KR100588970B1 - 크린룸용 호이스트장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 미세 먼지나 세균 등에도 민감하여 극히 청결한 작업환경이 요구되는 초정밀 반도체 전자제품 및 그 장비 등의 작업공간인 크린룸(clean room) 내에서 설치사용 가능한 호이스트 장치에 관한 것이다.
즉, 호이스트 장치(A)를 구성함에 있어서, 일측 구동모터(110)에 의해 회전 구동되고, 반대측에는 구동제어용 기어 브레이크장치(120)가 구비되며, 일정량의 와이어(10)가 규칙적으로 감기는 드럼(100)과; 상기 드럼(100)에서 아래로 느려 뜨려진 와이어 끝단이 용이하게 거치될 수 있도록 하는 2개의 와이어 거치용 휠(210)이 구비되고, 그 아래측에는 중량물을 직접 걸림시키는 고리형의 훅크(220)가 구비되어 상기 그 와이어(10)의 움직임에 따라서 상,하 리프팅이동 할 수 있도록 하는 훅크장치(200)와; 양측 지지판(600)에 2개 이상 고정/설치되고, 상단 트라밸링(traveling) 모터(310)의 동력을 전달받아 회전 구동되는 주행휠(300)과; 양측 지지판(600)에 하나이상 설치되고, 마찰의 의한 자유 회전운동을 하여 상기 주행휠(300)에서 발생되는 분진을 흡착 포집하는 분진 포집용 휠(400)과; 양측 지지판(600)에 하나이상 설치되고, 호이스트 장치의 직진성을 유지시켜주는 가이드 휠(500)이 각각 구성된다.
크린룸, 호이스트장치, 드럼, 주행 휠, 와이어
Description
도 1은 본 발명에서 제시된 호이스트장치의 설치상태를 나타낸 사시도
도 2은 본 발명에서 제시하는 호이스트장치를 확대 한 평면 사시도
도 3은 본 발명에서 제시하는 호이스트장치의 저면에서 위를 바라본 확대 사시도
도 4는 본 발명에서 제시하는 호이스트장치의 정면도
도 5는 본 발명에서 제시하는 호이스트장치의 평면도
* 도면의 주요부분에 사용된 부호의 설명 *
A:호이스트 장치 10:와이어
100:드럼 101:이물받이
110:구동모터 120:브레이크장치
200:훅크장치 210:와이어 거치용 휠
211:밀폐형 커버 220:훅크
300:주행휠 310:트라밸링 모터
400:분진 포집용 휠 500:가이드 휠
600:지지판
본 발명은 크린룸용 호이스트 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세히는 초정밀 반도체 전자제품 및 그 장비 등과 같이 극히 청결한 작업환경이 요구되는 작업장인 크린룸(clean room) 내에 설치사용 가능한 크린룸용 호이스트 장치에 관한 것이다.
통상 크린룸(clean room)은 미세한 먼지나 세균 등에도 커다란 영향을 가져올 수 있는 초정밀 반도체 제품, 기타 전자제품 및 이와 관련된 장비 등을 취급하는 극히 청결화된 환경의 작업장을 말하며, 크린룸(clean room)용 크레인(crane)은 이러한 환경이 요구하는 청결도 유지조건에 부합하는 크린룸 내에서 설치 사용될 수 있는 크레인 이송장비를 가리킨다.
그런데 통상의 호이스트 장치는 장시간 사용하다보면 각 부위에 부식이 발생되거나 부품간 마찰로 인한 분진발생 등으로 인해 초정밀 제품 및 장비 등에 손상을 유발시키는 등 미세 먼지도 허용되지 않는 청결 크린룸 내에서는 사용이 부적절한 상태이다.
즉, 종래의 호이스트 장치는 그 본체 및 주요 부품들이 주물 가공품으로 되어 있어 장시간 사용할 경우 부식이 발생함은 물론 부품간 마찰시에도 분진이 발생하고,
또, 드럼과 마찰되는 철재 아연도금 로프의 도금 벗겨짐 및 부식발생 그리고 드럼과 점접촉/마찰에 따른 마모로 인해 분진이 발생하고,
또, 그리스(윤활제) 도포로 인해 취급자의 의류 오염 및 그리스 낙하시 주변바닥환경오염 등이 발생되며,
또, 가이드 레일(프레임)을 따라 이동하는 주행용 휠(wheel)과 그 가이드레일(프레임)간 마찰시 마모현상으로 인해 분진이 발생하는 등 크린룸의 환경을 오염시키는 원인이 아주 많다.
이러한 문제점은 미세한 먼지에도 민감한 최첨단 전자제품 및 그 장비 생산시 불량의 원인이 되기도 함은 물론 제품의 질을 저하시키기도 하는 등 문제점이 많아 반도체 장비의 국제적 경쟁력을 고려하더라도 크린룸 전용 호이스트 장치의 개발이 시급히 요구되고 있는 실정이다.
이에 본 발명에서는 상기와 같은 제반 문제점을 일소하기 위해 창안한 것으로서, 호이스트 작동시 크린룸 내에 발생될 수 있는 오염원(분진발생, 오염물 발생 등)이 근본적으로 방지될 수 있도록 부식, 마찰, 마모현상 의 최소화를 도모함은 물론 이미 발생된 오염원에 대해서는 즉시 제거하는 등 호이스트 설치로 인한 크린룸의 오염을 최소화 할 수 있는 크린룸 전용 호이스트 장치를 제공함에 주안점을 두고 그 기술적 과제로서 완성하였다.
위 기술적 과제를 달성하기 위하여 본원에서는 첨부된 각 도면에 의거하여 상세히 설명하면 하기와 같다.
본 발명의 호이스트 장치(A)는, 도 1에서 도시된 바와 같이 일측 구동모터(110)에 의해 회전 구동되고, 반대측에는 구동제어용 기어 브레이크장치(120)가 구비되며, 일정량의 와이어(10)가 규칙적으로 감기는 드럼(100)과;
상기 드럼(100)에서 아래로 느려 뜨려진 와이어 끝단이 용이하게 거치될 수 있도록 하는 2개의 와이어 거치용 휠(210)이 구비되고, 그 아래측에는 중량물을 직접 걸림시키는 고리형의 훅크(220)가 구비되어 상기 그 와이어(10)의 움직임에 따라서 상,하 리프팅이동 할 수 있도록 하는 훅크장치(200)와;
양측 지지판(600)에 2개 이상 고정/설치되고, 상단 트라밸링(traveling) 모터(310)의 동력을 전달받아 회전 구동되는 주행휠(300)과;
양측 지지판(600)에 하나이상 설치되고, 마찰의 의한 자유 회전운동을 하여 상기 주행휠(300)에서 발생되는 분진을 흡착 포집하는 분진 포집용 휠(400)과;
양측 지지판(600)에 하나이상 설치되고, 호이스트 장치의 직진성을 유지시켜주는 가이드 휠(500)이 각각 구성된다.
상기한 구성 중 드럼(100)은 마찰 및 부식에 따른 분진발생의 억제를 위해 스테인레스 재질(SUS)을 사용함과 동시에 그 드럼의 표면을 EP(일렉트로리틱 폴리싱, Electrolytic Polishing)처리하여 마찰 개수를 최소화하여 로프(10)간 접촉에 따른 마모로 인한 분진발생을 최소화하고,
또, 상기 드럼(100)에 권취되는 와이어(10) 또한 마찰 및 부식에 따른 분진발생의 억제를 위해 스테인레스 재질(SUS)을 사용함과 동시에 외측이 평면인 여러 가닥의 금속심(스테인레스심)을 결집시켜 만들어진 와이어를 사용하여 점접촉으로 많은 분진을 유발했던 종래와는 달리 면접촉이 이루어지게 하며,
또, 상기 주행용 휠(300)과 분진 포집용 휠(400), 가이드 휠(500)의 재질을 우레탄 또는 MC 나일론을 사용해 부식을 억제함과 동시에 소음방지는 물론 마찰개수의 최소화를 도모해 분진발생의 최대한 억제하고,
또, 상기 드럼(100)의 하측에 이물받이(101)를 별도 설치하고, 상기 훅크장치(200)의 와이어거치용휠(210)의 외측에는 밀폐형 커버(211)를 각각 구비시켜 발생된 이물(분진 등)에 대하여 완벽히 포집할 수 있도록 하고,
또 상기 양측 지지판(600)은 대전방지용 페인트를 도포하여 정진기로 인한 취급 제품의 결함을 방지하며,
또, 상기 트라밸링 모터(310) 그리고 드럼구동모터(110)를 완전밀폐형 모터 를 사용해 분지발생을 근본적으로 방지함과 동시에 브러시를 사용하지 않는 모터를 사용해 브러시로 인한 정전기발생을 억제하였다.
이와 같이 호이스트 장치(A)를 구성시키면, 미세 분진, 먼지 등을 근본적으로 억제 및 예방될 수 있기 때문에 크림룸에서 요구하는 수준 높은 청결도를 유지할 수 있게 되었다.
이상에서 상세히 살펴본 바와 같은 본 발명의 크린룸용 호이스트 장치는 최고수준의 청결도가 요구되는 크린룸 내에서 호이스트 사용에 따른 오염원(분진, 먼지 등)의 발생을 최소화할 수 있음으로 그 크림룸에서 생산 및 취급되는 제품 불량율의 저하는 물론 고품질을 유지시켜 양질의 제품생산에 일조할 수 있는 등 그 기대되는 바가 실로 다대한 발명이다.
Claims (2)
- 호이스트 장치(A)를 구성함에 있어서,일측 구동모터(110)에 의해 회전 구동되고, 반대측에는 구동제어용 기어 브레이크장치(120)가 구비되며, 일정량의 와이어(10)가 규칙적으로 감기는 드럼(100)과;상기 드럼(100)에서 아래로 느려 뜨려진 와이어 끝단이 용이하게 거치될 수 있도록 하는 2개의 와이어 거치용 휠(210)이 구비되고, 그 아래측에는 중량물을 직접 걸림시키는 고리형의 훅크(220)가 구비되어 상기 그 와이어(10)의 움직임에 따라서 상,하 리프팅이동 할 수 있도록 하는 훅크장치(200)와;양측 지지판(600)에 2개 이상 고정/설치되고, 상단 트라밸링(traveling) 모터(310)의 동력을 전달받아 회전 구동되는 주행휠(300)과;양측 지지판(600)에 하나이상 설치되고, 마찰의 의한 자유 회전운동을 하여 상기 주행휠(300)에서 발생되는 분진을 흡착 포집하는 분진 포집용 휠(400)과;양측 지지판(600)에 하나이상 설치되고, 호이스트 장치의 직진성을 유지시켜주는 가이드 휠(500)이 각각 구성되어 지는 것을 특징으로 한 크린룸용 호이스트 장치.
- 제 1항에 있어서,상기한 구성 중 드럼(100)은 마찰 및 부식에 따른 분진발생의 억제를 위해 스테인레스 재질(SUS)을 사용함과 동시에 그 드럼의 표면을 EP(일렉트로리틱 폴리싱, Electrolytic Polishing)처리하여 마찰 개수를 최소화하여 로프(10)간 접촉에 따른 마모로 인한 분진발생을 최소화하고,상기 와이어(10) 또한 마찰 및 부식에 따른 분진발생의 억제를 위해 스테인레스 재질(SUS)을 사용함과 동시에 외측이 평면인 여러 가닥의 금속심(스테인레스심)을 결집시킨 면접촉형 와이어를 사용하며,상기 주행용 휠(300)과 분진 포집용 휠(400), 가이드 휠(500)의 재질을 우레탄 또는 MC 나일론을 사용해 부식을 억제함과 동시에 소음방지는 물론 마찰개수의 최소화를 도모해 분진발생의 최대한 억제하고,상기 드럼(100)의 하측에 이물받이(101)를 별도 설치하고, 상기 훅크장치(200)의 와이어거치용휠(210)의 외측에는 밀폐형 커버(211)를 각각 구비시켜 발생된 이물(분진 등)에 대하여 완벽히 포집할 수 있도록 하고,상기 양측 지지판(600)은 대전방지용 페인트를 도포하여 정진기로 인한 취급 제품의 결함을 방지하며,상기 트라밸링 모터(310) 그리고 드럼구동모터(110)를 완전밀폐형 모터를 사용해 분지발생을 근본적으로 방지함과 동시에 브러시를 사용하지 않는 모터를 사용한 것을 특징으로 한 크린룸용 호이스트 장치.
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