KR102663629B1 - 로프 세정 장치 - Google Patents

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KR102663629B1
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카토 미츠루
타나카 히로토모
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오티스 엘리베이터 컴파니
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Abstract

일 실시 예에 따라, 로프 세정 장치는 와이어 로프의 스트랜드들 사이의 그루브들과 맞물려 와이어 로프가 스크레이퍼 링을 통과할 때 그루브들로부터 이물질을 긁어 내기 위한 스크레이퍼 링, 와이어 로프가 와이퍼 링을 통과할 때 와이어 로프의 표면을 닦기 위해 스크레이퍼 링과 직렬로 위치된 와이퍼 링 및 스크레이퍼 링이 와이어 로프의 축을 중심으로 회전하는 것을 허용하는 회전 메커니즘을 포함한다.

Description

로프 세정 장치{ROPE CLEANING DEVICE}
본 발명은 일반적으로 엘리베이터 시스템에 사용되는 것과 같은 와이어 로프 또는 케이블을 세정하기 위한 장치에 관한 것이다.
엘리베이터 시스템(elevator system)들에서 통상적으로 사용되는 와이어 로프(wire rope)들 또는 케이블(cable)들은 통상적으로 코어(core) 둘레에 나선형으로(spirally) 감겨진 다수의 스트랜드(strand)들로 제조되며, 각각의 스트랜드는 다수의 개별 와이어들을 포함한다. 로프들은 올바르게 작동하기 위해 그리스(grease)에 의한 윤활(lubrication)이 필요하다. 작동 과정에서, 와이어 로프들은 그리스 및 와이어 로프들 자체에 부착되는 오염 물질들로 덮이게 된다. 오염 물질들은 본질적으로 외부 습기에 의해 생성되는 먼지, 흙 먼지 및 녹으로 구성된다. 안전상의 이유로, 와이어 로프들은 열화 및 가능한 작동 위험을 예방하기 위해 주기적으로 세정, 검사 및 윤활 되어야 한다.
와이어 로프들의 검사는 일반적으로 로프들의 표면의 와이어 파손 또는 마모 표시를 확인하고 로프 직경을 측정하는 것을 포함한다. 따라서, 와이어 로프의 표면이 선명하게 보일 정도로 검사 전에 와이어 로프들이 세정될 필요가 있다. 와이어 로프들은 일반적으로 넝마(rag)와 와이어 브러시를 사용하여 손으로 세정되어 왔다. 이러한 수동 세정은 노동 집약적이며 시간 소모적이며 세정 중에 와이어 로프가 보통 움직이기 때문에 위험할 수 있다.
직물 형 세정 장치들, 브러시 형 세정 장치들, 스크레이퍼 형 세정 장치들 또는 회전 형 세정 장치들과 같은 다양한 유형들의 비-수동 세정 장치가 당 업계에 공지되어있다. 그러나 로프 스트랜드들 사이의 그루브(groove)들과 로프들의 표면 모두를 효과적으로 세정하여, 와이어 로프가 사람의 손에 의한 추가적인 세정을 필요로 하지 않고 검사 준비가 되도록 하는 비-수동 세정 장치는 존재하지 않는다.
일 실시 예에 따르면, 로프 세정 장치는 와이어 로프(wire rope)의 스트랜드들(strands) 사이의 그루브들(grooves)과 맞물려 상기 와이어 로프가 스크레이퍼 링(scraper ring)을 통과할 때 상기 그루브들로부터 이물질(foreign material)을 긁어 내기 위한 상기 스크레이퍼 링, 상기 와이어 로프가 와이퍼 링(wiper ring)을 통과할 때 상기 와이어 로프의 표면을 닦기 위해 상기 스크레이퍼 링과 직렬로 위치된 와이퍼 링 및 상기 스크레이퍼 링이 상기 와이어 로프의 축을 중심으로 회전하는 것을 허용하는 회전 메커니즘(rotational mechanism)을 포함한다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 스크레이퍼 링이 상기 와이어 로프의 이동 방향에 대해 상기 와이퍼 링의 상류(upstream)에 위치되는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 스크레이퍼 링은 변형 가능한 수지 또는 경질 고무 재료를 포함하고 상기 와이어 로프의 상기 표면에 대해 상보적으로 형성된 내부 원주형 표면 상의 나선형 돌출부들 및 함몰부들을 갖는 중심 개구를 포함하고, 상기 스크레이퍼 링의 상기 돌출부들은 상기 와이어 로프의 그루브들과 맞물리는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 변형 가능한 수지 또는 경질 고무 재료는 폴리우레탄(polyurethane)인 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 와이퍼 링은 변형 가능한 수지 또는 경질 고무 재료를 포함하고 상기 와이어 로프의 직경보다 작은 직경(D1)을 갖는 중심 개구를 포함하는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 직경(D1)은 상기 와이어 로프 직경의 약 91 내지 96 퍼센트인 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 와이퍼 링이 상기 프레임에 대해 고정되는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 변형 가능한 수지 또는 경질 고무 재료는 폴리우레탄인 추가 실시 예들이 고려될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 스크레이퍼 링과 상기 와이퍼 링을 지지하는 프레임(frame)을 포함하고, 상기 프레임은 연결된 상부 플레이트와 하부 플레이트를 포함하는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트는 상기 스크레이퍼 링의 가이드 역할을 하는 볼트에 의해 연결되는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 회전 메커니즘은 플레이트의 상기 상부 표면 상의 저 마찰 테이프 및 상기 저 마찰 테이프와 접촉하여 위치된 저 마찰 재료의 얇은 시트를 포함하는 슬라이더 링을 포함하는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 저 마찰 테이프는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 테이프 또는 초 고 분자량 폴리에틸렌 테이프를 포함하고 상기 슬라이더 링은 폴리프로필렌을 포함하는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 회전 메커니즘은 볼 롤러(ball roller)를 포함하는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 이물질이 주변 환경으로 날아가는 것을 방지하는, 상기 스크레이퍼 링에 결합되는 커버를 포함하는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 와이퍼 링은 원통형이고 상기 와이어 로프 둘레에 위치되고 함께 볼트 체결된 반원통형 제1 브래킷(bracket)과 반원통형 제2 브래킷을 포함하고, 천(cloth)은 상기 와이어 로프와 상기 브래킷들 사이에 위치되어 상기 와이어 로프가 상기 와이퍼 링을 통과할 때 상기 천이 상기 와이어 로프를 문지르는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 와이퍼 링이 상기 스크레이퍼 링과 함께 회전되는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 천은 상기 브래킷들의 측면 단부들 사이로부터 바깥쪽으로 연장되고 상기 브래킷들에 의해 제 위치에 고정되는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 중 하나 이상에 추가적으로 또는 대안적으로, 상기 로프 세정 장치는 유지 보수 동안 상기 와이어 로프에 부착되는 추가 실시 예들이 포함될 수 있다.
전술한 특징들 및 요소들은 달리 명시되지 않는 한 배타성 없이 다양한 조합들로 결합될 수 있다. 이들 특징들 및 요소들뿐만 아니라 그 동작은 다음의 설명 및 첨부 도면들에 비추어보다 명확해질 것이다. 그러나, 이하의 설명 및 도면은 본질적으로 예시적이고 설명적이며 비 제한적인 것으로 의도된다.
본 개시의 상기 및 다른 특징들 및 장점들은 첨부된 도면들과 관련하여 취해진 다음의 상세한 설명으로부터 명백하며, 첨부된 도면들에서 동일한 구성 요소들은 여러 도면들에서 유사하게 넘버링 된다.
도 1은 본 발명의 로프 세정 장치가 사용될 수 있는 예시적인 엘리베이터 시스템의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 로프 세정 장치의 제1 실시 예의 사시도이다.
도 3은 도 2의 로프 세정 장치의 프레임의 상부 플레이트를 도시한다.
도 4는 도 2의 로프 세정 장치의 프레임의 하부 플레이트를 도시한다.
도 5는 도 2의 로프 세정 장치의 와이퍼 링을 도시한다.
도 6은 도 2의 로프 세정 장치의 스크레이퍼 링을 도시한다.
도 7은 도 2의 로프 세정 장치의 슬라이더 링을 도시한다.
도 8은 도 2의 로프 세정 장치의 커버를 도시한다.
도 9는 와이어 로프에 부착된 도 2의 로프 세정 장치의 종단면도이다.
도 10은 본 발명의 로프 세정 장치의 제2 실시 예의 사시도이다.
도 11은 와이어 로프에 부착된 본 발명의 로프 세정 장치의 제3 실시 예의 종단면도이다.
도 12는 도 11의 I-I을 따라 취해진 단면도이다.
도 1은 예시적인 엘리베이터 시스템(elevator system)(1)의 선택된 부분들을 개략적으로 도시한다. 엘리베이터 카(elevator car)(2)는 복수의 호이스팅 로프들(hoisting ropes)(4)에 의해 균형 추(counterweight)(3)에 연결된다. 로프들(4)은 트랙션 시브(traction sheave)(5)와 디플렉터 시브(deflector sheave)(6) 위로 연장된다. 트랙션 시브(5)는 기계실(7) 내에 위치될 수 있는 기계(도시되지 않음)에 의해 구동된다. 트랙션 시브(5)와 로프들(4) 사이의 견인력(traction)은 승강로(hoistway)(8)를 통해 카(2) 및 균형 추(3)를 수직으로 구동시킨다.
적어도 하나의 보상 로프(compensation rope)(10)가 호이스팅 로프들(4)의 중량을 보상하고 기계의 부하를 줄이기 위해 제공된다. 보상 로프(10)의 일 단부는 엘리베이터 카(2)의 저부에 연결되고, 보상 로프(10)의 타 단부는 균형 추(3)의 저부에 연결된다. 보상 로프(10)의 장력을 유지하기 위해, 보상 시브(11)는 승강로(8)의 하부에 매달려 있고, 예를 들어 중력의 영향하에 보상 로프(10)를 아래쪽으로 당긴다. 이 예에서, 보상 시브(11)는 프레임(frame)(12) 내에 위치된다.
조속기 장치(governor device)(14)는 엘리베이터 카(2)가 최대 속도를 초과하는 것을 방지한다. 조속기 장치(14)는 엘리베이터 카(2)와 함께 이동하는 조정기 로프(15)를 포함한다. 조속기 시브(governor sheave)(16) 및 장력 시브(tension sheave)(17)는 조속기 로프(15)에 의해 형성된 루프의 대향 단부들(opposite ends)에 위치된다. 이 예에서, 조속기 시브(16) 및 장력 시브(17)는 각각 프레임(18, 19) 내에 위치된다. 엘리베이터 시스템 구성 요소들의 구성은 다양한 측면에서 이 예와 다를 수 있다. 환언하면, 본 발 명은 예시적인 엘리베이터 시스템 구성 또는 예시의 특정 구성 요소에 반드시 제한되는 것은 아니다.
호이스팅 로프(4), 적어도 하나의 보상 로프(10) 및 조속기 로프(15)는 전형적으로 코어 둘레에 나선형으로 감겨진 다수의 스트랜드(strand)들로 제조된 와이어 로프들이며, 각각의 스트랜드는 다수의 개별 와이어들을 포함한다. 유지 보수 동안, 본 발명의 로프 세정 장치(20)는 로프들에 부착된 이물질(foreign material)을 제거하기 위해 와이어 로프들에 부착될 수 있다. 이러한 이물에는 슬러지, 그리스 및 먼지, 흙 먼지 및 녹과 같은 오염 물질들 또는 로프에 부착될 수 있는 기타 이물질이 포함될 수 있다.
유지 보수 도중 로프 세정 장치(20)가 와이어 로프들에 부착될 수 있는 예시적인 위치가 도 1에 도시되어 있다. 호이스팅 로프(4)를 위한 로프 세정 장치(20a)는 기계실(7)의 바닥(F)에 위치될 수 있다. 보상 로프(10)에 대한 로프 세정 장치(20b)는 보상 시브(11)의 프레임(12) 상에 배치될 수 있고, 조속기 로프(15) 용 로프 세정 장치(20c)는 기계실(7)의 바닥(F), 인장 시브(17)의 프레임(19) 또는 엘리베이터 카(2)로부터 연장된 플레이트(21) 상에 위치될 수 있다. 그러나, 로프 세정 장치(20)는 로프 세정 장치(20)가 고정식으로 지지될 수 있는 임의의 위치에서 와이어 로프들에 부착될 수 있고, 와이어 로프가 그것들을 통해 움직일 수 있게 할 수 있다. 유지 보수 동안, 와이어 로프들은 정상 작동 속도보다 느린 유지 보수 속도로 한 방향으로 로프 세정 장치(20)를 통해 이동된다.
도 2는 로프 세정 장치(20)의 제1 실시 예의 사시도이다. 로프 세정 장치(20)는 프레임(frame)(22), 와이퍼 링(wiper ring)(24), 스크레이퍼 링(scraper ring)(25), 슬라이더 링(slider ring)(26) 및 커버(cover)(27)를 포함한다. 부품들의 세부 사항이 도 3 내지 도 8에 도시되어 있다.
프레임(22)은 상부 플레이트(28) 및 하부 플레이트(29)를 포함한다. 도 3 및 도 4를 참조하면, 플레이트들(28, 29)은 모두 그 네 모서리들에 볼트 구멍들(31)을 갖는 직사각형 스틸 플레이트들(30)을 포함할 수 있다. 상기 플레이트들 모두는 로프 세정 장치(20)가 로프에 부착될 때 와이어 로프를 향하는 단부에 U-자형 노치(notch)(32)를 갖는다. 플레이트들(28, 29)은 볼트들(34)을 통해 조립되어 와이퍼 링(24) 및 스크레이퍼 링(25)을 지지하는 지지 구조(프레임 (22))를 형성한다. 상부 플레이트(28)의 상부 표면에는 저 마찰 테이프(low friction tape)(35)가 접착된다. 저 마찰 테이프(35)는 예를 들어, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 테이프 또는 초 고 분자량 폴리에틸렌 테이프를 포함할 수 있다. 저 마찰 테이프(35) 대신에 상부 플레이트(28)의 상부 표면 상에 PTFE 또는 퍼플루오로알콕시 알칸(PFA) 코팅과 같은 수지 코팅을 제공하여 저 마찰 표면을 제공하는 것도 가능하다.
도 5를 참조하면, 와이퍼 링(24)은 와이어 로프의 직경보다 작은 직경(D1)을 갖는 중심 개구(37)가 구비된 원통형 몸체(36)를 갖는다. 원통형 몸체(36)는, 예를 들어 폴리우레탄(polyurethane)과 같은 경질 고무(hard rubber) 재료 또는 변형 가능한 수지를 포함한다. 슬릿(slit)(38)은 와이퍼 링(24)의 외경으로부터 내경까지 연장되고 와이퍼 링(24)을 와이어 로프 둘레에 위치시킨 후에 슬릿(38)에 의해 분리된 와이퍼 링(24)의 단부들을 볼트 체결하기 위한 한 쌍의 볼트 구멍들(39)이 제공된다. 중심 개구(37)는 단순한 원형을 가질 수 있고 직경(D1)은 와이어 로프 직경의 약 91 내지 96 퍼센트일 수 있다.
도 6을 참조하면, 스크레이퍼 링(25)은 와이어 로프와 유사하게 내부 원주 표면 상에 나선형(helical) 돌출부들 및 함몰부들을 갖는 중심 개구(41)가 구비된 원통형 몸체(40)를 갖는다. 스크레이퍼 링(25)의 나선형 돌출부들 및 함몰부들은 와이어 로프의 외부 표면 상의 나선형 돌출부들 및 함몰부들에 상보적인 형상을 갖는다. 원통형 몸체(40)는 예를 들어 폴리우레탄과 같은 경질 고무 재료 또는 변형 가능한 수지를 포함한다. 스크레이퍼 링(25)은 외경으로부터 내경까지 연장되는 슬릿(42)과 와이어 로프 주위에 스크레이퍼 링 (25)을 위치시킨 후에 슬릿(42)에 의해 분리된 스크레이퍼 링(25)의 단부들을 볼트 체결하기 위한 한 쌍의 볼트 구멍들(43)을 갖는다.
도 7을 참조하면, 슬라이더 링(26)은 폴리프로필렌(polypropylene)과 같은 저 마찰 재료의 원형 시트(45)를 포함한다. 슬라이더 링(26)은 슬라이더 링(26)과 간섭하지 않고 와이어 로프가 통과할 수 있도록 와이어 로프 직경보다 약간 큰 직경(D2)을 갖는 중심 개구(46) 및 외경으로부터 내경으로 연장되는 슬릿(47)을 포함한다.
도 8을 참조하면, 커버(27)는, 예를 들어 경질 염화 비닐(unplasticized polyvinyl chloride)로 제조된 속이 빈(hollow) 원통형 몸체(48)를 갖는다. 커버(27)는 길일 방향으로 연장될 슬릿(49)과 고정 요소(fixing element)를 사용하지 않고 커버(27)가 스크레이퍼 링(25)에 끼워질 수 있도록 스크레이퍼 링(25)의 외경보다 약간 작은 내경(D3)을 포함한다.
도 9는 와이어 로프(WR)에 부착된 로프 세정 장치(20)의 종단면도이다. 프레임(22)은 예컨대 기계실(7)의 바닥(F) 및 와이어 로프(WR) 주위에 배치된다. 프레임(22)은 세정 중에 프레임(22)의 회전을 방지하기 위해 바닥(F)에 고정될 수 있다. 와이퍼 링(24) 및 스크레이퍼 링(25)은 프레임(22) 상에 지지된다. 와이퍼 링(24)은 와이어 로프(WR)에 끼워지고 프레임(22)의 하부 플레이트(29) 상에 배치된다. 와이퍼 링(24)은 슬릿(38)에 의해 분리된 와이퍼 링(24)의 단부들을 잡아 당겨 와이퍼 링(24)을 와이어 로프(WR) 둘레에 위치시킴으로써 와이어 로프(WR)에 끼워질 수 있다. 와이퍼 링(24)의 단부들은 함께 볼트 체결될 수 있다. 슬라이더 링(26)은 와이어 로프(WR)에 끼워지고 상부 플레이트(28) 상에 위치되어 상부 플레이트(28)에 접착된 저 마찰 테이프(35)에 접촉된다. 슬라이더 링(26)은 와이퍼 링(24)과 유사한 방식으로 와이어 로프(WR)에 끼워질 수 있다.
스크레이퍼 링(25)은 또한 와이퍼 링(24)과 유사한 방식으로 와이어 로프(WR)에 끼워지고, 그래서 내부 원주 표면 상의 돌출부(projection)들 및 함몰부(depression)들이 로프 표면 상의 상보적인 돌출부들 및 함몰부들과 매칭되고 슬라이더 링(26)의 상부에 배치된다. 스크레이퍼 링의 단부들이 함께 볼트 체결될 수 있다. 스크레이퍼 링(25)은 슬라이더 링(26)과 저 마찰 테이프(35) 사이의 낮은 마찰 접촉을 통해 회전할 수 있다. 커버(27)는 스크레이퍼 링(25) 상에 가압된다.
로프 세정 장치(20)가 와이어 로프(WR)에 부착된 후, 로프는 유지 속도로 D 방향으로, 즉 아래로 이동된다. 스크레이퍼 링(25)의 내부 원주 표면 상의 돌출부들은 와이어 로프(WR)의 스트랜드들 사이의 나선형 그루브들과 맞물려 상기 그루브들 내에서 슬러지 또는 그리스(G)를 긁어 낸다. 이는 스크레이퍼 링(25)이 와이어 로프 축을 중심으로 회전하게 한다. 커버(27)는 스크레이퍼 링(25)과 함께 회전하여 슬러지 또는 그리스(G)가 주변 환경으로 날아가는 것을 방지한다. 와이어 로프(WR)가 D 방향으로 더 진행함에 따라, 고정 와이퍼 링(24)은 로프(WR)의 표면 상의 잔류하는 슬러지 또는 그리스(G)를 닦아 낸다.
로프 세정 장치(20)의 프레임(22)의 볼트들(34)은 상부 플레이트(28) 및 하부 플레이트(29)를 연결하는 동시에, 스크레이퍼 링(25)의 가이드로서도 기능한다. 이러한 배치는 또한 로프가 로프 세정 장치(20)를 통해 이동하는 동안 와이어 로프(WR)의 흔들림을 방지한다.
호이스팅 로프(4), 적어도 하나의 보상 로프(10) 및 조속기 로프(15)에 대한 로프 세정 장치(20a, 20b, 20c)는 와이퍼 링(24), 스크레이퍼 링(25) 및 슬라이더 링(26)의 내경 치수를 제외하고 동일할 수 있다. 복수의 호이스팅 로프들(4)을 위한 로프 세정 장치(20a)는 하나의 호이스팅 로프(4)마다 설치될 수 있다. 그러나, 모든 호이스팅 로프(4)에 로프 세정 장치(20a)를 설치할 수도 있다.
도 10은 슬라이더 링(26) 및 저 마찰 테이프(35) 배열 대신에 스크레이퍼 링(25)의 회전을 허용하는 저 마찰 접촉이 볼 롤러들(ball rollers)(50)에 의해 제공되는 로프 세정 장치(120)의 제2 실시 예를 도시한다. 또한, 가이딩 부재들(guiding members)(51)은 스크레이퍼 링(25)을 가이드하기 위해 제공된다. 볼 롤러들(50)은 내마모성이 높다는 점에서 유리하다. 반면에, 슬라이더 링(26) 및 저 마찰 테이프(35)는 로프 세정 장치의 비용을 낮출 수 있는 구성을 제공한다.
도 11 및 도 12는 로프 세정 장치(220)의 제3 실시 예를 도시한다. 도 11은 로프 세정 장치(220)의 종단면도이고, 도 12는 도 11의 I-I을 따라 취한 로프 세정 장치(220)의 단면도이다. 로프 세정 장치(220)는 베이스 플레이트(base plate)(228), 슬라이더 링(226), 와이퍼(52), 스크레이퍼 링(225) 및 커버(227)를 포함한다. 베이스 플레이트(228)는 제1 실시 예의 상부 플레이트(28)와 동일할 수 있다. 저 마찰 테이프(35)와 유사한 저 마찰 테이프(235)가 베이스 플레이트(228)의 상부 표면에 부착된다. 슬라이더 링(226), 스크레이퍼 링(225) 및 커버(227)는 제1 실시 예의 슬라이더 링(26), 스크레이퍼 링(25) 및 커버(27)와 동일할 수 있다.
와이퍼(52)는 원통형이고, 각각 측면 단부들에 두 쌍의 볼트 구멍들(53)을 갖는 반원통형의 제1 브래킷(52a)과 반원통형의 제2 브래킷(52b)을 포함한다. 와이퍼(52)는 각 브래킷(52a, 52b) 상의 반 원형 리세스들에 의해 형성된 중심 개구(55)를 갖는다. 중심 개구(55)는 단순한 원형 형상 및 적어도 와이어 로프 직경만큼 큰 직경(D4)을 가질 수 있다. 와이퍼(52)는 적어도 하나의 천(cloth)(56)을 더 포함한다. 천(56)은 예를 들면 부직 재료(non-woven material), 펠트(felt) 또는 폐 천(waste cloth)일 수 있다.
베이스 플레이트(228)는 와이어 로프(WR) 주위에 배치되고, 예를 들어 기계실(7)의 바닥(F)에 볼트 체결될 수 있다. 슬라이더 링(226)은 와이어 로프(WR)에 끼워지고 베이스 플레이트(228) 상에 배치되어 베이스 플레이트(228)에 접착된 저 마찰 테이프(235)와 접촉한다. 제1 및 제2 브래킷들(52a, 52b)은 와이어 로프(WR) 주위에 배치되고 와이어 로프(WR) 주위에 배치되며 와이어 로프(WR)와 브래킷들(52a, 52b)의 리세스(recess) 사이에 끼워진 천(56)과 함께 볼트들(57)에 의해 서로 볼트 체결된다. 천(56)은 그 측면 단부들이 브래킷들(52a, 52b)의 측면 단부들 사이로부터 외측으로 연장되고 브래킷들(52a, 52b)에 의해 제 위치에 고정되도록 위치될 수 있다. 와이퍼(52)의 중심 개구(55)의 직경(D4) 및 천의(56)의 두께는 로프가 와이퍼(52)를 통해 이동될 때 천(56)이 와이어 로프(WR)를 문지르도록 선택된다.
와이퍼(52)는 슬라이더 링(235) 상에 배치되고 슬라이더 링(226)과 저 마찰 테이프(235) 사이의 저 마찰 접촉을 통해 회전하는 것이 허용된다. 스크레이퍼 링(225)은 그 내부 원주형 표면 상의 돌출부들 함몰부들이 와이어 로프 표면 상의 상보적인 돌출부들 및 함몰부들과 매칭되도록 로프에 끼워지고, 와이퍼(52)의 상부에 배치된다. 커버(227)는 스크레이퍼 링(225)에 가압된다.
로프 세정 장치(220)가 와이어 로프(WR)에 부착된 후, 로프는 유지 보수 속도로 D 방향으로 이동된다. 스크레이퍼 링(225)의 내부 원주 표면의 돌출부들은 와이어 로프(WR)의 스트랜드들 사이의 나선형 그루브들과 맞물려 그 그루브들 내에서 슬러지 또는 그리스(G)를 긁어 낸다. 이는 스크레이퍼 링(225)이 와이어 로프 축을 중심으로 회전하게 하고, 또한 와이퍼(52)의 상부 표면과 스크레이퍼 링(225)의 하부 표면 사이의 마찰 접촉을 통해 와이퍼(52)의 회전을 유발한다. 커버(227)는 스크레이퍼 링(225)과 함께 회전하여 슬러지 또는 그리스(G)가 주변 환경으로 날아가는 것을 방지한다. 와이어 로프(WR)가 D 방향으로 더 진행함에 따라, 와이어 로프(WR)의 표면 상의 잔류 슬러지 또는 그리스는 스크레이퍼 링(225)과 함께 와이어 로프 축을 중심으로 회전하는 와이퍼(52)의 천(56)에 의해 닦이게 된다.
본 발명의 로프 세정 장치는 와이어 로프의 스트랜드들 사이의 나선형 그루브들의 슬러지 또는 그리스가 폐기되며 또한 와이어 로프 표면에 부착된 슬러지 또는 그리스가 닦여지는 콤팩트한 2-단계 메커니즘을 제공하여 와이어 로프를 수동으로 청소할 시간이나 위험이 없이 또는 천 형, 브러시 형, 스크레이퍼 형 또는 회전 형 로프 세정 장치를 사용한 후 수동으로 와이어 로프를 세정할 필요 없이, 검사를 위한 깨끗한 와이어 로프를 제공한다.
여기에 사용된 용어는 특정 실시 예들만을 설명하기 위한 것이며 제한하려는 것은 아니다. 설명은 예시 및 설명의 목적으로 제공되었지만, 이는 개시된 형태의 실시 예에 한정적이거나 제한하려는 것은 아니다. 기술되지 않은 많은 수정, 변형, 변경, 대체 또는 동등한 구성이 본 개시의 범위를 벗어나지 않고 당업자에게 명백할 것이다. 또한, 다양한 실시 예들이 설명되었지만, 양태들은 설명된 실시 예들 중 일부만을 포함할 수 있음을 이해해야 한다. 따라서, 본 개시는 전술한 설명에 의해 제한되는 것으로 이해되어서는 안되며, 첨부된 청구항들의 범위에 의해서만 제한된다.

Claims (18)

  1. 로프 세정 장치에 있어서,
    와이어 로프(wire rope)의 스트랜드들(strands) 사이의 그루브들(grooves)과 맞물려 상기 와이어 로프가 스크레이퍼 링(scraper ring)을 통과할 때 상기 그루브들로부터 이물질(foreign material)을 긁어 내기 위한 상기 스크레이퍼 링;
    상기 와이어 로프가 와이퍼 링(wiper ring)을 통과할 때 상기 와이어 로프의 표면을 닦기 위해 상기 스크레이퍼 링과 직렬로 위치된 상기 와이퍼 링;
    상기 스크레이퍼 링이 상기 와이어 로프의 축을 중심으로 회전하는 것을 허용하는 회전 메커니즘(rotational mechanism) 및;
    상기 스크레이퍼링과 와이퍼링을 지지하고 상부플레이트와 하부플레이트로 구성되어 있는 프레임을 포함하고,
    상기 회전 메커니즘은 스크레이퍼링과 상부 플레이트 또는 하부 플레이트의 사이에 있는 볼 롤러를 포함하는, 로프 세정 장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 스크레이퍼 링은 상기 와이어 로프의 이동 방향에 대해 상기 와이퍼 링의 상류(upstream)에 위치되는, 로프 세정 장치.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 스크레이퍼 링은 변형 가능한 수지 또는 경질 고무 재료를 포함하고 상기 와이어 로프의 상기 표면에 대해 상보적으로 형성된 내부 원주형 표면 상의 나선형 돌출부들 및 함몰부들을 갖는 중심 개구를 포함하고, 상기 스크레이퍼 링의 상기 돌출부들은 상기 와이어 로프의 그루브들과 맞물리는, 로프 세정 장치.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 변형 가능한 수지 또는 경질 고무 재료는 폴리우레탄(polyurethane)인, 로프 세정 장치.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 와이퍼 링은 변형 가능한 수지 또는 경질 고무 재료를 포함하고 상기 와이어 로프의 직경보다 작은 직경(D1)을 갖는 중심 개구를 포함하는, 로프 세정 장치.
  6. 청구항 5에 있어서, 상기 직경(D1)은 상기 와이어 로프 직경의 91 내지 96 퍼센트인, 로프 세정 장치.
  7. 청구항 5에 있어서, 상기 변형 가능한 수지 또는 경질 고무 재료는 폴리우레탄인, 로프 세정 장치.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 스크레이퍼 링과 상기 와이퍼 링을 지지하는 프레임(frame)을 더 포함하고, 상기 프레임은 연결된 상부 플레이트와 하부 플레이트를 포함하는, 로프 세정 장치.
  9. 청구항 8에 있어서, 상기 와이퍼 링은 상기 프레임에 대해 고정된, 로프 세정 장치.
  10. 청구항 8에 있어서, 상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트는 상기 스크레이퍼 링의 가이드 역할을 하는 볼트에 의해 연결되는, 로프 세정 장치.
  11. 로프 세정 장치에 있어서,
    와이어 로프(wire rope)의 스트랜드들(strands) 사이의 그루브들(grooves)과 맞물려 상기 와이어 로프가 스크레이퍼 링(scraper ring)을 통과할 때 상기 그루브들로부터 이물질(foreign material)을 긁어 내기 위한 상기 스크레이퍼 링;
    상기 와이어 로프가 와이퍼 링(wiper ring)을 통과할 때 상기 와이어 로프의 표면을 닦기 위해 상기 스크레이퍼 링과 직렬로 위치된 상기 와이퍼 링; 및
    상기 스크레이퍼 링이 상기 와이어 로프의 축을 중심으로 회전하는 것을 허용하는 회전 메커니즘(rotational mechanism)을 포함하고,
    상기 회전 메커니즘은 플레이트의 상부 표면 상의 저 마찰 테이프 및 상기 저 마찰 테이프와 접촉하여 위치된 저 마찰 재료의 얇은 시트를 포함하는 슬라이더 링을 포함하는, 로프 세정 장치.
  12. 청구항 11에 있어서, 상기 저 마찰 테이프는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 테이프 또는 초 고 분자량 폴리에틸렌 테이프를 포함하고 상기 슬라이더 링은 폴리프로필렌을 포함하는, 로프 세정 장치.
  13. 삭제
  14. 청구항 1에 있어서, 상기 이물질이 주변 환경으로 날아가는 것을 방지하는, 상기 스크레이퍼 링에 결합되는 커버를 더 포함하는, 로프 세정 장치.
  15. 로프 세정 장치에 있어서,
    와이어 로프(wire rope)의 스트랜드들(strands) 사이의 그루브들(grooves)과 맞물려 상기 와이어 로프가 스크레이퍼 링(scraper ring)을 통과할 때 상기 그루브들로부터 이물질(foreign material)을 긁어 내기 위한 상기 스크레이퍼 링;
    상기 와이어 로프가 와이퍼 링(wiper ring)을 통과할 때 상기 와이어 로프의 표면을 닦기 위해 상기 스크레이퍼 링과 직렬로 위치된 상기 와이퍼 링; 및
    상기 스크레이퍼 링이 상기 와이어 로프의 축을 중심으로 회전하는 것을 허용하는 회전 메커니즘(rotational mechanism)을 포함하고,
    상기 와이퍼 링은 원통형이고 상기 와이어 로프 둘레에 위치되어 함께 볼트 체결된 반원통형 제1 브래킷(bracket)과 반원통형 제2 브래킷을 포함하고, 상기 와이퍼링은 상기 와이퍼링의 상부 표면과 상기 스크레이퍼 링의 하부 표면 사이의 마찰접촉에 의해 상기 스크레이퍼링과 함께 회전하며, 천(cloth)은 상기 와이어 로프와 상기 브래킷들 사이에 위치되어 상기 와이어 로프가 상기 와이퍼 링을 통과할 때 상기 천이 상기 와이어 로프를 문지르는, 로프 세정 장치.
  16. 삭제
  17. 청구항 15에 있어서, 상기 천은 상기 브래킷들의 측면 단부들 사이로부터 바깥쪽으로 연장되며 상기 브래킷들에 의해 제 위치에 고정되는, 로프 세정 장치.
  18. 청구항 1에 있어서, 상기 로프 세정 장치는 유지 보수 동안 상기 와이어 로프에 부착되는, 로프 세정 장치.
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