JPH07178866A - 熱線遮断膜とその製造方法 - Google Patents
熱線遮断膜とその製造方法Info
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- JPH07178866A JPH07178866A JP32418393A JP32418393A JPH07178866A JP H07178866 A JPH07178866 A JP H07178866A JP 32418393 A JP32418393 A JP 32418393A JP 32418393 A JP32418393 A JP 32418393A JP H07178866 A JPH07178866 A JP H07178866A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
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- C03C17/3613—Coatings of type glass/inorganic compound/metal/inorganic compound/metal/other
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- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
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Abstract
(57)【要約】
【構成】基体１上に酸化物膜２、金属膜３、酸化物膜
６、とが交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）に
おいて、酸化物膜のうち少なくとも１層は、ＺｎＯ−Ｇ
ａ2 Ｏ3 ターゲットを無酸素雰囲気でスパッタして得ら
れるＧａを添加した酸化亜鉛膜である熱線遮断膜とその
製造方法。 【効果】無酸素雰囲気で製膜でき、金属バリア層が不要
となるとともに、可視光透過率、熱線遮断性能、生産性
が、著しく改善されている。
６、とが交互に積層された（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）に
おいて、酸化物膜のうち少なくとも１層は、ＺｎＯ−Ｇ
ａ2 Ｏ3 ターゲットを無酸素雰囲気でスパッタして得ら
れるＧａを添加した酸化亜鉛膜である熱線遮断膜とその
製造方法。 【効果】無酸素雰囲気で製膜でき、金属バリア層が不要
となるとともに、可視光透過率、熱線遮断性能、生産性
が、著しく改善されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は生産性の優れた熱線遮断
膜とその製造方法に関する。
膜とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】基体表面に酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜
を順に積層した３層からなる膜、または酸化物膜，Ａｇ
膜，酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜を順次積層した５層か
らなる膜等の(2n+1)層(n≧1)からなる膜は、Ｌｏｗ−Ｅ
(Low-Emissivity)膜と呼ばれる熱線遮断膜であり、かか
るＬｏｗ−Ｅ膜を形成したガラスは、Ｌｏｗ−Ｅガラス
と呼ばれている。
を順に積層した３層からなる膜、または酸化物膜，Ａｇ
膜，酸化物膜，Ａｇ膜，酸化物膜を順次積層した５層か
らなる膜等の(2n+1)層(n≧1)からなる膜は、Ｌｏｗ−Ｅ
(Low-Emissivity)膜と呼ばれる熱線遮断膜であり、かか
るＬｏｗ−Ｅ膜を形成したガラスは、Ｌｏｗ−Ｅガラス
と呼ばれている。
【０００３】これは、室内からの熱線を反射することに
より室内の温度低下を防止できる機能ガラスであり、暖
房負荷を軽減する目的でおもに寒冷地で用いられてい
る。また、太陽熱の熱線遮断効果も有するため、自動車
の窓ガラスにも採用されている。また、透明でありかつ
導電性を示すため、電磁遮蔽ガラスとしての用途もあ
る。導電性プリント等からなるバスバー等の通電加熱手
段を設ければ、通電加熱ガラスとして用いることができ
る。
より室内の温度低下を防止できる機能ガラスであり、暖
房負荷を軽減する目的でおもに寒冷地で用いられてい
る。また、太陽熱の熱線遮断効果も有するため、自動車
の窓ガラスにも採用されている。また、透明でありかつ
導電性を示すため、電磁遮蔽ガラスとしての用途もあ
る。導電性プリント等からなるバスバー等の通電加熱手
段を設ければ、通電加熱ガラスとして用いることができ
る。
【０００４】従来のＬｏｗ−Ｅガラスとしては、３層系
のＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスや５層系のＺｎＯ／Ａ
ｇ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成を有す
るものが挙げられる。ＺｎＯ膜は通常、Ｚｎターゲット
を含酸素雰囲気中で直流スパッタすることにより得られ
るが、Ａｇ膜上に直接ＺｎＯ膜を作製すると、酸素プラ
ズマによるＡｇの劣化がおこり、熱線遮断性能が著しく
低下する。この劣化を防ぐため、Ａｇ層とＺｎＯ層の間
に２０Å程度のＺｎなどの金属バリア層を介在させる。
バリア層は、ＺｎＯ層作製中に酸化されるが、完全に酸
化されず金属成分が残るため、可視光透過率が低くな
る。また、バリア層を施しても、酸素プラズマによるＡ
ｇの劣化は完全には防ぎきれないため、熱線遮断性能低
下がおこる。
のＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスや５層系のＺｎＯ／Ａ
ｇ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスという膜構成を有す
るものが挙げられる。ＺｎＯ膜は通常、Ｚｎターゲット
を含酸素雰囲気中で直流スパッタすることにより得られ
るが、Ａｇ膜上に直接ＺｎＯ膜を作製すると、酸素プラ
ズマによるＡｇの劣化がおこり、熱線遮断性能が著しく
低下する。この劣化を防ぐため、Ａｇ層とＺｎＯ層の間
に２０Å程度のＺｎなどの金属バリア層を介在させる。
バリア層は、ＺｎＯ層作製中に酸化されるが、完全に酸
化されず金属成分が残るため、可視光透過率が低くな
る。また、バリア層を施しても、酸素プラズマによるＡ
ｇの劣化は完全には防ぎきれないため、熱線遮断性能低
下がおこる。
【０００５】日本、アメリカでは、法規制上、自動車用
フロントガラスは、合せガラスの状態で可視光透過率７
０％以上でなければならない。特に、５層以上の高熱線
遮断性能をもつＬｏｗ−Ｅガラスを自動車用フロントガ
ラスとして用いる場合、前述の可視光透過率低下は重要
な問題となる。また、Ｌｏｗ−Ｅガラスを寒冷地用住宅
窓として用いる場合では、室内が明るい方が好まれるた
め、高可視光透過率であることが望ましい。
フロントガラスは、合せガラスの状態で可視光透過率７
０％以上でなければならない。特に、５層以上の高熱線
遮断性能をもつＬｏｗ−Ｅガラスを自動車用フロントガ
ラスとして用いる場合、前述の可視光透過率低下は重要
な問題となる。また、Ｌｏｗ−Ｅガラスを寒冷地用住宅
窓として用いる場合では、室内が明るい方が好まれるた
め、高可視光透過率であることが望ましい。
【０００６】以下に、従来の製造方法における問題点に
ついて説明する。
ついて説明する。
【０００７】３層または５層などの上記構成のＬｏｗ−
Ｅガラスを製造するには、スパッタリング法が用いられ
ている。通常、生産に用いられるコーターには、複数の
成膜室（マルチプロセスチャンバー）を持つコーター
と、単一の成膜室（シングルプロセスチャンバー）を持
つコーターの２種類がある。
Ｅガラスを製造するには、スパッタリング法が用いられ
ている。通常、生産に用いられるコーターには、複数の
成膜室（マルチプロセスチャンバー）を持つコーター
と、単一の成膜室（シングルプロセスチャンバー）を持
つコーターの２種類がある。
【０００８】マルチプロセスチャンバーの代表例の簡略
図を図３に示す。カソードを複数個もつ成膜室が複数室
ある。それぞれの成膜室間は、スリットで区切られ、さ
らに真空ポンプで排気されているので、ガス分離が可能
である。したがって、第１成膜室と第２成膜室とで異な
るガスを用いてスパッタリングすることが可能である。
基板ガラスは、一方向にのみ移動する（１パスモー
ド）。
図を図３に示す。カソードを複数個もつ成膜室が複数室
ある。それぞれの成膜室間は、スリットで区切られ、さ
らに真空ポンプで排気されているので、ガス分離が可能
である。したがって、第１成膜室と第２成膜室とで異な
るガスを用いてスパッタリングすることが可能である。
基板ガラスは、一方向にのみ移動する（１パスモー
ド）。
【０００９】マルチプロセスチャンバーを用いて、Ｚｎ
Ｏ／（Ｚｎ）／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスからなるＬｏｗ−
Ｅ膜を作製する場合について、図３をもとに説明する。
１１，１２，１３，１６，１７，１８，１９をＺｎター
ゲット、１４，１５をＡｇターゲットとし、ガラス基板
１０は左から右へと搬送されるとする。ガラス基板１０
が第１成膜室を通過中に、Ｚｎターゲット（１１，１
２，１３）を含酸素雰囲気中でスパッタすることにより
ＺｎＯ層を作製する。次に、ガラス基板１０は第２室へ
と送られ、Ａｒ雰囲気中でＡｇターゲット（１４，１
５）およびＺｎバリア層を作製する。最後に第３成膜室
で含酸素雰囲気中でＺｎターゲット（１７，１８，１
９）をスパッタすることによりＺｎＯ層を作製する。
Ｏ／（Ｚｎ）／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスからなるＬｏｗ−
Ｅ膜を作製する場合について、図３をもとに説明する。
１１，１２，１３，１６，１７，１８，１９をＺｎター
ゲット、１４，１５をＡｇターゲットとし、ガラス基板
１０は左から右へと搬送されるとする。ガラス基板１０
が第１成膜室を通過中に、Ｚｎターゲット（１１，１
２，１３）を含酸素雰囲気中でスパッタすることにより
ＺｎＯ層を作製する。次に、ガラス基板１０は第２室へ
と送られ、Ａｒ雰囲気中でＡｇターゲット（１４，１
５）およびＺｎバリア層を作製する。最後に第３成膜室
で含酸素雰囲気中でＺｎターゲット（１７，１８，１
９）をスパッタすることによりＺｎＯ層を作製する。
【００１０】この方式では、ガラス基板を順次流せるた
め、スループットは極めて高い。しかし、３層構成では
最低３個の成膜室が、５層構成では最低５個の成膜室が
必要となり、装置コストが高くなる欠点がある。また自
動車ガラスのような曲線ガラスでは、成膜室間のスリッ
トを通過できないのでこの方式は使えない。
め、スループットは極めて高い。しかし、３層構成では
最低３個の成膜室が、５層構成では最低５個の成膜室が
必要となり、装置コストが高くなる欠点がある。また自
動車ガラスのような曲線ガラスでは、成膜室間のスリッ
トを通過できないのでこの方式は使えない。
【００１１】シングルプロセスチャンバーの代表例の簡
略図を図４に示す。
略図を図４に示す。
【００１２】カソードを複数個もつ成膜室が１室だけ存
在し、基板ガラスは成膜室内を何度も往復できるように
なっている（マルチパスモード）。
在し、基板ガラスは成膜室内を何度も往復できるように
なっている（マルチパスモード）。
【００１３】成膜室が１室しかないので、１層形成毎に
雰囲気を変えなければならない（ガス交換）。また、ガ
ス交換後、プレスパッタが必要となる。
雰囲気を変えなければならない（ガス交換）。また、ガ
ス交換後、プレスパッタが必要となる。
【００１４】例えば、シングルプロセスチャンバーを用
いて、ＺｎＯ／（Ｚｎ）／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスの３層
構成からなるＬｏｗ−Ｅ膜を作製する場合について図４
をもとに説明する。１１，１２，１３，１４をＺｎター
ゲット、１５をＡｇターゲットとする。まず、ガラスを
左から右へと移動させる間に酸化雰囲気中でＺｎターゲ
ット（１１，１２，１３，１４）をスパッタすることに
よりＺｎＯ層を作製する（１パス目）。次に、ガラス交
換を行い、チャンバーをＡｒ雰囲気中とした後、プレス
パッタを行う。ガラスを右から左へ移動させる間にＡｇ
ターゲット（１１５）およびＺｎターゲット（１４）を
スパッタすることによりＡｇ層およびＺｎ層を作製する
（２パス目）。再びチャンバーを含酸素雰囲気としプレ
スパッタを行い、ガラスを左から右へ移動させる間にＺ
ｎターゲット（１１，１２，１３，１４）を用いてＺｎ
Ｏ層を作製する（３パス目）。
いて、ＺｎＯ／（Ｚｎ）／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラスの３層
構成からなるＬｏｗ−Ｅ膜を作製する場合について図４
をもとに説明する。１１，１２，１３，１４をＺｎター
ゲット、１５をＡｇターゲットとする。まず、ガラスを
左から右へと移動させる間に酸化雰囲気中でＺｎターゲ
ット（１１，１２，１３，１４）をスパッタすることに
よりＺｎＯ層を作製する（１パス目）。次に、ガラス交
換を行い、チャンバーをＡｒ雰囲気中とした後、プレス
パッタを行う。ガラスを右から左へ移動させる間にＡｇ
ターゲット（１１５）およびＺｎターゲット（１４）を
スパッタすることによりＡｇ層およびＺｎ層を作製する
（２パス目）。再びチャンバーを含酸素雰囲気としプレ
スパッタを行い、ガラスを左から右へ移動させる間にＺ
ｎターゲット（１１，１２，１３，１４）を用いてＺｎ
Ｏ層を作製する（３パス目）。
【００１５】シングルプロセスチャンバーでは、スリッ
トがないので曲線ガラスにもコートできる。また、成膜
室が１つなので装置コストが低いというメリットがあ
る。しかし、３層なら２回、５層なら４回ガス交換およ
びプレスパッタが必要となる。さらに、パス数が３層な
ら３回、５層なら５回となるなど、作製に非常に時間が
かかるのでスループットは低下する。
トがないので曲線ガラスにもコートできる。また、成膜
室が１つなので装置コストが低いというメリットがあ
る。しかし、３層なら２回、５層なら４回ガス交換およ
びプレスパッタが必要となる。さらに、パス数が３層な
ら３回、５層なら５回となるなど、作製に非常に時間が
かかるのでスループットは低下する。
【００１６】これまで述べた、マルチプロセスチャンバ
ーの欠点である装置コスト高、曲げガラスにコートでき
ないなどを解決し、更にシングルプロセスチャンバーで
の低生産性を解決するものとして、以下に示す方法があ
る。同一（雰囲気）ですべての層を形成し、シングルプ
ロセスチャンバーで１パスモードで作製する方法であ
る。この場合、酸化物膜としては、ＩＴＯまたはＡｌ添
加ＺｎＯ（ＡＺＯ）を使用し、これらの酸化物ターゲッ
トよりＡｒ雰囲気で成膜する。
ーの欠点である装置コスト高、曲げガラスにコートでき
ないなどを解決し、更にシングルプロセスチャンバーで
の低生産性を解決するものとして、以下に示す方法があ
る。同一（雰囲気）ですべての層を形成し、シングルプ
ロセスチャンバーで１パスモードで作製する方法であ
る。この場合、酸化物膜としては、ＩＴＯまたはＡｌ添
加ＺｎＯ（ＡＺＯ）を使用し、これらの酸化物ターゲッ
トよりＡｒ雰囲気で成膜する。
【００１７】この方法で、５層構成のＡＺＯ／Ａｇ／Ａ
ＺＯ／Ａｇ／ＡＺＯからなるＬｏｗ−Ｅ膜を作製する場
合について図４をもとに説明する。１１，１３，１５を
ＡＺＯターゲット、１２，１４をＡｇターゲットとす
る。ガラスを左から右へと移動させながら、すべてのタ
ーゲットをＡｒ雰囲気中でスパッタし、ＡＺＯ、Ａｇ，
ＡＺＯ，Ａｇ，ＡＺＯと順次析出させる。この方法は、
低装置コストで高スループットが期待できる。
ＺＯ／Ａｇ／ＡＺＯからなるＬｏｗ−Ｅ膜を作製する場
合について図４をもとに説明する。１１，１３，１５を
ＡＺＯターゲット、１２，１４をＡｇターゲットとす
る。ガラスを左から右へと移動させながら、すべてのタ
ーゲットをＡｒ雰囲気中でスパッタし、ＡＺＯ、Ａｇ，
ＡＺＯ，Ａｇ，ＡＺＯと順次析出させる。この方法は、
低装置コストで高スループットが期待できる。
【００１８】しかし、この方法で作製したＩＴＯ膜やＡ
ＺＯ膜は、若干吸収があり、可視光透過率が低下するの
で好ましくない。可視光透過率を高くするためにＩＴＯ
膜やＡＺＯ膜作製時に酸素を少量導入することも可能で
あるが、上述のようなＡｇの劣化による熱線遮断性能低
下をもたらすので好ましくない。
ＺＯ膜は、若干吸収があり、可視光透過率が低下するの
で好ましくない。可視光透過率を高くするためにＩＴＯ
膜やＡＺＯ膜作製時に酸素を少量導入することも可能で
あるが、上述のようなＡｇの劣化による熱線遮断性能低
下をもたらすので好ましくない。
【００１９】すなわち、従来の方法ではＬｏｗ−Ｅ膜の
品質を損なうことなく生産性を向上させることができな
かった。
品質を損なうことなく生産性を向上させることができな
かった。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術が有していた上記の欠点を解決し、高熱線遮断性
能、高可視光透過率および生産性の優れた熱線遮断膜お
よびその製造方法を提供しようとするものである。
技術が有していた上記の欠点を解決し、高熱線遮断性
能、高可視光透過率および生産性の優れた熱線遮断膜お
よびその製造方法を提供しようとするものである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決すべくなされたものであり、基体上に酸化物膜、金
属膜、酸化物膜、と交互に積層された(2n+1)層(n≧1)か
らなる熱線遮断膜において、酸化物膜のうち少なくとも
１層は、ＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 ターゲットを無酸素雰囲気
でスパッタして得られるＧａを添加した酸化亜鉛膜であ
ることを特徴とする熱線遮断膜を提供するものである。
解決すべくなされたものであり、基体上に酸化物膜、金
属膜、酸化物膜、と交互に積層された(2n+1)層(n≧1)か
らなる熱線遮断膜において、酸化物膜のうち少なくとも
１層は、ＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 ターゲットを無酸素雰囲気
でスパッタして得られるＧａを添加した酸化亜鉛膜であ
ることを特徴とする熱線遮断膜を提供するものである。
【００２２】本発明は、また、基体上に酸化物膜、金属
膜、酸化物膜、とが交互に積層された(2n+1)層(n≧1)か
らなる熱線遮断膜の製造方法において、酸化物膜のうち
少なくとも１層は、ＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 ターゲットを用
いて得られたＧａを添加した酸化亜鉛膜であり、すべて
の膜は無酸素雰囲気でスパッタされることを特徴とする
熱線遮断膜の製造方法を提供するものである。
膜、酸化物膜、とが交互に積層された(2n+1)層(n≧1)か
らなる熱線遮断膜の製造方法において、酸化物膜のうち
少なくとも１層は、ＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 ターゲットを用
いて得られたＧａを添加した酸化亜鉛膜であり、すべて
の膜は無酸素雰囲気でスパッタされることを特徴とする
熱線遮断膜の製造方法を提供するものである。
【００２３】以下に本発明におけるＧａドープＺｎＯ膜
の特性について説明する。表１に、ＧａドープＺｎＯ
（ＧＺＯ）、ＡｌドープＺｎＯ（ＡＺＯ）、ＩＴＯ、Ｚ
ｎＯの成膜速度および可視光透過率を示す。ＩＴＯ、Ｚ
ｎＯはＬｏｗ−Ｅ膜を構成する酸化物層として一般的な
酸化物膜である。ＧＺＯ、ＡＺＯ、ＩＴＯは酸化物ター
ゲットを用い、無酸素雰囲気（Ａｒガス１００％）中で
作製した。ＺｎＯ膜は、金属ターゲットを用いて含酸素
雰囲気（Ｏ2 ：Ａｒ＝１：１）中で作製した。いずれも
直流スパッタ法により作製した。スパッタ電力密度は
１．１Ｗ／ｃｍ2 、スパッタガス圧は3.0 ×10-3Ｔｏｒ
ｒ、基板温度は室温である。膜厚はすべて２０００Åで
ある。
の特性について説明する。表１に、ＧａドープＺｎＯ
（ＧＺＯ）、ＡｌドープＺｎＯ（ＡＺＯ）、ＩＴＯ、Ｚ
ｎＯの成膜速度および可視光透過率を示す。ＩＴＯ、Ｚ
ｎＯはＬｏｗ−Ｅ膜を構成する酸化物層として一般的な
酸化物膜である。ＧＺＯ、ＡＺＯ、ＩＴＯは酸化物ター
ゲットを用い、無酸素雰囲気（Ａｒガス１００％）中で
作製した。ＺｎＯ膜は、金属ターゲットを用いて含酸素
雰囲気（Ｏ2 ：Ａｒ＝１：１）中で作製した。いずれも
直流スパッタ法により作製した。スパッタ電力密度は
１．１Ｗ／ｃｍ2 、スパッタガス圧は3.0 ×10-3Ｔｏｒ
ｒ、基板温度は室温である。膜厚はすべて２０００Åで
ある。
【００２４】表１より、ＧＺＯ膜は、通常の方法による
ＺｎＯ膜と比較して成膜速度が約４０％速いことがわか
る。ＡＺＯおよびＩＴＯ膜と比較しても成膜速度が１５
％程度速い。また、ＧＺＯ膜は、同じ膜厚のＡＺＯ膜お
よびＩＴＯ膜と比較して、可視光透過率が高いことがわ
かる。
ＺｎＯ膜と比較して成膜速度が約４０％速いことがわか
る。ＡＺＯおよびＩＴＯ膜と比較しても成膜速度が１５
％程度速い。また、ＧＺＯ膜は、同じ膜厚のＡＺＯ膜お
よびＩＴＯ膜と比較して、可視光透過率が高いことがわ
かる。
【００２５】上述のように本発明者らは、ＧＺＯ膜が、
高成膜速度であること、および無酸素雰囲気中で作製し
ても高可視光透過率を示すことを見出した。
高成膜速度であること、および無酸素雰囲気中で作製し
ても高可視光透過率を示すことを見出した。
【００２６】ＧＺＯ膜をＬｏｗ−Ｅ膜の酸化物層として
使用することで前述の３つの課題は解決できる。その理
由を以下にまとめる。ＧＺＯ膜の成膜速度は従来の方法
によるＺｎＯ膜に比べて著しく速いため、ＧＺＯ膜を酸
化物層として用いたＬｏｗ−Ｅガラスでは、生産性が向
上する。さらに、ＧＺＯ膜を酸化物層として用いたＬｏ
ｗ−Ｅガラスは、全ての層を無酸素雰囲気中で作製可能
なので、シングルプロセスチャンバーで１パスで生産で
きる。前述のようにこの方法では、装置コストが低く、
かつ、ガス交換およびプレスパッタが不要なので、大幅
な成膜時間短縮が可能である。その結果、かなりの生産
性向上につながる。また、ガス分離用スリットが必要な
いので、曲げガラスへのコートも同様に生産性向上が可
能である。
使用することで前述の３つの課題は解決できる。その理
由を以下にまとめる。ＧＺＯ膜の成膜速度は従来の方法
によるＺｎＯ膜に比べて著しく速いため、ＧＺＯ膜を酸
化物層として用いたＬｏｗ−Ｅガラスでは、生産性が向
上する。さらに、ＧＺＯ膜を酸化物層として用いたＬｏ
ｗ−Ｅガラスは、全ての層を無酸素雰囲気中で作製可能
なので、シングルプロセスチャンバーで１パスで生産で
きる。前述のようにこの方法では、装置コストが低く、
かつ、ガス交換およびプレスパッタが不要なので、大幅
な成膜時間短縮が可能である。その結果、かなりの生産
性向上につながる。また、ガス分離用スリットが必要な
いので、曲げガラスへのコートも同様に生産性向上が可
能である。
【００２７】ＧＺＯ膜は無酸素雰囲気中で熱線遮断層の
劣化をともなわず作製可能である。したがって、ＧＺＯ
膜を酸化物層として用いたＬｏｗ−Ｅガラスでは、熱線
遮断性能が優れている。
劣化をともなわず作製可能である。したがって、ＧＺＯ
膜を酸化物層として用いたＬｏｗ−Ｅガラスでは、熱線
遮断性能が優れている。
【００２８】ＧＺＯ膜を酸化物層として用いたＬｏｗ−
Ｅガラスは、熱線遮断層の劣化防止用の金属バリア層が
不必要となるので、従来のＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラ
スに見られるような可視光透過率低下が防げられる。ま
た、ＧＺＯ膜自体の可視光透過率も高いので、かなりの
高可視光透過率化が可能である。自動車用合わせガラス
では、一般的に透過率を低めた着色ガラスを１枚または
２枚使用するので前述の５層膜で可視光透過率７０％以
上の法規制を満たすのに有利となる。
Ｅガラスは、熱線遮断層の劣化防止用の金属バリア層が
不必要となるので、従来のＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ガラ
スに見られるような可視光透過率低下が防げられる。ま
た、ＧＺＯ膜自体の可視光透過率も高いので、かなりの
高可視光透過率化が可能である。自動車用合わせガラス
では、一般的に透過率を低めた着色ガラスを１枚または
２枚使用するので前述の５層膜で可視光透過率７０％以
上の法規制を満たすのに有利となる。
【００２９】図１および図２に本発明の熱線遮断膜の代
表例の断面図を示す。図１は、３層からなる熱線遮断膜
の断面図であり、図２は、５層からなる熱線遮断膜の断
面図である。１は基体、３、５は金属膜、２、４、６は
酸化物膜である。
表例の断面図を示す。図１は、３層からなる熱線遮断膜
の断面図であり、図２は、５層からなる熱線遮断膜の断
面図である。１は基体、３、５は金属膜、２、４、６は
酸化物膜である。
【００３０】本発明における基体１としては、ガラス板
の他、プラスチック等のフィルムや板も使用できる。
２、４、６のうち少なくとも１層はＧａをドープしたＺ
ｎＯ（ＧＺＯ）を含む酸化物膜である。ＧＺＯ膜のＧａ
ドープ量は１％未満では成膜速度が遅くなる。ドープ量
が１５原子％より多い場合、可視光透過率が低くなる傾
向にある。以上のことを考慮すると、Ｇａドープ量は、
Ｚｎとの総量に対して、１〜１５原子％、好ましくは２
〜８原子％である。
の他、プラスチック等のフィルムや板も使用できる。
２、４、６のうち少なくとも１層はＧａをドープしたＺ
ｎＯ（ＧＺＯ）を含む酸化物膜である。ＧＺＯ膜のＧａ
ドープ量は１％未満では成膜速度が遅くなる。ドープ量
が１５原子％より多い場合、可視光透過率が低くなる傾
向にある。以上のことを考慮すると、Ｇａドープ量は、
Ｚｎとの総量に対して、１〜１５原子％、好ましくは２
〜８原子％である。
【００３１】２、４、６のうち少なくとも１層がＧＺＯ
を含む酸化物膜であればよいが、熱線遮断性能、可視光
透過率、生産性の全てを最良にするには、全ての層をＧ
ＺＯを含む酸化物膜とすることが望ましい。酸化物膜
２、４、６は、２種以上の酸化物膜を積層させた多層膜
としてもよい。たとえば、化学的耐久性または機械的耐
久性を向上させるために、酸化物膜２、４、６は、ＩＴ
Ｏ、ＳｎＯ2 、ＺｒＳｉx Ｏy 、ＳｎＴｉx Ｏy などと
ＧＺＯを積層させてもよい。
を含む酸化物膜であればよいが、熱線遮断性能、可視光
透過率、生産性の全てを最良にするには、全ての層をＧ
ＺＯを含む酸化物膜とすることが望ましい。酸化物膜
２、４、６は、２種以上の酸化物膜を積層させた多層膜
としてもよい。たとえば、化学的耐久性または機械的耐
久性を向上させるために、酸化物膜２、４、６は、ＩＴ
Ｏ、ＳｎＯ2 、ＺｒＳｉx Ｏy 、ＳｎＴｉx Ｏy などと
ＧＺＯを積層させてもよい。
【００３２】また、本発明の熱線遮断膜を内側にしてプ
ラスチック中間膜を介してもう１枚の基体と積層して合
わせガラスとする場合に、かかるプラスチック中間膜と
の接着力の調整の目的で中間膜と接する層として、酸化
物６は１００Å以下の酸化物膜（例えば、酸化チタンと
酸化クロム膜の混合膜）を含んでもよい。
ラスチック中間膜を介してもう１枚の基体と積層して合
わせガラスとする場合に、かかるプラスチック中間膜と
の接着力の調整の目的で中間膜と接する層として、酸化
物６は１００Å以下の酸化物膜（例えば、酸化チタンと
酸化クロム膜の混合膜）を含んでもよい。
【００３３】ＧａドープＺｎＯ以外の酸化物の材料は、
特に限定されない。例として、ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、ＩＴ
Ｏ、ＺｎＯ−ＳｎＯ2 を交互に２層以上積層させた膜、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも一
つをＺｎとの総量に対し合計１５原子％以下ドープした
ＺｎＯ膜等が使用できる。
特に限定されない。例として、ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、ＩＴ
Ｏ、ＺｎＯ−ＳｎＯ2 を交互に２層以上積層させた膜、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｂ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｒのうち少なくとも一
つをＺｎとの総量に対し合計１５原子％以下ドープした
ＺｎＯ膜等が使用できる。
【００３４】酸化物膜２、６の膜厚は、特に限定されな
いが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮する
と、２００〜７００Åが望ましい。酸化物膜４の膜厚
は、特に限定されないが、熱線遮断膜全体の色調、可視
光透過率を考慮すると、３００〜１５００Åが望まし
い。
いが、熱線遮断膜全体の色調、可視光透過率を考慮する
と、２００〜７００Åが望ましい。酸化物膜４の膜厚
は、特に限定されないが、熱線遮断膜全体の色調、可視
光透過率を考慮すると、３００〜１５００Åが望まし
い。
【００３５】本発明における金属膜３、５としては、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ｐｄなどの貴金属を主成分とする熱線遮断性
能を有する膜が使用できる。金属膜３は、かかる熱線遮
断性能を有する金属膜の他に、各種の機能を有する金属
層を有していてもよい。例えば、熱線遮断性能を有する
金属膜と酸化物膜との間の接着力を調整する金属層や、
熱線遮断性能を有する金属膜からの金属の拡散防止機能
を有する金属層等が挙げられる。これらの機能を有する
金属層を構成する金属の例としては、Ｚｎ、Ａｌ、Ｃ
ｒ、Ｗ、Ｎｉ、Ｔｉや、これらのうち２種以上の金属の
合金等が挙げられる。これらの金属層を含む金属膜３、
５全体の膜厚としては、熱線遮断性能および可視光透過
率等とのかねあいを考慮して、５０Å〜１５０Å、特に
７０〜１２０Åが適当である。
ｇ、Ａｕ、Ｐｄなどの貴金属を主成分とする熱線遮断性
能を有する膜が使用できる。金属膜３は、かかる熱線遮
断性能を有する金属膜の他に、各種の機能を有する金属
層を有していてもよい。例えば、熱線遮断性能を有する
金属膜と酸化物膜との間の接着力を調整する金属層や、
熱線遮断性能を有する金属膜からの金属の拡散防止機能
を有する金属層等が挙げられる。これらの機能を有する
金属層を構成する金属の例としては、Ｚｎ、Ａｌ、Ｃ
ｒ、Ｗ、Ｎｉ、Ｔｉや、これらのうち２種以上の金属の
合金等が挙げられる。これらの金属層を含む金属膜３、
５全体の膜厚としては、熱線遮断性能および可視光透過
率等とのかねあいを考慮して、５０Å〜１５０Å、特に
７０〜１２０Åが適当である。
【００３６】本発明の製造方法の代表例として、シング
ルプロセスチャンバーを用いて１パスモードで、５層構
成のＧＺＯ／Ａｇ／ＧＺＯ／Ａｇ／ＧＺＯ／ガラスから
なるＬｏｗ−Ｅ膜を作製する場合について図４をもとに
説明する。１１，１３，１５をＧＺＯターゲット、１
２，１４をＡｇターゲット、雰囲気はＡｒが９９％以上
含まれる雰囲気とする。ガラス基板を左から右へと移動
させながら、すべてのターゲット放電させる。基板がタ
ーゲット１１，１２，１３，１４，１５の下を順に通過
していく際、ＧＺＯ層、Ａｇ層、ＧＺＯ層、Ａｇ層、Ｇ
ＺＯ層と順次形成される。
ルプロセスチャンバーを用いて１パスモードで、５層構
成のＧＺＯ／Ａｇ／ＧＺＯ／Ａｇ／ＧＺＯ／ガラスから
なるＬｏｗ−Ｅ膜を作製する場合について図４をもとに
説明する。１１，１３，１５をＧＺＯターゲット、１
２，１４をＡｇターゲット、雰囲気はＡｒが９９％以上
含まれる雰囲気とする。ガラス基板を左から右へと移動
させながら、すべてのターゲット放電させる。基板がタ
ーゲット１１，１２，１３，１４，１５の下を順に通過
していく際、ＧＺＯ層、Ａｇ層、ＧＺＯ層、Ａｇ層、Ｇ
ＺＯ層と順次形成される。
【００３７】本発明では、ＧＺＯターゲットを用い少な
くとも１層形成すればよいが、熱線遮断性能、可視光透
過率、生産性のすべてを最良にするには、すべての酸化
物層をＧＺＯターゲットを用いて無酸素雰囲気中で作製
することが好ましい。
くとも１層形成すればよいが、熱線遮断性能、可視光透
過率、生産性のすべてを最良にするには、すべての酸化
物層をＧＺＯターゲットを用いて無酸素雰囲気中で作製
することが好ましい。
【００３８】本発明の無酸素雰囲気とは、意図的に酸素
ガスを導入しないＡｒ雰囲気のことで、具体的にはＡｒ
９９％以上、酸素１％以下の雰囲気のことを示す。残留
ガス、チャンバー壁からの脱ガスやリーク（真空漏れ）
などを完全にはなくせないので、ある程度の酸素混入は
避けられない。しかし、熱線遮断層の劣化を防ぐために
は、なるべく酸素混入量を少なくするほうが好ましい。
ガスを導入しないＡｒ雰囲気のことで、具体的にはＡｒ
９９％以上、酸素１％以下の雰囲気のことを示す。残留
ガス、チャンバー壁からの脱ガスやリーク（真空漏れ）
などを完全にはなくせないので、ある程度の酸素混入は
避けられない。しかし、熱線遮断層の劣化を防ぐために
は、なるべく酸素混入量を少なくするほうが好ましい。
【００３９】
【作用】酸化物膜としてＧａをＺｎとの総量に対し、１
〜１５原子％、好ましくは２〜８原子％、ドープした酸
化亜鉛膜を少なくとも１層含むことにより従来の熱線遮
断膜に比べて熱線遮断性能、可視光透過率、生産性が著
しく改善される。これは、ＧａドープＺｎＯが無酸素雰
囲気中で貴金属層の劣化をともなわず成膜が可能な材料
であり、かつ高可視光透過率および高成膜速度を満たす
材料であることによる。
〜１５原子％、好ましくは２〜８原子％、ドープした酸
化亜鉛膜を少なくとも１層含むことにより従来の熱線遮
断膜に比べて熱線遮断性能、可視光透過率、生産性が著
しく改善される。これは、ＧａドープＺｎＯが無酸素雰
囲気中で貴金属層の劣化をともなわず成膜が可能な材料
であり、かつ高可視光透過率および高成膜速度を満たす
材料であることによる。
【００４０】酸化物タイプのターゲットであり、かつ導
電性のＧＺＯターゲットを用いすべての層を同一（無酸
素）雰囲気で直流スパッタする方法をとれば、Ｌｏｗ−
Ｅ膜の品質（熱線遮断性能、可視光透過率）を損なうこ
となく生産性をさらに高めることができる。これは、シ
ングルプロセスチャンバーで１パスで生産できるため、
装置コストが低くかつ成膜時間が短縮であることによ
る。また、曲げガラスへのコートの場合も同様に生産性
向上が可能である。
電性のＧＺＯターゲットを用いすべての層を同一（無酸
素）雰囲気で直流スパッタする方法をとれば、Ｌｏｗ−
Ｅ膜の品質（熱線遮断性能、可視光透過率）を損なうこ
となく生産性をさらに高めることができる。これは、シ
ングルプロセスチャンバーで１パスで生産できるため、
装置コストが低くかつ成膜時間が短縮であることによ
る。また、曲げガラスへのコートの場合も同様に生産性
向上が可能である。
【００４１】
【表１】
【００４２】
（実施例１）直流スパッタリング法により、２ミリ厚の
ソーダライムガラス基板上に、Ａｒの3.0 ×10-3Torrの
雰囲気中で、膜厚４５０ÅのＧａドープＺｎＯ（ＧＺ
Ｏ）膜、膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＧＺＯ膜
を順次積層させた。ＧＺＯ膜はＺｎとの総量に対してＧ
ａを５．０原子％含むＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 焼結体をター
ゲットを用いて形成した。Ａｇ膜はＡｇをターゲットを
用いて形成した。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電
力密度はＧＺＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の
成膜時には０．７W/cm2 であった。
ソーダライムガラス基板上に、Ａｒの3.0 ×10-3Torrの
雰囲気中で、膜厚４５０ÅのＧａドープＺｎＯ（ＧＺ
Ｏ）膜、膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＧＺＯ膜
を順次積層させた。ＧＺＯ膜はＺｎとの総量に対してＧ
ａを５．０原子％含むＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 焼結体をター
ゲットを用いて形成した。Ａｇ膜はＡｇをターゲットを
用いて形成した。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電
力密度はＧＺＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の
成膜時には０．７W/cm2 であった。
【００４３】Ｌｏｗ−Ｅ膜作製にかかったスパッタ時間
（プレスパッタ時間は除く）は、あわせて７６秒であっ
た。上記熱線遮断膜の可視光透過率は８７％。太陽エネ
ルギー反射率は２７％。エミシビティは０．０７であっ
た。
（プレスパッタ時間は除く）は、あわせて７６秒であっ
た。上記熱線遮断膜の可視光透過率は８７％。太陽エネ
ルギー反射率は２７％。エミシビティは０．０７であっ
た。
【００４４】（実施例２）直流スパッタリング法によ
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、Ａｒの3.
0 ×10-3Torrの雰囲気中で、膜厚４５０ÅのＧＺＯ膜、
膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚９００ÅのＧＺＯ膜、膜厚９
０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＧＺＯ膜を順次積層させ
た。ＧＺＯ膜はＺｎとの総量に対してＧａを５．０原子
％含むＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 焼結体をターゲットを用いて
形成した。Ａｇ膜はＡｇをターゲットを用いて形成し
た。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度は、Ｇ
ＺＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜時には
０．７W/cm2 であった。
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、Ａｒの3.
0 ×10-3Torrの雰囲気中で、膜厚４５０ÅのＧＺＯ膜、
膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚９００ÅのＧＺＯ膜、膜厚９
０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＧＺＯ膜を順次積層させ
た。ＧＺＯ膜はＺｎとの総量に対してＧａを５．０原子
％含むＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 焼結体をターゲットを用いて
形成した。Ａｇ膜はＡｇをターゲットを用いて形成し
た。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度は、Ｇ
ＺＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜時には
０．７W/cm2 であった。
【００４５】Ｌｏｗ−Ｅ膜作製にかかったスパッタ時間
（プレスパッタ時間は除く）は、あわせて１５２秒であ
った。上記熱線遮断膜の可視光透過率は８０％。太陽エ
ネルギー反射率は４０％。エミシビティは０．０４であ
った。
（プレスパッタ時間は除く）は、あわせて１５２秒であ
った。上記熱線遮断膜の可視光透過率は８０％。太陽エ
ネルギー反射率は４０％。エミシビティは０．０４であ
った。
【００４６】（比較例１）直流スパッタリング法によ
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、膜厚４５
０ÅのＺｎＯ膜、膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０Åの
ＺｎＯ膜を以下に示す方法で順次積層させた。まず、基
板上にＡｒ：Ｏ2 ＝１：１の3.0 ×10-3Torrの雰囲気中
で、Ｚｎ金属をターゲットとして、ＺｎＯ膜を形成し
た。次いで、Ａｒのみの 3.0×10-3Torrの雰囲気中で、
Ａｇをターゲットとして、Ａｇ膜を形成し、次いで雰囲
気を変えずに、Ｚｎ金属をターゲットとして、20Å程度
のごく薄いＺｎバリア膜を形成した。最後に、Ａｒ：Ｏ
2 ＝１：１の 3.0×10-3Torrの雰囲気中で、Ｚｎをター
ゲットとして、ＺｎＯ膜を形成した。上記Ｚｎ層は、最
上層ＺｎＯ膜形成の際にほとんど酸化されて、ＺｎＯと
なった。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度
は、ＺｎＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜
時には０．７W/cm2 であった。
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、膜厚４５
０ÅのＺｎＯ膜、膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０Åの
ＺｎＯ膜を以下に示す方法で順次積層させた。まず、基
板上にＡｒ：Ｏ2 ＝１：１の3.0 ×10-3Torrの雰囲気中
で、Ｚｎ金属をターゲットとして、ＺｎＯ膜を形成し
た。次いで、Ａｒのみの 3.0×10-3Torrの雰囲気中で、
Ａｇをターゲットとして、Ａｇ膜を形成し、次いで雰囲
気を変えずに、Ｚｎ金属をターゲットとして、20Å程度
のごく薄いＺｎバリア膜を形成した。最後に、Ａｒ：Ｏ
2 ＝１：１の 3.0×10-3Torrの雰囲気中で、Ｚｎをター
ゲットとして、ＺｎＯ膜を形成した。上記Ｚｎ層は、最
上層ＺｎＯ膜形成の際にほとんど酸化されて、ＺｎＯと
なった。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度
は、ＺｎＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜
時には０．７W/cm2 であった。
【００４７】Ｌｏｗ−Ｅ膜作製にかかったスパッタ時間
（プレスパッタ時間は除く）は、トータルで１２２秒で
あった。上記熱線遮断膜の可視光透過率は８４％。太陽
エネルギー反射率は２４％。エミシビティは０．０９で
ある。
（プレスパッタ時間は除く）は、トータルで１２２秒で
あった。上記熱線遮断膜の可視光透過率は８４％。太陽
エネルギー反射率は２４％。エミシビティは０．０９で
ある。
【００４８】（比較例２）直流スパッタリング法によ
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、膜厚４５
０ÅのＺｎＯ膜、膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚９００Åの
ＺｎＯ膜、膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＺｎＯ
膜を上記比較例と同様の方法で順次積層させた。すなわ
ち、基板上にＡｒ：Ｏ2 ＝１：１の3.0 ×10-3Torrの雰
囲気中で、Ｚｎ金属をターゲットとして、ＺｎＯ膜を形
成した。次いで、Ａｒのみの 3.0×10-3Torrの雰囲気中
で、ＡｇをターゲットとしてＡｇ膜を形成し、次いで雰
囲気を変えずに、Ｚｎ金属をターゲットとして、20Å程
度のごく薄いバリアＺｎ膜を形成した。Ｚｎ膜上にＡ
ｒ：Ｏ2 ＝１：１の3.0 ×10-3Torrの雰囲気中で、Ｚｎ
金属をターゲットとしてＺｎＯ膜を形成した。
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、膜厚４５
０ÅのＺｎＯ膜、膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚９００Åの
ＺｎＯ膜、膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＺｎＯ
膜を上記比較例と同様の方法で順次積層させた。すなわ
ち、基板上にＡｒ：Ｏ2 ＝１：１の3.0 ×10-3Torrの雰
囲気中で、Ｚｎ金属をターゲットとして、ＺｎＯ膜を形
成した。次いで、Ａｒのみの 3.0×10-3Torrの雰囲気中
で、ＡｇをターゲットとしてＡｇ膜を形成し、次いで雰
囲気を変えずに、Ｚｎ金属をターゲットとして、20Å程
度のごく薄いバリアＺｎ膜を形成した。Ｚｎ膜上にＡ
ｒ：Ｏ2 ＝１：１の3.0 ×10-3Torrの雰囲気中で、Ｚｎ
金属をターゲットとしてＺｎＯ膜を形成した。
【００４９】次いで、Ａｒのみの 3.0×10-3Torrの雰囲
気中で、ＡｇをターゲットとしてＡｇ膜を形成し、次い
で雰囲気を変えずに、Ｚｎ金属をターゲットとして、20
Å程度のごく薄いＺｎバリア膜を形成した。最後に、Ａ
ｒ：Ｏ2 ＝１：１の3.0 ×10-3Torrの雰囲気中で、Ｚｎ
金属をターゲットとしてＺｎＯ膜を形成した。上記Ｚｎ
層は、ＺｎＯ膜形成の際にほとんど酸化されてＺｎＯと
なった。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度
は、ＺｎＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜
時には０．７W/cm2 であった。
気中で、ＡｇをターゲットとしてＡｇ膜を形成し、次い
で雰囲気を変えずに、Ｚｎ金属をターゲットとして、20
Å程度のごく薄いＺｎバリア膜を形成した。最後に、Ａ
ｒ：Ｏ2 ＝１：１の3.0 ×10-3Torrの雰囲気中で、Ｚｎ
金属をターゲットとしてＺｎＯ膜を形成した。上記Ｚｎ
層は、ＺｎＯ膜形成の際にほとんど酸化されてＺｎＯと
なった。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度
は、ＺｎＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜
時には０．７W/cm2 であった。
【００５０】Ｌｏｗ−Ｅ膜作製にかかったスパッタ時間
（プレスパッタ時間は除く）は、トータルで244 秒であ
った。上記熱線遮断膜の可視光透過率は７３％。太陽エ
ネルギー反射率は３１％。エミシビティは０．０５であ
る。
（プレスパッタ時間は除く）は、トータルで244 秒であ
った。上記熱線遮断膜の可視光透過率は７３％。太陽エ
ネルギー反射率は３１％。エミシビティは０．０５であ
る。
【００５１】（比較例３）直流スパッタリング法によ
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、Ａｒの3.
0 ×10-3Torrの雰囲気中で、膜厚４５０ÅのＩＴＯ膜、
膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚９００ÅのＩＴＯ膜、膜厚９
０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＩＴＯ膜を順次積層させ
た。ＩＴＯ膜は、Ｉｎとの総量に対してＳｎを５．０原
子％含むＩＴＯ焼結体をターゲットとを用いて形成し
た。Ａｇ膜はＡｇをターゲットを用いて形成した。成膜
中の基板温度は室温、スパッタ電力密度はＧＺＯ膜の成
膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜時には０．７W/cm
2 であった。
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、Ａｒの3.
0 ×10-3Torrの雰囲気中で、膜厚４５０ÅのＩＴＯ膜、
膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚９００ÅのＩＴＯ膜、膜厚９
０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＩＴＯ膜を順次積層させ
た。ＩＴＯ膜は、Ｉｎとの総量に対してＳｎを５．０原
子％含むＩＴＯ焼結体をターゲットとを用いて形成し
た。Ａｇ膜はＡｇをターゲットを用いて形成した。成膜
中の基板温度は室温、スパッタ電力密度はＧＺＯ膜の成
膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜時には０．７W/cm
2 であった。
【００５２】Ｌｏｗ−Ｅ膜作製にかかったスパッタ時間
（プレスパッタ時間は除く）は、トータルで１８０秒で
あった。上記熱線遮断膜の可視光透過率は５９％。太陽
エネルギー反射率は２９％。エミシビティは０．０７で
あった。
（プレスパッタ時間は除く）は、トータルで１８０秒で
あった。上記熱線遮断膜の可視光透過率は５９％。太陽
エネルギー反射率は２９％。エミシビティは０．０７で
あった。
【００５３】（比較例４）直流スパッタリング法によ
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、Ａｒの3.
0 ×10-3Torrの雰囲気中で、膜厚４５０ÅのＡＺＯ膜、
膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚９００ÅのＡＺＯ膜、膜厚９
０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＡＺＯ膜を順次積層させ
た。ＡＺＯ膜はＺｎとの総量に対してＡｌを４．０原子
％含むＺｎＯ−Ａｌ2 Ｏ3 焼結体をターゲットを用いて
形成した。Ａｇ膜はＡｇをターゲットを用いて形成し
た。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度は、Ａ
ＺＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜時には
０．７W/cm2 であった。
り、２ミリ厚のソーダライムガラス基板上に、Ａｒの3.
0 ×10-3Torrの雰囲気中で、膜厚４５０ÅのＡＺＯ膜、
膜厚９０ÅのＡｇ膜、膜厚９００ÅのＡＺＯ膜、膜厚９
０ÅのＡｇ膜、膜厚４５０ÅのＡＺＯ膜を順次積層させ
た。ＡＺＯ膜はＺｎとの総量に対してＡｌを４．０原子
％含むＺｎＯ−Ａｌ2 Ｏ3 焼結体をターゲットを用いて
形成した。Ａｇ膜はＡｇをターゲットを用いて形成し
た。成膜中の基板温度は室温、スパッタ電力密度は、Ａ
ＺＯ膜の成膜時には１．１W/cm2 、Ａｇ膜の成膜時には
０．７W/cm2 であった。
【００５４】Ｌｏｗ−Ｅ膜作製にかかったスパッタ時間
（プレスパッタ時間は除く）は、トータルで１８０秒で
あった。上記熱線遮断膜の可視光透過率は７６％。太陽
エネルギー反射率は３４％。エミシビティは０．０５で
あった。
（プレスパッタ時間は除く）は、トータルで１８０秒で
あった。上記熱線遮断膜の可視光透過率は７６％。太陽
エネルギー反射率は３４％。エミシビティは０．０５で
あった。
【００５５】
【発明の効果】本発明の熱線遮断膜は、酸化物タイプの
ターゲットであり、かつ導電性のあるＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ
3 ターゲットを用いているので、無酸素雰囲気で、かつ
直流スパッタリングで製膜でき、それ故、熱線遮断膜の
劣化防止のための金属バリア層が不要となるとともに、
可視光透過率、熱線遮断性能、生産性が、著しく改善さ
れている。また、従来の５層系などの多層膜の製膜にお
いて問題であったマルチパスモードやマルチプロセスチ
ャンバーの装置コスト高や曲げガラスに対応できないな
どの欠点を解決できるものである。
ターゲットであり、かつ導電性のあるＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ
3 ターゲットを用いているので、無酸素雰囲気で、かつ
直流スパッタリングで製膜でき、それ故、熱線遮断膜の
劣化防止のための金属バリア層が不要となるとともに、
可視光透過率、熱線遮断性能、生産性が、著しく改善さ
れている。また、従来の５層系などの多層膜の製膜にお
いて問題であったマルチパスモードやマルチプロセスチ
ャンバーの装置コスト高や曲げガラスに対応できないな
どの欠点を解決できるものである。
【００５６】本発明の熱線遮断膜は、金属膜を有してい
るため、熱線遮断性能とともに導電性もある。従って、
本発明の熱線遮断膜はこの導電性を利用して、種々の技
術分野に使用できる。例えば、エレクトロニクス分野に
おいては、電極として（太陽電池の電極などにも使用で
きる）、また、通電加熱窓においては、発熱体として、
あるいは、窓や電子部品においては、電磁波遮蔽膜とし
て使用できる。場合によっては、本発明の熱線遮断膜は
基体の上に各種の機能を有する膜を介して形成すること
もできる。このような場合には、本発明の熱線遮断膜の
各膜の最適膜厚を選択するなどにより、その用途に応じ
て、光学性能を調節することができる。
るため、熱線遮断性能とともに導電性もある。従って、
本発明の熱線遮断膜はこの導電性を利用して、種々の技
術分野に使用できる。例えば、エレクトロニクス分野に
おいては、電極として（太陽電池の電極などにも使用で
きる）、また、通電加熱窓においては、発熱体として、
あるいは、窓や電子部品においては、電磁波遮蔽膜とし
て使用できる。場合によっては、本発明の熱線遮断膜は
基体の上に各種の機能を有する膜を介して形成すること
もできる。このような場合には、本発明の熱線遮断膜の
各膜の最適膜厚を選択するなどにより、その用途に応じ
て、光学性能を調節することができる。
【００５７】
【図１】本発明による３層系熱線遮断膜をガラス上に形
成した熱線遮断ガラスの一例の断面図
成した熱線遮断ガラスの一例の断面図
【図２】本発明による５層系熱線遮断膜をガラス上に形
成した熱線遮断ガラスの一例の断面図
成した熱線遮断ガラスの一例の断面図
【図３】マルチプロセスチャンバーの代表例の概略図
【図４】シングルプロセスチャンバーの代表例の概略図
【符号の説明】 １：基体 ２：酸化物膜 ３：金属膜 ４：酸化物膜 ５：金属膜 ６：酸化物膜 １０：ガラス基板 １１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１
９：各種ターゲット
９：各種ターゲット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 3/08 3/22 Ｃ２３Ｃ 14/34 Ｎ 8414−4Ｋ
Claims (7)
- 【請求項１】基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と
が交互に積層された(2n+1)層(n≧1)からなる熱線遮断膜
において、酸化物膜のうち少なくとも１層は、ＺｎＯ−
Ｇａ2 Ｏ3 ターゲットを無酸素雰囲気でスパッタして得
られるＧａを添加した酸化亜鉛膜であることを特徴とす
る熱線遮断膜。 - 【請求項２】前記酸化亜鉛膜は、ＧａがＺｎとの総量に
対し１〜１５原子％ドープされたものであることを特徴
とする請求項１記載の熱線遮断膜。 - 【請求項３】前記金属膜はＡｇ、Ａｕ、Ｐｄのいずれか
を主成分とする金属膜であることを特徴とする請求項１
または２記載の熱線遮断膜。 - 【請求項４】基体上に酸化物膜、金属膜、酸化物膜、と
が交互に積層された(2n+1)層(n≧1)からなる熱線遮断膜
の製造方法において、酸化物膜のうち少なくとも１層は
ＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 ターゲットを用いて得られたＧａを
添加した酸化亜鉛膜であり、すべての膜は無酸素雰囲気
でスパッタされることを特徴とする熱線遮断膜の製造方
法。 - 【請求項５】基体上にＧａを添加した酸化亜鉛膜、金属
膜、Ｇａを添加した酸化亜鉛膜、とが交互に積層された
(2n+1)層(n≧1)からなる熱線遮断膜の製造方法におい
て、ＺｎＯ−Ｇａ2 Ｏ3 ターゲット、金属ターゲットと
がそれぞれ少なくとも１つ配されている１つのプロセス
チャンバー内に基体を導入し、無酸素雰囲気で直流スパ
ッタリングを行わしめ、基体面上に順次Ｇａを添加した
酸化亜鉛膜、金属膜、Ｇａを添加した酸化亜鉛膜、を形
成し、それらが交互に積層された(2n+1)層(n≧1)を形成
すること特徴とする熱線遮断膜の製造方法。 - 【請求項６】無酸素雰囲気が、アルゴンガス９９％以上
の雰囲気であることを特徴とする請求項５記載の熱線遮
断膜の製造方法。 - 【請求項７】無酸素雰囲気が、酸素１％以下の雰囲気で
あることを特徴とする請求項５記載の熱線遮断膜の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32418393A JPH07178866A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 熱線遮断膜とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32418393A JPH07178866A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 熱線遮断膜とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07178866A true JPH07178866A (ja) | 1995-07-18 |
Family
ID=18163014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32418393A Pending JPH07178866A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 熱線遮断膜とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07178866A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1993
- 1993-12-22 JP JP32418393A patent/JPH07178866A/ja active Pending
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