波遮蔽について優
れた能力を有し、さらに陰極線管用ガラスパネル上に形
成しても、輝度が低下したり、映像が二重に見えること
がないため、陰極線管用ガラスパネル上に成膜される導
電性反射防止膜として好適である。また、これ以外にも
成膜後に高温の熱処理が施される液晶ディスプレイ基板
やプラズマディスプレイ基板等の各種ディスプレイにも
適用可能である。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA07 BB02 CC02 CC03 DD02 DD03 DD04 EE03 5C032 AA02 DD02 DE01 DE03 DF05 DG01 DG02
Claims (4)
- 【請求項１】 基体上に形成される４つの層を含み、基
体側から順に第１、第２、第３、第４の層と呼ぶ時、第
１の層は、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3及びＺｎＯから選ばれた
少なくとも１種からなる屈折率が１．７〜２．４の透明
導電層で、０．５〜３０ｎｍの幾何学的厚みを有し、第
２の層は、屈折率が１．４〜１．６の透明層で、０．５
〜６０ｎｍの幾何学的厚みを有し、第３の層は、屈折率
が１．９〜２．３の透明層で、５０〜２００ｎｍの幾何
学的厚みを有し、第４の層は、屈折率が１．４〜１．６
の透明層で、５０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有する
ことを特徴とする導電性反射防止膜。 - 【請求項２】 第２の層が、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、Ｓｉ
ＯＮ、Ａｌ2Ｏ3及びＡｌＯＮから選ばれた少なくとも１
種からなる透明層である請求項１に記載の導電性反射防
止膜。 - 【請求項３】 第３の層が、ＴｉＯ2の透明層である請
求項１に記載の導電性反射防止膜。 - 【請求項４】 第４の層が、ＳｉＯ2またはＳｉＯＮか
らなる透明層である請求項１に記載の導電性反射防止
膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11102592A JP2000294173A (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | 導電性反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11102592A JP2000294173A (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | 導電性反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000294173A true JP2000294173A (ja) | 2000-10-20 |
Family
ID=14331518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11102592A Pending JP2000294173A (ja) | 1999-04-09 | 1999-04-09 | 導電性反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000294173A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005352303A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Pentax Corp | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 |
| JP2006221144A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-08-24 | Pentax Corp | 防曇性反射防止膜を有する光学素子及び防曇性反射防止膜の製造方法 |
| JP2013542457A (ja) * | 2010-09-03 | 2013-11-21 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 焼入れ可能な３層反射防止コーティング、焼入れ可能な３層反射防止コーティングを含む被覆物品及び／又はその製造方法 |
| WO2019058831A1 (ja) * | 2017-09-22 | 2019-03-28 | デクセリアルズ株式会社 | 光学体、及び窓材 |
-
1999
- 1999-04-09 JP JP11102592A patent/JP2000294173A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005352303A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Pentax Corp | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 |
| JP4497460B2 (ja) * | 2004-06-11 | 2010-07-07 | Ｈｏｙａ株式会社 | 反射防止膜の製造方法 |
| JP2006221144A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-08-24 | Pentax Corp | 防曇性反射防止膜を有する光学素子及び防曇性反射防止膜の製造方法 |
| JP2013542457A (ja) * | 2010-09-03 | 2013-11-21 | ガーディアン・インダストリーズ・コーポレーション | 焼入れ可能な３層反射防止コーティング、焼入れ可能な３層反射防止コーティングを含む被覆物品及び／又はその製造方法 |
| WO2019058831A1 (ja) * | 2017-09-22 | 2019-03-28 | デクセリアルズ株式会社 | 光学体、及び窓材 |
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