KR20010006829A - 입자량 평가 장치와 딥식 세정 시스템 및 입자 부착량평가 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가 및 저비용·고신뢰성의 세정도 평가가 실현 가능한 입자량 평가 장치와 딥식 세정 시스템 및 입자 부착량 평가 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
제1 기판 처리조(20A) 및 제2 기판 처리조(20B) 사이에 잔류액을 회수하는 잔류액 회수용 상부 접시(12) 및 액체 중의 입자 측정을 위한 잔류액 정량 계측조(13)를 설치하고, 제1 기판 처리조(20A)로부터 제2 기판 처리조(20B)로 기판(60)을 기판 반송 수단(50)을 이용하여 반송할 때에 기판(60)으로부터 적하하는 잔류액을 잔류액 회수 상부 접시(12) 및 잔류액 정량 계측조(13)로 회수하여 샘플액을 생성하고, 순수 정량조(14)로 샘플액을 순수 공급원(30)으로부터의 순수로 일정량 묽게 하여 액체 중의 입자 측정기(40)로 측정한다.
Description
본 발명은 전자 장치 등에 이용되는 기판에 대한 청정성 평가 기술 및 세정 기술에 관한 것으로, 특히 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량(이물질 미립자량)의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 세정 대상인 기판 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가를 실현할 수 있는 입자량 평가 장치와 딥식 세정 시스템 및 입자 부착량 평가 방법에 관한 것이다.
최근에 있어서의 이동체 통신(모빌) 기기나 멀티미디어 기기의 폭발적인 보급에 수반하여, 이들 기기에 실제 장착되는 시스템 LSI(집적 회로 장치)나 액정 장치 등에 대한 배선 폭의 미세화(파인 피치화)·저비용화가 급선무로 되어 있다. 이와 같은 기술 배경을 근거로 하여 최근에는 시스템 LSI(대규모 집적 회로)나 액정 장치 등에 이용되는 기판에 대해서도 마찬가지로 저렴한 세정 기술의 개발이 필수가 되고 있으며, 이와 같은 요구를 만족하는 세정 기술로서 종래부터 딥식 세정 시스템이 많이 이용되고 있다.
한편, LSI·액정 장치 등에 이용되는 기판의 딥식 세정 시스템에서는 딥식 세정 처리시에 세정 대상인 기판에 부착하는 장치나 약액, 순수(純水) 등으로부터의 입자(이물질 미립자)량의 평가는 모니터 기판을 세정 처리 했을 때의 입자(이물질 미립자)의 부착량에 의거하여, 장치 또는 처리 기판으로부터의 발진량(發塵量)을 평가하는 것이 일반적이다. 또한, 딥식 약액 처리조 및 물세척 처리조의 액중(液中) 입자의 계수 평가는 기판 처리조(약액 처리조 또는 물세척 처리조)로부터 직접 샘플링하는 입자량 평가 기술(제1 종래 기술)에 의해 행해진다.
또한, 다른 종래 기술(제2 종래 기술)로서는 예를 들어 약액 처리조 중의 액체 중의 입자량을 측정하여 발진 상태를 평가하는 입자량 평가 기술도 개시되어 있다.
그리고, 다른 종래 기술(제3 종래 기술)로서는 예를 들어 물세척 처리조 중의 액체 중의 입자량을 측정하는 입자량 평가 기술도 개시되어 있다.
그러나, 제1 종래 기술에는 이하에 언급하는 문제점이 있었다. 우선 제1 문제점은 모니터 기판의 비용이 필요하다는 것이다. 또한 제2 문제점은 모니터 기판을 처리함에 따른 생산 성능 저하이다. 그리고 제3 문제점은 모니터 기판의 표면 상태가 세정 대상 기판의 표면 상태와 동일하지 않아 입자의 종류마다 부착 상황이 달라 평가의 신뢰도가 낮다는 점이다.
또한, 제2 종래 기술에는 이하에 언급하는 문제점이 있었다. 우선 제1 문제점은 세정 대상 기판으로부터의 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)이 많은 경우, 액체 중의 입자 측정기가 초기 상태로 회복하지 않는다는 점이다. 또한 제2 문제점은 세정 대상 기판으로부터의 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)이 많은 경우, 약액체 중에 과산화수소수(H2O2)량이 많을 때에 기포가 발생하여 액체 중의 입자 측정기로 계수된다는 점이다. 그리고 제3 문제점은 약액 농도가 높은 경우나 고온의 경우에 검출 감도가 낮다는 점이다.
그리고, 제3 종래 기술에는 이하에 언급하는 문제점이 있었다. 우선 제1 문제점은 물세척 처리조에 투입 직후부터 입자(이물질 미립자)의 확산이 발생하기 때문에, 입자의 카운트수가 극단적으로 감소하여 평가가 곤란해진다는 점이다. 그리고 제2 문제점은 물세척 처리조 내의 유량, 처리된 약액의 점성 등에 의해 물세척 처리조 내의 수류가 변화되기 쉽고, 입자의 카운트수에 차이가 발생하여 측정 오차가 크다는 점이다.
본 발명은 이와 같은 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 바는 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량(이물질 미립자량)의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 세정 대상 기판 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가를 실현할 수 있는 입자량 평가 장치와 딥식 세정 시스템 및 입자 부착량 평가 방법을 제공하는 점에 있다.
도1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 입자량 평가 장치 및 딥식 세정 시스템을 설명하기 위한 모식적 시스템 구성도.
＜도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명＞
12 : 잔류액 회수 상부 접시
13 : 잔류액 정량 계측조
14 : 순수 정량조
15 : 순수 노즐
16 : 순수 배관
17 : 폐기 배관
20A : 제1 기판 처리조
20B : 제2 기판 처리조
30 : 순수 공급원
40 : 액체 중의 입자 측정기
50 : 기판 반송 수단
60 : 세정 대상 기판
청구항 1 기재의 요지는 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 세정 대상 기판 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가가 실현 가능한 입자량 평가 장치로써, 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제1 기판 처리조로부터 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제2 기판 처리조로 세정 대상 기판을 반송할 때에 세정 대상 기판의 표면으로부터 적하하는 잔류액을 회수하여 샘플액을 생성하는 잔류액 회수 상부 접시와, 순수 중의 입자 측정을 행하기 위한 세정조로써 일정량의 순수를 채운 대기 상태를 만들어 내기 위한 순수 정량조와, 상류측에 배치된 상기 순수 정량조에 연통한 상태에서 상기 순수 정량조에 순수를 공급하는 순수 공급원과, 상류측에 배치된 상기 잔류액 회수 상부 접시 및 하류측에 배치된 상기 순수 정량조에 연통한 상태에서 상기 잔류액 회수 상부 접시로부터의 샘플액을 상기 순수 정량조 내의 순수 중에 일정량 적하하는 잔류액 정량 계측조와, 상기 순수 중에 일정량 상기 샘플액이 적하된 용액을 이용하여 액체 중의 입자의 계수 평가를 행하는 액체 중의 입자 측정기를 갖는 것을 특징으로 하는 입자량 평가 장치에 있다．
또한, 청구항 2 기재의 요지는 상기 제1 기판 처리조 및 상기 제2 기판 처리조 사이에 잔류액을 회수하는 상기 잔류액 회수용 상부 접시 및 액체 중의 입자 측정을 위한 상기 잔류액 정량 계측조를 설치하고, 상기 제1 기판 처리조로부터 상기 제2 기판 처리조로 세정 대상인 기판을 기판 반송 수단을 이용하여 반송할 때에 상기 세정 대상 기판으로부터 적하하는 잔류액을 상기 잔류액 회수 상부 접시 및 상기 잔류액 정량 계측조로 회수하여 샘플액을 생성하고, 상기 순수 공급원으로부터의 순수를 상기 순수 정량조에 공급하여 상기 순수 정량조 내의 샘플액을 일정량 묽게 하여 상기 액체 중의 입자 측정기로 측정하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재된 입자량 평가 장치에 있다.
그리고, 청구항 3 기재의 요지는 상기 순수 공급원은 샘플액의 측정 이전까지는 상기 액체 중의 입자 측정기에 순수를 통수하여 초기 상태를 유지하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 청구항 2 기재의 입자량 평가 장치에 있다．
또한, 청구항 4 기재의 요지는 반복 평가가 가능하도록, 상기 잔류액 회수 상부 접시, 상기 잔류액 정량 계측조 및/또는 상기 순수 정량조의 순수 세정 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 입자량 평가 장치에 있다．
그리고, 청구항 5 기재의 요지는 상기 순수 세정 수단은 상기 잔류액 회수 상부 접시 및/또는 상기 잔류액 정량 계측조를 세정하기 위한 순수 노즐과, 상기 잔류액 회수 상부 접시 및/또는 상기 잔류액 정량 계측조의 세정에 사용된 순수를 폐기하는 폐기 배관을 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 4에 기재된 입자량 평가 장치에 있다．
또한, 청구항 6 기재의 요지는 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 딥식 세정 대상인 기판 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가가 실현 가능한 딥식 세정 시스템으로써, 딥식 세정용의 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제1 기판 처리조와, 딥식 세정용의 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제2 기판 처리조와, 상기 제1 기판 처리조로부터 상기 제2 기판 처리조로 딥식 세정 대상인 기판을 반송하는 기판 반송 수단과, 상기 제1 기판 처리조로부터 상기 제2 기판 처리조로 딥식 세정 대상인 기판을 반송할 때에 딥식 세정 대상 기판의 표면으로부터 적하하는 잔류액을 회수하여 샘플액을 생성하는 잔류액 회수 상부 접시와 순수 중의 입자 측정을 행하기 위한 딥식 세정으로써 일정량의 순수를 채운 대기 상태를 만들어 내기 위한 순수 정량조와 상류측에 배치된 상기 순수 정량조에 연통한 상태에서 상기 순수 정량조에 순수를 공급하는 순수 공급원과 상류측에 배치된 상기 잔류액 회수 상부 접시 및 하류측에 배치된 상기 순수 정량조에 연통한 상태에서 상기 잔류액 회수 상부 접시로부터의 샘플액을 상기 순수 정량조 내의 순수 중에 일정량 적하하는 잔류액 정량 계측조와 상기 순수 중에 일정량 상기 샘플액이 적하된 용액을 이용하여 액체 중의 입자의 계수 평가를 행하는 액체 중의 입자 측정기를 구비한 입자량 평가 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 딥식 세정 시스템에 있다.
그리고, 청구항 7 기재의 요지는 상기 제1 기판 처리조 및 상기 제2 기판 처리조 사이에 잔류액을 회수하는 상기 잔류액 회수용 상부 접시 및 액체 중의 입자 측정을 위한 상기 잔류액 정량 계측조를 설치하고, 상기 제1 기판 처리조로부터 상기 제2 기판 처리조로 딥식 세정 대상인 기판을 기판 반송 수단을 이용하여 반송할 때에 상기 딥식 세정 대상인 기판으로부터 적하하는 잔류액을 상기 잔류액 회수 상부 접시 및 상기 잔류액 정량 계측조로 회수하여 샘플액을 생성하고, 상기 순수 공급원으로부터의 순수를 상기 순수 정량조에 공급하여 상기 순수 정량조 내의 샘플액을 일정량 묽게 해서 상기 액체 중의 입자 측정기로 측정하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 6에 기재된 딥식 세정 시스템에 있다.
또한, 청구항 8 기재의 요지는 반복 평가를 할 수 있도록, 상기 잔류액 회수 상부 접시, 상기 잔류액 정량 계측조 및/또는 상기 순수 정량조를 순수를 이용하여 세정하는 순수 세정 수단을 갖고, 상기 순수 세정 수단은 상기 잔류액 회수 상부 접시 및/또는 상기 잔류액 정량 계측조를 세정하기 위한 순수 노즐과, 상기 잔류액 회수 상부 접시 및/또는 상기 잔류액 정량 계측조의 세정에 사용된 순수를 폐기하는 폐기 배관을 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 6 또는 청구항 7 기재의 딥식 세정 시스템에 있다.
그리고, 청구항 9 기재의 요지는 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 딥식 세정 대상인 기판 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가를 실현할 수 있는 입자 부착량 평가 방법으로써, 딥식 세정용의 약액 공정 및/또는 물세척 공정을 구비한 제1 기판 공정과, 딥식 세정용의 약액 공정 및/또는 물세척 공정을 구비한 제2 기판 공정과, 상기 제1 기판 공정으로부터 상기 제2 기판 공정으로 딥식 세정 대상인 기판을 반송하는 기판 반송 공정과, 상기 제1 기판 공정으로부터 상기 제2 기판 공정으로 딥식 세정 대상인 기판을 반송할 때 딥식 세정 대상 기판의 표면으로부터 적하하는 잔류액을 회수하여 샘플액을 생성하는 잔류액 회수 공정과, 순수 중의 입자 측정을 행하기 위한 딥식 세정으로써 일정량의 순수를 채운 대기 상태를 만들어 내기 위한 순수 정량 공정과, 상기 순수 정량 공정에 순수를 공급하는 순수 공급 공정과, 상기 잔류액 회수 공정에 의해 규정된 샘플액을 상기 순수 정량 공정에서 이용하는 순수 중에 일정량 적하하는 잔류액 정량 계측 공정과, 상기 순수 중에 일정량 상기 샘플액이 적하된 용액을 이용하여 액체 중의 입자의 계수 평가를 행하는 액체 중의 입자 측정 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 입자 부착량 평가 방법에 있다.
또한, 청구항 10 기재의 요지는 잔류액을 회수하는 상기 잔류액 회수 공정 및 액체 중의 입자 측정을 위한 상기 잔류액 정량 계측 공정을 상기 제1 기판 공정과 상기 제2 기판 공정 사이에 마련하고, 상기 제1 기판 공정의 실행 후에 상기 제2 기판 공정을 실행하기 위해 세정 대상인 기판을 상기 기판 반송 공정을 이용하여 반송할 때, 상기 세정 대상 기판으로부터 적하하는 잔류액을 상기 잔류액 회수 공정 및 상기 잔류액 정량 계측 공정에서 회수하여 샘플액을 생성하는 공정과, 상기 순수 공급 공정으로부터의 순수를 상기 순수 정량 공정에 공급하여 상기 순수 정량 공정 내의 샘플액을 일정량 묽게 하는 동시에, 상기 일정량 묽어진 샘플액을 상기 액체 중의 입자 측정 공정에서 측정하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 9 기재의 입자 부착량 평가 방법에 있다.
그리고, 청구항 11 기재의 요지는 상기 순수 공급 공정은 샘플액의 측정 이전까지는 상기 액체 중의 입자 측정 공정에 순수를 통수하여 초기 상태를 유지하는 것을 특징으로 하는 청구항 9 또는 청구항 10에 기재된 입자 부착량 평가 방법에 있다.
또한, 청구항 12 기재의 요지는 반복 평가를 할 수 있도록, 상기 잔류액 회수 공정, 상기 잔류액 정량 계측 공정 및/또는 상기 순수 정량 공정의 실행에 관련한 소정 기기를 순수를 이용하여 세정하는 순수 세정 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 9 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 기재된 입자 부착량 평가 방법에 있다.
이하에 도시한 실시 형태의 특징은 대규모 집적 회로(LSI)·액정 장치 등에 필요로 되는 입자(이물질 미립자)나 금속 불순물, 유기물 등의 미소한 오염이 없는 청정한 세정 대상 기판을 약액 처리하는 딥식 세정 시스템에 있어서, 약액 처리후 또는 물세척 후에 부착한 세정 대상 기판의 표면의 잔류액을 잔류액 회수 상부 접시 및 잔류액 정량 계측조로 회수하여 샘플액을 생성하고, 일정량의 샘플액을 순수 정량조 내의 초기치 측정 완료된 정량 순수 중에 투입하여 액중의 입자수를 측정(즉, 입자량을 정량 평가)함으로써, 세정 대상 기판 상의 세정도를 액체 중의 입자량으로 신뢰성이 좋게, 또한 약액 처리 후에 대해서도 측정할 수 있는 데 있다. 이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.
도1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 입자량 평가 장치 및 딥식 세정 시스템을 설명하기 위한 모식적 시스템 구성도이다. 도1을 참조하면, 도면 부호 12는 잔류액 회수 상부 접시, 도면 부호 13은 잔류액 정량 계측조, 도면 부호 14는 순수 정량조, 도면 부호 15는 순수 노즐, 도면 부호 16은 순수 배관, 도면 부호 17은 폐기 배관, 도면 부호 20A는 제1 기판 처리조, 도면 부호 20B는 제2 기판 처리조, 도면 부호 30은 순수 공급원, 도면 부호 40은 액체 중의 입자 측정기, 도면 부호 50은 기판 반송 수단, 도면 부호 60은 세정 대상 기판을 각각 나타내고 있다.
본 실시 형태의 딥식 세정 시스템은 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 딥식 세정 대상인 기판(60) 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가를 실현할 수 있어 제1 기판 처리조(20A), 제2 기판 처리조(20B), 기판 반송 수단(50), 입자량 평가 장치를 구비하고 있다.
제1 기판 처리조(20A)는 딥식 세정용의 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비하고 있다. 제2 기판 처리조(20B)는 딥식 세정용의 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비하고 있다. 기판 반송 수단(50)은 제1 기판 처리조(20A)로부터 제2 기판 처리조(20B)로 딥식 세정 대상인 기판(60)을 반송한다.
한편, 본 실시 형태의 입자량 평가 장치는 모니터 기판을 사용하는 일없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 세정 대상인 기판(60) 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가를 실현할 수 있는 입자량 평가 장치로써, 잔류액 회수 상부 접시(12), 순수 정량조(14), 순수 공급원(30), 잔류액 정량 계측조(13), 액체 중의 입자 측정기(40), 순수 노즐(15), 순수 배관(16), 폐기 배관(17)을 구비하고 있다.
잔류액 회수 상부 접시(12)는 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제1 기판 처리조(20A)로부터 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제2 기판 처리조(20B)로 세정 대상 기판(60)을 반송할 때 세정 대상 기판(60)의 표면으로부터 적하하는 잔류액을 회수하여 샘플액을 생성한다. 즉, 희석하기 위한 샘플액을 정량 측정하여 입자를 계수 평가하므로, 세정 대상 기판(60) 상의 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 또한 정밀도도 향상하는 등의 효과를 발휘한다. 순수 정량조(14)는 순수 중의 입자 측정을 행하기 위한 세정조로써, 일정량의 순수를 채운 대기 상태를 만들어 낸다.
순수 공급원(30)은 상류측에 배치된 순수 정량조(14)에 연통한 상태에서 순수 정량조(14)에 순수를 공급하고, 샘플액의 측정 이전까지는 액체 중의 입자 측정기(40)에 순수를 통수하여 초기 상태를 보유 지지한다. 즉, 희석하기 위한 순수량 및 샘플액을 정량 측정하여 입자를 계수 평가하므로, 세정 대상 기판(60) 상의 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 또한 정밀도도 향상하는 등의 효과를 발휘한다.
잔류액 정량 계측조(13)는 상류측에 배치된 잔류액 회수 상부 접시(12) 및 하류측에 배치된 순수 정량조(14)에 순수 배관(16)을 거쳐서 연통한 상태에서 잔류액 회수 상부 접시(12)로부터의 샘플액을 순수 정량조(14)내의 순수 중에 일정량 적하한다. 즉, 기준값을 측정하고 있는 일정량의 순수를 보유 지지하는 순수 정량조(14) 중에 샘플액을 잔류액 정량 계측조(13)로부터 투입하기 때문에, 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)의 감소, 기포의 발생 등에 의한 측정 오차를 억제한 상태에서의 정량 평가가 가능하다.
액체 중의 입자 측정기(40)는 순수 중에 일정량 샘플액이 적하된 용액을 이용하여 액체 중의 입자의 계수 평가를 행한다. 이와 같이, 제1 기판 처리조(20A)(약액 처리조 또는 물세척 처리조)에서의 세정 대상 기판(60)의 세정 후의 세정 대상 기판(60) 표면 상의 잔류액을 평가에 이용함으로써, 세정 대상 기판(60) 상의 세정도를 액체 중의 입자량으로 신뢰성이 좋게, 또한 약액 처리 후에 대해서도 측정할 수 있게 된다.
순수 노즐(15)은 잔류액 회수 상부 접시(12) 및/또는 잔류액 정량 계측조(13)를 세정하고, 폐기 배관(17)은 잔류액 회수 상부 접시(12) 및/또는 잔류액 정량 계측조(13)의 세정에 사용된 순수를 폐기한다.
이와 같은 입자량 평가 장치는 제1 기판 처리조(20A) 및 제2 기판 처리조(20B) 사이에 잔류액을 회수하는 잔류액 회수용 상부 접시 및 액체 중의 입자 측정을 위한 잔류액 정량 계측조(13)를 설치하고, 제1 기판 처리조(20A)로부터 제2 기판 처리조(20B)로 세정 대상인 기판(60)을 기판 반송 수단(50)을 이용하여 반송할 때에 세정 대상 기판(60)으로부터 적하하는 잔류액을 잔류액 회수 상부 접시(12) 및 잔류액 정량 계측조(13)로 회수하여 샘플액을 생성하고, 순수 공급원(30)으로부터의 순수를 순수 정량조(14)에 공급하여 순수 정량조(14) 내의 샘플액을 일정량 묽게 해 액체 중의 입자 측정기(40)로 측정하도록 구성되어 있다.
다음에 딥식 세정 시스템의 동작(입자량 평가 방법)에 대해 설명한다. 본 실시 형태의 딥식 세정 시스템은 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 딥식 세정 대상인 기판(60) 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가를 실현할 수 있고, 제1 기판 공정, 제2 기판 공정, 기판 반송 공정, 잔류액 회수 공정, 순수 정량 공정, 순수 공급 공정, 잔류액 정량 계측 공정, 액체 중의 입자 측정 공정을 구비한 입자량 평가 방법을 실행한다.
제1 기판 공정은 제1 기판 처리조(20A)가 실행하는 공정으로써, 딥식 세정용 약액 공정 및/또는 물세척 공정을 구비하고 있다. 제2 기판 공정은 제2 기판 처리조(20B)가 실행하는 공정으로써, 딥식 세정용 약액 공정 및/또는 물세척 공정을 구비하고 있다. 기판 반송 공정은 기판 반송 수단(50)이 실행하는 공정으로써, 제1 기판 공정으로부터 제2 기판 공정으로 딥식 세정 대상인 기판(60)을 반송한다. 잔류액 회수 공정은 잔류액 회수 상부 접시(12)가 실행하는 공정으로써, 제1 기판 공정으로부터 제2 기판 공정으로 딥식 세정 대상 기판(60)을 반송할 때에 딥식 세정 대상 기판(60)의 표면으로부터 적하하는 잔류액을 회수하여 샘플액을 생성한다. 순수 정량 공정은 순수 정량조(14)가 실행하는 공정으로써, 순수 중의 입자 측정을 행하기 위한 딥식 세정이고, 일정량의 순수를 채운 대기 상태를 만들어 낸다. 순수 공급 공정은 순수 공급원(30)이 실행하는 공정으로써, 순수 정량 공정에 순수를 공급한다. 잔류액 정량 계측 공정은 잔류액 정량 계측조(13)가 실행하는 공정으로써, 잔류액 회수 공정에 의해 규정된 샘플액을 순수 정량 공정에서 이용하는 순수 중에 일정량 적하한다. 액체 중의 입자 측정 공정은 액체 중의 입자 측정기(40)가 실행하는 공정으로써, 순수 중에 일정량 샘플액이 적하된 용액을 이용하여 액체 중의 입자의 계수 평가를 행한다. 또한, 순수 공급 공정은 샘플액의 측정 이전까지는 액체 중의 입자 측정 공정에 순수를 통수하여 초기 상태를 보유 지지한다.
이와 같은 논리 구성의 딥식 세정 시스템은, 잔류액을 회수하는 잔류액 회수 공정 및 액체 중의 입자 측정을 위한 잔류액 정량 계측 공정을 제1 기판 공정과 제2 기판 공정 사이에 마련하고, 제1 기판 공정의 실행 후에 제2 기판 공정을 실행하기 위해 세정 대상인 기판(60)을 기판 반송 공정을 이용하여 반송할 때에, 세정 대상 기판(60)으로부터 적하하는 잔류액을 잔류액 회수 공정 및 잔류액 정량 계측 공정에서 회수하여 샘플액을 생성하는 공정과, 순수 공급 공정으로부터의 순수를 순수 정량 공정에 공급하여 순수 정량 공정 내의 샘플액을 일정량 묽게 하는 동시에, 일정량 묽어진 샘플액을 액체 중의 입자 측정 공정에서 측정하는 공정을 실행한다.
구체적으로는, 세정 대상인 기판(60)이 제1 기판 처리조(20A)로 처리되어 다음의 제2 기판 처리조(20B)로 이동할 때, 적하하는 잔류액을 잔류액 회수 상부 접시(12) 및 잔류액 정량 계측조(13)로 회수하여 샘플액을 생성하고, 잔류액 정량 계측조(13)로 정량 계측을 행한다. 그 때까지, 순수 정량조(14)는 순수를 정량 채우고, 순수 중의 입자 측정을 행하여 대기 상태로 한다. 대기 완료후 순수 정량조(14)에 연통하는 순수 배관(16)을 통과시켜 샘플을 정량 투입후, 액체 중의 입자 측정기(40)로 측정을 행한다. 그 후, 잔류액 회수 상부 접시(12)와 잔류액 정량 계측조(13)는 순수 노즐(15)로 세정되어 다음의 잔류액 회수를 행한다. 세정에 사용된 순수는 순수 노즐(15)에 의한 세정시에 사용하는 폐기 배관(17)에 의해 폐기된다. 또, 본 실시 형태에서는 이 일련의 흐름을 나타내기 위해 1세트분의 모델을 그리고 있으나, 세정 대상 기판(60)의 처리 택트타임이 짧은 경우는 복수로 할 필요가 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에 따르면 이하에 언급하는 효과를 발휘한다. 우선 제1 효과는 고감도·저비용으로 또한 신뢰성이 높은 세정도 평가를 기판 로트마다 행할 수 있다는 점이다. 또한 제2 효과는 세정 대상 기판(60) 상의 잔류 이물질량을 파악 할 수 있어, 그 결과 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)의 저감 개선 대책이 행해져 수율 향상에 기여한다는 점이다. 그리고 제3 효과는 LSI나 액정 등의 장치의 수율 저하의 주요인인 세정 대상 기판(60)으로의 입자(이물질 미립자)를 제거하는 딥식 세정 방식에 본 실시 형태를 적용함으로써, 세정 대상 기판(60) 상의 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)을 저감할 수 있어, 그 결과 제조 비용의 저감 및 생산성의 안정화를 꾀할 수 있다는 점이다.
또, 본 발명이 상기 각 실시 형태에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술 사상의 범위 내에 있어서 각 실시 형태는 적절히 변경될 수 있는 것은 명백하다. 또한 상기 구성 부재의 수, 위치, 형상 등은 상기 실시 형태에 한정되지 않으며, 본 발명을 실시함에 있어서 다음 적합한 수, 위치, 형상 등으로 할 수 있다. 또한, 각 도면에 있어서 동일 구성 요소에는 동일 부호를 붙이고 있다.
본 발명은 이상과 같이 구성되어 있으므로, 이하에 언급하는 효과를 발휘한다. 우선 제1 효과는 고감도·저비용으로 또한 신뢰성이 높은 세정도 평가를 기판 로트마다 행할 수 있다는 것이다. 또한 제2 효과는 세정 대상 기판 상의 잔류 이물질량을 파악할 수 있어, 그 결과 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)의 저감 개선 대책이 행해져 수율 향상에 기여한다는 것이다. 그리고 제3 효과는 LSI나 액정 등의 장치의 수율 저하의 주요인인 세정 대상 기판으로의 입자(이물질 미립자)를 제거하는 딥식 세정 방식에 본 발명을 적용함으로써, 세정 대상 기판 상의 입자 부착량(이물질 미립자 부착량)을 저감할 수 있어, 그 결과 제조 비용의 저감 및 생산성의 안정화를 꾀할 수 있다는 것이다.
Claims (12)
- 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 세정 대상 기판 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가가 실현 가능한 입자량 평가 장치로써,약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제1 기판 처리조로부터 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제2 기판 처리조로 세정 대상 기판을 반송할 때에 세정 대상 기판의 표면으로부터 적하하는 잔류액을 회수하여 샘플액을 생성하는 잔류액 회수 상부 접시와,순수 중의 입자 측정을 행하기 위한 세정조로써 일정량의 순수를 채운 대기 상태를 만들어 내기 위한 순수 정량조와,상류측에 배치된 상기 순수 정량조에 연통한 상태에서 상기 순수 정량조에 순수를 공급하는 순수 공급원과,상류측에 배치된 상기 잔류액 회수 상부 접시 및 하류측에 배치된 상기 순수 정량조에 연통한 상태에서 상기 잔류액 회수 상부 접시로부터의 샘플액을 상기 순수 정량조 내의 순수 중에 일정량 적하하는 잔류액 정량 계측조와,상기 순수 중에 일정량 상기 샘플액이 적하된 용액을 이용하여 액체 중의 입자의 계수 평가를 행하는 액체 중의 입자 측정기를 갖는 것을 특징으로 하는 입자량 평가 장치．
- 제1항에 있어서, 상기 제1 기판 처리조 및 상기 제2 기판 처리조 사이에 잔류액을 회수하는 상기 잔류액 회수용 상부 접시 및 액체 중의 입자 측정을 위한 상기 잔류액 정량 계측조를 설치하고, 상기 제1 기판 처리조로부터 상기 제2 기판 처리조로 세정 대상 기판을 기판 반송 수단을 이용하여 반송할 때에 상기 세정 대상 기판으로부터 적하하는 잔류액을 상기 잔류액 회수 상부 접시 및 상기 잔류액 정량 계측조로 회수하여 샘플액을 생성하고, 상기 순수 공급원으로부터의 순수를 상기 순수 정량조에 공급하여 상기 순수 정량조 내의 샘플액을 일정량 묽게 하여 상기 액체 중의 입자 측정기로 측정하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 입자량 평가 장치．
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 순수 공급원은 샘플액의 측정 이전까지는 상기 액체 중의 입자 측정기에 순수를 통수하여 초기 상태를 유지하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 입자량 평가 장치 ．
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 반복 평가가 가능하도록, 상기 잔류액 회수 상부 접시, 상기 잔류액 정량 계측조 및/또는 상기 순수 정량조의 순수 세정 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 입자량 평가 장치 ．
- 제4항에 있어서, 상기 순수 세정 수단은 상기 잔류액 회수 상부 접시 및/또는 상기 잔류액 정량 계측조를 세정하기 위한 순수 노즐과, 상기 잔류액 회수 상부 접시 및/또는 상기 잔류액 정량 계측조의 세정에 사용된 순수를 폐기하는 폐기 배관을 갖는 것을 특징으로 하는 입자량 평가 장치 ．
- 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 딥식 세정 대상인 기판 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가가 실현 가능한 딥식 세정 시스템으로써,딥식 세정용 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제1 기판 처리조와,딥식 세정용 약액 처리조 및/또는 물세척 처리조를 구비한 제2 기판 처리조와,상기 제1 기판 처리조로부터 상기 제2 기판 처리조로 딥식 세정 대상 기판을 반송하는 기판 반송 수단과,상기 제1 기판 처리조로부터 상기 제2 기판 처리조로 딥식 세정 대상 기판을 반송할 때에 딥식 세정 대상 기판의 표면으로부터 적하하는 잔류액을 회수하여 샘플액을 생성하는 잔류액 회수 상부 접시와 순수 중의 입자 측정을 행하기 위한 딥식 세정으로써 일정량의 순수를 채운 대기 상태를 만들어 내기 위한 순수 정량조와 상류측에 배치된 상기 순수 정량조에 연통한 상태에서 상기 순수 정량조에 순수를 공급하는 순수 공급원과 상류측에 배치된 상기 잔류액 회수 상부 접시 및 하류측에 배치된 상기 순수 정량조에 연통한 상태에서 상기 잔류액 회수 상부 접시로부터의 샘플액을 상기 순수 정량조 내의 순수 중에 일정량 적하하는 잔류액 정량 계측조와 상기 순수 중에 일정량 상기 샘플액이 적하된 용액을 이용하여 액체 중의 입자의 계수 평가를 행하는 액체 중의 입자 측정기를 구비한 입자량 평가 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 딥식 세정 시스템.
- 제6항에 있어서, 상기 제1 기판 처리조 및 상기 제2 기판 처리조 사이에 잔류액을 회수하는 상기 잔류액 회수용 상부 접시 및 액체 중의 입자 측정을 위한 상기 잔류액 정량 계측조를 설치하고, 상기 제1 기판 처리조로부터 상기 제2 기판 처리조로 딥식 세정 대상 기판을 기판 반송 수단을 이용하여 반송할 때에 상기 딥식 세정 대상 기판으로부터 적하하는 잔류액을 상기 잔류액 회수 상부 접시 및 상기 잔류액 정량 계측조로 회수하여 샘플액을 생성하고, 상기 순수 공급원으로부터의 순수를 상기 순수 정량조에 공급하여 상기 순수 정량조 내의 샘플액을 일정량 묽게 하여 상기 액체 중의 입자 측정기로 측정하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 딥식 세정 시스템.
- 제6항 또는 제7항에 있어서, 반복 평가가 가능하도록, 상기 잔류액 회수 상부 접시, 상기 잔류액 정량 계측조 및/또는 상기 순수 정량조를 순수를 이용하여 세정하는 순수 세정 수단을 갖고,상기 순수 세정 수단은 상기 잔류액 회수 상부 접시 및/또는 상기 잔류액 정량 계측조를 세정하기 위한 순수 노즐과, 상기 잔류액 회수 상부 접시 및/또는 상기 잔류액 정량 계측조의 세정에 사용된 순수를 폐기하는 폐기 배관을 갖는 것을 특징으로 하는 딥식 세정 시스템.
- 모니터 기판을 사용하는 일 없이 실제 액체 중의 입자 부착량의 고정밀도 정량 평가가 가능하며, 딥식 세정 대상인 기판 상의 입자 부착량과의 상관 관계를 구하기 쉽고, 저비용·고신뢰성의 세정도 평가를 실현할 수 있는 입자 부착량 평가 방법으로써,딥식 세정용의 약액 공정 및/또는 물세척 공정을 구비한 제1 기판 공정과,딥식 세정용의 약액 공정 및/또는 물세척 공정을 구비한 제2 기판 공정과,상기 제1 기판 공정으로부터 상기 제2 기판 공정으로 딥식 세정 대상 기판을 반송하는 기판 반송 공정과,상기 제1 기판 공정으로부터 상기 제2 기판 공정으로 딥식 세정 대상 기판을 반송할 때 딥식 세정 대상 기판의 표면으로부터 적하하는 잔류액을 회수하여 샘플액을 생성하는 잔류액 회수 공정과,순수 중의 입자 측정을 행하기 위한 딥식 세정으로써 일정량의 순수를 채운 대기 상태를 만들어 내기 위한 순수 정량 공정과,상기 순수 정량 공정에 순수를 공급하는 순수 공급 공정과,상기 잔류액 회수 공정에 의해 규정된 샘플액을 상기 순수 정량 공정에서 이용하는 순수 중에 일정량 적하하는 잔류액 정량 계측 공정과,상기 순수 중에 일정량 상기 샘플액이 적하된 용액을 이용하여 액체 중의 입자의 계수 평가를 행하는 액체 중의 입자 측정 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 입자 부착량 평가 방법.
- 제9항에 있어서, 잔류액을 회수하는 상기 잔류액 회수 공정 및 액체 중의 입자 측정을 위한 상기 잔류액 정량 계측 공정을 상기 제1 기판 공정과 상기 제2 기판 공정 사이에 마련하고,상기 제1 기판 공정의 실행 후에 상기 제2 기판 공정을 실행하기 위해 세정 대상 기판을 상기 기판 반송 공정을 이용하여 반송할 때, 상기 세정 대상 기판으로부터 적하하는 잔류액을 상기 잔류액 회수 공정 및 상기 잔류액 정량 계측 공정에서 회수하여 샘플액을 생성하는 공정과,상기 순수 공급 공정으로부터의 순수를 상기 순수 정량 공정에 공급하여 상기 순수 정량 공정 내의 샘플액을 일정량 묽게 하는 동시에, 상기 일정량 묽어진 샘플액을 상기 액체 중의 입자 측정 공정에서 측정하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 입자 부착량 평가 방법.
- 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 순수 공급 공정은 샘플액의 측정 이전까지는 상기 액체 중의 입자 측정 공정에 순수를 통수하여 초기 상태를 유지하는 것을 특징으로 하는 입자 부착량 평가 방법.
- 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 반복 평가를 할 수 있도록, 상기 잔류액 회수 공정, 상기 잔류액 정량 계측 공정 및/또는 상기 순수 정량 공정의 실행에 관련한 소정 기기를 순수를 이용하여 세정하는 순수 세정 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 입자 부착량 평가 방법.
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