KR20010042651A - 폴리머 디바이스 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (78)
- 입력 전극과, 출력 전극과, 상기 입력 전극과 출력 전극 사이에 전기적으로 결합되며 반도체 폴리머 물질을 포함하는 스위치가능한 영역과, 그리고 제어 전극에 바이어스를 적용하여 상기 입력 전극과 상기 출력 전극 간의 상기 스위치가능한 영역을 통한 전류의 흐름을 변화시킬 수 있도록, 상기 스위치가능한 영역에 전기적으로 결합되는 상기 제어 전극을 갖는 회로 구동 스위칭 소자와; 그리고상기 스위칭 소자와 함께 집적되며, 상기 스위칭 소자로부터 구동 전류를 수신하기 위하여 상기 스위칭 소자의 출력 전극에 전기적으로 결합되는 제 2 회로 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 1 항에 있어서, 상기 집적 회로 디바이스는 층들로 구성되며, 상기 스위칭 소자는 제 1 층에 의해 제공되고, 상기 제 2 회로 소자는 제 2 층에 의해 제공되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이의 절연층을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 3 항에 있어서, 상기 스위칭 소자와 상기 제 2 회로 소자를 전기적으로 연결하기 위하여 상기 절연층을 통과하는 전기 전도성의 상호연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 2 회로 소자는 디스플레이 소자인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 1 항 내지 제 5 항에 있어서, 상기 제 2 회로 소자는 광방출 소자인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 6 항에 있어서, 상기 광방출 소자는 광방출 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 7 항에 있어서, 상기 광방출 유기 물질은 광방출 폴리머 물질인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스위칭 소자의 상기 출력 전극은 상기 광방출 소자의 한 전극인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 5 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스위칭 소자는 상기 디스플레이 소자를 위한 액티브 매트릭스 제어회로의 일부인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 반도체 폴리머 물질은, 적어도 부분적으로, 폴리머 체인들 사이에서와 같이 정렬되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 반도체 폴리 물질은, 적어도 부분적으로, 위상-분리되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 반도체 폴리 물질은 자기 유기화되는 경향을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 13 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 물질은 층 구조로 자기 유기화되는 경향이 있는 물질인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 14 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 물질은, 컨쥬게이트된 영역들의 층들과 비-컨쥬게이트된 영역들의 층들이 교번되는 층 구조로 자기 유기화되는 경향이 있는 물질인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 반도체 폴리머는 컨쥬게이트된 백본을 갖는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 폴리머는 인접하는 폴리머 체인들의 정렬을 촉진시키는 그의 백본 내에, 또는 백본에 매달린 치환분들을 갖는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 반도페 폴리머는 공수 사이드-체인들을 갖는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 반도체 폴리머는 폴리-헥실티오펜인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 입력, 출력 및 스위칭 전극들 중 적어도 하나는 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 3 항에 직접 또는 간접적으로 의존하는 제 4 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 절연층은 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 선행하는 모든 항들에 있어서, 상기 스위치가능한 영역은 상기 스위칭 전극과 상기 입력 및 상기 출력 전극들 사이에 위치된 층의 형태인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 반도체 폴리머 물질을 포함하는 영역을 갖는 전자 디바이스 형성 방법으로서,증착된 폴리머의 정렬을 촉진시키는 공정에 의해 반도체 폴리머를 증착하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 증착 단계는 상기 폴리머가 자기 유기화되는 경향이 있는 용제 내에 상기 폴리머를 용해하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 또는 제 24 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 증착 단계는 상기 폴리머가 자기 유기화되는 경향이 있는 용제로부터 상기 폴리머를 코팅하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 증착 단계는 비활성 환경에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 증착 단계는 상기 폴리머의 정렬을 조장하기 위한 기판을 준비하는 단계와, 그리고 상기 기판 위에 상기 폴리머를 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 27 항에 있어서, 상기 기판을 준비하는 단계는 상기 기판의 표면을 더 공수적으로 만드는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 28 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방법은 상기 반도체 폴리머 위에 적어도 하나의 전극을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머는 자기 유기화되는 경향을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머는 컨쥬게이트된 백본을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 31 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머는 인접하는 폴리머 체인들의 정렬을 촉진시키는 그의 백본 내에, 또는 백본에 매달린 치환분들을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 32 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머는 공수 사이드-체인들을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 33 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머는 폴리-헥실티오펜인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 34 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전자 디바이스 위에 광방출 디바이스를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 광방출 디바이스는 상기 전자 디바이스와 함께 집적되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 34 항 또는 제 36 항에 있어서, 상기 광방출 디바이스는 광방출 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 37 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전자 디바이스는 스위칭 디바이스인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 38 항에 있어서, 상기 전자 디바이스는 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 38 항 또는 제 39 항에 있어서, 상기 전자 디바이스는 입력 전극과, 출력 전극과, 상기 입력 전극과 출력 전극 사이에 전기적으로 결합되며 반도체 폴리머 물질을 포함하는 스위치가능한 영역과, 그리고 제어 전극에 바이어스를 적용하여 입력 전극과 출력 전극 간의 스위치가능한 영역을 통한 전류의 흐름을 변화시킬 수 있도록, 상기 스위치가능한 영역에 전기적으로 결합되는 상기 제어 전극을 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 40 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 회로 소자 표면의 습윤 특성들은 그 위에서 이후의 층들이 증착될 수 있도록 설계되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 41 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머의 위에 절연층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 42 항에 있어서, 상기 절연층은 상기 반도체 폴리머로부터 잔여 도펀트들을 끌어당길 수 있는 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 41 항 내지 제 43 항에 있어서, 상기 절연층 표면의 습윤 특성들은 그 위에 다른 층이 증착될 수 있게 하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 41 항 내지 제 44 항에 있어서, 절연층 표면의 다른 습윤 특성들 및 인접하는 전도성 영역들의 특성들이 이용되어 이후의 층들이 바람직한 위치에 증착되도록 안내하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 41 항 내지 제 45 항에 있어서, 상기 절연층은 제 2 회로 소자 층들이 증착 또는 작동하는 동안 상기 제 1 회로 소자의 층들의 용해 및 저하되는 것을 막는 데에 이용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 41 항 내지 제 46 항에 있어서, 상기 절연층의 기계적인 특성들은 디바이스가 얇은 층으로 갈라지는 현상 또는 다른 형태의 기계적인 실패를 막는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 47 항에 있어서, 상기 제 1, 2 회로 소자 사이에는 이 두 소자들 간의 전기적인 호환성을 보장하기 위한 전도층이 증착되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 48 항에 있어서, 상기 전도층은 상기 제 2 회로 소자 내로의 균일한 전류 주입을 보장하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 23 항 내지 제 49 항에 있어서, 상기 전도층은 상기제 2 회로 소자 내로의 효율적인 캐리어 주입을 보장하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 입력 전극과, 출력 전극과, 상기 입력 전극과 출력 전극 사이에 전기적으로 결합되며 반도체 폴리머 물질을 포함하는 스위치가능한 영역과, 그리고 제어 전극에 바이어스를 적용하여 입력 전극과 출력 전극 간의 스위치가능한 영역을 통한 전류의 흐름을 변화시킬 수 있도록, 상기 스위치가능한 영역에 전기적으로 결합되는 상기 제어 전극을 갖는 회로 구동 스위칭 소자와; 그리고상기 스위칭 소자와 함께 집적되며, 상기 스위칭 소자의 전극들 중 하나에 전기적으로 결합되는 전기-광학 회로 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항에 있어서, 상기 집적 회로 디바이스는 층들로 구성되며, 상기 스위칭 소자는 제 1 층에 의해 제공되고, 상기 전기-광학 회로 소자는 제 2 층에 의해 제공되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 입력 전극과, 출력 전극과, 상기 입력 전극과 출력 전극 사이에 전기적으로 결합되며 반도체 폴리머 물질을 포함하는 스위치가능한 영역과, 그리고 제어 전극에 바이어스를 적용하여 상기 입력 전극과 상기 출력 전극 간의 상기 스위치가능한 영역을 통한 전류의 흐름을 변화시킬 수 있도록, 상기 스위치가능한 영역에 전기적으로 결합되는 상기 제어 전극을 갖는 스위칭 소자와; 그리고다중층-스택 구성으로 상기 스위칭 소자와 함께 집적되며, 상기 스위칭 소자의 전극과 전기적으로 결합되는 제 2 회로 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 53 항에 있어서, 상기 제 2 회로 소자 또한 스위칭 소자인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 52 항 내지 제 54 항에 있어서, 상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이의 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 55 항에 있어서, 상기 스위칭 소자와 상기 전기-광학 회로 소자를 전기적을 연결하기 위하여 상기 절연층을 통과하는 전기 전도성의 상호연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 53 항 및 제 55 항 내지 제 56 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 2 회로 소자는 광방출 소자인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 57 항에 있어서, 상기 전기-광학 회로 소자의 입력 전극은 상기 스위칭 소자의 출력 전극에 전기적으로 결합되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 53 항 및 제 55 항 내지 제 56 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 2 회로 소자는 광감지 소자인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 59 항에 있어서, 상기 광감지 소자의 출력 전극은 상기 스위칭 소자의 입력 전극에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 59 항에 있어서, 상기 광감지 소자의 출력 전극은 상기 스위칭 소자의 제어 전극에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 53 항 및 제 55 항 내지 제 61 항 중 어느 한 항에 있어서, 광전기 소자는 광방출 및/또는 광감지 유기 물질을 포함하는 광전기 액티브 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 62 항에 있어서, 상기 광방출 및/또는 광감지 유기 물질은 폴리머 물질인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 63 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 물질은, 적어도 부분적으로, 폴리머 체인들 사이에서와 같이 정렬되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 64 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 물질은, 적어도 부분적으로, 위상-분리되는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 65 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 물질은 자기 유기화되는 경향이 있는 물질인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 66 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 물질은 층 구조로 자기 유기화되는 경향이 있는 물질인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 67 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머 물질은, 컨쥬게이트된 영역들의 층들과 비-컨쥬게이트된 영역들의 층들이 교번되는 층 구조로 자기 유기화되는 경향을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 68 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머는 컨쥬게이트된 백본을 갖는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 68 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머는 인접하는 폴리머 체인들의 정렬을 촉진시키는 그의 백본 내에, 또는 백본에 매달린 치환분들을 갖는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 70 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머는 공수 사이드-체인들을 갖는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 71 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 폴리머는 폴리-헥실티오펜인 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 51 항 내지 제 72 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 입력, 출력 및 스위칭 전극들 중 적어도 하나는 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 제 54 항에 직접 또는 간접적으로 의존하는 제 51 항 내지 제 73 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 절연층은 유기 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 회로 디바이스.
- 스위칭 소자들, 저항 소자들, 용량성 소자들, 광전지 소자들, 광전도성 소자들, 광방출 소자들, 및/또는 에너지 저장 디바이스들 중 어떠한 것 또는 모든 것을 포함할 수도 있는 대규모 회로의 일부를 형성하는 상기 청구항들 중 어느 한 항에서 청구된 집적 회로 디바이스.
- 첨부된 도면 도 2 내지 도 20을 참조하여 본원에서 실질적으로 설명된 전자 디바이스 제조 방법.
- 제 23 항 내지 제 50 항 또는 제 76 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 형성된 전자 디바이스.
- 첨부된 도면 도 2 내지 도 20을 참조하여 본원에서 실질적으로 설명된 전자 디바이스.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100840006B1 (ko) * | 1999-06-21 | 2008-06-20 | 캠브리지 엔터프라이즈 리미티드 | 유기 tft를 위한 정렬 폴리머 |
Families Citing this family (139)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6194167B1 (en) * | 1997-02-18 | 2001-02-27 | Washington State University Research Foundation | ω-3 fatty acid desaturase |
TW410478B (en) * | 1998-05-29 | 2000-11-01 | Lucent Technologies Inc | Thin-film transistor monolithically integrated with an organic light-emitting diode |
WO2000079617A1 (en) * | 1999-06-21 | 2000-12-28 | Cambridge University Technical Services Limited | Aligned polymers for an organic tft |
GB9926670D0 (en) * | 1999-11-12 | 2000-01-12 | Univ Liverpool | Field effect transistor (FET) and FET circuitry |
EP1243034A1 (en) * | 1999-12-21 | 2002-09-25 | Plastic Logic Limited | Solution processed devices |
GB9930217D0 (en) * | 1999-12-21 | 2000-02-09 | Univ Cambridge Tech | Solutiion processed transistors |
CN100375310C (zh) * | 1999-12-21 | 2008-03-12 | 造型逻辑有限公司 | 喷墨制作的集成电路 |
DE10033112C2 (de) * | 2000-07-07 | 2002-11-14 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung und Strukturierung organischer Feldeffekt-Transistoren (OFET), hiernach gefertigter OFET und seine Verwendung |
US6608323B2 (en) | 2000-07-24 | 2003-08-19 | Northwestern University | n-type thiophene semiconductors |
US6585914B2 (en) | 2000-07-24 | 2003-07-01 | Northwestern University | N-type thiophene semiconductors |
EP1310004A2 (de) * | 2000-08-18 | 2003-05-14 | Siemens Aktiengesellschaft | Organischer feldeffekt-transistor (ofet), herstellungsverfahren dazu und daraus gebaute integrierte schaltung sowie verwendungen |
JP2004506985A (ja) * | 2000-08-18 | 2004-03-04 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 封入された有機電子構成素子、その製造方法および使用 |
DE10043204A1 (de) * | 2000-09-01 | 2002-04-04 | Siemens Ag | Organischer Feld-Effekt-Transistor, Verfahren zur Strukturierung eines OFETs und integrierte Schaltung |
DE10044842A1 (de) * | 2000-09-11 | 2002-04-04 | Siemens Ag | Organischer Gleichrichter, Schaltung, RFID-Tag und Verwendung eines organischen Gleichrichters |
DE10045192A1 (de) * | 2000-09-13 | 2002-04-04 | Siemens Ag | Organischer Datenspeicher, RFID-Tag mit organischem Datenspeicher, Verwendung eines organischen Datenspeichers |
JP2004512675A (ja) * | 2000-09-22 | 2004-04-22 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 有機デバイスのための電極及び/又は導体路、及びその製造方法 |
GB0024294D0 (en) * | 2000-10-04 | 2000-11-15 | Univ Cambridge Tech | Solid state embossing of polymer devices |
GB2367788A (en) * | 2000-10-16 | 2002-04-17 | Seiko Epson Corp | Etching using an ink jet print head |
DE10061297C2 (de) * | 2000-12-08 | 2003-05-28 | Siemens Ag | Verfahren zur Sturkturierung eines OFETs |
DE10061299A1 (de) | 2000-12-08 | 2002-06-27 | Siemens Ag | Vorrichtung zur Feststellung und/oder Weiterleitung zumindest eines Umwelteinflusses, Herstellungsverfahren und Verwendung dazu |
DE10063721A1 (de) * | 2000-12-20 | 2002-07-11 | Merck Patent Gmbh | Organischer Halbleiter, Herstellungsverfahren dazu und Verwendungen |
US6992322B2 (en) * | 2001-01-02 | 2006-01-31 | Kavassery Sureswaran Narayan | Photo-responsive organic field effect transistor |
GB2371910A (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-07 | Seiko Epson Corp | Display devices |
DE10105914C1 (de) | 2001-02-09 | 2002-10-10 | Siemens Ag | Organischer Feldeffekt-Transistor mit fotostrukturiertem Gate-Dielektrikum und ein Verfahren zu dessen Erzeugung |
EP1374138A2 (de) * | 2001-03-26 | 2004-01-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Gerät mit zumindest zwei organischen elektronischen bauteilen und verfahren zur herstellung dazu |
EP1246244A3 (en) * | 2001-03-30 | 2007-02-14 | Pioneer Corporation | Organic electroluminescence unit |
AU2002310593A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-12-03 | Plastic Logic Limited | Laser parrering of devices |
DE10126860C2 (de) * | 2001-06-01 | 2003-05-28 | Siemens Ag | Organischer Feldeffekt-Transistor, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung zum Aufbau integrierter Schaltungen |
WO2003007399A2 (en) * | 2001-07-09 | 2003-01-23 | Plastic Logic Limited | Low melting point polymer alignment |
US6670213B2 (en) * | 2001-10-10 | 2003-12-30 | Cambridge Display Technology Limited | Method of preparing photoresponsive devices, and devices made thereby |
DE10151036A1 (de) * | 2001-10-16 | 2003-05-08 | Siemens Ag | Isolator für ein organisches Elektronikbauteil |
DE10151440C1 (de) * | 2001-10-18 | 2003-02-06 | Siemens Ag | Organisches Elektronikbauteil, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
EP1306909A1 (en) * | 2001-10-24 | 2003-05-02 | Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum | Ambipolar organic transistors |
GB2381644A (en) | 2001-10-31 | 2003-05-07 | Cambridge Display Tech Ltd | Display drivers |
GB2381643A (en) | 2001-10-31 | 2003-05-07 | Cambridge Display Tech Ltd | Display drivers |
CN101009322B (zh) * | 2001-11-09 | 2012-06-27 | 株式会社半导体能源研究所 | 发光器件 |
JP4149168B2 (ja) | 2001-11-09 | 2008-09-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
US6963080B2 (en) * | 2001-11-26 | 2005-11-08 | International Business Machines Corporation | Thin film transistors using solution processed pentacene precursor as organic semiconductor |
DE10160732A1 (de) * | 2001-12-11 | 2003-06-26 | Siemens Ag | Organischer Feld-Effekt-Transistor mit verschobener Schwellwertspannung und Verwendung dazu |
DE10212639A1 (de) * | 2002-03-21 | 2003-10-16 | Siemens Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Laserstrukturierung von Funktionspolymeren und Verwendungen |
DE10212640B4 (de) * | 2002-03-21 | 2004-02-05 | Siemens Ag | Logische Bauteile aus organischen Feldeffekttransistoren |
EP1367659B1 (en) * | 2002-05-21 | 2012-09-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic field effect transistor |
AU2003238177A1 (en) * | 2002-06-04 | 2003-12-19 | H.C. Starck Gmbh | Phosphorescent and luminescent conjugated polymers and their use in electroluminescent assemblies |
DE10226370B4 (de) * | 2002-06-13 | 2008-12-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Substrat für ein elektronisches Bauteil, Verwendung des Substrates, Verfahren zur Erhöhung der Ladungsträgermobilität und Organischer Feld-Effekt Transistor (OFET) |
US6946677B2 (en) * | 2002-06-14 | 2005-09-20 | Nokia Corporation | Pre-patterned substrate for organic thin film transistor structures and circuits and related method for making same |
EP1376697A1 (en) | 2002-06-17 | 2004-01-02 | CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA | Integrated-optical microsystem based on organic semiconductors |
GB2389952A (en) | 2002-06-18 | 2003-12-24 | Cambridge Display Tech Ltd | Driver circuits for electroluminescent displays with reduced power consumption |
GB2389951A (en) | 2002-06-18 | 2003-12-24 | Cambridge Display Tech Ltd | Display driver circuits for active matrix OLED displays |
EP1525630A2 (de) | 2002-07-29 | 2005-04-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektronisches bauteil mit vorwiegend organischen funktionsmaterialien und herstellungsverfahren dazu |
JP2010074188A (ja) * | 2002-07-31 | 2010-04-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | 電界効果トランジスタ |
JP2005534457A (ja) * | 2002-08-08 | 2005-11-17 | ジーメンス アクツィエンゲゼルシャフト | 電子装置 |
US8404376B2 (en) | 2002-08-09 | 2013-03-26 | Infinite Power Solutions, Inc. | Metal film encapsulation |
US8236443B2 (en) | 2002-08-09 | 2012-08-07 | Infinite Power Solutions, Inc. | Metal film encapsulation |
US8394522B2 (en) | 2002-08-09 | 2013-03-12 | Infinite Power Solutions, Inc. | Robust metal film encapsulation |
US20070264564A1 (en) | 2006-03-16 | 2007-11-15 | Infinite Power Solutions, Inc. | Thin film battery on an integrated circuit or circuit board and method thereof |
US8535396B2 (en) | 2002-08-09 | 2013-09-17 | Infinite Power Solutions, Inc. | Electrochemical apparatus with barrier layer protected substrate |
US8431264B2 (en) | 2002-08-09 | 2013-04-30 | Infinite Power Solutions, Inc. | Hybrid thin-film battery |
US8445130B2 (en) | 2002-08-09 | 2013-05-21 | Infinite Power Solutions, Inc. | Hybrid thin-film battery |
US8021778B2 (en) | 2002-08-09 | 2011-09-20 | Infinite Power Solutions, Inc. | Electrochemical apparatus with barrier layer protected substrate |
EP1532570B1 (de) | 2002-08-23 | 2007-02-28 | PolyIC GmbH & Co. KG | Organisches bauelement zum überspannungsschutz und dazugehörige schaltung |
TW554525B (en) * | 2002-08-28 | 2003-09-21 | Ind Tech Res Inst | Organic integration device of thin film transistor and light emitting diode |
US6737364B2 (en) * | 2002-10-07 | 2004-05-18 | International Business Machines Corporation | Method for fabricating crystalline-dielectric thin films and devices formed using same |
US6890868B2 (en) | 2002-10-17 | 2005-05-10 | Xerox Corporation | Process for depositing gelable composition that includes dissolving gelable composition in liquid with agitating to disrupt gelling |
US6764885B2 (en) | 2002-10-17 | 2004-07-20 | Avery Dennison Corporation | Method of fabricating transistor device |
WO2004042837A2 (de) * | 2002-11-05 | 2004-05-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Organisches elektronisches bauteil mit hochaufgelöster strukturierung und herstellungsverfahren dazu |
DE10253154A1 (de) * | 2002-11-14 | 2004-05-27 | Siemens Ag | Messgerät zur Bestimmung eines Analyten in einer Flüssigkeitsprobe |
WO2004047144A2 (de) * | 2002-11-19 | 2004-06-03 | Polyic Gmbh & Co.Kg | Organisches elektronisches bauelement mit stukturierter halbleitender funktionsschicht und herstellungsverfahren dazu |
GB0229191D0 (en) * | 2002-12-14 | 2003-01-22 | Plastic Logic Ltd | Embossing of polymer devices |
EP1586004B1 (de) * | 2003-01-09 | 2011-01-26 | PolyIC GmbH & Co. KG | Platine oder substrat für ein organisches elektronikgerät, sowie verwendung dazu |
US20040145030A1 (en) * | 2003-01-28 | 2004-07-29 | Meagley Robert P. | Forming semiconductor structures |
JP5025074B2 (ja) * | 2003-02-13 | 2012-09-12 | 株式会社リコー | 有機薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタの製造方法 |
US6781149B1 (en) * | 2003-02-14 | 2004-08-24 | Eastman Kodak Company | OLED device with a performance-enhancing layer |
US6824950B2 (en) * | 2003-02-14 | 2004-11-30 | Eastman Kodak Company | Forming an oled device with a performance-inhancing layer |
US20060261329A1 (en) * | 2004-03-24 | 2006-11-23 | Michele Muccini | Organic electroluminescence devices |
DE602004015103D1 (de) * | 2003-05-12 | 2008-08-28 | Cambridge Entpr Ltd | Herstellung einer polymeren vorrichtung |
EP1597774B1 (de) * | 2003-05-19 | 2007-03-14 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optoelektronisches bauelement mit einer leuchtdiode und einer mehrzahl von lichtsensoren |
US8728285B2 (en) | 2003-05-23 | 2014-05-20 | Demaray, Llc | Transparent conductive oxides |
US7132680B2 (en) * | 2003-06-09 | 2006-11-07 | International Business Machines Corporation | Organic field-effect transistor and method of making same based on polymerizable self-assembled monolayers |
US6927108B2 (en) * | 2003-07-09 | 2005-08-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Solution-processed thin film transistor formation method |
JP4570341B2 (ja) * | 2003-07-23 | 2010-10-27 | シャープ株式会社 | 薄膜トランジスタおよびそれを用いた表示素子、ならびに液晶表示素子 |
DE10338277A1 (de) * | 2003-08-20 | 2005-03-17 | Siemens Ag | Organischer Kondensator mit spannungsgesteuerter Kapazität |
DE10339036A1 (de) | 2003-08-25 | 2005-03-31 | Siemens Ag | Organisches elektronisches Bauteil mit hochaufgelöster Strukturierung und Herstellungsverfahren dazu |
DE10340644B4 (de) * | 2003-09-03 | 2010-10-07 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Mechanische Steuerelemente für organische Polymerelektronik |
DE10340643B4 (de) * | 2003-09-03 | 2009-04-16 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Druckverfahren zur Herstellung einer Doppelschicht für Polymerelektronik-Schaltungen, sowie dadurch hergestelltes elektronisches Bauelement mit Doppelschicht |
JP4390113B2 (ja) | 2003-11-10 | 2009-12-24 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | ジベンゾシロールポリマー及びその製造方法 |
DE102004002024A1 (de) * | 2004-01-14 | 2005-08-11 | Siemens Ag | Organischer Transistor mit selbstjustierender Gate-Elektrode und Verfahren zu dessen Herstellung |
GB0400997D0 (en) * | 2004-01-16 | 2004-02-18 | Univ Cambridge Tech | N-channel transistor |
US20070178658A1 (en) * | 2004-06-21 | 2007-08-02 | Kelley Tommie W | Patterning and aligning semiconducting nanoparticles |
DE102004040831A1 (de) * | 2004-08-23 | 2006-03-09 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Funketikettfähige Umverpackung |
JP4967143B2 (ja) * | 2004-08-30 | 2012-07-04 | 日本電信電話株式会社 | 有機半導体発光装置およびそれを用いた表示装置 |
US8030645B2 (en) * | 2004-10-25 | 2011-10-04 | Panasonic Corporation | Electronic device, process for producing the same and electronic equipment making use thereof |
KR100683685B1 (ko) * | 2004-10-28 | 2007-02-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기박막 트랜지스터를 구비한 유기전계 발광표시장치 및그의 제조방법 |
US7321133B2 (en) * | 2004-11-17 | 2008-01-22 | Plextronics, Inc. | Heteroatomic regioregular poly(3-substitutedthiophenes) as thin film conductors in diodes which are not light emitting or photovoltaic |
US7959769B2 (en) | 2004-12-08 | 2011-06-14 | Infinite Power Solutions, Inc. | Deposition of LiCoO2 |
TWI331634B (en) | 2004-12-08 | 2010-10-11 | Infinite Power Solutions Inc | Deposition of licoo2 |
DE102004059465A1 (de) * | 2004-12-10 | 2006-06-14 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Erkennungssystem |
DE102004059464A1 (de) * | 2004-12-10 | 2006-06-29 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronikbauteil mit Modulator |
DE102004059467A1 (de) * | 2004-12-10 | 2006-07-20 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Gatter aus organischen Feldeffekttransistoren |
CN101084469A (zh) * | 2004-12-20 | 2007-12-05 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 表面图案化和使用受控沉淀式生长的通孔制造 |
DE102004063435A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-07-27 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Organischer Gleichrichter |
TWI320294B (en) * | 2005-02-23 | 2010-02-01 | Organic semiconductor light-emitting element and display device | |
DE102005009820A1 (de) * | 2005-03-01 | 2006-09-07 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronikbaugruppe mit organischen Logik-Schaltelementen |
DE102005009819A1 (de) | 2005-03-01 | 2006-09-07 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronikbaugruppe |
JP4602920B2 (ja) * | 2005-03-19 | 2010-12-22 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 有機薄膜トランジスタ、それを備えた平板ディスプレイ装置、及び有機薄膜トランジスタの製造方法 |
DE102005017655B4 (de) * | 2005-04-15 | 2008-12-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Mehrschichtiger Verbundkörper mit elektronischer Funktion |
CN2788876Y (zh) * | 2005-05-10 | 2006-06-21 | 张逸夫 | 模拟花开动作的仿真玩具花 |
DE102005031448A1 (de) | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Aktivierbare optische Schicht |
US20070290196A1 (en) * | 2005-07-08 | 2007-12-20 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Organic light emitting display device and method for manufacturing the organic light emitting display device |
DE102005035589A1 (de) | 2005-07-29 | 2007-02-01 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements |
DE102005035590A1 (de) * | 2005-07-29 | 2007-02-01 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronisches Bauelement |
US8058093B2 (en) * | 2005-08-26 | 2011-11-15 | Global Photonic Energy Corp. | Method of forming an encapsulating electrode |
DE102005042166A1 (de) * | 2005-09-06 | 2007-03-15 | Polyic Gmbh & Co.Kg | Organisches Bauelement und ein solches umfassende elektrische Schaltung |
DE102005044306A1 (de) | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronische Schaltung und Verfahren zur Herstellung einer solchen |
JP2007109564A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Pioneer Electronic Corp | 発光素子及び表示装置 |
US8247801B2 (en) * | 2006-03-31 | 2012-08-21 | Imec | Organic semi-conductor photo-detecting device |
US8062708B2 (en) | 2006-09-29 | 2011-11-22 | Infinite Power Solutions, Inc. | Masking of and material constraint for depositing battery layers on flexible substrates |
DE102006047388A1 (de) | 2006-10-06 | 2008-04-17 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Feldeffekttransistor sowie elektrische Schaltung |
US8197781B2 (en) | 2006-11-07 | 2012-06-12 | Infinite Power Solutions, Inc. | Sputtering target of Li3PO4 and method for producing same |
US7679951B2 (en) | 2007-12-21 | 2010-03-16 | Palo Alto Research Center Incorporated | Charge mapping memory array formed of materials with mutable electrical characteristics |
US8268488B2 (en) | 2007-12-21 | 2012-09-18 | Infinite Power Solutions, Inc. | Thin film electrolyte for thin film batteries |
KR20100102180A (ko) | 2007-12-21 | 2010-09-20 | 인피니트 파워 솔루션스, 인크. | 전해질 막을 위한 표적을 스퍼터링하는 방법 |
KR101606183B1 (ko) | 2008-01-11 | 2016-03-25 | 사푸라스트 리써치 엘엘씨 | 박막 배터리 및 기타 소자를 위한 박막 캡슐화 |
EP2266183B1 (en) | 2008-04-02 | 2018-12-12 | Sapurast Research LLC | Passive over/under voltage control and protection for energy storage devices associated with energy harvesting |
EP2109163A1 (de) * | 2008-04-08 | 2009-10-14 | Alcan Technology & Management Ltd. | Substrat mit aufgedruckter Struktur |
EP2319101B1 (en) | 2008-08-11 | 2015-11-04 | Sapurast Research LLC | Energy device with integral collector surface for electromagnetic energy harvesting and method thereof |
TWI394306B (zh) * | 2008-08-26 | 2013-04-21 | Univ Nat Chiao Tung | 光電記憶體元件、其製造以及量測方法 |
CN102150185B (zh) | 2008-09-12 | 2014-05-28 | 无穷动力解决方案股份有限公司 | 具有经由电磁能进行数据通信的组成导电表面的能量装置及其方法 |
WO2010042594A1 (en) | 2008-10-08 | 2010-04-15 | Infinite Power Solutions, Inc. | Environmentally-powered wireless sensor module |
KR101634411B1 (ko) | 2008-10-31 | 2016-06-28 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 구동 회로, 표시 장치 및 전자 장치 |
JP5426274B2 (ja) * | 2009-08-12 | 2014-02-26 | シャープ株式会社 | トランジスタおよびそれを用いた表示素子、ならびに液晶表示素子 |
KR101792287B1 (ko) | 2009-09-01 | 2017-10-31 | 사푸라스트 리써치 엘엘씨 | 집적된 박막 배터리를 갖는 인쇄 회로 보드 |
US10177314B2 (en) * | 2009-12-03 | 2019-01-08 | Nokia Technologies Oy | Apparatus, methods and devices |
US20110281393A1 (en) * | 2010-05-17 | 2011-11-17 | Mingqian He | Method of Making an Organic Semiconductor Device |
US20110300432A1 (en) | 2010-06-07 | 2011-12-08 | Snyder Shawn W | Rechargeable, High-Density Electrochemical Device |
GB201109013D0 (en) | 2011-05-27 | 2011-07-13 | Cambridge Entpr Ltd | Electronic devices |
US20130277729A1 (en) * | 2012-04-20 | 2013-10-24 | Palo Alto Research Center Incorporated | Floating gate transistor memory with an organic semiconductor interlayer |
KR20140038161A (ko) * | 2012-09-20 | 2014-03-28 | 한국전자통신연구원 | 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 |
FR2997793B1 (fr) * | 2012-11-08 | 2015-01-02 | Centre Nat Rech Scient | Nouveau procede de fabrication de dispositifs electroniques organiques |
DE102015112408A1 (de) * | 2015-07-29 | 2017-02-02 | Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg | Drucksensor und Verfahren zum Überwachen eines Drucksensors |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2360177A1 (fr) | 1976-07-26 | 1978-02-24 | Univ Edinburgh | Dispositif electronique photo-sensible a semi-conducteurs |
US4539507A (en) | 1983-03-25 | 1985-09-03 | Eastman Kodak Company | Organic electroluminescent devices having improved power conversion efficiencies |
WO1990008402A1 (en) | 1989-01-10 | 1990-07-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Fet transistor and liquid crystal display device obtained by using the same |
US5892244A (en) * | 1989-01-10 | 1999-04-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Field effect transistor including πconjugate polymer and liquid crystal display including the field effect transistor |
GB8909011D0 (en) | 1989-04-20 | 1989-06-07 | Friend Richard H | Electroluminescent devices |
JP2813428B2 (ja) | 1989-08-17 | 1998-10-22 | 三菱電機株式会社 | 電界効果トランジスタ及び該電界効果トランジスタを用いた液晶表示装置 |
JP3224829B2 (ja) | 1991-08-15 | 2001-11-05 | 株式会社東芝 | 有機電界効果型素子 |
JPH06298840A (ja) * | 1991-08-27 | 1994-10-25 | Showa Denko Kk | 側鎖に液晶分質部分と電荷移動錯体部分を有する電導性ポリマー |
WO1993025003A1 (en) * | 1992-06-01 | 1993-12-09 | Yale University | Sub-nanoscale electronic systems, devices and processes |
JPH065833A (ja) | 1992-06-18 | 1994-01-14 | Mitsubishi Kasei Corp | イメージセンサー |
US5331138A (en) | 1992-11-03 | 1994-07-19 | American Magnetics Corp. | Hybrid card reader |
US5556706A (en) * | 1993-10-06 | 1996-09-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Conductive layered product and method of manufacturing the same |
JP2701738B2 (ja) * | 1994-05-17 | 1998-01-21 | 日本電気株式会社 | 有機薄膜el素子 |
JP3246189B2 (ja) * | 1994-06-28 | 2002-01-15 | 株式会社日立製作所 | 半導体表示装置 |
US6278127B1 (en) | 1994-12-09 | 2001-08-21 | Agere Systems Guardian Corp. | Article comprising an organic thin film transistor adapted for biasing to form a N-type or a P-type transistor |
TW293172B (ko) * | 1994-12-09 | 1996-12-11 | At & T Corp | |
DE69535970D1 (de) | 1994-12-14 | 2009-08-06 | Eastman Kodak Co | Elektrolumineszente Vorrichtung mit einer organischen elektrolumineszenten Schicht |
US5550066A (en) | 1994-12-14 | 1996-08-27 | Eastman Kodak Company | Method of fabricating a TFT-EL pixel |
US5629533A (en) | 1995-02-06 | 1997-05-13 | Motorola | Optical sensor and method |
GB9509729D0 (en) * | 1995-05-13 | 1995-07-05 | Univ Leeds | Electronic devices based on discotic liquid crystals |
JPH0983040A (ja) * | 1995-09-12 | 1997-03-28 | Sharp Corp | 薄膜トランジスタ及びその製造方法 |
US6326640B1 (en) | 1996-01-29 | 2001-12-04 | Motorola, Inc. | Organic thin film transistor with enhanced carrier mobility |
US5612228A (en) | 1996-04-24 | 1997-03-18 | Motorola | Method of making CMOS with organic and inorganic semiconducting region |
JP3463971B2 (ja) * | 1996-12-26 | 2003-11-05 | 出光興産株式会社 | 有機アクティブel発光装置 |
US5936259A (en) | 1997-10-16 | 1999-08-10 | Lucent Technologies Inc. | Thin film transistor and organic semiconductor material thereof |
-
1998
- 1998-04-16 GB GBGB9808061.7A patent/GB9808061D0/en not_active Ceased
-
1999
- 1999-04-16 US US09/673,122 patent/US6603139B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 1999-04-16 KR KR1020007011350A patent/KR100612970B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-04-16 JP JP2000545197A patent/JP4260368B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-16 EP EP09175563.7A patent/EP2154718B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-16 AU AU36143/99A patent/AU766162B2/en not_active Expired
- 1999-05-27 TW TW088108785A patent/TW498395B/zh not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-04-01 JP JP2008095402A patent/JP5405040B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100840006B1 (ko) * | 1999-06-21 | 2008-06-20 | 캠브리지 엔터프라이즈 리미티드 | 유기 tft를 위한 정렬 폴리머 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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