KR20010040099A - 화장 조성물 및, 그것의 피부 클렌징 마스크로서의 용도 - Google Patents

화장 조성물 및, 그것의 피부 클렌징 마스크로서의 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 폴리우레탄의 수성 분산액 및 하나 이상의 충진제, 특히 카올린을 함유하는 화장 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 화장 조성물은 특히 얼굴, 얼굴이나 목의 일부를 보호하기 위한 마스크 형태의 피부 클렌징 마스크를 구성하여, 특히 표면의 각질층으로부터 죽은 세포를 제거하거나, 피부의 표면에 과량 존재하는 지방 물질 (예컨대, 피지) 을 제거함으로써, 피부를 깊이 클렌징할 수 있다.

Description

화장 조성물 및, 그것의 피부 클렌징 마스크로서의 용도{COSMETIC COMPOSITION AND USE THEREOF AS A CLEANSING MASK FOR THE SKIN}
본 발명은 폴리우레탄의 수성 분산액 및 카올린을 함유하는 화장 조성물, 및 폴리우레탄의 수성 분산액 및 충진제를 함유하는 조성물의 피부 클렌징을 위한 용도, 특히 피부 클렌징 마스크로서의 용도에 관한 것이다.
미용 마스크와 같은 제품들은 화장품에서 잘 알려져 있다. 그것들은 특히, 겔, 에멀션 또는 페이스트의 형태이다. 상기 형태태의 마스크들의 여러가지 제형들이 문헌, 예컨대 ["Cosmetic and Toiletry Formulations" 제 2 판, Ernest W. Flick 1992] 에 기재되어 있다. 이 미용 마스크는 클렌징 목적은 없으나, 특정한 피부 안락감을 제공하는, 겔 형태의 보습용 마스크일 수 있다.
일반적으로 점토 형태의 충진제를 함유하는, 통상 에멀션 형태의 클렌징 마스크도 알려져 있다. 그러나, 이 마스크들은 피부 느낌을 미끈거리게(greasy) 하는 결점이 있다.
마지막으로, 벗김으로써 제거되는 마스크가 있으며, 이는 폴리비닐 알콜 기재의 필름-형성 조성물이다. 그것들을 얼굴에 적용한 후, 이 벗기는 마스크를 건조시켜, 벗김으로써 제거되는 필름이 생기도록 한다. 건조 단계 중, 마스크의 폐색적 효과는, 각질층 (즉, stratum corneum) 이 촉촉하고 유연성있게 되어, 활성제가 조성물 내에 함유된 경우, 활성제의 통과를 촉진할 수 있다. 또한, 벗김으로써 상기 마스크를 제거하는 경우, 벗기는 행위는 특히, 표면 각질층의 죽은 세포들을 동반하여, 제거시킨다.
또한 표피 표면의 지방 화합물, 특히 피지를 확실히 흡수하기 위해, 카올린과 같은 충진제를 상기 조성물에 혼입할 수 있는 것이 중요하다.
또한, 충진제의 혼입은 기계적으로 필름을 강화시키고, 조성물을 불투명하게 하여, 보다 확실히, 필름의 적용을 가시화할 수 있도록 함으로써, 상기 필름의 제거를 용이하게 한다.
그러나, 충분량의 충진제를 폴리비닐 알콜 기재의 벗길 수 있는 마스크 조성물에 혼입하고자 하는 경우, 상기 충진제가 조성물을 불안정하게 하는 경향이 있어, 안정한 조성물을 수득하기란 매우 어렵다.
이에, 아직 종래 기술의 마스크의 결점을 가지지 않는, 충진제 함유의 벗길 수 있는 마스크가 여전히 요구된다.
본 출원인은 매우 놀랍게도 충진제, 특히 카올린을, 매우 다량까지도 폴리우레탄의 수성 분산액에 혼입시킴으로써, 벗김으로써 제거될 수 있고 얼굴 클렌징 마스크로서 사용될 수 있는 화장 조성물을 수득할 수 있음을 발견하였다.
이에, 본 발명의 주제는, 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 수성 분산액 및 하나 이상의 충진제를 함유하는 조성물의 얼굴 피부의 클렌징을 위한 용도이며, 상기 폴리우레탄 입자의 수성 분산액은 조성물 총 중량에 대한 5 내지 25 중량 % 고체를 나타낸다.
본 발명의 주제는, 또한 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 수성 분산액 및 하나 이상의 충진제를 함유하는 조성물의 피부 클렌징 마스크로서의 용도이다.
본 발명의 또다른 주제는, 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 분산액 및 카올린을 함유하는 것을 특징으로 하는 화장 조성물이다.
폴리우레탄의 수성 분산액 및 충진제 기재의, 본 발명의 따른 조성물은 흘러 내리지 않으면서, 피부 상에 용이하게 전착되고, 불투명하여, 명확히 볼 수 있는 이점을 갖는 마스크를 구성할 수 있다. 게다가, 상기 마스크는 피부의 피지 및 기타 지방 물질의 흡수를 가능하게 한다. 또한, 약 10 내지 15 분간의 건조 시간 후, 상기 마스크 조성물은 한 번에 쉽게 제거되어, 피부를 매트하고, 불순물이 없도록 한다.
실온 (약 20 - 25 ℃)에서 Rheomat 180 RM 을 이용하여 측정한, 본 발명에 따른 조성물의 점도는, 바람직하게 약 5 내지 400 Pa.s, 바람직하게는 10 내지 300 Pa.s 이다. 왜냐하면, 그 미만일 경우, 조성물이 너무 유동적이어서, 얼굴에 적용 시, 흘러 내리는 경향이 있기 때문이다.
본 발명의 조성물 내의 충진제, 특히 카올린의 양은 예를 들어 조성물의 총 중량에 대해 1 내지 25 중량 %, 바람직하게는 5 내지 20 중량 % 의 범위 내일 수 있다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 충진제로서, 카올린 외에, 실리카; 활석; 점토, 예컨대 몬트모릴로나이트(montmorillonite), 헥토라이트(hectorite) 또는 벤토나이트(bentonite); 산화티탄; 산화아연; 미소구, 예컨대 폴리메틸 메타크릴레이트 분말 (Matsumoto 사의 Micropearl) 및 발포 중공 미소구(microsphere) (Kemanord 사의 Expancel); 전분 및 변성 전분, 예컨대 National Starch 사의 상표명 Dry Flo 의 제품을 들 수 있다. 이 충진제들의 혼합물도 사용할 수 있다.
폴리우레탄 입자의 수성 분산액은 하나 이상의 필름-형성 폴리우레탄을 함유한다. 필름-형성 폴리우레탄으로서, 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 양쪽이온성 폴리우레탄, 폴리우레탄-아크릴, 폴리우레탄-폴리비닐피롤리돈, 폴리에스테르-폴리우레탄 및 폴리에테르-폴리우레탄 및, 그것들의 혼합물을 들 수 있다.
폴리우레탄은 하기의 것들을 단독으로 또는 혼합물로 함유하는, 예컨대 지방족, 시클로지방족 또는 방향족 폴리우레탄, 폴리우레아/우레탄 또는 폴리우레아 공중합체일 수 있다 :
- 지방족 및/또는 시클로지방족 및/또는 방향족 폴리에스테르 기원의 하나 이상의 서열, 및/또는
- 하나 이상의 측쇄 또는 비측쇄 실리콘 서열, 예컨대 폴리디메틸실록산 또는 폴리메틸페닐실록산, 및/또는
- 플루오로기를 함유하는 하나 이상의 서열.
필름-형성 폴리우레탄은 특히 폴리에스테르-폴리우레탄 및 폴리에테르-폴리에탄으로부터, 바람직하게는 음이온성 폴리에스테르-폴리우레탄 및 음이온성 폴리에테르-폴리우레탄, 및 그것들의 혼합물로부터 선택될 수 있다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 필름-형성 폴리우레탄은 측쇄 또는 비측쇄 폴리에스테르로부터, 또는 디이소시아네이트 및 이관능성 유기 화합물 (예컨대, 디히드로, 디아미노 또는 히드록시아미노) 과의 반응으로 변성되는 불안정한 수소를 함유하고, 부가적으로 카르복실산이나 카르복실레이트기, 또는 술폰산이나 술포네이기, 또는 그와 대안적으로는 중성화가능한 삼차 아민기 또는 4차 암모늄기를 갖는 알키드로부터 수득될 수 있다.
유리하게, 폴리우레탄 입자의 수성 분산액으로서 사용될 수 있는 분산액은, 폴리우레탄 입자의 크기가 2 내지 100 nm 의 범위 내이고, 24 시간 동안 30 ℃에서, 또한 50 % 상대 습도에서 28 % 고체의 상기 폴리우레탄 입자를 함유하는 수성 분산액의 300 ㎛ 두께 (건조 전) 를 건조시킨 후에 수득된 필름의 경도가 50 내지 300 sec 의 범위 내인, 음이온성 폴리에스테르-폴리에탄의 수성 분산액이다. 필름의 경도는 Persoz 진자를 이용하는 표준 NF-T 30-016 (Oct., 1981) 또는 ASTM 표준 D-43-66 에 따라 측정한다.
음이온성 폴리에스테르-폴리에탄의 상기 수성 분산액은 특히, Goodrich 사로부터 상표명 "Analure UR 405", "Avalure UR 410" 및 "Sancure 2060" 으로 시판된다.
또한 사용될 수 있는 폴리우레탄 입자의 수성 분산액은 음이온성 폴리에테르-폴리에탄의 수성 분산액, 예컨대 Goodrich 사로부터의 상표명 "Sancure 878" 및 ICI 사로부터의 "Neorez R 970" 으로 시판되는 것들이다.
폴리우레탄 입자의 수성 분산액은 조성물의 총 중량에 대해 5 내지 25 중량 %, 바람직하게는 9 내지 20 중량 % 고체를 나타낸다.
폴리에스테르, 폴리에스테르 아미드, 지방 사슬 폴리에스테르, 폴리아미드, 에폭시 에스테르 수지, 라디칼-중재의 필름-형성 중합체 및 천연 기원의 중합체, 및 그것들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 다른 필름-형성 중합체를 폴리우레탄의 수성 분산액에 첨가할 수 있다.
지방족 또는 방향족 이산을 지방족 또는 방향족 디올 또는 폴리올과 중축합함으로써, 폴리에스테르를 공지된 방법으로 수득될 수 있다. 사용될 수 있는 지방족 이산은 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산 또는 세박산이다. 사용될 수 있는 방향족 이산은 테레프탈산 또는 이소프탈산, 또는 대안적으로는 프탈산 무수물과 같은 유도체이다. 사용될 수 있는 지방족 디올은 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 네오펜틸 글리콜, 시클로헥산디메탄올 또는 4,4'-(1-메틸프로필리덴)비스페놀이다. 사용될 수 있는 폴리올은 글리세롤, 펜타에리트리톨, 소르비톨 또는 트리메틸올프로판이다.
디아민 또는 아미노 알콜과 이산을 중축함으로써, 폴리에스테르와 유사한 방식으로, 폴리에스테르아미드가 수득될 수 있다. 사용될 수 있는 디아민은 에틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민 및 메타- 또는 파라-페닐렌디아민이다. 사용될 수 있는 아미노 알콜은 모노에탄올아민이다. 음이온성기를 갖는 단량체로서 중축합 중에 사용될 수 있는 단량체로는, 예를 들어 디메틸올프로피온산, 트리멜리트산 또는 트리멜리트산 무수물과 같은 무수물, 펜탄디올-3-술폰산의 나트륨 염, 또는 5-술포-1,3-벤젠디카르복실산의 나트륨 염을 들 수 있다.
중축합 중에 지방-사슬 디올을 이용함으로써, 지방-사슬 폴리에스테르를 수득할 수 있다.
α,ω-디에폭시 말단기를 갖는 축합물과 지방산을 중축합함으로써, 에폭시 에스테르 수지를 수득할 수 있다.
"라디칼-중재의 필름-형성 중합체" 라는 표현은, 불포화, 특히 에틸렌성 불포화를 갖는 단량체의 중합으로써 수득되는 중합체를 의미하며, 이 때 상기 단량체는 단일중합가능한 것이다 (중축합과는 대조됨).
라디칼-중재의 필름-형성 중합체는, 특히 아크릴 및/또는 비닐 중합체 또는 공중합체일 수 있다. 음이온성 라디칼-중재의 중합체가 바람직하게 사용된다. 음이온성기를 갖는 단량체로서 라디칼-중재의 중합 중에 사용될 수 있는 단량체로는, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 말레산 무수물 또는 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산을 들 수 있다.
아크릴 중합체는 에스테르 및/또는 아크릴산이나 메타크릴산의 아미드로부터 선택되는 단량체의 공중합에 의해 수득될 수 있다. 에스테르 형태의 단량체의 예로 들 수 있는 것은, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 이소부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트 및 라우릴 메타크릴레이트이다. 아미드 형태의 단량체의 예로 들 수 있는 것은, N-t-부틸아크릴아미드 및 N-t-옥틸아크릴아미드이다.
친수성기를 함유하는 에틸렌성 불포화를 갖는 단량체의 공중합체, 바람직하게는 비이온성 성질의 그 중합체, 예컨대 히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록프로필 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트 및 2-히드록시프로필 메타크릴레이트가 바람직하게 사용된다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 필름-형성 아크릴 중합체로는, Zeneca 사 시판의 상표명 Neocryl XK-90, Neocryl A-1070, Neocryl A-1090, Neocryl BT-62, Neocryl A-1079 및 Neocryl A-523, Dow Chemical 사 시판의 Dow Latex 432 또는 Johnson Polymer 사에서 시판되는 Joncryl SCX8211 을 들 수 있다.
비닐 중합체는 비닐 에스테르, 스티렌 또는 부타디엔으로부터 선택되는 단량체의 단일중합 또는 공중합으로부터 수득될 수 있다. 비닐 에스테르의 예로 들 수 있는 것은, 비닐 아세테이트, 비닐 네오도데카노에이트, 비닐 피발레이트, 비닐 벤조에이트 및 비닐 t-부틸벤조에이트이다.
아크릴/실리콘 공중합체 또는 니트로셀룰로스/아크릴 공중합체도 또한 사용할 수 있다.
천연 기원의 임의 개질된 중합체는, 셸렉(Shellac) 수지, 샌드락(Sandarac) 검, 대머(dammar) 수지, 엘레미(elemi) 검, 코펄(copal) 수지 및 셀룰로스 유도체, 및 그것들의 혼합물로부터 선택될 수 있다.
폴리우레탄 이외의 다른 필름-형성 중합체(들)의 양은 예를 들어, 폴리우레탄 고체 중량에 대해 0 내지 50 중량 % 고체, 바람직하게는 10 내지 40 중량 % 고체이다. 따라서, 폴리우레탄/기타 필름-형성 중합체의 중량비는 100/0 내지 50/50, 바람직하게는 90/10 내지 60/40 의 범위 내일 수 있다.
국소 적용을 위한 본 발명의 조성물은 생리학적으로 허용가능한 매체, 즉 두피를 포함한 피부, 점막 및/또는 눈과 혼화성을 갖는 매체를 함유한다.
본 발명의 조성물은 또한 화장품에 통상 사용되는 보조제로서, 예컨대 활성제, 보존제, 겔화제, 가소제, 항산화제, 용매제, 계면활성제, 향료, 이취 흡수제, 항발포제 및 염료를 함유할 수 있으나, 단 조성물 내에 활성제가 존재하는 경우, 상기 첨가제들이 조성물이나 활성제를 불안정하게 하지 않는다. 상기 각종 첨가제들의 양은 당 분야에 통상 사용되는 양으로서, 예를 들어 조성물의 총 중량에 대해 0.01 내지 30 중량 % 이다.
특히 겔화제로서 들 수 있는 것은, 하기의 것들과 같은 친수성 겔화제이다 :
- 셀룰로스 유도체 (카르복시메틸셀룰로스, 히드록시에틸셀룰로스 또는 히드록시메틸셀룰로스);
- 천연검, 예컨대 잔탄검, 구아검, 콩과(carob)검 및 카라기난;
- 카르보머 형태의 카르복시비닐 중합체, 예컨대 Goodrich 사 시판의 상표명 Carbopol 940, 951 및 980, 또는 3V-Sigma 사 시판의 상표명 Synthalen K 또는 Synthalen L;
- 아크릴 공중합체, 예컨대 Goodrich 사 시판의 상표명 Pemulen 의 아크릴레이트/알킬아크릴레이트 공중합체;
- 폴리아크릴아미드 및 아크릴아미드 공중합체, 예컨대 SEPPIC 사의 상표명 Sepigel 305 (CTFA 명 : 폴리아크릴아미드/C13-14이소파라핀/라우레트-7) 및 Hoechst 사 시판의 상표명 Hostacerin AMPS (CTFA 명 : 암모늄 폴리아크릴디메틸타우르아미드);
- 연합(associative) 중합체, 예컨대 특히 연합 폴리우레탄.
연합 폴리우레탄은 사슬 내에 통상 폴리옥시에틸렌화 성질의 친수성 블록과, 지방족 서열 단독 및/또는 시클로지방족 및/또는 방향족 서열일 수 있는 소수성 블록을 모두 갖는 비이온성 블록 공중합체이다. 특히, 이 중합체는 친수성 블록에 의해 분리된, 탄소수 6 내지 30 의 2 개 이상의 탄화수소 기재 친지성 사슬을 포함하고, 그 탄화수소-기재 사슬은 펜던트(pendant) 사슬이거나, 친수성 블록 말단에 있는 사슬일 수 있다. 특히, 하나 이상의 펜던트 사슬이 제공될 수 있다. 게다가, 친수성 블록의 한 말단 또는 두 말단 끝에 탄화수소 기재 사슬을 함유할 수 있다.
본 발명에 사용될 수 있는 연합 중합체의 예로서, Huls 사 시판의 상표명 Serad FX1100 의 중합체 C16-OE120-C16(우레탄 관능기를 가지고, 중량 평균 분자량이 1300 인 분자로서, OE 는 옥시에틸렌화 단위임)을 들 수 있다. Rheox 사 시판의, 우레아 관능기를 갖는 Rheolate 205, 또는 Rheolate 208 또는 204 도 연합 중합체로서 사용될 수 있다. 이 연합 폴리우레탄은 순수 형태로 시판된다.
물 중 20 % 고체로 시판되는, C20알킬 사슬과 우레탄 연결기를 갖는 Rhom ＆ Haas 사 시판의 제품 DW 1206B 도 사용될 수 있다.
특히 물 이나 수성-알콜성 매질 중 상기 중합체의 용액이나 분산액도 사용될 수 있다. 상기 중합체의 예로서, Huls 사 시판의 Serad FX1010, Serad FX1035 및 Serad 1070, Rheox 사 시판의 Rheolate 225, Rheolate 278 및 Rheolate 244, 제품 DW 1206F 및 DW 1206J, 또한 Rhom ＆ Haas 사의 Acrysol RM 184 또는 Acrysol 44, 또는 대안적으로는 Borchers 사의 Borchigel LW 44를 들 수 있다.
가소제의 예로 들 수 있는 것은, 디이소부틸 아디페이트, tert-부틸산과 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올의 에스테르, 디에틸 아디페이트, 디에틸 프탈레이트, 디부틸 프탈레이트, 디옥틸 프탈레이트, 부틸 2-에틸헥실 프탈레이트, 디메틸 세바케이트, 디부틸 세바케이트, 에틸 스테아레이트, 2-에틸헥실 팔미테이트 및 디프로필렌 글리콜 디메틸 에테르, 및 그것들의 혼합물이다.
가소제는 본 발명에 따른 조성물 중에 조성물의 총 중량에 대해 예를 들어 0.05 내지 2 중량 %, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 1.5 중량 % 의 함량으로 존재할 수 있다.
용매 또는 유착제의 예로 들 수 있는 것은, 디프로필렌 글리콜 n-부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 n-부틸 에테르 (PPG-2 부틸 에테르), 탄소수 1 내지 4 의 저급 알콜, 예컨대 에탄올, 및 이들의 혼합물이다. 본 발명에 따른 조성물 중 용매의 양은, 예를 들어 조성물의 총 중량에 대해 1 내지 25 중량 %, 더욱 바람직하게는 5 내지 20 중량 % 의 범위일 수 있다.
계면활성제의 예로 들 수 있는 것은, 디메티콘 코폴리올, 예컨대 Goldschmidt 사 시판의 상표명 Tegopren 5878 의 제품이다. 본 발명에 따른 조성물 중의 계면활성제의 양은, 예를 들어 조성물의 총 중량에 대해 0.05 내지 2 중량 %, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 1 중량 % 의 범위 내일 수 있다.
본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 활성제로서, 폴리올, 예컨대 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 글리세롤, 폴리글리세롤 및 소르비톨; 당, 예컨대 글루코스 및 수크로스; 글로코네이트, 예컨대 마그네슘 또는 아연 글루코네이트; 미량 원소를 들 수 있다.
상술한 바와 같이, 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 분산액 및 하나 이상의 충진제를 함유하는 본 발명의 조성물은 특히 얼굴, 얼굴이나 목의 일부를 보호하기 위한 마스크 형태의 피부 클렌징 마스크를 구성하여, 표면의 각질층으로부터 죽은 세포를 제거하거나, 피부의 표면에 과량 존재하는 지방 물질 (예컨대, 피지) 을 제거함으로써 특히 피부를 깊이 클렌징하고, 피부를 탄탄하게 하거나 연화시키고/거나 이들에 대해 특별 처리를 수행할 수 있다.
본 발명의 주제는 또한 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 수성 분산액 및 하나 이상의 충진제를 함유하는 조성물을 피부에 적용하는 것을 특징으로 하는, 피부의 화장 처리 방법이다.
본 발명에 따른 조성물의 하기 실시예는, 설명을 위한 것으로서, 그것에 국한되는 것은 아니다. 여기에서의 양은 달리 언급하지 않는 한, 중량 % 이다.
실시예
- 산화티탄 : 1.2 %
- 카올린 : 8 %
-28 % 고체를 함유하는 음이온성 폴리에스테르 폴리우레탄의 수성 분산액 (Goodrich 사의 Avalure UR 405) (즉, 12.43 % 고체) : 44.4 %
- 암모늄 스티렌/아크릴레이트 공중합체 (Johnson Polymer 사의, 44 % A.M. 함유의 Joncryl SCX8211) : 14.2 %
- 소듐 말레산 무수물/디이소부틸렌 공중합체 (분산물) (Rhom ＆ Haas 사의 Orotan 731 DP) : 0.03 %
- 폴리우레탄 (Borchers 사의 Borchigel LW44) : 1.4 %
- PPG-9 디메티콘 아크릴레이트 공중합체 (항발포제) : 0.18 %
- 잔탄검 : 2 %
- 보존제 : 0.3 %
- 디메티콘 코폴리올 (Goldschmidt 사의 Tegopren 5878) : 0.3 %
- 가소제 : 2 %
- PPG-2 부틸 에테르 : 1.3 %
- 에탄올 : 12.95 %
- 글리세롤 : 5.3 %
- 물 : 잔량 100 %
20 ℃에서, 방추 4, Rheomat 180 RM 으로 측정 시, 시간 0 (T0)에서 19 Pa.s (190 poise) 의 점도를 갖는 조성물이 수득된다. 10 분 후, 점도가 4.8 Pa.s (48 poise) 로 떨어진다.
이 조성물은 마스크로서 적용되고, 일정 간격 후 (약 10 분), 벗김으로써 제거되며, 이에 피부가 부드럽고 깨끗하게 된다.
폴리우레탄의 수성 분산액 및 하나 이상의 충진제, 특히 카올린을 함유하는, 본 발명의 화장 조성물은 특히 얼굴, 얼굴이나 목의 일부를 보호하기 위한 마스크 형태의 피부 클렌징 마스크를 구성하여, 특히 표면의 각질층으로부터 죽은 세포를 제거하거나, 피부의 표면에 과량 존재하는 지방 물질 (예컨대, 피지) 을 제거함으로써, 피부를 깊이 클렌징할 수 있다.

Claims (16)

  1. 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 수성 분산액 및 카올린을 함유하는 화장 조성물로서, 상기 폴리우레탄 입자의 수성 분산액이 조성물의 총 중량에 대해 5 내지 25 중량 % 를 나타내는 것을 특징으로 하는 화장 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 카올린이 조성물의 총 중량에 대해 1 내지 25 중량 % 의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 화장 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리우레탄이 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 양쪽이온성 폴리우레탄, 폴리우레탄-아크릴, 폴리우레탄-폴리비닐피롤리돈, 폴리에스테르-폴리우레탄 및 폴리에테르-폴리우레탄 및, 그것들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화장 조성물.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리우레탄의 수성 분산액이 음이온성 폴리에스테르-폴리우레탄의 수성 분산액 및 음이온성 폴리에테르-폴리우레탄의 수성 분산액, 및 그것들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화장 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리우레탄 입자의 수성 분산액이 조성물의 총 중량에 대해 9 내지 20 % 고체를 나타내는 것을 특징으로 하는 화장 조성물.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 폴리에스테르, 폴리에스테르 아미드, 지방-사슬 폴리에스테르, 폴리아미드, 에폭시 에스테르 수지, 라디칼-중재의 필름-형성 중합체 및 천연 기원의 중합체, 및 그것들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 다른 필름-형성 중합체도 또한 함유하는 것을 특징으로 화장 조성물.
  7. 제 6 항에 있어서, 필름-형성 중합체의 양이 폴리우레탄 고체 중량에 대해 0 내지 50 중량 % 의 범위 내인 것을 특징으로 하는 화장 조성물.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 실리카, 활석, 점토, 산화티탄, 산화아연, 미소구, 전분 및 변성 전분, 및 그것들의 혼합물로부터 선택되는 충진제도 또한 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 수성 분산액 및 하나 이상의 충진제를 함유하는 조성물로서, 얼굴 피부를 클렌징하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 수성 분산액 및 하나 이상의 충진제를 함유하는 조성물로서, 피부 클렌징 마스크로서 사용되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 충진제가 조성물의 총 중량에 대해 1 내지 25 중량 % 의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 충진제가 카올린, 실리카, 활석, 점토, 산화티탄, 산화아연, 미소구, 전분 및 변성 전분, 및 그것들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 폴리우레탄의 수성 분산액이 음이온성 폴리에스테르-폴리우레탄의 수성 분산액 및 음이온성 폴리에테르-폴리우레탄의 수성 분산액 및, 그것들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 폴리우레탄 입자의 수성 분산액이 조성물의 총 중량에 대해 5 내지 25 중량 % 고체를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서, 폴리에스테르, 폴리에스테르 아미드, 지방 사슬 폴리에스테르, 폴리아미드, 에폭시 에스테르 수지, 라디칼-중재의 필름-형성 중합체 및 천연 기원의 중합체, 및 그것들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 다른 필름-형성 중합체도 또한 함유하는 것을 특징으로 조성물.
  16. 폴리우레탄 입자의 하나 이상의 수성 분산액 및 하나 이상의 충진제를 함유하는 조성물을 피부에 적용시키는 것을 특징으로 하는 피부의 화장 처리 방법.
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