KR19980070669A - 반강유전성 액정 화합물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기의 화학식 (1) 을 가지는 새로운 반강유전성(反强誘電性) 액정 화합물에 관한 것으로써, 상기의 반강유전성 액정 화합물은 넓은 온도범위에 걸쳐서 반강유전상(反强誘電相)과 낮은 융점(melting point)을 가지므로, 액정 조성물의 성분으로써, 혹은 실질적으로 고부가가치의 액정 재료를 위한 주성분으로써 유리하게 사용 가능하다.
(식 중, R은 탄소수 6 내지 12의 직쇄 알킬기이고, X는 수소원자이거나, 불소 원자이며, n은 2 내지 7의 정수이며, p는 0 내지 2의 정수이고, C*는 부제 탄소 원자이다.)

Description

반강유전성 액정 화합물
본 발명은 새로운 반강유전성 액정 화합물에 관련된 것으로, 상기 액정 화합물은 넓은 온도 범위에서 반강유전상을 가지며, 낮은 융점을 가진다.
액정 표시 소자는 낮은 전압에서 작동하고 전력 소비가 작으며, 박형 (薄型) 표시가 가능하기 때문에 현재 각종의 소형 표시소자로써 이용되어 왔다. 그러나, 최근의 정보 및 사무 자동화 관련 기기 분야 또는 텔레비젼 분야에의 응용 및 용도 확대와 함께, 지금까지의 CRT 표시소자를 상회하는 표시 용량, 표시 품질을 지닌 고성능 대형 액정 표시소자의 요구가 급속하게 높아져 왔다.
그러나, 현재의 네마틱 (nematic) 액정 화합물을 표시 소자에 이용하는 한, 액정 텔레비젼 용으로 채용되어 있는 액티브 매트릭스 구동 액정 표시소자(TFT) 에서도 제조 공정의 복잡함과 생산률 저하때문에, 당해 소자의 대형화 및 저 비용화가 용이하지 않다. 더 나아가 단순 매트릭스 구동의 STN 형 액정 표시소자 (STN) 로 해도, 대용량 표시 소자의 구동은 반드시 용이하지는 않고 상기 소자의 응답 시간에도 한계가 있기 때문에 동화 (動畵) 표시는 얻기가 힘들다. 따라서, 현재 네마틱 액정 표시소자는 상기 고기능 대형 액정 표시소자에 대한 요구를 만족하는 물질이라고는 말하기 어려운 실정이다.
게다가, 표시 품질면에서 네마틱 액정을 사용하는 TFT 및 STN 모두 표시소자에서 시야각의 협소함이 큰 문제가 된다. 여러 개선책이 제안되고 있지만, 네마틱 액정 화합물을 사용하고 있는 한, 그 근본적 개선책을 찾는 것은 곤란하다.
이와 같은 상황속에서 고속 및 광시야각 액정 표시소자로써 주목받아 온 것이 강유전성 액정을 사용한 액정 표시소자이다. 크라크(Clark)와 라가벨(Lagerwall)에 의해 발표된 표면 안정화형 강유전성 액정 (SSFLC) 소자는, 종래에 없던 빠른 응답 속도와 넓은 시야각을 갖는 것이 주목되어 그 스위칭 (switching) 특성이 상세하게 검토되고, 여러 물성 정수를 최적화 시키기 위한 많은 강유전성 액정 화합물이 합성되어 왔다.
그러나, 강유전성 액정 화합물이 액정 표시소자로써 사용될 때는, 강유전성 액정은 문턱 (threshold) 값 특성이 불충분하고 층 구조가 셰브론 (chevron) 구조를 하고 있기 때문에 실용상 문제 없는 콘트라스트를 얻기 위해서는 액정 배향에 관한 특별한 고안이 필요하다. 더 나아가, 액정 분자의 배향 제어가 매우 어렵기 때문에 SSFLC의 최대 특징 중 하나인 쌍방 안정성을 재현성 좋게 실현하는 것은 용이하지 않다. 또, 기계적 충격에 의해 배향이 파괴되어, 그것의 회복이 곤란하다는 등 문제가 있어 소자의 실용화에 있어서는 이들 문제 극복이 필요하다.
상기한 바와 같이 액정 소자의 대형화 및 고정밀도화를 위해 새로운 모드 개발을 포함하여 여러 가지 노력이 이루어지고 있는데, 이러한 상황하에서 종래 소자와는 전혀 다른 스위칭 기구를 가지는 장치의 개발이 동시에 진행되고 있다. 반강유전상을 가지는 액정 화합물(이 후로, 반강유전성 액정 화합물이라 불릴 수 있다.)의 세가지 안정한 상태 간의 스위칭이 상기 새로운 스위칭 기구의 하나이다. [Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 27, pp. L729, (1988)]
상기 반강유전성 액정 소자는 3가지의 안정한 상태, 즉, 강유전상에서 발견되는 두가지의 유니폼 상태(Ur, U1)와 제 3의 상태를 갖는다. 상기의 제 3의 상태가 반강유전상인 것을 Chandani 등이 보고하고 있다. [ Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 28, pp. L1261, (1989), Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 28, pp. L1265, (1989)]
상기 3가지 안정한 상태간의 스위칭이 반강유전성 액정 소자의 첫 번째 특징이다.
반강유전성 액정 소자의 두 번째 특징은 인가 전압(applied voltage)에 대해 명확한 문턱값이 존재하는 것이다.
더 나아가, 반강유전성 액정 소자는 메모리 효과를 가지고 있는데, 이것이 상기 액정 소자의 세 번째 특징이다.
상기의 우수한 특징을 이용함으로써 응답속도가 빠르고, 콘트라스트가 양호한 액정 표시 소자를 실현할 수 있다.
반강유전성 액정의 또 다른 중요한 특징은 층 구조가 전계(電界)에 의해 용이하게 스위칭 되는 것을 들 수 있다. [Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 28, pp. L119, (1989), Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 29, pp. L111, (1990)].
상기의 특징들을 기초로 하여, 결함이 매우 적고 분자 배향의 자기수복(自己修復)(self-restoring)능력이 있는 액정 표시소자의 제조가 가능하고, 콘트라스트가 우수한 액정소자를 실현할 수 있다.
반강유전성 액정 화합물로는 일본 공개특허공보 평1-213390 호, 일본 공개특허공보 평1-316339 호, 일본 공개특허공보 평1-316367 호, 일본 공개특허공보 평1-316372 호, 일본 공개특허공보 평2-28128 호의 각 공보 및 Liquid Crystals, Vol. 6, pp.167, (1989) 에 기재된 것이 알려져 있다. 현재까지 알려져 있는 반강유전성 액정 화합물의 수는 강유전성 액정 화합물에 비해 많지는 않지만, 연구 진전에 따라 차차 그 수를 늘리고 있다.
한편, 강유전성 액정 화합물의 분야에서, 광학활성원으로 부제 탄소(C*) 상에 불소가 치환된 하기의 광학활성 알콜을 사용하여 강유전성 액정을 합성하는 시도가 한창 행해지고 있다 (예컨대, 일본 공개특허공보 소64-3154 호, 일본 공개특허공보 평1-316339 호, 일본 공개특허공보 평1-316367 호, 일본 공개특허공보 평1-316372 호, 일본 공개특허공보 평2-225434 호 및 일본 공개특허공보 평2-229128 호의 각 공보).
(1) : CF3C*H(OH)CH2COOC2H5(2) : CF3C*H(OH)CH2CH2OC2H5
(3) : CF3C*H(OH)CH2CH2CH2OC2H5(4) : CF3C*H(OH)C6H13
(5) : CF3C*H(OH)C8H17(6) : C2F5C*H(OH)C8H17
이들 광학활성 알콜을 사용하여 유도된 강유전성 액정 화합물은, 모두 부제탄소상에 전기음성도가 큰 플루오로알킬기가 치환되어 있기 때문에 큰 자발분극 (自發分極) 을 부여하며 또 비교적 빠른 응답속도를 부여한다. 또 이들 중 상기 (4), (5) 및 (6) 등의 화합물을 사용하여 유도된 액정 화합물은, 반강유전상을 갖는 액정 화합물 또는 페리 유전상(ferrielectric phase)을 갖는 액정 화합물을 부여하기 쉬운 것으로 인지되어 있다.
한편, 실용성을 고려할 때, 액정 화합물이 구비해야 할 조건으로써, 넓은 온도 범위에서의 반강유전상을 갖을 것과 융점이 낮을 것 등을 들 수 있다.
본 발명은 상기와 같은 관점에서 행하여 졌는데, 부제 탄소상에 트리플루오로메틸기를 가지고 말단의 플루오로알킬기로 구성된 바이페닐에스테르 함유 액정 화합물은 넓은 온도 범위에서 반강유전상을 갖고, 융점이 낮은 반강유전성 액정 화합물을 제공하는 것을 발견하였다.
즉, 본 발명에 있어서 하기 화학식 (1) 로 표시되는 반강유전성 액정 화합물이 제조되었다.
(단, 식 중, R은 탄소수 6 내지 12의 직쇄 알킬기이고, X는 수소원자이거나, 불소 원자이며, n은 2 내지 7의 정수이며, p는 0 내지 2의 정수이고, C*는 부제 탄소 원자이다.)
본 발명에 있어서의 반강유전성 액정 화합물은 상기의 화학식 (1) 을 갖는다. 상기 화학식 (1) 에서, R은 탄소수 6 내지 12의 직쇄 알킬기, 바람직하게는 탄소수 9의 직쇄 알킬기이고, X는 수소원자이거나, 불소 원자이며, n 은 2 내지 7의 정수, 바람직하게는 5이며, p는 0 내지 2의 정수, 바람직하게는 0 또는 2 이고, 특히 바람직하게는 2이다.
상기 반강유전성 액정 화합물의 합성에 사용되는 광학 활성 알콜은 본 발명자들이 이미 제안한 방법에 의해 용이하게 제조가능하다. 본 제조법의 개략은 다음과 같다.
(a) Br(CH2)nBr + NaOCH2CHpF3-p→ Br(CH2)nOCH2CHpF3-p
(b) (a) + Mg → MgBr(CH2)nOCH2CHpF3-p
(c) (b) + CF3COOH → CF3CO(CH2)nOCH2CHpF3-p
(d) (c) + (LiAlH4) → CF3CH(OH)(CH2)nOCH2CHpF3-p
(e) (d) + (CH3CO)2O → CF3CH(OCOCH3)(CH2)nOCH2CHpF3-p
(f) (e) + (리파아제) → R-(+)-CF3C*H(OH)(CH2)nOCH2CHpF3-p+
S-(-)-CF3CH(OCOCH3)(CH2)nOCH2CHpF3-p
상기 반응을 간단히 설명하면, 다음과 같다.
(a) 는 알킬브로마이드와 염화 알킬옥사이드를 반응시켜 에테르 화합물을 조제하는 것이다.
(b) 는 그리냐드 (grignard) 시약의 조제이다.
(c) 는 그리냐드 시약과 트리플루오로아세트산의 반응에 따른 증탄 (增炭) 반응(carbon propagation reaction)이다.
(d) 는 케톤의 환원반응이다.
(e) 는 라세미알콜의 무수아세트산에 의한 아세틸화 반응이다.
(f) 는 광학 분리(optical resolution)를 위해 리파아제를 사용한 아세테이트의 가수분해반응이다.
본 발명에 있어서 반강유전성 액정 화합물은 본 발명자들에 의해 이미 제안된 (일본 공개특허공보 평3-292388) 방법에 따른 상기 광학 활성 알콜로부터 제조 가능하다.
제조 방법의 개략은 다음과 같다.
(1) AcO-Ph(X)-COOH + SOCl2→AcO-Ph(X)-COCl
(2) (1) + CF3C*H(OH)(CH2)nOCH2CHpF3-p
→ AcO-Ph(X)-COO-C*H(CF3)(CH2)nOCH2CHpF3-p
(3) (2) + (Ph-CH2NH2)
→ HO-Ph(X)-COO-C*H(CF3)(CH2)nOCH2CHpF3-p
(4) R-O-Ph-Ph-COOH + SOCl2→ R-O-Ph-Ph-COCl
(5) (3) + (4) → 목적 액정 화합물
(식 중, Ac는 아세틸 기, -Ph-는 1,4-페닐렌 기, -Ph(X)- 는 3위치에 불소치환 가능한 1,4-페닐렌 기, Ph-는 페닐기, C*는 부제 탄소를 나타낸다.)
상기의 제조법을 간단하게 설명하면 다음과 같다.
(1) 은 p-아세톡시 벤조산의 염화 티오닐에 의한 염소화 반응이다.
(2) 는 염화물 (1) 과 광학 활성 알콜간의 반응에 의한 에스테르의 생성이다.
(3) 은 에스테르 (2) 의 탈아세틸화이다.
(4) 는 4′-알킬옥시바이페닐-4- 카르복실산의 염소화반응이다.
(5) 는 페놀 (3) 과 염화물 (4) 와의 반응에 의한 액정 화합물의 제조이다.
(실시예)
하기의 실시예에 의하여 본 발명을 다시 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 물론 실시예에만 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
R-(+)-3-플루오로-4-(1-트리플루오로메틸-6-(2- 플루오로에톡시) 헥실옥시카르보닐)페닐=4-(4′-n-노닐옥시바이페닐)카르복실레이트 (E1)의 제조. [화학식 (1) : R=C9H19, n=5, p=2, X= F]
(1) 4-(4′-n-노닐옥시바이페닐)카르복실산의 제조
10g 의 4-(4′-하이드록시바이페닐)카르복실산과 14.0g 의 n-노닐브로마이드를 1500ml 의 에탄올 및 200ml 의 물의 혼합액에 첨가하고, 혼합액을 10시간 동안 환류하에서 반응시킨다. 이어서, 500ml 의 물을 반응액에 첨가한 후 3시간 동안 교반시킨다. 반응 종료후, 반응 혼합물을 진한 염산으로 산성화(酸性化)시키고, 용매 500ml를 증류 제거하여, 나머지를 실온까지 냉각시켜 백색의 고체를 얻는다.
상기 백색 고체는 충분히 수세한 후, 클로로포름으로 재결정하여 목적물을 백색 결정으로 14.0g 을 수득하였다.
(2) 4-아세톡시-2-플루오로벤조산의 제조
6g 의 4-하이드록시-2-플루오로벤조산과 8.2g 의 무수아세트산을 2구 플라스크에 넣고 혼합한다. 수냉하에서 혼합물에 황산 5방울을 첨가한다. 발열이 가라앉은 후, 혼합물을 80℃ 에서 30 분간 가열한다. 그리고 나서, 반응액을 냉수에 부은 후 침전되는 결정을 여과하여 회수한다. 결정을 진공 건조한 후, 다음 단계에서 사용한다. 수득된 양은 4.8g 이었다.
(3) R-(+)-4-아세톡시-2-플루오로-1-(1-트리플루오로메틸-6-(2-플루오로에톡시)-헥실옥시카르보닐) 벤젠의 제조
2.3g 의 4-아세톡시-2-플루오로벤조산에 10ml 의 염화티오닐을 첨가하고 혼합액을 5시간 동안 환류하에서 반응시킨다. 그리고 나서, 과량의 염화티오닐을 증류 제거한 후, 1ml의 피리딘, 4ml의 건조 에테르 및 1.9g 의 R-(+)-1,1,1,-트리플루오로-2-하이드록시-7-(2-플루오로에톡시)-헵탄을 적가한다. 적가가 끝난 후, 혼합물을 상온에서 24 시간 교반하고 200ml 의 에테르로 희석한 후, 유기층을 묽은 염산, 1N의 수산화 나트륨 수용액, 및 물의 순서로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조한다.
용매를 증류 제거한 후, 잔여물을 헥산/에틸아세테이트를 용매로 실리카겔 칼럼 크로마토그래피 정제를 해서 목적물을 1.3g 수득하였다.
(4) R-(+)-3-플루오로-1-하이드록시-4-(1-트리플루오로메틸-6-(2-플루오로에톡시)-헥실옥시카르보닐)벤젠의 제조
상기 (3) 에서 얻어진 화합물 1.0g 을 30ml의 에탄올에 녹이고, 3g 의 벤질아민을 적가한다. 이어서, 혼합물을 상온에서 24시간 교반한 후, 300ml 의 에테르로 희석하여, 묽은 염산, 물의 순서로 세정하고 황산 마그네슘으로 건조한다.
용매를 증류 제거한 후, 잔여물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제하여 0.6g 의 목적물을 수득하였다.
(5) 4-(4′-노닐옥시바이페닐) 염화카르복실산의 제조
상기 (1) 에서 얻어진 4-(4′-n-노닐옥시바이페닐) 카르복실산 10g 에 과량의 염화티오닐을 첨가한 후, 혼합물을 5시간 동안 환류시킨다. 과량의 염화티오닐을 증류 제거하여 조생성물(crude product)를 얻는다.
(6) R-(+)-3-플루오로-4-(1-트리플루오로메틸-6-(2-플루오로에톡시)-헥실옥시카르보닐)페닐=4-(4′-n-노닐옥시바이페닐)카르복실레이트의 제조
상기 (5) 에서 얻어진 0.7g 의 4-(4′-노닐옥시바이페닐) 염화카르복실산의 조생성물과 (4) 에서 얻어진 0.5g 의 페놀유도체를 25ml 의 톨루엔에 녹인 후, 3ml 의 피리딘을 첨가하여 혼합물을 24시간 동안 상온에서 교반한다. 반응 혼합물은 150ml 의 디클로로메탄으로 희석하여 1N 염산 수용액, 1N의 수산화나트륨 수용액과 물의 순서로 세정하여 무수 황산나트륨으로 건조시켜, 용매를 증류 제거한다.
얻어진 조생성물은 헥산/에틸아세테이트(= 9/1)를 용매로 실리카겔 칼럼 크로마토그래피로 정제하여 목적화합물로써 0.2g 액정 화합물을 수득하였다.
실시예 1에서 얻어진 화합물의 1H-NMR 데이터 및 그 식을 각각 하기의 (E1) 및 표 1에 나타내었다. 액정상의 동정은 텍스쳐(texture 관찰) 및 시차주사열량계 (DSC)로 확인하여 그 결과를 표 2에 제시하였다. 더 나아가 융점은 DSC로 측정하였다.
위 표 2에서 괄호 내의 값은 전이 온도(℃)를 나타내며, Cr 은 결정상, SCA*는 반강유전상, 및 I 는 등방상 (isotropic phase) 이다.
본 발명은 새로운 반강유전성 액정 화합물을 제공한다. 본 발명에 의해 제공되는 새로운 반강유전성 액정 화합물은 넓은 온도 영역에서 반강유전상을 가지고, 낮은 융점을 가지기 때문에 실질적인 액정 재료, 또는 액정조성물의 성분으로써 유용하게 쓰일 수 있다.

Claims (4)

  1. 하기 화학식 (1)로 표시되는 반강유전성 액정 화합물.
    (단, 식 중, R은 탄소수 6 내지 12의 직쇄 알킬기이고, X는 수소원자이거나, 불소 원자이며, n은 2 내지 7의 정수이며, p는 0 내지 2의 정수이고, C*는 부제 탄소 원자이다.)
  2. 제 1항에 있어서, 화학식 (1) 에서의 R은 탄소수가 9인 직쇄 알킬기인 것을 특징으로 하는 반강유전성 액정 화합물.
  3. 제 1항에 있어서, 화학식 (1) 에서의 n이 5인 것을 특징으로 하는 반강유전성 액정 화합물.
  4. 제 1항에 있어서, 화학식 (1) 에서의 p가 0 또는 2 인 것을 특징으로 하는 액정 화합물.
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