JP2001056401A - 導電性反射防止膜 - Google Patents
導電性反射防止膜Info
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- JP2001056401A JP2001056401A JP11230863A JP23086399A JP2001056401A JP 2001056401 A JP2001056401 A JP 2001056401A JP 11230863 A JP11230863 A JP 11230863A JP 23086399 A JP23086399 A JP 23086399A JP 2001056401 A JP2001056401 A JP 2001056401A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 膜総数が２層であっても、反射光の低減、コ
ントラストの向上、帯電防止、電磁波遮蔽に優れ、陰極
線管の輝度が低下したり、映像が二重に見えることのな
い導電性反射防止膜を提供する。 【解決手段】 本発明の導電性反射防止膜は、基体上に
形成される２つの層を含み、基体側から順に第１の層、
第２の層と呼ぶとき、第１の層は、可視光の屈折率が
１．２〜２．５であり、かつ可視光の吸収係数が０．０
５〜１．０の導電性を有する着色層であって７０〜２０
０ｎｍの幾何学的厚みを有し、第２の層は、可視光の屈
折率が１．４〜１．６であって６０〜１５０ｎｍの幾何
学的厚みを有する。
ントラストの向上、帯電防止、電磁波遮蔽に優れ、陰極
線管の輝度が低下したり、映像が二重に見えることのな
い導電性反射防止膜を提供する。 【解決手段】 本発明の導電性反射防止膜は、基体上に
形成される２つの層を含み、基体側から順に第１の層、
第２の層と呼ぶとき、第１の層は、可視光の屈折率が
１．２〜２．５であり、かつ可視光の吸収係数が０．０
５〜１．０の導電性を有する着色層であって７０〜２０
０ｎｍの幾何学的厚みを有し、第２の層は、可視光の屈
折率が１．４〜１．６であって６０〜１５０ｎｍの幾何
学的厚みを有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、導電性反射防止膜に関
し、特に陰極線管用ガラスパネルの前面に形成するのに
適した導電性反射防止膜に関するものである。
し、特に陰極線管用ガラスパネルの前面に形成するのに
適した導電性反射防止膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、陰極線管の表示面であるパネ
ル前面には、反射光の低減やコントラストの向上が要求
されており、最近では、帯電防止や、さらに人体や精密
機器に悪影響を及ぼす可能性のある電磁波を遮蔽するこ
とも求められるようになってきている。
ル前面には、反射光の低減やコントラストの向上が要求
されており、最近では、帯電防止や、さらに人体や精密
機器に悪影響を及ぼす可能性のある電磁波を遮蔽するこ
とも求められるようになってきている。
【０００３】そのため、陰極線管のパネル前面に各種の
多層膜を形成することによって、陰極線管に、反射光の
低減、コントラストの向上、帯電防止及び電磁波遮蔽の
機能を付与することが試みられており、これらの特性を
満足させる導電性反射防止膜として、例えば、特表平６
−５１０３８２号公報には、基体側から順に、ＮｂＮを
含む層、ＴｉＯ2を含む層、ＳｉＯ2を含む層からなる導
電性反射防止膜が提案されている。
多層膜を形成することによって、陰極線管に、反射光の
低減、コントラストの向上、帯電防止及び電磁波遮蔽の
機能を付与することが試みられており、これらの特性を
満足させる導電性反射防止膜として、例えば、特表平６
−５１０３８２号公報には、基体側から順に、ＮｂＮを
含む層、ＴｉＯ2を含む層、ＳｉＯ2を含む層からなる導
電性反射防止膜が提案されている。
【０００４】また、特開平９−１５６９６４号公報に
は、基体側から順に、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆから選ばれた
金属の酸化物を主成分とする層、ＳｉＯ2層からなる導
電性反射防止膜が提案されている。
は、基体側から順に、Ｔｉ、Ｚｒ及びＨｆから選ばれた
金属の酸化物を主成分とする層、ＳｉＯ2層からなる導
電性反射防止膜が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特表平
６−５１０３８２号公報や特開平９−１５６９６４号に
開示された導電性反射防止膜は、導電層がＮｂＮやＴｉ
Ｎ等の着色膜で、可視光の屈折率が、それぞれ１．３〜
１．８、２．５〜３．７であり、また可視光の吸収係数
がそれぞれ１．４〜２．４、２．１〜３．１であり、強
い光吸収性を有している。これらの膜を用い、コントラ
ストを向上させるために透過率が５０％程度の膜を成膜
する場合、着色膜はそれぞれ、２５ｎｍ、８ｎｍ程度の
幾何学的厚みが必要になる。このときのＮｂＮ膜やＴｉ
Ｎ膜の抵抗値は十分に低く、ＳｉＯ 2を含む層等を積層
し多層膜にして干渉作用により、表面反射率は十分に小
さいものになるが、強い光吸収性の着色膜を使用したた
めに、結果として導電性反射防止膜の裏面反射率が大き
くなる。このような導電性反射防止膜を光透過率の高い
ガラスからなる陰極線管用ガラスパネル上に形成する
と、陰極線管内面の蛍光体の光が導電性反射防止膜の裏
面で反射され、再び陰極線管内面で反射されるので、陰
極線管の表面には蛍光体からの直接光による映像と、反
射光による位置がずれた映像とが同時に映し出され、映
像が二重に見えるという欠点を有している。
６−５１０３８２号公報や特開平９−１５６９６４号に
開示された導電性反射防止膜は、導電層がＮｂＮやＴｉ
Ｎ等の着色膜で、可視光の屈折率が、それぞれ１．３〜
１．８、２．５〜３．７であり、また可視光の吸収係数
がそれぞれ１．４〜２．４、２．１〜３．１であり、強
い光吸収性を有している。これらの膜を用い、コントラ
ストを向上させるために透過率が５０％程度の膜を成膜
する場合、着色膜はそれぞれ、２５ｎｍ、８ｎｍ程度の
幾何学的厚みが必要になる。このときのＮｂＮ膜やＴｉ
Ｎ膜の抵抗値は十分に低く、ＳｉＯ 2を含む層等を積層
し多層膜にして干渉作用により、表面反射率は十分に小
さいものになるが、強い光吸収性の着色膜を使用したた
めに、結果として導電性反射防止膜の裏面反射率が大き
くなる。このような導電性反射防止膜を光透過率の高い
ガラスからなる陰極線管用ガラスパネル上に形成する
と、陰極線管内面の蛍光体の光が導電性反射防止膜の裏
面で反射され、再び陰極線管内面で反射されるので、陰
極線管の表面には蛍光体からの直接光による映像と、反
射光による位置がずれた映像とが同時に映し出され、映
像が二重に見えるという欠点を有している。
【０００６】本発明の目的は、膜総数が２層であって
も、反射光の低減、コントラストの向上、帯電防止及び
電磁波遮蔽について優れた能力を有し、しかも、光透過
率の高いガラスからなる陰極線管用ガラスパネル上に形
成しても、画像が二重に見えることがない導電性反射防
止膜を提供することである。
も、反射光の低減、コントラストの向上、帯電防止及び
電磁波遮蔽について優れた能力を有し、しかも、光透過
率の高いガラスからなる陰極線管用ガラスパネル上に形
成しても、画像が二重に見えることがない導電性反射防
止膜を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の導電性反射防止
膜は、基体上に形成される２つの層を含み、基体側から
順に第１の層、第２の層と呼ぶとき、第１の層は、可視
光の屈折率が１．２〜２．５であり、かつ可視光の吸収
係数が０．０５〜１．０の導電性を有する着色層であっ
て７０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有し、第２の層
は、可視光の屈折率が１．４〜１．６であって６０〜１
５０ｎｍの幾何学的厚みを有することを特徴とするもの
であり、第１の層が遷移金属、遷移金属化合物、遷移金
属微粒子、および遷移金属化合物微粒子から選ばれる少
なくとも１種が主成分となる層であることが好ましい。
膜は、基体上に形成される２つの層を含み、基体側から
順に第１の層、第２の層と呼ぶとき、第１の層は、可視
光の屈折率が１．２〜２．５であり、かつ可視光の吸収
係数が０．０５〜１．０の導電性を有する着色層であっ
て７０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有し、第２の層
は、可視光の屈折率が１．４〜１．６であって６０〜１
５０ｎｍの幾何学的厚みを有することを特徴とするもの
であり、第１の層が遷移金属、遷移金属化合物、遷移金
属微粒子、および遷移金属化合物微粒子から選ばれる少
なくとも１種が主成分となる層であることが好ましい。
【０００８】本発明において吸収係数とは、物体を透過
する前後の光強度の対数比を意味している。記号を用い
て説明すると、物体に吸収される吸収光の放射束をａ、
物体に入射する入射光の放射束をｉ、物体表面で反射さ
れる反射光の放射束をｒ、物体を透過する透過光の放射
束をｔとするとき、ａ＝ｉ−ｒ−ｔという式が成り立
つ。Ｌａｍｂｅｒｔ−Ｂｏｕｇｕｅｒの法則により、入
射光の放射束ｉに対する透過光の放射束ｔの比の対数
は、物体を透過する光の透過距離ｘに比例するので、ｌ
ｎ（ｔ／ｉ）＝−ｋｘの関係が成り立つ。このときの比
例係数ｋを吸収係数という。基板上に薄膜を形成した場
合、薄膜の表面の反射と、基板と薄膜との界面での反射
とが生じ、これら二つの反射光が干渉するため、吸収係
数ｋは薄膜の反射率にも影響する。この吸収係数ｋが
０．０５未満であると、薄膜の厚さｘが同じ場合、入射
光の放射束ｉに対して透過光の放射束ｔが大きくなり着
色性が弱く、コントラストが悪くなる。一方、１．０を
越えると入射光の放射束ｉに対して透過光の放射束ｔが
小さくなり着色性が強すぎて薄膜の裏面反射率が大きく
なり、光透過率の高いガラスからなる陰極線管用ガラス
パネル上に薄膜を形成すると、陰極線管に映し出された
映像が二重に見えることになる。本発明の導電性反射防
止膜は、導電性を有する着色層である第１の層の可視光
における吸収係数ｋが０．０５〜１．０であることが重
要である。
する前後の光強度の対数比を意味している。記号を用い
て説明すると、物体に吸収される吸収光の放射束をａ、
物体に入射する入射光の放射束をｉ、物体表面で反射さ
れる反射光の放射束をｒ、物体を透過する透過光の放射
束をｔとするとき、ａ＝ｉ−ｒ−ｔという式が成り立
つ。Ｌａｍｂｅｒｔ−Ｂｏｕｇｕｅｒの法則により、入
射光の放射束ｉに対する透過光の放射束ｔの比の対数
は、物体を透過する光の透過距離ｘに比例するので、ｌ
ｎ（ｔ／ｉ）＝−ｋｘの関係が成り立つ。このときの比
例係数ｋを吸収係数という。基板上に薄膜を形成した場
合、薄膜の表面の反射と、基板と薄膜との界面での反射
とが生じ、これら二つの反射光が干渉するため、吸収係
数ｋは薄膜の反射率にも影響する。この吸収係数ｋが
０．０５未満であると、薄膜の厚さｘが同じ場合、入射
光の放射束ｉに対して透過光の放射束ｔが大きくなり着
色性が弱く、コントラストが悪くなる。一方、１．０を
越えると入射光の放射束ｉに対して透過光の放射束ｔが
小さくなり着色性が強すぎて薄膜の裏面反射率が大きく
なり、光透過率の高いガラスからなる陰極線管用ガラス
パネル上に薄膜を形成すると、陰極線管に映し出された
映像が二重に見えることになる。本発明の導電性反射防
止膜は、導電性を有する着色層である第１の層の可視光
における吸収係数ｋが０．０５〜１．０であることが重
要である。
【０００９】また、本発明において幾何学的厚みとは、
λ／４等の光学的厚みと区別するもので、波長に依存し
ない厚みを意味するものである。
λ／４等の光学的厚みと区別するもので、波長に依存し
ない厚みを意味するものである。
【００１０】さらに、本発明の導電性反射防止膜は、第
２の層が、ＳｉＯ2からなる層であることを特徴とす
る。
２の層が、ＳｉＯ2からなる層であることを特徴とす
る。
【００１１】
【作用】本発明において、最も基体側に形成される、第
１の層は、７０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有する屈
折率が１．２〜２．５、可視光の吸収係数が０．０５〜
１．０の導電性を有する光吸収性の低い着色層であり、
膜と基体との密着強度を向上させると共に、第２層との
干渉効果により表面反射光の低減、裏面反射光の低減を
付与する作用を有している。また、第１の層としては、
成膜性、生産コスト等を考慮すると、遷移金属、遷移金
属化合物、遷移金属微粒子、および遷移金属化合物微粒
子から選ばれる少なくとも１種が主成分となる層である
ことが好ましく、７０ｎｍ以上と厚く成膜するため低い
抵抗値が得られる。
１の層は、７０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有する屈
折率が１．２〜２．５、可視光の吸収係数が０．０５〜
１．０の導電性を有する光吸収性の低い着色層であり、
膜と基体との密着強度を向上させると共に、第２層との
干渉効果により表面反射光の低減、裏面反射光の低減を
付与する作用を有している。また、第１の層としては、
成膜性、生産コスト等を考慮すると、遷移金属、遷移金
属化合物、遷移金属微粒子、および遷移金属化合物微粒
子から選ばれる少なくとも１種が主成分となる層である
ことが好ましく、７０ｎｍ以上と厚く成膜するため低い
抵抗値が得られる。
【００１２】また、第２の層は、６０〜１５０ｎｍの幾
何学的厚みを有する可視光の屈折率が１．４〜１．６の
透明層で、第１の層との干渉効果により表面反射光の低
減および裏面反射光の低減に作用を有している。成膜
性、生産コスト等を考慮すると、ＳｉＯ2からなる層で
あることが好ましい。
何学的厚みを有する可視光の屈折率が１．４〜１．６の
透明層で、第１の層との干渉効果により表面反射光の低
減および裏面反射光の低減に作用を有している。成膜
性、生産コスト等を考慮すると、ＳｉＯ2からなる層で
あることが好ましい。
【００１３】このような第１、第２の膜層からなる本発
明の導電性反射防止膜は、光吸収率の低い着色導電膜で
あり、またＮｂＮやＴｉＮの光吸収率の高い膜を使用し
ないため、光透過率の高いガラスからなる陰極線管用ガ
ラスパネル上に形成しても、画像が二重に見えることが
ない。
明の導電性反射防止膜は、光吸収率の低い着色導電膜で
あり、またＮｂＮやＴｉＮの光吸収率の高い膜を使用し
ないため、光透過率の高いガラスからなる陰極線管用ガ
ラスパネル上に形成しても、画像が二重に見えることが
ない。
【００１４】尚、各膜層の屈折率、吸収係数及び膜厚
は、反射低減、帯電防止、電磁波遮蔽の各特性を考慮し
て限定したものであり、屈折率、吸収係数及び膜厚が上
記の範囲外になると、これらの特性が不十分となりやす
いため、好ましくない。
は、反射低減、帯電防止、電磁波遮蔽の各特性を考慮し
て限定したものであり、屈折率、吸収係数及び膜厚が上
記の範囲外になると、これらの特性が不十分となりやす
いため、好ましくない。
【００１５】本発明においては、上記したような第１、
第２の層以外にも、必要に応じて膜の密着性を向上させ
たり、色調を調整する目的で、付加的な薄膜の層を適宜
設けることも可能である。
第２の層以外にも、必要に応じて膜の密着性を向上させ
たり、色調を調整する目的で、付加的な薄膜の層を適宜
設けることも可能である。
【００１６】本発明の導電性反射防止膜の成膜方法とし
ては、一般的な薄膜形成手段が使用できる。例えばスパ
ッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スピンコート
法、ゾルゲル法等が適用可能である。
ては、一般的な薄膜形成手段が使用できる。例えばスパ
ッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スピンコート
法、ゾルゲル法等が適用可能である。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の導電性反射防止膜を実施例に
基づいて詳細に説明する。
基づいて詳細に説明する。
【００１８】表１は、実施例と比較例１、２の導電性反
射防止膜の膜構成を示し、表２は、実施例の導電性反射
防止膜を構成するＴｉ及びＣｕが主成分となる第１の層
である導電性着色膜の可視光の波長域における屈折率と
吸収係数を示し、表３は、比較例１の第１の層であるＴ
ｉＮからなる着色導電膜の各波長における屈折率と吸収
係数を示し、表４は、比較例２の第１の層であるＮｂＮ
からなる着色導電膜の各波長における屈折率と吸収係数
を示すものである。また、図１は、実施例の可視光の波
長における表面反射率と裏面反射率を示し、図２、３
は、比較例１、２の表面反射率と裏面反射率を各々示す
ものであり。図４は、実施例の可視光の波長における透
過率を示し、図５、６は、比較例１、２の透過率を各々
示すものである。
射防止膜の膜構成を示し、表２は、実施例の導電性反射
防止膜を構成するＴｉ及びＣｕが主成分となる第１の層
である導電性着色膜の可視光の波長域における屈折率と
吸収係数を示し、表３は、比較例１の第１の層であるＴ
ｉＮからなる着色導電膜の各波長における屈折率と吸収
係数を示し、表４は、比較例２の第１の層であるＮｂＮ
からなる着色導電膜の各波長における屈折率と吸収係数
を示すものである。また、図１は、実施例の可視光の波
長における表面反射率と裏面反射率を示し、図２、３
は、比較例１、２の表面反射率と裏面反射率を各々示す
ものであり。図４は、実施例の可視光の波長における透
過率を示し、図５、６は、比較例１、２の透過率を各々
示すものである。
【００１９】
【表１】実施例及び比較例の導電性反射防止膜の膜構成
【００２０】
【表２】実施例のＴｉ＋Ｃｕの金属微粒子からなる第１
の層の可視光の各波長における屈折率と吸収係数
の層の可視光の各波長における屈折率と吸収係数
【００２１】
【表３】比較例１のＴｉＮからなる第１の層の可視光の
各波長における屈折率と吸収係数
各波長における屈折率と吸収係数
【００２２】
【表４】比較例２のＮｂＮからなる第１の層の可視光の
各波長における屈折率と吸収係数
各波長における屈折率と吸収係数
【００２３】その結果、図４〜図６に示すように、実施
例の導電性反射防止膜と、比較例１、２の膜の透過率は
共に５０％程度であり、コントラストに関しては同等で
あるが、実施例の導電性反射防止膜は、表２に示すよう
に、着色層としてＴｉ＋Ｃｕの金属微粒子からなる第１
層の吸収係数が０．３〜０．６であり、図１に示すよう
に、裏面反射率が２〜１０％と低いため画像が二重に見
えることがない。また、実施例の導電性反射防止膜の表
面反射率も十分低いものであった。さらに、実施例の導
電性反射防止膜は、表１に示すように、第１の層を９０
ｎｍの厚さに成膜したので、２５０Ωの低い抵抗値が得
られ、帯電防止及び電磁波遮蔽の機能を有していること
がわかる。
例の導電性反射防止膜と、比較例１、２の膜の透過率は
共に５０％程度であり、コントラストに関しては同等で
あるが、実施例の導電性反射防止膜は、表２に示すよう
に、着色層としてＴｉ＋Ｃｕの金属微粒子からなる第１
層の吸収係数が０．３〜０．６であり、図１に示すよう
に、裏面反射率が２〜１０％と低いため画像が二重に見
えることがない。また、実施例の導電性反射防止膜の表
面反射率も十分低いものであった。さらに、実施例の導
電性反射防止膜は、表１に示すように、第１の層を９０
ｎｍの厚さに成膜したので、２５０Ωの低い抵抗値が得
られ、帯電防止及び電磁波遮蔽の機能を有していること
がわかる。
【００２４】これに対して比較例１、２は、表３、４に
示すように第１層の着色層の吸収係数が１．４〜３．０
７と１．０を越えており、図２、図３に示すように、比
較例１、２の裏面反射率は、１５〜２５％と大きく、陰
極線管に映し出された映像が二重に見えるものである。
示すように第１層の着色層の吸収係数が１．４〜３．０
７と１．０を越えており、図２、図３に示すように、比
較例１、２の裏面反射率は、１５〜２５％と大きく、陰
極線管に映し出された映像が二重に見えるものである。
【００２５】表中の導電性反射防止膜は、次のようにし
て作製した。
て作製した。
【００２６】実施例の導電性反射防止膜は、次のように
して作成した。まず１７インチサイズの陰極線管パネル
ガラスを準備し、その前面にマグネトロンスパッタ成膜
装置を用いて、表１に示すような２層構造の導電性反射
防止膜を形成した。表１の膜構成の欄には、各膜層の材
料、幾何学的厚み、表２には第１層の屈折率及び吸収係
数を示した。
して作成した。まず１７インチサイズの陰極線管パネル
ガラスを準備し、その前面にマグネトロンスパッタ成膜
装置を用いて、表１に示すような２層構造の導電性反射
防止膜を形成した。表１の膜構成の欄には、各膜層の材
料、幾何学的厚み、表２には第１層の屈折率及び吸収係
数を示した。
【００２７】比較例の導電性反射防止膜は、実施例と同
様に１７インチサイズの陰極線管パネルガラスの前面に
表１に示すような３層構造の導電性反射防止膜を形成し
た。表１の膜構成の欄には、各膜層の材料、幾何学的厚
み、表３にはそれぞれの第１層の屈折率及び吸収係数を
示した。
様に１７インチサイズの陰極線管パネルガラスの前面に
表１に示すような３層構造の導電性反射防止膜を形成し
た。表１の膜構成の欄には、各膜層の材料、幾何学的厚
み、表３にはそれぞれの第１層の屈折率及び吸収係数を
示した。
【００２８】なお、反射率、透過率、裏面反射率は、日
立製作所製自記分光光度計Ｕ−４０００を用いて測定し
たものである。
立製作所製自記分光光度計Ｕ−４０００を用いて測定し
たものである。
【００２９】また、抵抗値は、パネル短辺側の中央部に
超音波ハンダで電極を取り付け、電極間の抵抗をテスタ
ーにより測定したものである。
超音波ハンダで電極を取り付け、電極間の抵抗をテスタ
ーにより測定したものである。
【００３０】また、導電性反射防止膜を構成する第１の
層の各波長における屈折率、吸収係数は、分光エリプソ
メータにより測定したものである。
層の各波長における屈折率、吸収係数は、分光エリプソ
メータにより測定したものである。
【００３１】
【発明の効果】以上のように、本発明の導電性反射防止
膜は、膜総数が２層であっても、反射低減、帯電防止、
電磁波遮蔽について優れた能力を有し、しかも、光透過
率の高いガラスからなる陰極線管用ガラスパネル上に形
成しても、画像が二重に見えることがないため、陰極線
管パネル上に成膜される導電性反射防止膜として好適で
ある。
膜は、膜総数が２層であっても、反射低減、帯電防止、
電磁波遮蔽について優れた能力を有し、しかも、光透過
率の高いガラスからなる陰極線管用ガラスパネル上に形
成しても、画像が二重に見えることがないため、陰極線
管パネル上に成膜される導電性反射防止膜として好適で
ある。
【図１】本発明の実施例の可視光の波長域における表面
反射率と裏面反射率を示す図。
反射率と裏面反射率を示す図。
【図２】比較例１の可視光の波長域における表面反射率
と裏面反射率を各々示す図。
と裏面反射率を各々示す図。
【図３】比較例２の可視光の波長域における表面反射率
と裏面反射率を各々示す図。
と裏面反射率を各々示す図。
【図４】本発明の実施例の可視光の波長域における透過
率を示す図。
率を示す図。
【図５】比較例１の可視光の波長域における透過率を示
す図。
す図。
【図６】比較例２の可視光の波長域における透過率を示
す図。
す図。
Claims (3)
- 【請求項１】 基体上に形成される２つの層を含み、基
体側から順に第１の層、第２の層と呼ぶとき、第１の層
は、可視光の屈折率が１．２〜２．５であり、かつ可視
光の吸収係数が０．０５〜１．０の導電性を有する着色
層であって７０〜２００ｎｍの幾何学的厚みを有し、第
２の層は、可視光の屈折率が１．４〜１．６であって６
０〜１５０ｎｍの幾何学的厚みを有することを特徴とす
る導電性反射防止膜。 - 【請求項２】 第１の層が、遷移金属、遷移金属化合
物、遷移金属微粒子、および遷移金属化合物微粒子から
選ばれる少なくとも１種が主成分となる層である請求項
１に記載の導電性反射防止膜。 - 【請求項３】 第２の層が、ＳｉＯ2からなる層である
請求項１または２に記載の導電性反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11230863A JP2001056401A (ja) | 1999-08-17 | 1999-08-17 | 導電性反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11230863A JP2001056401A (ja) | 1999-08-17 | 1999-08-17 | 導電性反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001056401A true JP2001056401A (ja) | 2001-02-27 |
Family
ID=16914497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11230863A Withdrawn JP2001056401A (ja) | 1999-08-17 | 1999-08-17 | 導電性反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001056401A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010107543A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | 反射防止フィルム |
-
1999
- 1999-08-17 JP JP11230863A patent/JP2001056401A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010107543A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | 反射防止フィルム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060905 |