JP2000338302A - 反射防止膜及び画像表示装置 - Google Patents
反射防止膜及び画像表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 十分な光吸収性を備えるとともに両主面のど
ちら側から入射する光に対しても十分に低い反射率を備
える。 【解決手段】 基材２上に、第１の光吸収層３と、第１
の低屈折透明層４と、第２の光吸収層５と、第２の低屈
折率透明層６とを順次形成する。また、第１の光吸収層
３及び第２の光吸収層５が、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの
波長域の光に対して、消衰係数を０．２以上となるよう
に形成する。これにより、第１の主面１ａ及び第２の主
面１ｂのどちら側から入射する光に対しても十分に低い
反射率を有する。
ちら側から入射する光に対しても十分に低い反射率を備
える。 【解決手段】 基材２上に、第１の光吸収層３と、第１
の低屈折透明層４と、第２の光吸収層５と、第２の低屈
折率透明層６とを順次形成する。また、第１の光吸収層
３及び第２の光吸収層５が、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの
波長域の光に対して、消衰係数を０．２以上となるよう
に形成する。これにより、第１の主面１ａ及び第２の主
面１ｂのどちら側から入射する光に対しても十分に低い
反射率を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材の反射防止の
ために用いられるとともに光吸収性を備える反射防止
膜、及び、画像表示面に反射防止処理と光吸収処理とを
施した画像表示装置に関する。
ために用いられるとともに光吸収性を備える反射防止
膜、及び、画像表示面に反射防止処理と光吸収処理とを
施した画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】画像表示装置（以下、ディスプレイとい
う。）は、例えばコンピュータ等の情報処理装置や各種
放送の受信装置等と組み合わせて、画像を表示する表示
装置として用いられ、陰極線管（ＣＲＴ：Cathode Ray
Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディ
スプレイ等の種類がある。ディスプレイには、その画像
表示面に外光が反射すると、表示された情報が目視しに
くくなるといった問題がある。そこで、ディスプレイの
画像表示面には、外光の反射を防止して視認性を向上さ
せるために、反射防止膜が被着されている。
う。）は、例えばコンピュータ等の情報処理装置や各種
放送の受信装置等と組み合わせて、画像を表示する表示
装置として用いられ、陰極線管（ＣＲＴ：Cathode Ray
Tube）ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディ
スプレイ等の種類がある。ディスプレイには、その画像
表示面に外光が反射すると、表示された情報が目視しに
くくなるといった問題がある。そこで、ディスプレイの
画像表示面には、外光の反射を防止して視認性を向上さ
せるために、反射防止膜が被着されている。
【０００３】ディスプレイは、近年、画像表示面の大画
面化及び平坦化を図ることが要求されている一方で、例
えばコントラスト等の画質を一層向上することが求めら
れている。しかしながら、例えば、ＣＲＴディスプレイ
の場合には、画像表示面の大画面化及び平坦化を図る
と、この画像表示面でのＣＲＴパネルの厚みに大きな不
均一性が生じてしまう。したがって、ＣＲＴディスプレ
イでは、ＣＲＴパネルの透過率を制御することによって
画像表示面を透過する光のコントラストを向上すること
が困難であった。
面化及び平坦化を図ることが要求されている一方で、例
えばコントラスト等の画質を一層向上することが求めら
れている。しかしながら、例えば、ＣＲＴディスプレイ
の場合には、画像表示面の大画面化及び平坦化を図る
と、この画像表示面でのＣＲＴパネルの厚みに大きな不
均一性が生じてしまう。したがって、ＣＲＴディスプレ
イでは、ＣＲＴパネルの透過率を制御することによって
画像表示面を透過する光のコントラストを向上すること
が困難であった。
【０００４】そこで、ＣＲＴディスプレイでは、ＣＲＴ
パネルの透過率を高く形成するとともに、反射防止膜に
光吸収層を設け、この反射防止膜の透過率を制御するこ
とによって、画像表示面を透過する光のコントラストを
向上させることが提案されている。
パネルの透過率を高く形成するとともに、反射防止膜に
光吸収層を設け、この反射防止膜の透過率を制御するこ
とによって、画像表示面を透過する光のコントラストを
向上させることが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、反射防止膜
は、一般に、光吸収性を有する材料を用いずに構成した
場合に、両主面側から入射する光に対して反射防止効果
を発揮することができる。しかしながら、反射防止膜に
光吸収層を設けて構成した場合、すなわち、基板上に光
吸収層や低屈折率透明層等を積層して構成した場合に、
基板と反対側からの入射光に対する反射率（以下、表面
反射率という。）が低くなるように各層の構成を設計す
ると、基板側からの入射光に対する反射率（以下、内面
反射率という。）が高くなってしまうといった問題があ
った。
は、一般に、光吸収性を有する材料を用いずに構成した
場合に、両主面側から入射する光に対して反射防止効果
を発揮することができる。しかしながら、反射防止膜に
光吸収層を設けて構成した場合、すなわち、基板上に光
吸収層や低屈折率透明層等を積層して構成した場合に、
基板と反対側からの入射光に対する反射率（以下、表面
反射率という。）が低くなるように各層の構成を設計す
ると、基板側からの入射光に対する反射率（以下、内面
反射率という。）が高くなってしまうといった問題があ
った。
【０００６】従来の反射防止膜は、例えば、光吸収層が
ＴｉＮによって形成されて３層構成とされ、表面反射率
が０．２％程度であるのに対して、内面反射率が７％程
度であり、透過率が７０％程度である。また、従来のＣ
ＲＴディスプレイにおけるＣＲＴパネルの透過率は６０
％程度である。したがって、従来では、ＣＲＴディスプ
レイに反射防止膜を被着させた場合に、全体としての透
過率は４０％程度であった。また、反射防止膜の内面反
射率が高い場合であっても、反射光がＣＲＴパネルで吸
収されてしまうため、この反射光の影響は少なかった。
ＴｉＮによって形成されて３層構成とされ、表面反射率
が０．２％程度であるのに対して、内面反射率が７％程
度であり、透過率が７０％程度である。また、従来のＣ
ＲＴディスプレイにおけるＣＲＴパネルの透過率は６０
％程度である。したがって、従来では、ＣＲＴディスプ
レイに反射防止膜を被着させた場合に、全体としての透
過率は４０％程度であった。また、反射防止膜の内面反
射率が高い場合であっても、反射光がＣＲＴパネルで吸
収されてしまうため、この反射光の影響は少なかった。
【０００７】しかしながら、上述したように、画像表示
面の平坦化及び高画質化に対応するために、反射防止膜
だけで全体の透過率を４０％〜５０％程度とする場合
に、この反射防止膜の内面反射率は２０％にも達してし
まう。この場合に、ＣＲＴパネルは高い透過率で設計さ
れているため、反射防止膜のＣＲＴパネル側で反射した
反射光のＣＲＴパネルでの吸収が期待できない。そのた
め、画像表示面でのコントラストが著しく低下してしま
う。
面の平坦化及び高画質化に対応するために、反射防止膜
だけで全体の透過率を４０％〜５０％程度とする場合
に、この反射防止膜の内面反射率は２０％にも達してし
まう。この場合に、ＣＲＴパネルは高い透過率で設計さ
れているため、反射防止膜のＣＲＴパネル側で反射した
反射光のＣＲＴパネルでの吸収が期待できない。そのた
め、画像表示面でのコントラストが著しく低下してしま
う。
【０００８】すなわち、上述したように、画像表示面の
平坦化及び高画質化に対応するために、ＣＲＴパネルの
透過率を高く形成し、反射防止膜の透過率を制御するこ
とによって画像表示面を透過する光のコントラストを向
上させるという提案は、反射防止膜の設計に困難が伴う
ことが判明した。
平坦化及び高画質化に対応するために、ＣＲＴパネルの
透過率を高く形成し、反射防止膜の透過率を制御するこ
とによって画像表示面を透過する光のコントラストを向
上させるという提案は、反射防止膜の設計に困難が伴う
ことが判明した。
【０００９】そこで、本発明は、十分な光吸収性を備え
るとともに、両主面のどちら側から入射する光に対して
も十分に低い反射率を備える反射防止膜、及び、画像表
示面に十分な反射防止処理と光吸収処理とを施した画像
表示装置を提供することを目的とする。
るとともに、両主面のどちら側から入射する光に対して
も十分に低い反射率を備える反射防止膜、及び、画像表
示面に十分な反射防止処理と光吸収処理とを施した画像
表示装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係る反射防止膜
は、基材上に、第１の光吸収層と、第１の低屈折率透明
層と、第２の光吸収層と、第２の低屈折率透明層とが順
次形成されてなる。また、上記第１の光吸収層及び第２
の光吸収層は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光に
対して、消衰係数が０．２以上とされてなる。
は、基材上に、第１の光吸収層と、第１の低屈折率透明
層と、第２の光吸収層と、第２の低屈折率透明層とが順
次形成されてなる。また、上記第１の光吸収層及び第２
の光吸収層は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光に
対して、消衰係数が０．２以上とされてなる。
【００１１】以上のように構成された反射防止膜は、十
分な光吸収性を備えるとともに、両主面のどちら側から
入射する光に対しても十分に低い反射率を備える。
分な光吸収性を備えるとともに、両主面のどちら側から
入射する光に対しても十分に低い反射率を備える。
【００１２】また、本発明に係る画像表示装置は、画像
表示面上に、第１の光吸収層と、第１の低屈折率透明層
と、第２の光吸収層と、第２の低屈折率透明層とが順次
形成されてなる。また、上記第１の光吸収層及び第２の
光吸収層は、所定の波長域４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波
長域の光に対して、消衰係数が０．２以上とされてな
る。
表示面上に、第１の光吸収層と、第１の低屈折率透明層
と、第２の光吸収層と、第２の低屈折率透明層とが順次
形成されてなる。また、上記第１の光吸収層及び第２の
光吸収層は、所定の波長域４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波
長域の光に対して、消衰係数が０．２以上とされてな
る。
【００１３】以上のように構成された画像表示装置は、
画像表示面での外光の反射を十分に防止することができ
るとともに、十分な光吸収性を有し、画像表示面側から
の入射光に対する反射率を十分に低減することができ
る。
画像表示面での外光の反射を十分に防止することができ
るとともに、十分な光吸収性を有し、画像表示面側から
の入射光に対する反射率を十分に低減することができ
る。
【００１４】さらに、本発明に係る別の画像表示装置
は、画像表示面上に反射防止膜が被着されてなる。上記
反射防止膜は、プラスチック材料によって形成された基
材上に、第１の光吸収層と、第１の低屈折率透明層と、
第２の光吸収層と、第２の低屈折率透明層とが順次形成
されてなる。また、上記第１の光吸収層及び第２の光吸
収層は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光に対し
て、消衰係数が０．２以上とされてなる。
は、画像表示面上に反射防止膜が被着されてなる。上記
反射防止膜は、プラスチック材料によって形成された基
材上に、第１の光吸収層と、第１の低屈折率透明層と、
第２の光吸収層と、第２の低屈折率透明層とが順次形成
されてなる。また、上記第１の光吸収層及び第２の光吸
収層は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光に対し
て、消衰係数が０．２以上とされてなる。
【００１５】以上のように構成された画像表示装置は、
画像表示面での外光の反射を十分に防止することができ
るとともに、十分な光吸収性を有し、画像表示面側から
の入射光に対する反射率を十分に低減することができ
る。
画像表示面での外光の反射を十分に防止することができ
るとともに、十分な光吸収性を有し、画像表示面側から
の入射光に対する反射率を十分に低減することができ
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態に
ついて、図面を参照して詳細に説明する。以下では、先
ず、図１に示すような反射防止膜１について説明する。
ついて、図面を参照して詳細に説明する。以下では、先
ず、図１に示すような反射防止膜１について説明する。
【００１７】反射防止膜１は、基材２上に、第１の光吸
収層３と、第１の低屈折率透明層４と、第２の光吸収層
５と、第２の低屈折率透明層６とが薄膜状に順次積層さ
れてなる。なお、以下の説明では、基材２の外方に臨む
主面を、反射防止膜１の第１の主面１ａと称し、第２の
低屈折率透明層６の外方に臨む主面を、反射防止膜１の
第２の主面１ｂと称する。
収層３と、第１の低屈折率透明層４と、第２の光吸収層
５と、第２の低屈折率透明層６とが薄膜状に順次積層さ
れてなる。なお、以下の説明では、基材２の外方に臨む
主面を、反射防止膜１の第１の主面１ａと称し、第２の
低屈折率透明層６の外方に臨む主面を、反射防止膜１の
第２の主面１ｂと称する。
【００１８】基材２は、例えば、合成石英ガラス等のガ
ラス材料や、各種プラスチック等の樹脂材料によって平
板状に形成されている。基材２は、所望とする強度及び
厚さを有するように形成されていればよく、例えば薄膜
状に形成されて可撓性を有していてもよい。
ラス材料や、各種プラスチック等の樹脂材料によって平
板状に形成されている。基材２は、所望とする強度及び
厚さを有するように形成されていればよく、例えば薄膜
状に形成されて可撓性を有していてもよい。
【００１９】反射防止膜１では、基材２がガラス材料に
よって形成されていることにより、容易に所望とする硬
度を得ることができる。また、反射防止膜１では、基材
２が樹脂材料によって形成されていることにより、容易
に所望とする可撓性を得ることができる。なお、基材２
を樹脂材料によって形成した場合には、この基材２と第
１の光吸収層３との間にハードコート層を設けてもよ
い。これにより、基材２の硬度が向上し、傷等による劣
化を防止することができる。
よって形成されていることにより、容易に所望とする硬
度を得ることができる。また、反射防止膜１では、基材
２が樹脂材料によって形成されていることにより、容易
に所望とする可撓性を得ることができる。なお、基材２
を樹脂材料によって形成した場合には、この基材２と第
１の光吸収層３との間にハードコート層を設けてもよ
い。これにより、基材２の硬度が向上し、傷等による劣
化を防止することができる。
【００２０】第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５
は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光に対して消衰
係数が０．２以上である材料により、薄膜状に形成され
ている。これにより、第１の光吸収層３及び第２の光吸
収層５は、例えばＣＲＴディスプレイ等のような各種の
ディスプレイの画像表示面から可視光として放射される
光に対して、光吸収性を示すことができる。
は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光に対して消衰
係数が０．２以上である材料により、薄膜状に形成され
ている。これにより、第１の光吸収層３及び第２の光吸
収層５は、例えばＣＲＴディスプレイ等のような各種の
ディスプレイの画像表示面から可視光として放射される
光に対して、光吸収性を示すことができる。
【００２１】また、第１の光吸収層３及び第２の光吸収
層５は、消衰係数が０．２以上であることによって、十
分な光吸収性を示すことができる。なお、第１の光吸収
層３及び第２の光吸収層５の消衰係数は、０．５以上で
あることがより望ましい。
層５は、消衰係数が０．２以上であることによって、十
分な光吸収性を示すことができる。なお、第１の光吸収
層３及び第２の光吸収層５の消衰係数は、０．５以上で
あることがより望ましい。
【００２２】また、第１の光吸収層３及び第２の光吸収
層５は、導電性を有する材料によって形成されているこ
とが望ましい。これにより、反射防止膜１は、例えばＣ
ＲＴディスプレイ等に被着して用いられた場合に、この
ＣＲＴディスプレイの帯電や、電界の漏洩を防止するこ
とができる。このとき、反射防止膜１は、その表面にお
ける電気抵抗を、例えば１ｋΩ／□以下とすることによ
り、より確実に帯電防止及び漏洩電界防止の効果を得る
ことができる。
層５は、導電性を有する材料によって形成されているこ
とが望ましい。これにより、反射防止膜１は、例えばＣ
ＲＴディスプレイ等に被着して用いられた場合に、この
ＣＲＴディスプレイの帯電や、電界の漏洩を防止するこ
とができる。このとき、反射防止膜１は、その表面にお
ける電気抵抗を、例えば１ｋΩ／□以下とすることによ
り、より確実に帯電防止及び漏洩電界防止の効果を得る
ことができる。
【００２３】第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５
は、例えば、ＴｉＮを主とする材料によって形成するこ
とができる。これにより、十分な光吸収性と十分な導電
性とを備えることができる。これにより、第１の光吸収
層３及び第２の光吸収層５は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ
の波長域の光に対して、消衰係数が０．２以上であるこ
とを満足することができる。一般に、材料の消衰係数
は、光の波長によって異なる値を示し、所定の波長域の
光に対して所望とする消衰係数を満足するためには材料
を慎重に選択する必要がある。
は、例えば、ＴｉＮを主とする材料によって形成するこ
とができる。これにより、十分な光吸収性と十分な導電
性とを備えることができる。これにより、第１の光吸収
層３及び第２の光吸収層５は、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ
の波長域の光に対して、消衰係数が０．２以上であるこ
とを満足することができる。一般に、材料の消衰係数
は、光の波長によって異なる値を示し、所定の波長域の
光に対して所望とする消衰係数を満足するためには材料
を慎重に選択する必要がある。
【００２４】第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５
は、ＴｉＮを主とする材料によって形成することによっ
て、例えば、４５０ｎｍの波長の光に対して消衰係数が
０．８７５４、５５０ｎｍの波長の光に対して消衰係数
が１．２５７５、６５０ｎｍの波長の光に対して消衰係
数が１．６４３５となるように形成することができる。
また、第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５は、Ｔｉ
Ｎの作製条件を変えることによって、例えば、４５０ｎ
ｍの波長の光に対して消衰係数が０．６３〜０．９２の
範囲となるように形成することができる。
は、ＴｉＮを主とする材料によって形成することによっ
て、例えば、４５０ｎｍの波長の光に対して消衰係数が
０．８７５４、５５０ｎｍの波長の光に対して消衰係数
が１．２５７５、６５０ｎｍの波長の光に対して消衰係
数が１．６４３５となるように形成することができる。
また、第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５は、Ｔｉ
Ｎの作製条件を変えることによって、例えば、４５０ｎ
ｍの波長の光に対して消衰係数が０．６３〜０．９２の
範囲となるように形成することができる。
【００２５】なお、第１の光吸収層３及び第２の光吸収
層５は、Ｚｒの窒化物又はＨｆの窒化物を主とする材料
によって形成されていてもよい。これによっても、十分
な光吸収性と十分な導電性とを備えることができる。
層５は、Ｚｒの窒化物又はＨｆの窒化物を主とする材料
によって形成されていてもよい。これによっても、十分
な光吸収性と十分な導電性とを備えることができる。
【００２６】なお、反射防止膜１では、第１の光吸収層
３及び第２の光吸収層５の両層ともに導電性を有する材
料によって形成されていることによって、より効果的に
帯電防止及び漏洩電界防止の効果を得ることができる。
ただし、第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５は、そ
れぞれ異なる材料によって形成されていてもよく、例え
ば一方の層だけが導電性を有する材料によって形成され
ていてもよい。
３及び第２の光吸収層５の両層ともに導電性を有する材
料によって形成されていることによって、より効果的に
帯電防止及び漏洩電界防止の効果を得ることができる。
ただし、第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５は、そ
れぞれ異なる材料によって形成されていてもよく、例え
ば一方の層だけが導電性を有する材料によって形成され
ていてもよい。
【００２７】第１の低屈折率透明層４及び第２の低屈折
率透明層６は、可視光波長域の光に対して透光性を示
し、且つ低屈折率である材料によって、薄膜状に形成さ
れている。ここで、低屈折率であるとは、屈折率が概ね
２．０以下であり、基材２の屈折率よりも低いことを云
う。この第１の低屈折率透明層４及び第２の低屈折率透
明層６を形成する材料としては、例えば、ＳｉＯ2、Ｍ
ｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等を用いることができる。これによ
り、第１の低屈折率透明層４及び第２の低屈折率透明層
６の屈折率は、１．３５〜１．７０程度とすることがで
きる。
率透明層６は、可視光波長域の光に対して透光性を示
し、且つ低屈折率である材料によって、薄膜状に形成さ
れている。ここで、低屈折率であるとは、屈折率が概ね
２．０以下であり、基材２の屈折率よりも低いことを云
う。この第１の低屈折率透明層４及び第２の低屈折率透
明層６を形成する材料としては、例えば、ＳｉＯ2、Ｍ
ｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等を用いることができる。これによ
り、第１の低屈折率透明層４及び第２の低屈折率透明層
６の屈折率は、１．３５〜１．７０程度とすることがで
きる。
【００２８】以上のように構成された反射防止膜１で
は、所望とする目的や要求される性能に応じて、その光
学的特性、すなわち、第１の主面１ａから入射する光及
び第２の主面１ｂから入射する光に対する反射率や透過
率等が、所定の値となるように制御されている。反射防
止膜１では、上述した各層の材料を適宜選択し、膜厚を
制御することによって、全体としての光学的特性を制御
することができる。なお、上述した各層は、例えばスパ
ッタリング法や真空蒸着法等のようなＰＶＤ（Physical
Vapor Deposition）法又はＣＶＤ（Chemical Vapor De
position）法によって、基材２上に順次成膜すればよ
い。
は、所望とする目的や要求される性能に応じて、その光
学的特性、すなわち、第１の主面１ａから入射する光及
び第２の主面１ｂから入射する光に対する反射率や透過
率等が、所定の値となるように制御されている。反射防
止膜１では、上述した各層の材料を適宜選択し、膜厚を
制御することによって、全体としての光学的特性を制御
することができる。なお、上述した各層は、例えばスパ
ッタリング法や真空蒸着法等のようなＰＶＤ（Physical
Vapor Deposition）法又はＣＶＤ（Chemical Vapor De
position）法によって、基材２上に順次成膜すればよ
い。
【００２９】反射防止膜１は、基板２上に各層が積層さ
れてなり、第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５の消
衰係数が、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光に対し
て０．２以上とされていることによって、全体としての
光学的特性を制御し、十分な光吸収性を備えるととも
に、第１の主面１ａ及び第２の主面１ｂのどちら側から
入射する光に対しても十分に低い反射率を備えることが
できる。言い換えると、反射防止膜１では、第１の主面
１ａ側からの入射光に対する反射率、すなわち内面反射
率と、第２の主面１ｂ側からの入射光に対する反射率、
すなわち表面反射率とを十分に低くすることができる。
れてなり、第１の光吸収層３及び第２の光吸収層５の消
衰係数が、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光に対し
て０．２以上とされていることによって、全体としての
光学的特性を制御し、十分な光吸収性を備えるととも
に、第１の主面１ａ及び第２の主面１ｂのどちら側から
入射する光に対しても十分に低い反射率を備えることが
できる。言い換えると、反射防止膜１では、第１の主面
１ａ側からの入射光に対する反射率、すなわち内面反射
率と、第２の主面１ｂ側からの入射光に対する反射率、
すなわち表面反射率とを十分に低くすることができる。
【００３０】なお、本発明に係る反射防止膜は、基材と
第１の光吸収層との間に密着性向上層を備えて構成され
ていてもよい。以下では、図２に示すように、密着性向
上層７を備えて構成された反射防止膜１０について説明
する。なお、反射防止膜１０では、上述した反射防止膜
１との相違点が密着性向上層７を有する点だけである。
したがって、反射防止膜１と同一又は同等の部材につい
ては、説明を省略し、図１と同一の符号を付すこととす
る。
第１の光吸収層との間に密着性向上層を備えて構成され
ていてもよい。以下では、図２に示すように、密着性向
上層７を備えて構成された反射防止膜１０について説明
する。なお、反射防止膜１０では、上述した反射防止膜
１との相違点が密着性向上層７を有する点だけである。
したがって、反射防止膜１と同一又は同等の部材につい
ては、説明を省略し、図１と同一の符号を付すこととす
る。
【００３１】反射防止膜１０は、基材２上に、密着性向
上層７と、第１の光吸収層３と、第１の低屈折率透明層
４と、第２の光吸収層５と、第２の低屈折率透明層６と
が薄膜状に順次積層されてなる。
上層７と、第１の光吸収層３と、第１の低屈折率透明層
４と、第２の光吸収層５と、第２の低屈折率透明層６と
が薄膜状に順次積層されてなる。
【００３２】密着性向上層７は、例えばＳｉＯx（ｘ＜
２）によって、基材２上に薄膜状に形成されている。な
お、密着性向上層７は、ＳｉＯxＮyによって形成されて
いてもよい。また、密着性向上層７は、Ｔｉを含む材料
によって形成されていてもよい。また、密着性向上層７
の膜厚は、１０ｎｍ以下程度とすることが望ましい。反
射防止膜１０では、密着性向上層７の膜厚が１０ｎｍを
超えると、全体としての光学特性を良好に保つことが困
難となってしまう。
２）によって、基材２上に薄膜状に形成されている。な
お、密着性向上層７は、ＳｉＯxＮyによって形成されて
いてもよい。また、密着性向上層７は、Ｔｉを含む材料
によって形成されていてもよい。また、密着性向上層７
の膜厚は、１０ｎｍ以下程度とすることが望ましい。反
射防止膜１０では、密着性向上層７の膜厚が１０ｎｍを
超えると、全体としての光学特性を良好に保つことが困
難となってしまう。
【００３３】反射防止膜１０は、このように密着性向上
層７を備えて構成されることによって、例えば基材２が
樹脂材料によって形成された場合に、基材２と、この基
材２上に形成されている各層との密着性を向上すること
ができる。
層７を備えて構成されることによって、例えば基材２が
樹脂材料によって形成された場合に、基材２と、この基
材２上に形成されている各層との密着性を向上すること
ができる。
【００３４】つぎに、本発明に係る画像表示装置につい
て説明する。以下では、本発明を適用した画像表示装置
として、図３に示すようなＣＲＴディスプレイ２０につ
いて説明する。
て説明する。以下では、本発明を適用した画像表示装置
として、図３に示すようなＣＲＴディスプレイ２０につ
いて説明する。
【００３５】ＣＲＴディスプレイ２０は、図３に示すよ
うに、陰極線管（ＣＲＴ）２１を備えて構成され、信号
入力部（図示せず。）から入力される信号に基づいて、
電子ビーム照射手段（図示せず。）から電子ビームを出
射する構成とされる。そして、ＣＲＴディスプレイ２０
では、この電子ビームをＣＲＴ２１の主面２１ａ（以
下、ＣＲＴパネル２１ａと称する。）の内面側にマトリ
クス状に複数配設された蛍光体に順次照射してゆくこと
により、各蛍光体を発光させ、ＣＲＴパネル２１ａに画
像を表示する。すなわち、ＣＲＴディスプレイ２０で
は、ＣＲＴパネル２１ａが画像表示面とされている。
うに、陰極線管（ＣＲＴ）２１を備えて構成され、信号
入力部（図示せず。）から入力される信号に基づいて、
電子ビーム照射手段（図示せず。）から電子ビームを出
射する構成とされる。そして、ＣＲＴディスプレイ２０
では、この電子ビームをＣＲＴ２１の主面２１ａ（以
下、ＣＲＴパネル２１ａと称する。）の内面側にマトリ
クス状に複数配設された蛍光体に順次照射してゆくこと
により、各蛍光体を発光させ、ＣＲＴパネル２１ａに画
像を表示する。すなわち、ＣＲＴディスプレイ２０で
は、ＣＲＴパネル２１ａが画像表示面とされている。
【００３６】また、ＣＲＴパネル２１ａ上には、図４に
示すように、第１の光吸収層２２と、第１の低屈折率透
明層２３と、第２の光吸収層２４と、第２の低屈折率透
明層２５とが薄膜状に順次積層されている。なお、以下
の説明では、ＣＲＴパネル２１ａの外方に臨む主面を、
ＣＲＴパネル２１ａの第１の主面２１ｂと称し、第２の
低屈折率透明層２５の外方に臨む主面を、ＣＲＴパネル
２１ａの第２の主面２１ｃと称する。
示すように、第１の光吸収層２２と、第１の低屈折率透
明層２３と、第２の光吸収層２４と、第２の低屈折率透
明層２５とが薄膜状に順次積層されている。なお、以下
の説明では、ＣＲＴパネル２１ａの外方に臨む主面を、
ＣＲＴパネル２１ａの第１の主面２１ｂと称し、第２の
低屈折率透明層２５の外方に臨む主面を、ＣＲＴパネル
２１ａの第２の主面２１ｃと称する。
【００３７】また、ＣＲＴディスプレイ２０において、
第１の光吸収層２２、第１の低屈折率透明層２３、第２
の光吸収層２４、及び第２の低屈折率透明層２５は、そ
れぞれ上述した反射防止膜１における第１の光吸収層
３、第１の低屈折率透明層４、第２の光吸収層５、及び
第２の低屈折率透明層６と同様の構成とされている。そ
のため、以下では、ＣＲＴパネル２１ａ上に形成された
各層についての説明を省略することとする。
第１の光吸収層２２、第１の低屈折率透明層２３、第２
の光吸収層２４、及び第２の低屈折率透明層２５は、そ
れぞれ上述した反射防止膜１における第１の光吸収層
３、第１の低屈折率透明層４、第２の光吸収層５、及び
第２の低屈折率透明層６と同様の構成とされている。そ
のため、以下では、ＣＲＴパネル２１ａ上に形成された
各層についての説明を省略することとする。
【００３８】ＣＲＴディスプレイ２０では、ＣＲＴパネ
ル２１ａが上述した反射防止膜１の基材２に相当し、こ
のＣＲＴパネル２１ａ上に反射防止膜１と同様な構成で
各層が形成されていることによって、反射防止膜１と同
様な反射防止効果を有していることとなる。具体的に
は、ＣＲＴディスプレイ２０では、ＣＲＴパネル２１ａ
の第１の主面２１ｂ側からの入射光に対する反射率、す
なわち内面反射率と、第２の主面２１ｃ側からの入射光
に対する反射率、すなわち表面反射率とを十分に低くす
ることができる。
ル２１ａが上述した反射防止膜１の基材２に相当し、こ
のＣＲＴパネル２１ａ上に反射防止膜１と同様な構成で
各層が形成されていることによって、反射防止膜１と同
様な反射防止効果を有していることとなる。具体的に
は、ＣＲＴディスプレイ２０では、ＣＲＴパネル２１ａ
の第１の主面２１ｂ側からの入射光に対する反射率、す
なわち内面反射率と、第２の主面２１ｃ側からの入射光
に対する反射率、すなわち表面反射率とを十分に低くす
ることができる。
【００３９】これにより、ＣＲＴディスプレイ２０で
は、第２の主面２１ｃから入射する光、すなわち外光の
反射を防止することができるとともに、ＣＲＴパネル２
１ａの第１の主面２１ｂ側で蛍光体が発光した光が第１
の主面２１ｂで反射されてしまうことを防止することが
でき、ＣＲＴパネル２１ａでのコントラストを向上する
ことができる。
は、第２の主面２１ｃから入射する光、すなわち外光の
反射を防止することができるとともに、ＣＲＴパネル２
１ａの第１の主面２１ｂ側で蛍光体が発光した光が第１
の主面２１ｂで反射されてしまうことを防止することが
でき、ＣＲＴパネル２１ａでのコントラストを向上する
ことができる。
【００４０】また、ＣＲＴディスプレイ２０では、ＣＲ
Ｔパネル２１ａ上に形成された各層が全体として十分な
光吸収性を有していることから、ＣＲＴパネル２１ａの
透過率が低い場合であっても、蛍光体から発光される光
を十分に吸収してコントラストを向上させることができ
る。これにより、ＣＲＴディスプレイ２０は、ＣＲＴパ
ネル２１ａの透過率を高く形成し、このＣＲＴパネル２
１ａ上に形成する各層により全体としてのコントラスト
を制御することによって、ＣＲＴパネル２１ａ全体で均
一なコントラストを得ることができる。
Ｔパネル２１ａ上に形成された各層が全体として十分な
光吸収性を有していることから、ＣＲＴパネル２１ａの
透過率が低い場合であっても、蛍光体から発光される光
を十分に吸収してコントラストを向上させることができ
る。これにより、ＣＲＴディスプレイ２０は、ＣＲＴパ
ネル２１ａの透過率を高く形成し、このＣＲＴパネル２
１ａ上に形成する各層により全体としてのコントラスト
を制御することによって、ＣＲＴパネル２１ａ全体で均
一なコントラストを得ることができる。
【００４１】したがって、ＣＲＴディスプレイ２０は、
ＣＲＴパネル２１ａの大画面化及び平坦化を図ることに
より、このＣＲＴパネル２１ａの厚さに大きな不均一性
が生じた場合であっても、コントラストが不均一となっ
てしまうことがなく、画質を向上させることができる。
ＣＲＴパネル２１ａの大画面化及び平坦化を図ることに
より、このＣＲＴパネル２１ａの厚さに大きな不均一性
が生じた場合であっても、コントラストが不均一となっ
てしまうことがなく、画質を向上させることができる。
【００４２】また、ＣＲＴディスプレイ２０では、第１
の光吸収層２３及び第２の光吸収層２５が導電性材料に
よって形成されて、図３に示すように設置されているこ
とが望ましい。これにより、ＣＲＴ２１の内部で発生す
る電磁波がＣＲＴパネル２１ａに帯電したり、ＣＲＴ２
１の内部に印加される電界が漏洩してしまうことを防止
することができる。
の光吸収層２３及び第２の光吸収層２５が導電性材料に
よって形成されて、図３に示すように設置されているこ
とが望ましい。これにより、ＣＲＴ２１の内部で発生す
る電磁波がＣＲＴパネル２１ａに帯電したり、ＣＲＴ２
１の内部に印加される電界が漏洩してしまうことを防止
することができる。
【００４３】なお、ＣＲＴディスプレイ２０は、ＣＲＴ
パネル２１ａ上に各層が直接形成された構成とせずに、
例えば、樹脂材料によって機材２が形成された反射防止
膜１が、ＣＲＴパネル２１ａ上に被着された構成として
もよい。これにより、上述と同様の効果を得ることがで
きる。
パネル２１ａ上に各層が直接形成された構成とせずに、
例えば、樹脂材料によって機材２が形成された反射防止
膜１が、ＣＲＴパネル２１ａ上に被着された構成として
もよい。これにより、上述と同様の効果を得ることがで
きる。
【００４４】つぎに、本発明の効果を確認するために、
以下に示すようなシミュレーションを行った結果につい
て説明する。
以下に示すようなシミュレーションを行った結果につい
て説明する。
【００４５】実験例１ 実験例１では、光吸収性を有さない反射防止膜の反射率
特性を調べるために、ＰＥＴ（PolyEthylene Terephtha
late）により形成した基材上に、以下の表１に示すよう
な膜構成によって反射防止膜を作製した場合についてシ
ミュレーションを行い、反射率を計算した。
特性を調べるために、ＰＥＴ（PolyEthylene Terephtha
late）により形成した基材上に、以下の表１に示すよう
な膜構成によって反射防止膜を作製した場合についてシ
ミュレーションを行い、反射率を計算した。
【００４６】
【表１】
【００４７】なお、この実験例１では、簡略化のため
に、ＰＥＴにより形成した基材の屈折率ｎ及び消衰係数
ｋが、入射する光の波長に依らずにそれぞれ一定及び０
であるとした。
に、ＰＥＴにより形成した基材の屈折率ｎ及び消衰係数
ｋが、入射する光の波長に依らずにそれぞれ一定及び０
であるとした。
【００４８】このような構成の反射防止膜に対して、基
材側からの入射光に対する反射率、すなわち内面反射率
と、基材と反対側からの入射光に対する反射率、すなわ
ち表面反射率とを計算した結果を、図５に示す。図５に
示す結果から、光吸収性を有さない反射防止膜は、内面
反射率と表面反射率とが、入射光の波長に依らず一致す
ることがわかる。
材側からの入射光に対する反射率、すなわち内面反射率
と、基材と反対側からの入射光に対する反射率、すなわ
ち表面反射率とを計算した結果を、図５に示す。図５に
示す結果から、光吸収性を有さない反射防止膜は、内面
反射率と表面反射率とが、入射光の波長に依らず一致す
ることがわかる。
【００４９】実験例２ 実験例２では、反射防止膜を３層の積層構造とし、光吸
収性を有するとした場合についてシミュレーションを行
い、反射率を計算した。実験例２では、以下の表２に示
すような膜構成によって反射防止膜を作製した場合につ
いてのシミュレーションを行った。なお、この反射防止
膜の透過率は、７０％程度となる。
収性を有するとした場合についてシミュレーションを行
い、反射率を計算した。実験例２では、以下の表２に示
すような膜構成によって反射防止膜を作製した場合につ
いてのシミュレーションを行った。なお、この反射防止
膜の透過率は、７０％程度となる。
【００５０】
【表２】
【００５１】この実験例２では、反射防止膜の膜構成を
変えたほかは、上述した実験例１の場合と同一の条件の
もとで計算を行った。また、ＳｉＯx及びＴｉＮによっ
て形成する層の光学特性は、実際にはその層の作製方法
により変化するが、この実験例２では、各層を実際にス
パッタリング法によって作製して測定した値を一例とし
て用いた。実験例２と同様な反射防止膜を実際に作製し
た場合であっても、表２に示した値と大きく異なること
はないと考えられる。
変えたほかは、上述した実験例１の場合と同一の条件の
もとで計算を行った。また、ＳｉＯx及びＴｉＮによっ
て形成する層の光学特性は、実際にはその層の作製方法
により変化するが、この実験例２では、各層を実際にス
パッタリング法によって作製して測定した値を一例とし
て用いた。実験例２と同様な反射防止膜を実際に作製し
た場合であっても、表２に示した値と大きく異なること
はないと考えられる。
【００５２】このような構成の反射防止膜に対して、実
験例１の場合と同様に、内面反射率及び表面反射率を計
算した結果を図６に示す。図６に示す結果から、透過率
が７０％程度とされた反射防止膜は、表面反射率が低く
なるように膜構成を設計した場合に、内面反射率が高く
なってしまうことがわかる。この実験例２の場合には、
入射光の波長が４５０ｎｍ〜６８０ｎｍ程度の可視光波
長域で、内面反射率が８％を越えてしまっている。
験例１の場合と同様に、内面反射率及び表面反射率を計
算した結果を図６に示す。図６に示す結果から、透過率
が７０％程度とされた反射防止膜は、表面反射率が低く
なるように膜構成を設計した場合に、内面反射率が高く
なってしまうことがわかる。この実験例２の場合には、
入射光の波長が４５０ｎｍ〜６８０ｎｍ程度の可視光波
長域で、内面反射率が８％を越えてしまっている。
【００５３】この実験例２から、反射防止膜の光吸収性
を向上させて、透過率を７０％よりも小さくした場合
に、内面反射率がさらに高くなることが予想される。し
たがって、本発明に係る反射防止膜のような、十分な光
吸収性を備えるとともに、内面反射率と表面反射率との
両方を低く抑えた反射防止膜の設計は、従来と同様な膜
構成によっては困難であることがわかる。
を向上させて、透過率を７０％よりも小さくした場合
に、内面反射率がさらに高くなることが予想される。し
たがって、本発明に係る反射防止膜のような、十分な光
吸収性を備えるとともに、内面反射率と表面反射率との
両方を低く抑えた反射防止膜の設計は、従来と同様な膜
構成によっては困難であることがわかる。
【００５４】実験例３ 実験例３では、本発明に係る反射防止膜について、上述
した反射防止膜１と同様な構成の反射防止膜についてシ
ミュレーションを行い、反射率を計算した。先ず、この
実験例３では、反射防止膜を構成する各層を以下に示す
ような材料によって作製し、各層の膜厚を変えて複数の
サンプルを作製した場合について、シミュレーションを
行った。
した反射防止膜１と同様な構成の反射防止膜についてシ
ミュレーションを行い、反射率を計算した。先ず、この
実験例３では、反射防止膜を構成する各層を以下に示す
ような材料によって作製し、各層の膜厚を変えて複数の
サンプルを作製した場合について、シミュレーションを
行った。
【００５５】反射防止膜の膜構成 基材 ：ガラス（ＢＫ７） 密着性向上層 ：ＳｉＯx 第１の光吸収層 ：ＴｉＮ 第１の低屈折率透明層：ＳｉＯ2 第２の光吸収層 ：ＴｉＮ 第２の低屈折率透明層：ＳｉＯ2 そして、反射防止膜の透過率を、４０％に設定した場合
と、５０％に設定した場合とで得られた結果を、それぞ
れ以下の表３及び表４に示す。なお、表３及び表４で示
す内面反射率及び表面反射率は、ＣＲＴディスプレイで
可視光として表示される波長域である、４５０ｎｍ〜６
５０ｎｍの波長域での入射光に対する内面反射率及び表
面反射率の代表値を示す。また、透過率とは、基材と反
対側から入射した光に対する透過率であるとする。
と、５０％に設定した場合とで得られた結果を、それぞ
れ以下の表３及び表４に示す。なお、表３及び表４で示
す内面反射率及び表面反射率は、ＣＲＴディスプレイで
可視光として表示される波長域である、４５０ｎｍ〜６
５０ｎｍの波長域での入射光に対する内面反射率及び表
面反射率の代表値を示す。また、透過率とは、基材と反
対側から入射した光に対する透過率であるとする。
【００５６】
【表３】
【００５７】
【表４】
【００５８】また、表３に示したサンプル１の反射防止
膜における、入射光の波長に対する内面反射率及び表面
反射率を図７に示す。図７に示す結果から、本発明に基
づいて作製した反射防止膜は、透過率を４０％として大
きな光吸収性を有する場合であっても、４５０ｎｍ〜６
５０ｎｍの波長域で内面反射率及び表面反射率がともに
４．０％程度以下とすることができることがわかる。し
たがって、本発明に基づいて作製した反射防止膜は、実
験例２の場合のように、僅かな光吸収性しか有さない場
合であっても内面反射率が８％を越えてしまう従来の反
射防止膜と比較して、大幅に内面反射率が低減されてい
ることがわかる。
膜における、入射光の波長に対する内面反射率及び表面
反射率を図７に示す。図７に示す結果から、本発明に基
づいて作製した反射防止膜は、透過率を４０％として大
きな光吸収性を有する場合であっても、４５０ｎｍ〜６
５０ｎｍの波長域で内面反射率及び表面反射率がともに
４．０％程度以下とすることができることがわかる。し
たがって、本発明に基づいて作製した反射防止膜は、実
験例２の場合のように、僅かな光吸収性しか有さない場
合であっても内面反射率が８％を越えてしまう従来の反
射防止膜と比較して、大幅に内面反射率が低減されてい
ることがわかる。
【００５９】なお、表３及び表４で密着性向上層の膜厚
が０であるサンプルは、上述した反射防止膜１と同様
に、密着性向上層を有さない構成であることを示す。ま
た、この実験例３では、各サンプルにおける透過率、内
面反射率及び表面反射率の評価基準を以下に示すように
定め、表３及び表４では、この評価基準に近い値、若し
くはこの評価基準を越えた値を太字で示した。そして、
この評価基準に基づいて、反射防止膜を構成する各層の
膜厚の上限値及び下限値に下線を付して示した。
が０であるサンプルは、上述した反射防止膜１と同様
に、密着性向上層を有さない構成であることを示す。ま
た、この実験例３では、各サンプルにおける透過率、内
面反射率及び表面反射率の評価基準を以下に示すように
定め、表３及び表４では、この評価基準に近い値、若し
くはこの評価基準を越えた値を太字で示した。そして、
この評価基準に基づいて、反射防止膜を構成する各層の
膜厚の上限値及び下限値に下線を付して示した。
【００６０】評価基準 透過率 ：規定値±２．０以内 内面反射率：４．０％以下 表面反射率：０．５％以下 次に、表３及び表４に示すように得られた結果に基づい
て、反射防止膜の透過率を４０％又は５０％とした場合
について、各層の膜厚の上限値及び下限値を、以下の表
５で示すようにまとめた。
て、反射防止膜の透過率を４０％又は５０％とした場合
について、各層の膜厚の上限値及び下限値を、以下の表
５で示すようにまとめた。
【００６１】
【表５】
【００６２】なお、表５においては、上述した評価基準
を満たす場合に特性を○で示し、評価基準を僅かに越え
る場合に特性を△で示した。すなわち、特性を△で示
す、第２の膜構成、第４の膜構成、及び第５の膜構成の
場合には、反射防止膜の内面反射率及び表面反射率に対
する要求を、上述した評価基準を満たす第１の膜構成及
び第３の膜構成の場合よりもゆるやかにした場合を示
す。
を満たす場合に特性を○で示し、評価基準を僅かに越え
る場合に特性を△で示した。すなわち、特性を△で示
す、第２の膜構成、第４の膜構成、及び第５の膜構成の
場合には、反射防止膜の内面反射率及び表面反射率に対
する要求を、上述した評価基準を満たす第１の膜構成及
び第３の膜構成の場合よりもゆるやかにした場合を示
す。
【００６３】また、特性が○である場合には、各層の膜
厚の上限値及び下限値を表５に示すように規定したとき
に、透過率が規定値の±３％の範囲となるように反射防
止膜を作製することができる。特性が△である場合に
は、各層の上限値及び下限値を表５に示すように規定し
たときに、透過率が規定値の±５％の範囲となるように
反射防止膜を作製することができる。
厚の上限値及び下限値を表５に示すように規定したとき
に、透過率が規定値の±３％の範囲となるように反射防
止膜を作製することができる。特性が△である場合に
は、各層の上限値及び下限値を表５に示すように規定し
たときに、透過率が規定値の±５％の範囲となるように
反射防止膜を作製することができる。
【００６４】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明に係る反
射防止膜は、十分な光吸収性を備えるとともに、両主面
のどちら側から入射する光に対しても十分に低い反射率
を備える。そのため、例えば透過率の高いＣＲＴパネル
等に被着して用いた場合に、外光の反射を十分に防止す
ることができるとともに、ＣＲＴパネル側から入射され
る光の反射を十分に抑制してコントラストを向上するこ
とができる。したがって、画像表示装置の大画面化、平
坦化及び高画質化に貢献することができる。
射防止膜は、十分な光吸収性を備えるとともに、両主面
のどちら側から入射する光に対しても十分に低い反射率
を備える。そのため、例えば透過率の高いＣＲＴパネル
等に被着して用いた場合に、外光の反射を十分に防止す
ることができるとともに、ＣＲＴパネル側から入射され
る光の反射を十分に抑制してコントラストを向上するこ
とができる。したがって、画像表示装置の大画面化、平
坦化及び高画質化に貢献することができる。
【００６５】また、本発明に係る画像表示装置は、画像
表示面での外光の反射を十分に防止することができると
ともに、十分な光吸収性を有し、画像表示面側からの入
射光に対する反射率を十分に低減することができる。し
たがって、例えば、画像表示面の大画面化及び平坦化に
対応するために、ＣＲＴパネルの透過率を高く設計した
場合であっても、このＣＲＴパネル側から入射される光
の反射を十分に抑制してコントラストを向上することが
できる。
表示面での外光の反射を十分に防止することができると
ともに、十分な光吸収性を有し、画像表示面側からの入
射光に対する反射率を十分に低減することができる。し
たがって、例えば、画像表示面の大画面化及び平坦化に
対応するために、ＣＲＴパネルの透過率を高く設計した
場合であっても、このＣＲＴパネル側から入射される光
の反射を十分に抑制してコントラストを向上することが
できる。
【図１】本発明に係る反射防止膜の一構成例を示す要部
拡大断面図である。
拡大断面図である。
【図２】本発明に係る反射防止膜の別の構成例を示す要
部拡大断面図である。
部拡大断面図である。
【図３】本発明に係る画像表示装置の一構成例として示
すＣＲＴディスプレイの概略図である。
すＣＲＴディスプレイの概略図である。
【図４】同ＣＲＴディスプレイの要部拡大断面図であ
る。
る。
【図５】光吸収性を有さない反射防止膜の反射率を示す
図である。
図である。
【図６】透過率が７０％程度である反射防止膜の反射率
を示す図である。
を示す図である。
【図７】本発明に係る反射防止膜の反射率を示す図であ
る。
る。
１ 反射防止膜、１ａ 第１の主面、１ｂ 第２の主
面、２ 基材、３ 第１の光吸収層、４ 第１の低屈折
率透明層、５ 第２の光吸収層、６ 第２の低屈折率透
明層、７ 密着性向上層、２０ ＣＲＴディスプレイ、
２１ ＣＲＴ、２１ａ ＣＲＴパネル、２２ 第１の光
吸収層、２３ 第１の低屈折率透明層、２４ 第２の光
吸収層、２５ 第２の低屈折率透明層
面、２ 基材、３ 第１の光吸収層、４ 第１の低屈折
率透明層、５ 第２の光吸収層、６ 第２の低屈折率透
明層、７ 密着性向上層、２０ ＣＲＴディスプレイ、
２１ ＣＲＴ、２１ａ ＣＲＴパネル、２２ 第１の光
吸収層、２３ 第１の低屈折率透明層、２４ 第２の光
吸収層、２５ 第２の低屈折率透明層
Claims (21)
- 【請求項１】 基材上に、第１の光吸収層と、第１の低
屈折率透明層と、第２の光吸収層と、第２の低屈折率透
明層とが順次形成されてなり、 上記第１の光吸収層及び第２の光吸収層は、４５０ｎｍ
〜６５０ｎｍの波長域の光に対して、消衰係数が０．２
以上であることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 上記第１の光吸収層及び／又は第２の光
吸収層は、導電性を有する材料によって形成されている
ことを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項３】 上記第１の光吸収層及び／又は第２の光
吸収層は、ＴｉＮを主とする材料によって形成されてい
ることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項４】 上記第１の光吸収層及び／又は第２の光
吸収層は、Ｚｒの窒化物又はＨｆの窒化物を主とする材
料によって形成されていることを特徴とする請求項１記
載の反射防止膜。 - 【請求項５】 上記第１の低屈折率透明層及び／又は第
２の低屈折率透明層は、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、又はＡｌ2
Ｏ3によって形成されていることを特徴とする請求項１
記載の反射防止膜。 - 【請求項６】 上記基材は、ガラス材料によって形成さ
れていることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項７】 上記基材は、樹脂材料によって形成され
ていることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項８】 上記基材と第１の光吸収層との間に、ハ
ードコート層を有することを特徴とする請求項７記載の
反射防止膜。 - 【請求項９】 上記第１の光吸収層及び第２の光吸収層
は、ＴｉＮを主とする材料によって形成されているとと
もに、 上記第１の低屈折率透明層及び第２の低屈折率透明層
は、ＳｉＯ2を主とする材料によって形成されているこ
とを特徴とする請求項１記載の反射防止膜。 - 【請求項１０】 上記第１の光吸収層の膜厚は、５ｎｍ
以上且つ２０ｎｍ以下であり、 上記第１の低屈折率透明層の膜厚は、６０ｎｍ以上且つ
１３０ｎｍ以下であり、 上記第２の光吸収層の膜厚は、１５ｎｍ以上且つ３０ｎ
ｍ以下であり、 上記第２の低屈折率透明層の膜厚は、５５ｎｍ以上且つ
９５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９記載の反
射防止膜。 - 【請求項１１】 上記第１の光吸収層の膜厚は、７ｎｍ
以上且つ２０ｎｍ以下であり、 上記第１の低屈折率透明層の膜厚は、６０ｎｍ以上且つ
１２０ｎｍ以下であり、 上記第２の光吸収層の膜厚は、１６ｎｍ以上且つ３０ｎ
ｍ以下であり、 上記基材と反対側から入射される光に対する上記各層全
体での透過率が、３５％以上且つ４５％以下であること
を特徴とする請求項１０記載の反射防止膜。 - 【請求項１２】 上記第１の光吸収層の膜厚は、１０ｎ
ｍ以上且つ１７ｎｍ以下であり、 上記第１の低屈折率透明層の膜厚は、７０ｎｍ以上且つ
１１０ｎｍ以下であり、 上記第２の光吸収層の膜厚は、１８ｎｍ以上且つ２８ｎ
ｍ以下であり、 上記第２の低屈折率透明層の膜厚は、６０ｎｍ以上且つ
８７ｎｍ以下であり、 上記基材と反対側から入射される光に対する上記各層全
体での透過率が、３７％以上且つ４３％以下であること
を特徴とする請求項１１記載の反射防止膜。 - 【請求項１３】 上記第１の光吸収層の膜厚は、５ｎｍ
以上且つ１２ｎｍ以下であり、 上記第１の低屈折率透明層の膜厚は、６５ｎｍ以上且つ
１３０ｎｍであり、 上記第２の光吸収層の膜厚は、１５ｎｍ以上且つ２３ｎ
ｍ以下であり、 上記第２の低屈折率透明層の膜厚は、６５ｎｍ以上且つ
９５ｎｍ以下であり、 上記基材と反対側から入射される光に対する上記各層全
体での透過率が、４５％以上且つ５５％以下であること
を特徴とする請求項１０記載の反射防止膜。 - 【請求項１４】 上記第１の光吸収層の膜厚は、７ｎｍ
以上且つ１０ｎｍ以下であり、 上記第１の低屈折率透明層の膜厚は、７５ｎｍ以上且つ
１２０ｎｍ以下であり、 上記第２の光吸収層の膜厚は、１７ｎｍ以上且つ２１ｎ
ｍ以下であり、 上記第２の低屈折率透明層の膜厚は、６５ｎｍ以上且つ
８７ｎｍ以下であり、 上記基材と反対側から入射される光に対する上記各層全
体での透過率が、４７％以上且つ５３％以下であること
を特徴とする請求項１３記載の反射防止膜。 - 【請求項１５】 上記基材と第１の光吸収層との間に、
密着性向上層を有することを特徴とする請求項１記載の
反射防止膜。 - 【請求項１６】 上記密着性向上層は、ＳｉＯx（ｘ＜
２）によって形成されていることを特徴とする請求項１
５記載の反射防止膜。 - 【請求項１７】 上記密着性向上層は、ＳｉＯxＮyによ
って形成されていることを特徴とする請求項１５記載の
反射防止膜。 - 【請求項１８】 上記密着性向上層は、Ｔｉを含む材料
によって形成されていることを特徴とする請求項１５記
載の反射防止膜。 - 【請求項１９】 上記密着性向上層の膜厚は、１０ｎｍ
以下であることを特徴とする請求項１５記載の反射防止
膜。 - 【請求項２０】 画像表示面上に、第１の光吸収層と、
第１の低屈折率透明層と、第２の光吸収層と、第２の低
屈折率透明層とが順次形成されてなり、 上記第１の光吸収層及び第２の光吸収層は、４５０ｎｍ
〜６５０ｎｍの波長域の光に対して、消衰係数が０．２
以上であることを特徴とする画像表示装置。 - 【請求項２１】 画像表示面上に反射防止膜が被着され
てなり、 上記反射防止膜は、樹脂材料によって形成された基材上
に、第１の光吸収層と、第１の低屈折率透明層と、第２
の光吸収層と、第２の低屈折率透明層とが順次形成され
てなり、 上記第１の光吸収層及び第２の光吸収層は、４５０ｎｍ
〜６５０ｎｍの波長域の光に対して、消衰係数が０．２
以上であることを特徴とする画像表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11147249A JP2000338302A (ja) | 1999-05-26 | 1999-05-26 | 反射防止膜及び画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11147249A JP2000338302A (ja) | 1999-05-26 | 1999-05-26 | 反射防止膜及び画像表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000338302A true JP2000338302A (ja) | 2000-12-08 |
Family
ID=15425967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11147249A Withdrawn JP2000338302A (ja) | 1999-05-26 | 1999-05-26 | 反射防止膜及び画像表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000338302A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110174716A (zh) * | 2019-06-27 | 2019-08-27 | 浙江舜宇光学有限公司 | 光学元件及光学镜头 |
| JP2021092768A (ja) * | 2019-12-03 | 2021-06-17 | 尾池工業株式会社 | 反射防止フィルム |
| WO2022163546A1 (ja) * | 2021-01-27 | 2022-08-04 | Ａｇｃ株式会社 | 光学薄膜積層体及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-05-26 JP JP11147249A patent/JP2000338302A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110174716A (zh) * | 2019-06-27 | 2019-08-27 | 浙江舜宇光学有限公司 | 光学元件及光学镜头 |
| JP2021092768A (ja) * | 2019-12-03 | 2021-06-17 | 尾池工業株式会社 | 反射防止フィルム |
| JP7182804B2 (ja) | 2019-12-03 | 2022-12-05 | 尾池工業株式会社 | 反射防止フィルム |
| WO2022163546A1 (ja) * | 2021-01-27 | 2022-08-04 | Ａｇｃ株式会社 | 光学薄膜積層体及びその製造方法 |
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