JP2005185973A - 洗浄中のハードディスク基板に付着するパーティクル数推定方法およびパーティクル数評価装置 - Google Patents
洗浄中のハードディスク基板に付着するパーティクル数推定方法およびパーティクル数評価装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005185973A JP2005185973A JP2003431438A JP2003431438A JP2005185973A JP 2005185973 A JP2005185973 A JP 2005185973A JP 2003431438 A JP2003431438 A JP 2003431438A JP 2003431438 A JP2003431438 A JP 2003431438A JP 2005185973 A JP2005185973 A JP 2005185973A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- cleaning
- liquid
- hard disk
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【課題】 外観検査等の別工程を必要とせずに、洗浄中におけるハードディスク基板のパーティクル付着数を推定する方法およびパーティクル数評価装置を提供すること。
【解決手段】 一定間隔で洗浄液をサンプリングするプローブを備えた液中パーティクルカウンタによって液中パーティクル数を測定する工程と、液中パーティクルカウンタにより一定間隔で測定された各パーティクル数を線形演算にかけることによって、ハードディスク基板に付着するパーティクル数を求める工程とを含むことを特徴とするパーティクル数の推定方法およびその推定方法を利用したパーティクル数評価装置。
【選択図】 図2
【解決手段】 一定間隔で洗浄液をサンプリングするプローブを備えた液中パーティクルカウンタによって液中パーティクル数を測定する工程と、液中パーティクルカウンタにより一定間隔で測定された各パーティクル数を線形演算にかけることによって、ハードディスク基板に付着するパーティクル数を求める工程とを含むことを特徴とするパーティクル数の推定方法およびその推定方法を利用したパーティクル数評価装置。
【選択図】 図2
Description
本発明は、外観検査等の別工程を設置することなしに、洗浄中のハードディスク基板のパーティクル付着数を推定する方法およびそのパーティクル数推定方法を利用したパーティクル数評価装置を指向する。
コンピュータの記憶装置として用いられている磁気記憶装置としては、ハードディスクが広く用いられている。このハードディスクにダスト等が付着していると、読取りや書き込み動作の誤作動を起こす恐れがある。したがって、磁気記憶装置の製造工程では、構成しているハードディスク等の部品を、ダストの付着が極めて少ない清浄な状態に管理する必要がある。通常、ハードディスクの清浄度管理方法としては、作業者による目視検査、顕微鏡観察、SEM観察、および製造工程の歩留まりからの推定等の方法が用いられている。
一方、上記のような直接的な外観検査による方法に代わり、液中パーティクルカウンタを利用する方法も実施されている(例えば、特許文献1および特許文献2参照。)。特許文献1による方法は、第1の基板処理槽および第2の基板処理槽の間に残留液を回収する残留液回収用上皿と、残留液回収用上皿からのサンプル液を純水定量槽内の純水中に一定量滴下する残留液定量計測槽とが設置されている。第1の基板処理槽から第2の基板処理槽へ基板が、基板搬送手段を用いて搬送される際に、基板から滴下する残留液を、残留液回収用上皿と残留液定量計測槽とで回収してサンプル液を生成し、このサンプル液を純水定量槽内で純水供給源からの純水で一定量薄め、液中パーティクル測定器でパーティクル数を測定している。
また、特許文献2による方法は、測定槽内の界面活性剤が添加された脱気水中に、被洗浄物(被測定体)を浸漬し、脱気水をオーバーフローさせた状態で超音波を印加し、脱気水中のパーティクル数をモニタ測定することにより被測定体の洗浄度を評価している。
しかし、上述した作業者の目視による方法では、検知可能なパーティクルは比較的粒径が大きいものに限られ、また、作業者個々人によるばらつきが発生する。また、顕微鏡やSEMによる方法は、全部品を対象とすると手間と時間がかかり実質不可能である。また、製造工程の歩留まりからの推定では、不具合個所の個々の特定ができない等の不具合があり、いずれの場合も、基板に付着しているパーティクル数を正確に定量化することが困難である。
一方、特許文献1および特許文献2に開示されている方法は、パーティクルカウンタを利用しているため、目視による方法で指摘したような問題点は大幅に解消される。しかし、特許文献1では、パーティクル測定のために、基板洗浄槽とは別に、残留液回収用上皿、残留液定量計測槽および純水定量槽等の装置が必要となる。したがって、余分なプロセスの増加によるコストアップや、測定誤差の発生率の増大といった新たな不具合が生じる。
また、ハードディスク基板のパーティクル付着数と、液中のパーティクル数とは相関関係にあるので、特許文献2のように、液中パーティクル数を測定するのみの評価方法でも、測定された液中パーティクル数から、基板に付着しているパーティクル数を、ある程度見積もることはできる。しかしこの方法では、ハードディスク基板に、実際に付着しているパーティクル数を正確に求めることは不可能である。つまり、特許文献2のような評価方法で、ハードディスク基板の洗浄度を厳密に確認するには、やはり洗浄終了時のハードディスク基板に付着しているパーティクル数を、外観試験装置などの別の手段により測定する必要がある。または、洗浄前のハードディスク基板に付着しているパーティクル数を外観試験装置で測定しておき、その値と洗浄槽で脱離したパーティクル数とから、洗浄後のパーティクル付着数を推定することが必要である。したがって、特許文献2による評価方法においても、ハードディスク基板のパーティクル付着数を厳密に調べるには、外観試験装置を新たに設置しなければならず、コストアップや、余分なプロセスの増加によるパーティクルの付着機会の増大といった不具合が生じる。
したがって、本発明は、液中パーティクルカウンタの出力値から、洗浄中の基板に付着しているパーティクル数を正確に推定する方法、およびそのパーティクル数推定方法を利用したパーティクル数評価装置を提供することを目的とする。
本発明は、上記目的を達成すべく、以下の通りの発明を提供する。
液中パーティクルカウンタが設置され、かつ、定常的に洗浄液がオーバーフローする洗浄槽に、ハードディスク基板を浸漬させて超音波洗浄するプロセスにおける、本発明のハードディスク基板に付着するパーティクル数の推定方法は、一定間隔で洗浄液をサンプリングするプローブを備えた液中パーティクルカウンタによって液中パーティクル数を測定する工程と、前記液中パーティクルカウンタにより一定間隔で測定された各パーティクル数を線形演算にかけることによって、ハードディスク基板に付着するパーティクル数を求める工程とを含むことを特徴としている。
液中パーティクルカウンタが設置され、かつ、定常的に洗浄液がオーバーフローする洗浄槽に、ハードディスク基板を浸漬させて超音波洗浄するプロセスにおける、本発明のハードディスク基板に付着するパーティクル数の推定方法は、一定間隔で洗浄液をサンプリングするプローブを備えた液中パーティクルカウンタによって液中パーティクル数を測定する工程と、前記液中パーティクルカウンタにより一定間隔で測定された各パーティクル数を線形演算にかけることによって、ハードディスク基板に付着するパーティクル数を求める工程とを含むことを特徴としている。
本発明によるハードディスク基板に付着するパーティクル数の推定方法における線形演算は、洗浄槽内のハードディスク基板および洗浄液間のパーティクル付着・脱離作用の数式モデルに基づく線形演算であることを特徴としている。
さらに本発明によるハードディスク基板に付着するパーティクル数の推定方法における、洗浄槽内のハードディスク基板および洗浄液間のパーティクル付着・脱離作用の数式モデルに基づく線形演算は、以下の式、
XD(i+1)={(1−r(i))/r(i)}×{XL(i+1)/R−XL(i)}
[ここで、XD(i+1)はi+1番目のサンプリング時点でのハードディスク基板に付着しているパーティクル数であり、r(i)はi番目のサンプリング時点におけるハードディスク基板から洗浄液中へのパーティクル脱離率であり、XL(i+1)はi+1番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数であり、Rは洗浄液が清浄な液に入れ替わる比率であり、かつ、XL(i)はi番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数である。]
で表されることを特徴としている。
XD(i+1)={(1−r(i))/r(i)}×{XL(i+1)/R−XL(i)}
[ここで、XD(i+1)はi+1番目のサンプリング時点でのハードディスク基板に付着しているパーティクル数であり、r(i)はi番目のサンプリング時点におけるハードディスク基板から洗浄液中へのパーティクル脱離率であり、XL(i+1)はi+1番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数であり、Rは洗浄液が清浄な液に入れ替わる比率であり、かつ、XL(i)はi番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数である。]
で表されることを特徴としている。
また、本発明によるパーティクル数評価装置は、洗浄液をオーバーフローさせることが可能な洗浄槽と、液中パーティクルカウンタと、超音波発生装置と、ロード・アンロード機構と、洗浄液供給用配管と、上記のパーティクル数推定方法の内のいずれか1つの方法により基板に付着したパーティクル数を算出可能な装置とを備えることを特徴としている。
本発明によれば、洗浄中においてハードディスク基板に付着しているパーティクル数を推定することができるので、洗浄後に外観試験の工程を設置してパーティクル付着数を測定することも、または洗浄前のハードディスク基板に付着しているパーティクル数を外観試験装置で測定し、その値と洗浄槽で脱離したパーティクル数とから、洗浄後のパーティクル付着数を算出する必要もない。したがって、外観試験装置を新たに設置するといったコストアップ、および余分なプロセス増加に伴うパーティクルの付着機会の増大という不具合を抑えることができる。
以下に、本発明の一実施形態について説明する。
図1(a)は、ハードディスク基板を超音波洗浄する機能を備えたパーティクル数評価装置の概略図の一例である。この装置には、洗浄槽6と、ハードディスク基板2を洗浄槽へ浸漬させた後に洗浄槽から取り出すロード・アンロード機構8と、超音波発生装置10と、洗浄液供給用配管12と、プローブ16を有する液中パーティクルカウンタ14とが備わっている。さらに、下記において詳細に説明する本発明のパーティクル数の推定方法を利用して、洗浄中のハードディスク基板に付着するパーティクル数を算出することが可能なコンピュータ等の装置を、本発明のパーティクル数評価装置に設置してもよい。あるいは、液中パーティクルカウンタ自体に、このようなパーティクル数を算出する機能が備わっていてもよい。
図1(a)は、ハードディスク基板を超音波洗浄する機能を備えたパーティクル数評価装置の概略図の一例である。この装置には、洗浄槽6と、ハードディスク基板2を洗浄槽へ浸漬させた後に洗浄槽から取り出すロード・アンロード機構8と、超音波発生装置10と、洗浄液供給用配管12と、プローブ16を有する液中パーティクルカウンタ14とが備わっている。さらに、下記において詳細に説明する本発明のパーティクル数の推定方法を利用して、洗浄中のハードディスク基板に付着するパーティクル数を算出することが可能なコンピュータ等の装置を、本発明のパーティクル数評価装置に設置してもよい。あるいは、液中パーティクルカウンタ自体に、このようなパーティクル数を算出する機能が備わっていてもよい。
また、本発明において使用される洗浄液4としては、硫酸、塩酸、アンモニア、および過酸化水素等といった薬液、または純水を使用することができる。さらに純水に、界面活性剤、特に、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル系等のノニオン系界面活性剤を添加したものを洗浄液として使用することもできる。
洗浄槽6としては、ガラス、石英、アルミニウムおよびステンレス等といった、超音波洗浄または洗浄液による破損や劣化等の問題を引き起こすことのない材質のものを使用することができる。また、本発明の洗浄槽はオーバーフロー構造となっているため、洗浄液の供給時に、洗浄液中に気泡が発生する可能性がある。このような気泡は、パーティクルカウンタの測定誤差が生じる原因となる。したがって、気泡を発生させずに洗浄液の供給を行えるように、洗浄液供給用配管12に脱気モジュールを設置してもよい。
ハードディスク基板2を洗浄液に浸漬して取り出すロード・アンロード機構8としては、ハードディスク基板2を、その中心穴で係止して上下する機構を採用する。
超音波発生装置10としては、ハードディスク基板2にダメージを与えることも、洗浄液に気泡を発生させることもなく付着したパーティクルを充分脱離させるように出力および周波数の調整が可能な一般的のものを採用する。
液中パーティクルカウンタ14としては、液中のパーティクルを測定することが可能な一般的なものであれば、本発明のパーティクル数推定方法を使用して、精度よく洗浄中のハードディスクに付着しているパーティクル数を推定することができる。
次に、パーティクル数評価装置における一連の工程の流れについて説明する。まず図1(b)で示すように、ハードディスク基板2を、ロード・アンロード機構8により洗浄液4に浸漬する。その後、超音波発生装置10により超音波を印加して、ハードディスク基板2に付着しているパーティクルを洗浄液中に脱離させる。このパーティクルが脱離した洗浄液を、洗浄槽6に設置されている液中パーティクルカウンタ14のプローブ16により、一定のサンプリング間隔で採取し続け、同時に、採取した洗浄液のパーティクル数を順次測定し続ける。この工程で測定されたi+1番目のサンプリング時点での測定値と、i+1番目のサンプリング時点の1つ前のi番目のサンプリング時点での測定値とをもとに、下記で説明する本発明のパーティクル数の推定方法を利用して、洗浄中のハードディスク基板に付着しているパーティクル数を推定することができる。そして、基板に付着するパーティクル数が、所望の個数以下となった最終的な洗浄終了時点に達したときに、ロード・アンロード機構8により、ハードディスク基板2を洗浄槽6から取り出す。なお、この工程における洗浄槽6は、洗浄後の液中のパーティクル数を減少させるために、オーバーフロー構造になっており、洗浄液供給用配管12を通じて、洗浄槽6内に一定の比率で清浄な洗浄液を加え続けて定常的にあふれさせ、洗浄液の入れ替えを行っている。ただし、洗浄槽6がオーバーフロー構造になっている場合、基板からのパーティクルの脱離により汚染された洗浄液と、供給される清浄な洗浄液との間で、局所的に濃度勾配が生じることがある。この濃度勾配は、液中パーティクルカウンタの測定誤差につながる可能性があるので、この濃度勾配を無くすために、ロード・アンロード機構8により、ハードディスク基板2を上下させることにより、洗浄液を攪拌するようにしてもよい。
また本発明では、上記のように、基板を最終的な洗浄終了時点まで浸漬させ続ける場合を主に想定しているが、この他に、ハードディスク基板を浸漬後、所定の出力および周波数条件下で所定の時間、超音波を印加して基板を洗浄した後、洗浄液を液中パーティクルカウンタで測定し、ロード・アンロード機構により基板を取り出すといった一連の工程を繰り返すような方法で実施してもよい。
次に、図2のパーティクル付着・脱離の数式モデルをもとにした、パーティクル数の推定方法の原理について述べる。
任意のi番目のサンプリング時点における、ハードディスク基板から洗浄液中へのパーティクル脱離率をr(i)、洗浄液中からハードディスク基板へのパーティクル再付着率をs(i)とし、かつ、洗浄液は比率Rで清浄な洗浄液に入れ替わるものとする。なおこの比率Rは、洗浄液が全く入れ替わらない場合が1であり、洗浄液が全て入れ替わる場合が0である。
i+1番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数であるXL(i+1)は、1つ前のi番目のサンプリング時点でのハードディスク基板に付着しているパーティクル数であるXD(i)にr(i)×Rをかけた量、すなわちi番目のサンプリング時点でのハードディスク基板に付着しているパーティクルが脱離して洗浄液中に移動した量の内、オーバーフローにより放出されずに残存する洗浄液中のパーティクル数と;1つ前のi番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数であるXL(i)に(1−s(i))×Rをかけた量、すなわちi番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクルがハードディスク基板に再付着せずに液中に存在し、かつ、オーバーフローにより放出されずに残存する洗浄液中のパーティクル数との和に等しい。また、i+1番目のサンプリング時点でのハードディスク基板に付着しているパーティクル数であるXD(i+1)は、1つ前のi番目のサンプリング時点でのハードディスク基板に付着しているパーティクル数であるXD(i)に(1−r(i))をかけた量、すなわちi番目のサンプリング時点でのハードディスク基板から洗浄液中に脱離せずにハードディスク基板に残存するパーティクル数と;1つ前のi番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数であるXL(i)にs(i)をかけた量、すなわちi番目のサンプリング時点での洗浄液中に存在するパーティクルの内、ハードディスク基板に再付着したパーティクル量との和に等しい。
つまり、XL(i+1)およびXD(i+1)は、次のような式、
XL(i+1)=R×r(i)×XD(i)+R×(1−s(i))×XL(i) …(1)
XD(i+1)=(1−r(i))×XD(i)+s(i)×XL(i) …(2)
で表される。
XL(i+1)=R×r(i)×XD(i)+R×(1−s(i))×XL(i) …(1)
XD(i+1)=(1−r(i))×XD(i)+s(i)×XL(i) …(2)
で表される。
r(i)≠0として、(1)式からXD(i)を、
XD(i)={XL(i+1)−R×(1−s(i))×XL(i)}/(R×r(i))…(3)
と導くことができる。
XD(i)={XL(i+1)−R×(1−s(i))×XL(i)}/(R×r(i))…(3)
と導くことができる。
この(3)式を(2)式へ代入すると、XD(i+1)は、
XD(i+1)={(1−r(i))/r(i)}×{XL(i+1)/R−XL(i)}
+(s(i)/r(i)×XL(i)) …(4)
と導くことができる。
XD(i+1)={(1−r(i))/r(i)}×{XL(i+1)/R−XL(i)}
+(s(i)/r(i)×XL(i)) …(4)
と導くことができる。
ここで再付着率s(i)が小さいと仮定すると、XD(i+1)は、
XD(i+1)={(1−r(i))/r(i)}×{XL(i+1)/R−XL(i)} …(5)
と導くことができる。
XD(i+1)={(1−r(i))/r(i)}×{XL(i+1)/R−XL(i)} …(5)
と導くことができる。
なお脱離率r(i)は、図3に示すような、液供給を止めてオーバーフローを停止した状態における(R=1)、各サンプリング時点と洗浄液中のパーティクル脱離率との相関図から求めることができる。具体的には、洗浄工程における同種のハードディスク基板を試料として以下の方法で求めることができる。
R=1の場合、式(1)は、
XL(i+1)=r(i)×XD(i)+(1−s(i))×XL(i)
となり、ここでXD(i)≠0であると仮定して変形すると、
r(i)={XL(i+1)−(1−s(i))×XL(i)}/XD(i)
となる。ここで、再付着率s(i)<<1と仮定すると、
r(i)={XL(i+1)−XL(i)}/XD(i)
となる。さらに、試料とする基板の洗浄前に付着しているパーティクル数をXD(ALL)とすると、XD(i)=XD(ALL)−XL(i)となり、
r(i)={XL(i+1)−XL(i)}/{XD(ALL)−XL(i)} …(6)
と導くことができる。
XL(i+1)=r(i)×XD(i)+(1−s(i))×XL(i)
となり、ここでXD(i)≠0であると仮定して変形すると、
r(i)={XL(i+1)−(1−s(i))×XL(i)}/XD(i)
となる。ここで、再付着率s(i)<<1と仮定すると、
r(i)={XL(i+1)−XL(i)}/XD(i)
となる。さらに、試料とする基板の洗浄前に付着しているパーティクル数をXD(ALL)とすると、XD(i)=XD(ALL)−XL(i)となり、
r(i)={XL(i+1)−XL(i)}/{XD(ALL)−XL(i)} …(6)
と導くことができる。
したがって、洗浄前の基板に付着しているパーティクル数XD(ALL)を外観試験装置等で予め測定し、かつ、i番目およびi+1番目のサンプリング時点での洗浄液中に存在するパーティクル数をパーティクルカウンタにより測定し、各測定値を(6)式に導入することにより、i番目のサンプリング時点における脱離率r(i)を求めることができる。
あるいはまた、試料として用いるハードディスク基板に対し、各サンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数を測定する。さらに、飽和状態に達した際の試料であるハードディスク基板について、外観試験装置等で基板に付着しているパーティクル数を測定する。ここで、飽和状態に達した際の液中のパーティクル数と、飽和状態に達した際の試料であるハードディスク基板に付着しているパーティクル数とを加算した値を、洗浄前の基板に付着しているパーティクル数XD(ALL)とすることができる。このXD(ALL)と、i番目およびi+1番目のサンプリング時点での洗浄液中に存在する各パーティクル数を(6)式に導入することにより、i番目のサンプリング時点における脱離率r(i)を求めることができる。
したがって、本発明は、試料として用いるハードディスク基板から、別途脱離率r(i)を求め、かつ、上記(5)式によって、例えば、i+1番目のサンプリング時点でのハードディスク基板のパーティクル付着数を、i+1番目のサンプリング時点の液中パーティクル数と、前記i+1番目のサンプリング時点の1回前のi番目のサンプリング時点の液中パーティクル数とから導出することができる。
2 ハードディスク基板
4 洗浄液
6 洗浄槽
8 ロード・アンロード機構
10 超音波発生装置
12 洗浄液供給用配管
14 液中パーティクルカウンタ
16 プローブ
20 付着パーティクル
22 液中パーティクル
4 洗浄液
6 洗浄槽
8 ロード・アンロード機構
10 超音波発生装置
12 洗浄液供給用配管
14 液中パーティクルカウンタ
16 プローブ
20 付着パーティクル
22 液中パーティクル
Claims (4)
- 液中パーティクルカウンタが設置され、かつ、定常的に洗浄液がオーバーフローする洗浄槽に、ハードディスク基板を浸漬させて超音波洗浄するプロセスにおける、ハードディスク基板に付着するパーティクル数の推定方法であって、
一定間隔で洗浄液をサンプリングするプローブを備えた液中パーティクルカウンタによって、液中パーティクル数を測定する工程と、
前記液中パーティクルカウンタにより一定間隔で測定された各パーティクル数を、線形演算にかけることによって、ハードディスク基板に付着するパーティクル数を求める工程とを含むことを特徴とするパーティクル数の推定方法。 - 前記線形演算が、洗浄槽内のハードディスク基板および洗浄液間のパーティクル付着・脱離作用の数式モデルに基づく線形演算であることを特徴とする請求項1に記載のパーティクル数の推定方法。
- 洗浄槽内のハードディスク基板および洗浄液間のパーティクル付着・脱離作用の数式モデルに基づく線形演算が、以下の式、
XD(i+1)={(1−r(i))/r(i)}×{XL(i+1)/R−XL(i)}
[ここで、XD(i+1)はi+1番目のサンプリング時点でのハードディスク基板に付着しているパーティクル数であり、r(i)はi番目のサンプリング時点におけるハードディスク基板から洗浄液中へのパーティクル脱離率であり、XL(i+1)はi+1番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数であり、Rは洗浄液が清浄な液に入れ替わる比率であり、かつ、XL(i)はi番目のサンプリング時点での洗浄液中のパーティクル数である。]
で表されることを特徴とする請求項2に記載のパーティクル数の推定方法。 - 洗浄液をオーバーフローさせることが可能な洗浄槽と、液中パーティクルカウンタと、超音波発生装置と、ロード・アンロード機構と、洗浄液供給用配管と、請求項1から3のいずれか一項に記載のパーティクル数推定方法により基板に付着したパーティクル数を算出可能な装置とを備えることを特徴とするパーティクル数評価装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003431438A JP2005185973A (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | 洗浄中のハードディスク基板に付着するパーティクル数推定方法およびパーティクル数評価装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003431438A JP2005185973A (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | 洗浄中のハードディスク基板に付着するパーティクル数推定方法およびパーティクル数評価装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005185973A true JP2005185973A (ja) | 2005-07-14 |
Family
ID=34789463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003431438A Pending JP2005185973A (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | 洗浄中のハードディスク基板に付着するパーティクル数推定方法およびパーティクル数評価装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005185973A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007010769A1 (ja) * | 2005-07-22 | 2007-01-25 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2009245481A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Hoya Glass Disk Thailand Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
-
2003
- 2003-12-25 JP JP2003431438A patent/JP2005185973A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007010769A1 (ja) * | 2005-07-22 | 2007-01-25 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2009245481A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Hoya Glass Disk Thailand Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1016127B1 (en) | A fluorometric method for increasing the efficiency of the rinsing and water recovery process in the manufacture of semiconductor chips | |
TWI639734B (zh) | 用於電化學沉積及/或電化學蝕刻之原位指紋法 | |
JP4785039B2 (ja) | シリコンウェーハのライフタイム測定方法 | |
CN101976045B (zh) | 用于tft-lcd蚀刻制程的面板品质虚拟量测方法与系统 | |
US8038798B2 (en) | Method of and apparatus for cleaning substrate | |
CN100570495C (zh) | 一种检验刻蚀液是否有效的方法 | |
TW200737301A (en) | Substrate processing method, substrate processing system, program, and recording medium | |
KR20120047871A (ko) | 플라즈마 챔버의 자격을 위한 에칭 레이트 균일성을 예측하는 방법 및 장치 | |
CN109530374B (zh) | 一种晶圆盒清洗方法 | |
TW201205440A (en) | Virtual measuring system and method thereof for predicting the quality of thin film transistor liquid crystal display processes | |
JP2019163995A (ja) | 劣化診断システム、抵抗値推定方法、およびコンピュータープログラム | |
CN109047160B (zh) | 一种掩膜版玻璃基板的清洗方法 | |
JP2005185973A (ja) | 洗浄中のハードディスク基板に付着するパーティクル数推定方法およびパーティクル数評価装置 | |
WO2022237577A1 (zh) | 颗粒物清洁度检测方法 | |
US20100078043A1 (en) | Cleaning device and cleaning method | |
JP3148201B2 (ja) | パーティクル量評価装置ならびにディップ式洗浄システムおよびパーティクル付着量評価方法 | |
JP5836650B2 (ja) | 半導体基板洗浄装置および洗浄方法、並びに半導体装置の製造方法 | |
JP2760735B2 (ja) | 半導体ウェーハのパーティクル検査装置 | |
US12101073B2 (en) | Method for determining a cleanliness of a cleaning member | |
US8778085B2 (en) | Dissolved nitrogen concentration monitoring method, substrate cleaning method, and substrate cleaning apparatus | |
JPH06124935A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP2012133343A (ja) | 露光用マスクの表面イオン濃度のモニター方法およびモニターシステム、該モニターシステムを備えた露光用マスク洗浄装置、並びに残留イオン濃度を保証した露光用マスク | |
KR100931788B1 (ko) | 기판 세정장치용 세정 부품의 적합성 검사 장치 | |
JP2000303093A (ja) | ガス溶解洗浄水の評価装置 | |
JP2021184463A (ja) | 洗浄部材の清浄度を判定する方法、洗浄部材を汚染する汚染物質の吸着特性を判定する方法、基板の清浄度を判定する方法、基板の清浄度を判定するプログラム、および洗浄工程の終点を判定するプログラム |