KR102445277B1 - 광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 물품의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 1 아민 화합물(A1)과, 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는 제 1 다이올 화합물(B1)과, 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)의 반응 생성물인 프리폴리머, 및 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)을 포함하고, 상기 제 1 아민 화합물(A1)이, 폴리에터아민 및 방향족 아민으로부터 선택되는 적어도 하나이고, 상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)이, 2개의 머캅토기를 갖는 다이싸이올 화합물(d1) 및 3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)를 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.

Description

광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 물품의 제조 방법
본 발명은 광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 물품의 제조 방법에 관한 것이다.
플라스틱 렌즈는 무기 렌즈에 비해 경량이고 깨지기 어려우며, 염색이 가능하기 때문에, 근년, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료로서 급속히 보급되고 있다.
광학 재료로서 이용되는 소재는 예로부터 유리가 주였지만, 근년에는 광학 재료용의 플라스틱이 여러 가지 개발되어, 유리의 대체로서 이용이 확장되고 있다. 안경 렌즈 등의 광학 재료로서도, 우수한 광학 특성을 갖고, 경량이고 깨지지 않으며, 성형성도 우수하기 때문에, 아크릴 수지, 지방족 카보네이트 수지, 폴리카보네이트, 폴리유레테인 등의 플라스틱 재료가 주로 이용되게 되고 있다.
그 중에서도 폴리유레테인 함유 재료는, 굴절률 등의 광학적 특성 및 내충격성 등의 기계적 특성이 양호하기 때문에, 광학 재료를 제조하기 위한 유용한 폴리머로서 개발되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 및 특허문헌 2).
특허문헌 1에서는, 폴리아이소사이아네이트, 아미노기를 포함하지 않는 폴리올, 폴리올 및/또는 폴리싸이올, 및 아미노 알코올을 반응시켜 폴리유레테인 요소 함유 조성물을 제조하는 방법이 제안되어 있다. 특허문헌 1에서는, 아미노 알코올을 이용하는 것에 의해, 아이소사이아네이트의 반응을 온화하게 함과 함께, 얻어지는 최종 생성물에 원하는 물리학적 성질을 부여하고 있다.
특허문헌 2에서는, 특정한 제1급 아민 말단 폴리에터, 지방족 폴리아이소사이아네이트, 폴리올 및 방향족 다이아민을 일단계 프로세스로 반응시켜 내충격성 폴리유레테인 폴리머를 제조하기 위한 경제성이 우수한 방법이 제안되어 있다.
일본 특허공표 2017-502119호 공보 일본 특허공표 2016-507626호 공보
내충격성 등의 기계적 특성이 우수한 싸이오유레테인 유레아 수지를 제조하기 위해서 폴리에터아민 등의 아민을 이용한 경우, 재료를 일단계 프로세스로 반응시키면, 아이소사이아네이트와의 반응성이 높아, 균일한 프리폴리머 용액이 얻어지지 않고, 프리폴리머가 석출되며, 그 결과, 투명한 싸이오유레테인 유레아 수지가 얻어지지 않는 경우가 있었다.
본 발명자들은, 제조법을 조정하는 것에 의해, 프리폴리머의 석출을 방지하여, 투명하고 내충격성이 우수한 싸이오유레테인 유레아 수지가 얻어지는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 이하로 나타낼 수 있다.
[1] 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 1 아민 화합물(A1)과, 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는 제 1 다이올 화합물(B1)과, 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)의 반응 생성물인 프리폴리머,
제 1 폴리싸이올 화합물(D1), 및
촉매를 포함하고,
상기 제 1 아민 화합물(A1)이, 폴리에터아민 및 방향족 아민으로부터 선택되는 적어도 하나이고,
상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)이, 2개의 머캅토기를 갖는 다이싸이올 화합물(d1) 및 3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)를 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
[2] 상기 폴리에터아민이, 식(1)로 표시되는 폴리에터아민 및 식(2)로 표시되는 폴리에터아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는, [1]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
Figure 112020088580050-pct00001
(식(1) 중, R3∼R5는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. p는 0∼49의 정수를 나타내고, q는 0∼65의 정수를 나타내고, r은 1∼50의 정수를 나타내고, p+r은 1∼99의 정수를 만족시킨다. 복수 존재하는 R4끼리 또는 R5끼리는 동일해도 상이해도 된다.)
Figure 112020088580050-pct00002
(식(2) 중, R6, R8, R9는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R7은 탄소수 1∼20의 직쇄 알킬기, 탄소수 3∼20의 분기 알킬기 또는 탄소수 3∼20의 환상 알킬기를 나타낸다. x+y+z는 1∼50의 정수를 나타낸다. n은 0∼10의 정수를 나타낸다. 복수 존재하는 R6끼리, R8끼리 또는 R9끼리는 각각 동일해도 상이해도 된다.).
[3] 상기 폴리에터아민이, 230을 초과하는 중량 평균 분자량을 갖는, [2]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[4] 상기 방향족 아민이, 3,5-다이에틸톨루엔-2,4-다이아민 및 3,5-다이에틸톨루엔-2,6-다이아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인, [1]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[5] 제 2 다이올 화합물(B2)를 추가로 포함하는 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[6] 400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 2 아민 화합물(A2)를 추가로 포함하는, [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[7] 400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 2 아민 화합물(A2) 및 제 2 다이올 화합물(B2)를 추가로 포함하는, [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[8] 상기 제 1 다이올 화합물(B1)이, 지방족 직쇄 다이올을 포함하는, [1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[9] 상기 제 1 다이올 화합물(B1)이, 1mPa·s 이상 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는, [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[10] 상기 제 2 다이올 화합물(B2)가, 100mPa·s 이상의 점도(25℃)를 갖는, [5] 또는 [7]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[11] 상기 촉매가, 다이메틸주석 클로라이드, 다이뷰틸주석 클로라이드 및 다이뷰틸주석 다이라우레이트로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는, [1]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[12] 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 1 아민 화합물(A1)과 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는 제 1 다이올 화합물(B1)을 혼합하여, 제 1 혼합물을 얻는 제 1 공정으로서, 상기 제 1 아민 화합물(A1)이 폴리에터아민 및 방향족 아민으로부터 선택되는 적어도 하나인 제 1 공정과,
상기 제 1 혼합물과 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)를 혼합하여, 프리폴리머를 얻는 제 2 공정과,
상기 프리폴리머와 촉매를 혼합하고, 이어서 2개의 머캅토기를 갖는 다이싸이올 화합물(d1) 및 3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)를 포함하는 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가하고 이들을 혼합하는 제 3 공정을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[13] 상기 폴리에터아민이, 식(1)로 표시되는 폴리에터아민 및 식(2)로 표시되는 폴리에터아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는, [12]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
Figure 112020088580050-pct00003
(식(1) 중, R3∼R5는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. p는 0∼49의 정수를 나타내고, q는 0∼65의 정수를 나타내고, r은 1∼50의 정수를 나타내고, p+r은 1∼99의 정수를 만족시킨다. 복수 존재하는 R4끼리 또는 R5끼리는 동일해도 상이해도 된다.)
Figure 112020088580050-pct00004
(식(2) 중, R6, R8, R9는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R7은 탄소수 1∼20의 직쇄 알킬기, 탄소수 3∼20의 분기 알킬기 또는 탄소수 3∼20의 환상 알킬기를 나타낸다. x+y+z는 1∼50의 정수를 나타낸다. n은 0∼10의 정수를 나타낸다. 복수 존재하는 R6끼리, R8끼리 또는 R9끼리는 각각 동일해도 상이해도 된다.).
[14] 상기 폴리에터아민이, 230을 초과하는 중량 평균 분자량을 갖는, [13]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[15] 상기 방향족 아민이, 3,5-다이에틸톨루엔-2,4-다이아민 및 3,5-다이에틸톨루엔-2,6-다이아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인, [12]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[16] 상기 제 3 공정이, 상기 프리폴리머와 상기 촉매를 혼합하고, 이어서 상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가하고 이들을 혼합한 후, 제 2 다이올 화합물(B2)를 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함하는 [12]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[17] 상기 제 3 공정이, 상기 프리폴리머와 상기 촉매를 혼합하고, 이어서 400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 2 아민 화합물(A2) 및 상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함하는 [12]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[18] 상기 제 3 공정이, 상기 프리폴리머와 상기 촉매를 혼합하고, 이어서 상기 제 2 아민 화합물(A2), 상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1) 및 제 2 다이올 화합물(B2)를 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함하는, [12]∼[15] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[19] 상기 제 1 다이올 화합물(B1)이, 지방족 직쇄 다이올을 포함하는, [12]∼[18] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[20] 상기 제 1 다이올 화합물(B1)이, 1mPa·s 이상 100mPa·s 미만의 점도(25℃)를 갖는, [12]∼[19] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[21] 상기 제 2 다이올 화합물(B2)가, 100mPa·s 이상의 점도(25℃)를 갖는, [16] 또는 [18]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[22] [1]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을, 주형(注型) 중합법에 의해 중합 경화하여 광학 물품을 얻는 공정을 포함하는 광학 물품의 제조 방법.
[23] [12]∼[21] 중 어느 하나에 기재된 방법에 의해 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정과,
상기 광학 재료용 중합성 조성물을, 주형 중합법에 의해 중합 경화하여 광학 재료를 얻는 공정을 포함하는 광학 재료의 제조 방법.
본 발명에 의하면, 프리폴리머의 석출을 방지하여, 투명하고 내충격성이 우수한 싸이오유레테인 유레아 수지를 제조하기 위해서 이용되는 중합성 수지 조성물, 및 이 중합성 조성물을 제조하기 위한 방법이 제공된다.
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물 및 그의 제조 방법을 이하의 실시의 형태에 기초하여 설명한다.
(광학 재료용 중합성 조성물)
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물(이하, 「중합성 조성물」이라고도 칭함)은, 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 1 아민 화합물(A1)과, 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는 제 1 다이올 화합물(B1)과, 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)의 반응 생성물인 프리폴리머,
제 1 폴리싸이올 화합물(D1), 및
촉매를 포함하고,
제 1 아민 화합물(A1)이, 폴리에터아민 및 방향족 아민으로부터 선택되는 적어도 하나이고,
상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)이, 2개의 머캅토기를 갖는 다이싸이올 화합물(d1) 및 3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)를 포함한다.
본 실시형태의 중합성 조성물에 이용되는 프리폴리머는, 제 1 아민 화합물(A1)과, 제 1 다이올 화합물(B1)과, 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)를 반응시켜 얻어지는 반응 생성물이다.
본 실시형태의 중합성 조성물에 이용되는 아민 화합물(A1)은, 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖고, 폴리에터아민 및 방향족 아민으로부터 선택되는 적어도 1종이다. 이와 같은 아민 화합물(A1)을 이용하는 것에 의해, 얻어지는 중합성 조성물의 경화물이 개선된 내충격성을 갖는다.
일 실시형태에 있어서, 아민 화합물(A1)로서 이용되는 폴리에터아민은, 이하의 식(1)로 표시되는 폴리에터아민 및 식(2)로 표시되는 폴리에터아민으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함한다.
Figure 112020088580050-pct00005
식(1)에 있어서, R3∼R5는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. p는 0∼49의 정수를 나타내고, q는 0∼65의 정수를 나타내고, r은 1∼50의 정수를 나타내고, p+r은 1∼99의 정수를 만족시킨다. 복수 존재하는 R4끼리 또는 R5끼리는 동일해도 상이해도 된다.
Figure 112020088580050-pct00006
식(2) 중, R6, R8, R9는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R7은 탄소수 1∼20의 직쇄 알킬기, 탄소수 3∼20의 분기 알킬기 또는 탄소수 3∼20의 환상 알킬기를 나타낸다. x+y+z는 1∼50의 정수를 나타낸다. n은 0∼10의 정수를 나타낸다. 복수 존재하는 R6끼리, R8끼리 또는 R9끼리는 각각 동일해도 상이해도 된다.
여기에서, R7로 표시되는 탄소수 1∼20의 직쇄 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-뷰틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, n-옥틸기, 노닐기, 데실기, 도데실기 등을, 탄소수 3∼20의 분기상의 알킬기로서는, 아이소프로필기, 아이소뷰틸기, t-뷰틸기, 아이소펜틸기, 아이소옥틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, 아이소데실기 등을, 탄소수 3∼20의 환상의 알킬기로서는, 사이클로프로필기, 사이클로뷰틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기 등을 들 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 식(1)로 표시되는 폴리에터아민으로서, 식(1a)로 표시되는 화합물이 이용된다.
Figure 112020088580050-pct00007
식(1a)에 있어서, R3, R5 및 r은 각각 화학식(1)의 R3, R5 및 r과 동일한 의미이다.
아민 화합물(A1)의 중량 평균 분자량은 4000 미만이고, 바람직하게는 3000 이하이고, 보다 바람직하게는 2000 이하이고, 보다 바람직하게는 1000 이하이고, 더 바람직하게는 800 이하이며, 보다 더 바람직하게는 600 이하이다.
일 실시형태에 있어서, 아민 화합물(A1)로서 이용되는 방향족 아민은, 아미노기가 직접 방향환에 결합되어 있는 1급 아민 또는 2급 아민을 말한다. 방향족 아민으로서는, 예를 들면, 3,5-다이에틸톨루엔-2,4-다이아민 또는 3,5-다이에틸톨루엔-2,6-다이아민을 사용할 수 있다.
아민 화합물(A1)로서 전술한 폴리에터아민을 이용하는 경우, 이 폴리에터아민의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 230을 초과하고, 보다 바람직하게는 250 이상이고, 더 바람직하게는 280 이상이며, 특히 바람직하게는 300 이상이다. 이와 같은 중량 평균 분자량을 갖는 폴리에터아민을 이용하는 것에 의해, 이 아민 화합물(A1)로부터 얻어지는 프리폴리머를 포함하는 중합성 조성물을 경화하여 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지는 우수한 내충격성을 갖는다.
제 1 아민 화합물(A1)과 후술하는 제 2 아민 화합물(A2)는 동일해도 상이해도 되지만, 상이한 아민 화합물인 것이 바람직하다.
본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물에 이용되는 다이올 화합물(B1)은, 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖고, 바람직하게는 1mPa·s 이상 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는다. 다이올 화합물(B1)은, 바람직하게는 분자량이 50∼350의 범위인 것이 바람직하다. 이와 같은 다이올 화합물(B1)로서는, 프로필렌 글라이콜, 다이프로필렌 글라이콜, 트라이프로필렌 글라이콜, 에틸렌 글라이콜, 다이에틸렌 글라이콜, 트라이에틸렌 글라이콜, 폴리올 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되지 않는다.
본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물에 이용되는 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)로서는, 지방족 폴리아이소사이아네이트 화합물, 지환족 폴리아이소사이아네이트 화합물, 방향족 폴리아이소사이아네이트 화합물, 헤테로환 폴리아이소사이아네이트 화합물 등을 이용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)로서, 펜타메틸렌 다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 2,2,4-트라이메틸헥세인 다이아이소사이아네이트, 2,4,4-트라이메틸헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 라이신 다이아이소사이아네이토메틸 에스터, 라이신 트라이아이소사이아네이트, m-자일릴렌 다이아이소사이아네이트, p-자일렌 다이아이소사이아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 비스(아이소사이아네이토메틸)나프탈린, 메시틸렌 트라이아이소사이아네이트, 비스(아이소사이아네이토메틸)설파이드, 비스(아이소사이아네이토에틸)설파이드, 비스(아이소사이아네이토메틸)다이설파이드, 비스(아이소사이아네이토에틸)다이설파이드, 비스(아이소사이아네이토메틸싸이오)메테인, 비스(아이소사이아네이토에틸싸이오)메테인, 비스(아이소사이아네이토에틸싸이오)에테인, 비스(아이소사이아네이토메틸싸이오)에테인 등의 지방족 폴리아이소사이아네이트 화합물;
아이소포론 다이아이소사이아네이트, 비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 다이사이클로헥실메테인-4,4'-다이아이소사이아네이트, 사이클로헥세인 다이아이소사이아네이트, 메틸사이클로헥세인 다이아이소사이아네이트, 다이사이클로헥실다이메틸메테인 아이소사이아네이트, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 3,8-비스(아이소사이아네이토메틸)트라이사이클로데케인, 3,9-비스(아이소사이아네이토메틸)트라이사이클로데케인, 4,8-비스(아이소사이아네이토메틸)트라이사이클로데케인, 4,9-비스(아이소사이아네이토메틸)트라이사이클로데케인 등의 지환족 폴리아이소사이아네이트 화합물;
페닐렌 다이아이소사이아네이트, 2,4-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 2,6-톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 4,4'-다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 다이페닐설파이드-4,4-다이아이소사이아네이트 등의 방향족 폴리아이소사이아네이트 화합물;
2,5-다이아이소사이아네이토싸이오펜, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)싸이오펜, 2,5-다이아이소사이아네이토테트라하이드로싸이오펜, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)테트라하이드로싸이오펜, 3,4-비스(아이소사이아네이토메틸)테트라하이드로싸이오펜, 2,5-다이아이소사이아네이토-1,4-다이싸이에인, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)-1,4-다이싸이에인, 4,5-다이아이소사이아네이토-1,3-다이싸이올레인, 4,5-비스(아이소사이아네이토메틸)-1,3-다이싸이올레인 등의 헤테로환 폴리아이소사이아네이트 화합물을 이용할 수 있다.
그 중에서도, 바람직하게는, 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트, 펜타메틸렌 다이아이소사이아네이트, m-자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 다이사이클로헥실메테인-4,4'-다이아이소사이아네이트, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인, 톨릴렌 다이아이소사이아네이트, 페닐렌 다이아이소사이아네이트 및 4,4'-다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트로부터 선택되는 적어도 1종을 이용할 수 있다.
더 바람직하게는, m-자일릴렌 다이아이소사이아네이트, 비스(아이소사이아네이토메틸)사이클로헥세인, 다이사이클로헥실메테인-4,4'-다이아이소사이아네이트, 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인 및 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)바이사이클로-[2.2.1]-헵테인으로부터 선택되는 적어도 1종을 이용할 수 있다.
본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물에 이용되는 폴리싸이올 화합물(D1)은, 2개의 머캅토기를 갖는 다이싸이올 화합물(d1) 및 3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)를 포함한다.
다이싸이올 화합물(d1)로서는, 예를 들면, 메테인다이싸이올, 1,2-에테인다이싸이올, 1,2-사이클로헥세인다이싸이올, 비스(2-머캅토에틸) 에터, 다이에틸렌 글라이콜 비스(2-머캅토아세테이트), 다이에틸렌 글라이콜 비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌 글라이콜 비스(2-머캅토아세테이트), 에틸렌 글라이콜 비스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토메틸)설파이드, 비스(머캅토메틸)다이설파이드, 비스(머캅토에틸)설파이드, 비스(머캅토에틸)다이설파이드, 비스(머캅토프로필)설파이드, 비스(머캅토메틸싸이오)메테인, 비스(2-머캅토에틸싸이오)메테인, 비스(3-머캅토프로필싸이오)메테인, 1,2-비스(머캅토메틸싸이오)에테인, 1,2-비스(2-머캅토에틸싸이오)에테인, 1,2-비스(3-머캅토프로필싸이오)에테인, 2,5-다이머캅토메틸-1,4-다이싸이에인, 2,5-다이머캅토-1,4-다이싸이에인, 2,5-다이머캅토메틸-2,5-다이메틸-1,4-다이싸이에인, 및 이들의 싸이오글라이콜산 및 머캅토프로피온산의 에스터;
비스(2-머캅토에틸)설파이드, 하이드록시메틸설파이드 비스(2-머캅토아세테이트), 하이드록시메틸설파이드 비스(3-머캅토프로피오네이트), 하이드록시에틸설파이드 비스(2-머캅토아세테이트), 하이드록시에틸설파이드 비스(3-머캅토프로피오네이트), 하이드록시메틸다이설파이드 비스(2-머캅토아세테이트), 하이드록시메틸다이설파이드 비스(3-머캅토프로피오네이트), 하이드록시에틸다이설파이드 비스(2-머캅토아세테이트), 하이드록시에틸다이설파이드 비스(3-머캅토프로피오네이트), 2-머캅토에틸 에터 비스(2-머캅토아세테이트), 2-머캅토에틸 에터 비스(3-머캅토프로피오네이트), 싸이오다이글라이콜산 비스(2-머캅토에틸 에스터), 싸이오다이프로피온산 비스(2-머캅토에틸 에스터), 다이싸이오다이글라이콜산 비스(2-머캅토에틸 에스터), 다이싸이오다이프로피온산 비스(2-머캅토에틸 에스터), 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인 등의 지방족 폴리싸이올 화합물;
1,2-다이머캅토벤젠, 1,3-다이머캅토벤젠, 1,4-다이머캅토벤젠, 1,2-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토에틸)벤젠, 2,5-톨루엔다이싸이올, 3,4-톨루엔다이싸이올, 1,5-나프탈렌다이싸이올, 2,6-나프탈렌다이싸이올 등의 방향족 폴리싸이올 화합물;
2-메틸아미노-4,6-다이싸이올-sym-트라이아진, 3,4-싸이오펜다이싸이올, 비스뮤싸이올, 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인, 2-(2,2-비스(머캅토메틸싸이오)에틸)-1,3-다이싸이에테인 등의 헤테로환 폴리싸이올 화합물; 등을 들 수 있다.
다이싸이올 화합물(d1)로서, 이것을 포함하는 중합성 조성물을 경화하여 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지의 광학적 특성의 관점에서, 바람직하게는, 2,5-다이머캅토메틸-1,4-다이싸이에인, 에틸렌 글라이콜 비스(3-머캅토프로피오네이트), 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인, 2-(2,2-비스(머캅토메틸싸이오)에틸)-1,3-다이싸이에테인 및 비스(2-머캅토에틸)설파이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 이용된다.
그 중에서도, 2,5-다이머캅토메틸-1,4-다이싸이에인, 에틸렌 글라이콜 비스(3-머캅토프로피오네이트), 4,6-비스(머캅토메틸싸이오)-1,3-다이싸이에인 및 비스(2-머캅토에틸)설파이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 특히 바람직하게 이용된다.
3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)로서는, 예를 들면, 1,2,3-프로페인트라이싸이올, 테트라키스(머캅토메틸)메테인, 트라이메틸올프로페인 트리스(2-머캅토아세테이트), 트라이메틸올프로페인 트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트라이메틸올에테인 트리스(2-머캅토아세테이트), 트라이메틸올에테인 트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 1,2,3-트리스(머캅토메틸싸이오)프로페인, 1,2,3-트리스(2-머캅토에틸싸이오)프로페인, 1,2,3-트리스(3-머캅토프로필싸이오)프로페인, 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 테트라키스(머캅토메틸싸이오메틸)메테인, 테트라키스(2-머캅토에틸싸이오메틸)메테인, 테트라키스(3-머캅토프로필싸이오메틸)메테인, 비스(2,3-다이머캅토프로필)설파이드, 및 이들의 싸이오글라이콜산 및 머캅토프로피온산의 에스터;
1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸싸이오)프로페인, 1,1,2,2-테트라키스(머캅토메틸싸이오)에테인, 트리스(머캅토메틸싸이오)메테인, 트리스(머캅토에틸싸이오)메테인 등의 지방족 폴리싸이올 화합물;
1,3,5-트라이머캅토벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토에틸렌옥시)벤젠 등의 방향족 폴리싸이올 화합물;
2,4,6-트라이머캅토-s-트라이아진, 2,4,6-트라이머캅토-1,3,5-트라이아진 등의 헤테로환 폴리싸이올 화합물; 등을 들 수 있다.
폴리싸이올 화합물(d2)로서, 이것을 포함하는 중합성 조성물을 경화하여 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지의 광학적 특성의 관점에서, 바람직하게는, 트라이메틸올프로페인 트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸싸이오)프로페인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 이용된다.
그 중에서도, 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인, 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인, 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인 및 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 바람직하게 이용된다.
일 실시형태에 있어서, 중합성 수지 조성물은, 상기 프리폴리머와 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)에 더하여, 제 2 다이올(B2)를 포함한다.
제 2 다이올 화합물(B2)는 전술한 제 1 다이올(B1)과 동일해도 되고, 상이해도 된다. 바람직하게는, 제 2 다이올 화합물은, 100mPa·s 이상의 점도(25℃)를 갖고, 보다 바람직하게는, 100mPa·s보다 크고 30000mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는다. 제 2 다이올 화합물(B2)는 분자량이 100∼3000의 범위인 것이 바람직하다. 이와 같은 다이올 화합물(B2)로서는, 폴리에틸렌 글라이콜, 사이클로뷰테인다이올, 사이클로펜테인다이올, 사이클로헥세인다이올, 사이클로헵테인다이올, 사이클로옥테인다이올, 하이드록시프로필사이클로헥산올, 트라이사이클로[5.2.1.0(2,6)]데케인-다이메탄올, 바이사이클로[4.3.0]-노네인다이올, 다이사이클로헥세인다이올, 트라이사이클로[5.3.1.1]도데케인다이올, 바이사이클로[4.3.0]노네인다이메탄올, 트라이사이클로[5.3.1.1]도데케인다이에탄올, 하이드록시프로필트라이사이클로[5.3.1.1]도데칸올, 스파이로[3.4]옥테인다이올, 뷰틸사이클로헥세인다이올, 1,1'-바이사이클로헥실리덴다이올, 다이하이드록시벤젠, 비스페놀 F, 테트라브로모비스페놀 A, 테트라브로모비스페놀 A-비스-(2-하이드록시에틸 에터), 폴리프로필렌 글라이콜, 1,4-사이클로헥세인다이메탄올, 트라이사이클로데케인다이메탄올, 알코올 에톡실레이트, 폴리카프로락톤다이올, 에톡시화 비스페놀 A;
비스-[4-(하이드록시에톡시)페닐]설파이드, 비스-[4-(2-하이드록시프로폭시)페닐]설파이드, 비스-[4-(2,3-다이하이드록시프로폭시)페닐]설파이드, 비스-[4-(4-하이드록시사이클로헥실옥시)페닐]설파이드, 비스-[2-메틸-4-(하이드록시에톡시)-6-뷰틸페닐]설파이드 및 이들 화합물에 수산기당 평균 3분자 이하의 에틸렌 옥사이드 및/또는 프로필렌 옥사이드가 부가된 화합물; 및
다이-(2-하이드록시에틸)설파이드, 1,2-비스-(2-하이드록시에틸머캅토)에테인, 비스(2-하이드록시에틸)다이설파이드, 1,4-다이싸이에인-2,5-다이올, 비스(2,3-다이하이드록시프로필)설파이드, 테트라키스(4-하이드록시-2-싸이아뷰틸)메테인, 비스(4-하이드록시페닐)설폰(비스페놀 S), 테트라브로모비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 S, 4,4'-싸이오비스(6-tert-뷰틸-3-메틸페놀), 1,3-비스(2-하이드록시에틸싸이오에틸)-사이클로헥세인 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되지 않는다.
전술한 제 2 다이올(B2)를 이용하는 것에 의해, 이것을 포함하는 중합성 조성물을 경화하여 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지는, 낮은 haze를 가짐과 함께, 우수한 내열성을 갖는다.
일 실시형태에 있어서, 중합성 수지 조성물은, 상기 프리폴리머와 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)에 더하여, 제 2 아민 화합물(A2)를 포함한다. 여기에서 제 2 아민 화합물(A2)는 400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 것이 바람직하다. 제 2 아민 화합물(A2)는 제 1 아민 화합물(A1)과 동일해도 상이해도 되지만, 상이한 아민 화합물인 것이 바람직하고, 중량 평균 분자량이 400 이상 4000 미만인 것이 바람직하고, 600 이상 2000 이하인 것이 더 바람직하다. 이와 같은 아민 화합물(A2)로서는, 폴리에터아민 화합물이 바람직하고, 구체적으로는 (프로필렌 글라이콜) 비스(2-아미노프로필 에터), (에틸렌 글라이콜) 비스(2-아미노프로필 에터), (프로필렌 글라이콜) 트리스(2-아미노프로필 에터), (에틸렌 글라이콜) 트리스(2-아미노프로필 에터) 등을 들 수 있고, 시판품으로서는 Jeffamine D 시리즈, Jeffamine ED 시리즈, Jeffamine T 시리즈(HUNTSMAN사제) 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되지 않는다. 제 2 아민 화합물(A2)를 이용하는 것에 의해, 얻어지는 중합성 조성물의 점도(25℃)나 포트 라이프를 조정할 수 있다. 또한, 제 2 아민 화합물(A2)를 이용하는 것에 의해, 이것을 포함하는 중합성 조성물을 경화하여 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지의 광학 물성, 내충격성, 비중 등의 여러 물성을 목적의 용도에 따라서 조정할 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 중합성 수지 조성물은, 상기 프리폴리머와 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)에 더하여, 제 2 아민 화합물(A2)와 제 2 다이올 화합물(B2)를 포함한다. 제 2 아민 화합물(A2) 및 제 2 다이올 화합물(B2)를 이용하는 것에 의해, 얻어지는 중합성 조성물의 점도(25℃)나 포트 라이프를 조정할 수 있다. 또한, 이들을 이용하는 것에 의해, 중합성 조성물을 경화하여 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지의, 광학 물성, 내충격성, 비중 등의 여러 특성을 목적의 용도에 따라서 조정할 수 있다.
본 실시형태의 중합성 조성물은, 상기 성분에 더하여, 중합 촉매를 포함하는 것이 바람직하다. 이용되는 중합 촉매로서는, 다이메틸주석 클로라이드, 다이뷰틸주석 클로라이드, 다이뷰틸주석 다이라우레이트 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되지 않는다. 촉매의 배합량은, 중합성 조성물 100중량부에 대해서, 0.005중량부∼0.5중량부가 바람직하고, 0.005중량부∼0.3중량부가 보다 바람직하다.
본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 당해 조성물이 적용되는 용도에서 요망되는 특성에 따라서, 내부 이형제, 수지 개질제, 광안정제, 블루잉제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 착색 방지제, 염료, 포토크로믹 색소 등의 첨가제를 포함해도 된다.
(중합성 조성물의 제조 방법)
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법을 이하의 실시의 형태에 기초하여 설명한다.
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법은,
4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 1 아민 화합물(A1)과 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는 제 1 다이올 화합물(B1)을 혼합하여, 제 1 혼합물을 얻는 제 1 공정과,
상기 제 1 혼합물과 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)를 혼합하여, 프리폴리머를 얻는 제 2 공정과,
상기 프리폴리머와 촉매를 혼합하고, 이어서 2개의 머캅토기를 갖는 다이싸이올 화합물(d1) 및 3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)를 포함하는 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가하고 이들을 혼합하는 제 3 공정을 포함한다. 여기에서, 제 1 아민 화합물(A1)은 폴리에터아민 및 방향족 아민으로부터 선택되는 적어도 1종이다.
본 실시형태의 중합성 조성물의 제조에 이용되는 아민 화합물(A1), 다이올 화합물(B1) 및 폴리아이소사이아네이트 화합물(C), 및 폴리싸이올 화합물(D1)은 전술한 대로이다.
본 실시형태의 중합성 조성물의 제조에 있어서, 제 1 공정에서 제작되는 아민 화합물(A1)과 다이올 화합물(B1)의 혼합물이, 제 2 공정에 있어서, 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)와의 반응에 제공된다. 당해 공정을 채용하는 것에 의해, 상기 반응에 의해 생기는 프리폴리머가 반응 용액 중에 석출됨이 없이, 프리폴리머가 균일하게 용해된 프리폴리머 용액이 얻어진다. 이에 의해, 계속되는, 폴리싸이올 화합물(D1)과의 반응에 의해 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지는, 원하는 광학 특성을 갖는다.
아민 화합물(A1)로서 전술한 폴리에터아민을 이용하는 것에 의해, 본 실시형태의 제 2 공정에 있어서, 프리폴리머의 석출이 없고, 또한 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지는 우수한 내충격성을 갖는다.
제 1 아민 화합물(A1)과 후술하는 제 2 아민 화합물(A2)는 동일해도 상이해도 되지만, 상이한 아민 화합물인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 400 미만인 아민 화합물을 이용하는 경우는, 균일한 프리폴리머를 얻기 위해서, 제 1 아민 화합물(A1)로서, 제 1 공정에서 첨가하는 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 400 이상 4000 미만인 아민 화합물은, 제 1 아민 화합물(A1)로서 제 1 공정에서 첨가해도, 제 2 아민 화합물(A2)로서 제 3 공정에서 첨가해도 된다.
본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조에 이용되는 다이올 화합물(B1)은, 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖고, 바람직하게는 1mPa·s 이상 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는다. 다이올 화합물(B1)은, 바람직하게는 분자량이 50∼350의 범위인 것이 바람직하다. 이와 같은 다이올 화합물(B1)을 이용하는 것에 의해, 제 2 공정에 있어서의 아민 화합물(A1)과 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)의 반응이 온화하게 진행되어, 균일한 프리폴리머 용액이 생성될 수 있다.
본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법의 제 3 공정에서는, 촉매를 이용해도 된다. 이용되는 촉매로서는, 다이메틸주석 클로라이드, 다이뷰틸주석 클로라이드, 다이뷰틸주석 다이라우레이트 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되지 않는다.
일 실시형태에 있어서, 상기 제 3 공정은, 추가로 제 2 다이올(B2)를 첨가하는 공정을 포함해도 된다. 환언하면, 상기 제 3 공정은, 제 2 공정에서 얻어진 프리폴리머와 촉매를 혼합하고, 이어서 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가한 후, 제 2 다이올 화합물(B2)를 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함할 수 있다.
제 2 다이올 화합물(B2)는, 상기와 같이 제 1 다이올(B1)과 동일해도 되고, 상이해도 된다.
전술한 제 2 다이올(B2)를 이용하는 것에 의해, 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지는, 낮은 haze를 가짐과 함께, 우수한 내열성을 갖는다.
일 실시형태에 있어서, 상기 제 3 공정은, 제 2 공정에서 얻어진 프리폴리머와 촉매를 혼합하고, 이어서 제 2 아민 화합물(A2) 및 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함해도 된다. 여기에서 제 2 아민 화합물(A2)는, 400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 것이 바람직하다. 제 2 아민 화합물(A2)는, 제 1 아민 화합물(A1)과 동일해도 상이해도 되지만, 상이한 아민 화합물인 것이 바람직하다. 제 2 아민 화합물(A2)는, 폴리싸이올 화합물(D1)과 동시에 또는 별개로 프리폴리머에 첨가되지만, 바람직하게는, 제 2 아민 화합물(A2)는, 폴리싸이올 화합물(D1)의 첨가 전에, 프리폴리머에 첨가되는 것이 바람직하다. 제 2 아민 화합물(A2)를 이용하는 것에 의해, 얻어지는 중합성 조성물의 점도(25℃)나 포트 라이프를 조정할 수 있다. 또한, 제 2 아민 화합물(A2)를 이용하는 것에 의해, 중합성 조성물을 경화하여 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지의 광학 물성, 내충격성, 비중 등의 여러 물성을 목적의 용도에 따라서 조정할 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 상기 제 3 공정은, 제 2 공정에서 얻어진 프리폴리머와 촉매를 혼합하고, 이어서 제 2 아민 화합물(A2), 폴리싸이올 화합물(D1) 및 제 2 다이올 화합물(B2)를 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함해도 된다. 제 2 아민 화합물(A2), 폴리싸이올 화합물(D1) 및 제 2 다이올 화합물(B2)의 첨가는 동시여도 별개여도 되지만, 바람직하게는, 프리폴리머에 우선 제 2 아민 화합물(A2)를 첨가하고, 이어서 폴리싸이올 화합물(D1) 및 제 2 다이올 화합물(B2)를 첨가하는 것이 바람직하다. 이와 같이 제 2 아민 화합물(A2), 제 2 다이올 화합물(B2)를 이용하는 것에 의해, 얻어지는 중합성 조성물의 점도(25℃)나 포트 라이프를 조정할 수 있다. 또한, 이들을 이용하는 것에 의해, 중합성 조성물을 경화하여 얻어지는 싸이오유레테인 유레아 수지의, 광학 물성, 내충격성, 비중 등의 여러 특성을 목적의 용도에 따라서 조정할 수 있다.
<용도>
본 실시형태의 중합성 조성물은, 광학 물품의 제조에 이용할 수 있다. 상세하게는, 상기의 방법에 의해 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정과, 얻어진 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 중합법에 의해 중합 경화하여 광학 물품을 얻는 공정에 의해, 광학 물품을 제조할 수 있다. 여기에서, 광학 물품으로서는, 플라스틱 안경 렌즈, 고글, 시력 교정용 안경 렌즈, 촬상 기기용 렌즈, 액정 프로젝터용 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 콘택트 렌즈 등의 각종 플라스틱 렌즈, 발광 다이오드(LED)용 봉지재, 광도파로, 광학 렌즈나 광도파로의 접합에 이용하는 광학용 접착제, 광학 렌즈 등에 이용하는 반사 방지막, 액정 표시 장치 부재(기판, 도광판, 필름, 시트 등)에 이용하는 투명성 코팅, 또는 차의 프론트 유리나 바이크의 헬멧에 첩부하는 시트나 필름, 투명성 기판 등을 들 수 있다.
본 실시형태에 있어서, 예를 들어, 광학 물품의 제조 방법은, 예를 들면 이하의 공정을 포함한다.
공정 a1: 본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물을 주형(鑄型) 내에 주형(注型)한다.
공정 b1: 상기 광학 재료용 중합성 조성물을 가열하고, 해당 조성물을 중합 경화하여 경화물(싸이오유레테인 유레아 수지 성형체)을 얻는다.
공정 a1에 있어서, 먼저, 개스킷 또는 테이프 등으로 유지된 성형 몰드(주형) 내에 중합성 조성물을 주입한다. 이때, 얻어지는 광학 물품에 요구되는 물성에 따라서는, 필요에 따라서, 감압하에서의 탈포 처리나 가압, 감압 등의 여과 처리 등을 행하는 것이 바람직한 경우가 많다.
공정 b1에 있어서, 주형 중합이 실시된다. 몰드에 대해서는, 중합성 조성물의 조성, 촉매의 종류와 사용량, 몰드의 형상 등에 따라 조건이 크게 상이하기 때문에 한정되는 것은 아니지만, 대략 -50∼150℃의 온도에서 1∼50시간에 걸쳐 행해진다. 경우에 따라서는, 10∼150℃의 온도 범위에서 유지 또는 서서히 승온하여, 1∼25시간에 경화시키는 것이 바람직하다.
본 실시형태의 싸이오유레테인 유레아 수지로 이루어지는 광학 물품은, 필요에 따라서, 어닐링 등의 처리를 행해도 된다. 처리 온도는 통상 50∼150℃ 사이에서 행해지지만, 90∼140℃에서 행하는 것이 바람직하고, 100∼130℃에서 행하는 것이 보다 바람직하다.
본 실시형태의 방법에 의해 얻어지는 광학 물품은, 예를 들면 안경 렌즈용의 렌즈 기재로서 사용할 수 있다. 이 렌즈 기재에는, 필요에 따라서, 편면 또는 양면에 코팅층을 입혀도 된다. 코팅층으로서는, 하드 코팅층, 반사 방지층, 방담 코팅막층, 방오염층, 발수층, 프라이머층, 포토크로믹층 등을 들 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 이용할 수도 복수의 코팅층을 다층화하여 사용할 수도 있다. 양면에 코팅층을 입히는 경우, 각각의 면에 마찬가지인 코팅층을 입혀도, 상이한 코팅층을 입혀도 된다.
본 실시형태의 광학 물품을 안경 렌즈용의 렌즈 기재에 적용하는 경우, 본 실시형태의 중합성 조성물을 경화시켜 얻어지는 광학 물품(렌즈 기재)의 적어도 한쪽 면 상에, 하드 코팅층 및/또는 반사 방지 코팅층을 형성한다.
본 실시형태의 광학 물품은 또한, 플라스틱 편광 렌즈의 렌즈 기재로서 사용할 수 있다. 플라스틱 편광 렌즈는, 편광 필름의 양면에, 미리 제조한 렌즈 기재를 첩합(貼合)하는 방법, 또는 편광 필름의 양면에 중합성 조성물을 주형 중합하는 방법에 의해 제조된다. 이하에, 주형 중합에 의한 플라스틱 편광 렌즈의 제조 방법을 설명한다.
주형 중합에 의한 플라스틱 편광 렌즈의 제조 방법은 이하의 공정을 포함한다.
공정 a2: 렌즈 주형(注型)용 주형(鑄型) 내에, 편광 필름의 적어도 한쪽 면이 몰드로부터 이격된 상태로, 해당 편광 필름을 고정한다.
공정 b2: 상기 편광 필름과 상기 몰드 사이의 공극에, 본 실시형태의 중합성 조성물을 주입한다.
공정 c2: 상기 중합성 조성물을 가열하여, 해당 조성물을 중합 경화해서, 상기 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 본 실시형태의 중합성 조성물의 경화물로 이루어지는 기재층을 적층한다.
공정 a2에 있어서, 렌즈 주형용 주형의 공간 내에, 열가소성 폴리에스터 등으로 이루어지는 편광 필름을, 필름면의 적어도 한쪽이 대향하는 몰드 내면과 병행이 되도록 설치한다. 편광 필름과 몰드 사이에는, 공극부가 형성된다. 편광 필름은 미리 부형(附形)되어 있어도 된다.
계속되는 공정 b2에 있어서, 렌즈 주형용 주형의 공간 내에 있어서, 몰드와 편광 필름 사이의 공극부에, 소정의 주입 수단에 의해 본 실시형태의 광학 재료용 중합성 조성물을 주입한다.
계속되는 공정 c2에 있어서, 광학 재료용 중합성 조성물이 주입된 편광 필름이 고정된 렌즈 주형용 주형을 오븐 중 또는 수중 등의 가열 가능 장치 내에서 소정의 온도 프로그램으로 수 시간 내지 수십 시간에 걸쳐 가열하여 경화 성형한다.
중합 경화의 온도는, 중합성 조성물의 조성, 촉매의 종류, 몰드의 형상 등에 따라 조건이 상이하기 때문에 한정할 수 없지만, 0∼140℃의 온도에서 1∼48시간에 걸쳐 행해진다.
경화 성형 종료 후, 렌즈 주형용 주형으로부터 취출함으로써, 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 본 실시형태의 중합성 조성물의 경화물로 이루어지는 층이 적층된, 플라스틱 편광 렌즈를 얻을 수 있다.
이상, 본 발명을 실시형태에 의해 설명했지만, 본 발명은 전술한 실시형태로 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 다양한 태양을 취할 수 있다.
실시예
이하에, 본 발명을 실시예에 의해 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.
우선, 본 발명의 실시예에서 얻어지는 수지의 평가 방법을 이하에 나타낸다.
<평가 방법>
·투명성: 얻어진 수지를 어두운 곳에서 프로젝터로 조사하여, 흐림(테이프로부터의 용출을 포함함), 불투명 물질의 유무를 육안으로 판단했다. 흐림(테이프로부터의 용출을 포함함), 불투명 물질이 확인되지 않는 것을 「○」(투명성 있음), 확인된 것을 「×」(투명성 없음)로 했다.
·HAZE: 닛폰 전색공업 주식회사제의 헤이즈 미터(형번: NDH 2000)를 사용하여, 2.5mm 두께인 평판의 수지의 HAZE치를 측정했다.
·변형(맥리(脈理)): 얻어진 렌즈를 고압 UV 램프로 투영하여, 렌즈 내에 변형이 보이지 않는 것을 「◎」(맥리 없음), 육안 관찰로 렌즈 내에 변형이 보이지 않는 것을 「○」, 육안 관찰로 렌즈 내에 변형이 보이는 것을 「×」(맥리 있음)로 했다.
·굴절률(ne), 아베수(νe): 풀프리히 굴절계를 이용하여, 20℃에서 측정했다.
·내열성: TMA 페니트레이션법(50g 하중, 핀 끝 0.5mmφ, 승온 속도 10℃/min)에서의 유리 전이 온도 Tg를 측정했다.
·비중: 아르키메데스법에 의해 측정했다.
·내충격성: 중심 두께 1mm의 렌즈에, 미국 FDA에 준거하는, 127cm의 높이에서 가벼운 강구부터 무거운 강구로, 파단될 때까지 순서대로 낙하시켜, 파단된 강구 중량에 의해 내충격성을 평가했다. 강구는 8g→16g→28g→33g→45g→67g→95g→112g→174g→225g→530g의 순서로 실시했다. 한편, 표 중, 「>530g」의 표기의 것은, 530g의 강구를 낙하시켜도 파단되지 않은 것을 나타낸다.
·내광성: 2mm 두께 평판을 이용하여 Q-Lab제 촉진 내광성 시험기로 QUV 시험(광원: UVA-340, 강도: 0.50W/m2, 시험 조건: 50℃×200시간)을 실시하여, 조사 전후의 색상 변화를 측정했다.
·내용제성: 얻어진 렌즈의 표면에, 아세톤을 스며들게 한 부직포를 10초간 강압하여, 렌즈 표면에 팽윤의 흔적이 확인되지 않는 것을 「○」(내용제성 있음), 팽윤의 흔적이 확인되는 것을 「×」(내용제성 없음)로 했다.
[실시예 1]
·(제 1 공정)
20ml의 유리제 비커에, A1-1을 7.00중량부와, B1-1을 5.00중량부 온도 25℃에서 30분에 걸쳐 혼합 용해시켰다. 혼합 용해되어 얻어진 제 1 혼합물의 점도(25℃)는 32mPa·s였다.
·(제 2 공정)
C-1의 57.90중량부에, 제 1 공정에 의해 얻어진 제 1 혼합물을 25℃에서 1시간에 걸쳐 적하 반응시켜, 프리폴리머를 얻었다.
·(제 3 공정)
제 2 공정에 의해 얻어진 프리폴리머에, 촉매로서 다이뷰틸주석 다이클로라이드 0.10중량부, 내부 이형제(미쓰이 화학사제; 상품명 MR용 내부 이형제) 0.30중량부를 혼합 용해하여 균일 용액으로 했다. 얻어진 균일 용액에, d-1을 14.55중량부, d2-1을 15.55중량부 첨가하고, 25℃에서 10분 혼합 용해시켜, 제 2 혼합물을 얻었다.
·성형체의 제조
제 3 공정에 의해 얻어진 제 2 혼합물을 400Pa의 감압 조건하에서 탈포를 행한 후, 유리제의 성형 몰드에 주입했다. 이것을 중합 오븐에 투입하고, 25℃∼120℃까지 24시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 취출하고 성형 몰드로부터의 이형 작업을 행했다. 얻어진 성형체를 120℃에서 1시간 더 어닐링 처리를 행했다. 얻어진 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 2∼6, 22∼25]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 성형체를 얻었다. 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 7]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 제 3 공정에 있어서의 균일 용액을 얻고, C-2를 10.10중량부, d-1을 15.25중량부, d2-1을 16.25중량부 첨가하고, 25℃에서 10분 혼합 용해시켜, 제 2 혼합물을 얻었다. 계속해서, 각 화합물의 중량부를 표 1과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 8]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 제 3 공정에 있어서의 균일 용액을 얻고, A2-1을 6.00중량부, d-1을 16.81중량부, d2-1을 17.97중량부 첨가하고, 25℃에서 10분 혼합 용해시켜, 제 2 혼합물을 얻었다. 계속해서, 각 화합물의 배합량을 표 1과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 6과 마찬가지의 방법으로 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 9∼12]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 8과 마찬가지의 방법으로 성형체를 얻었다. 얻어진 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 13]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 제 3 공정에 있어서의 균일 용액을 얻고, B2-1을 7.50중량부, d-1을 20.60중량부, d2-1을 9.45중량부 첨가하고, 25℃에서 10분 혼합 용해시켜, 제 2 혼합물을 얻었다. 계속해서, 각 화합물의 배합량을 표 1과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 14∼18, 21, 26∼31]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 13과 마찬가지의 방법으로 성형체를 얻었다. 얻어진 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 19]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 제 3 공정에 있어서의 균일 용액을 얻고, A2-1을 2.5중량부, B2-1을 5.00중량부, d-1을 21.63중량부, d2-1을 9.91중량부 첨가하고, 25℃에서 10분 혼합 용해시켜, 제 2 혼합물을 얻었다. 계속해서, 각 화합물의 배합량을 표 1과 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 성형체를 제조했다. 얻어진 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 20]
이용하는 화합물의 중량부를 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 19와 마찬가지의 방법으로 처리했다. 결과는 표 1과 같았다.
[비교예 1]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로, 제 2 공정에 의해 얻어진 프리폴리머에, 촉매로서 다이뷰틸주석 다이클로라이드 0.10중량부, 내부 이형제(미쓰이 화학사제; 상품명 MR용 내부 이형제) 0.30중량부를 혼합 용해시켜 균일 용액으로 했다. 얻어진 균일 용액에, d-1만을 36.55중량부 첨가하고, 25℃에서 10분 혼합 용해시켜, 제 2 혼합물을 얻었다. 제 3 공정에 의해 얻어진 제 2 혼합물을 400Pa의 감압 조건하에서 탈포를 행한 후, 유리제의 성형 몰드에 주입했다. 이것을 중합 오븐에 투입하고, 25℃∼120℃까지 24시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 취출하고 성형 몰드로부터의 이형 작업을 행하여, 성형체를 얻었지만, 얻어진 성형체는 다량의 기포가 발생 혼입되어 있어, 물성 데이터의 취득을 할 수 없었다.
[비교예 2∼3]
다이올 화합물(B-1)을 이용하지 않고서, 폴리아이소사이아네이트 화합물(C-1)에 아민 화합물(A1)을 적하 반응시켜 제 2 공정의 프리폴리머의 합성을 시도했지만, 아민 화합물(A1) 적하와 동시에 폴리머가 석출되어, 균일한 프리폴리머가 얻어지지 않아 조합(調合)을 중지했다.
[비교예 4∼9, 13]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 제 2 공정의 프리폴리머의 합성을 시도했지만, 제 1 공정에서 얻어진 제 1 혼합물의 적하와 동시에 폴리머가 석출되어, 균일한 프리폴리머가 얻어지지 않아 조합을 중지했다.
[비교예 10]
이용하는 화합물의 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 성형체를 제작했다. 얻어진 성형체의 평가 결과를 표 1에 나타낸다. 비교예 10의 성형체는 실시예 1과 비교해서 내충격성이 뒤떨어지는 결과가 되었다.
[비교예 11 및 12]
이용하는 화합물의 중량부를 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 성형체를 제작했다. 그러나, 얻어진 성형체는 다량의 기포가 발생 혼입되어 있어 물성 데이터의 취득을 할 수 없었다.
[참고예 1∼3]
이용하는 화합물의 종류와 배합량을 표 1 기재와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 제 2 공정의 프리폴리머의 합성을 시도했지만, 제 1 공정에서 얻어진 제 1 혼합물의 적하와 동시에 폴리머가 석출되어, 균일한 프리폴리머가 얻어지지 않아 조합을 중지했다.
Figure 112020088580050-pct00008
표 중의 기호는 이하의 의미를 나타낸다.
(아민 화합물(A1))
·A1-1: 중량 평균 분자량 400의 (프로필렌 글라이콜) 비스(2-아미노프로필 에터)(Hunstman사제의 Jeffamine D-400)
·A1-2: 다이에틸톨루엔다이아민(Albemarle Corporation사제의 Ethacure 100)
·A1-3: 중량 평균 분자량 230의 (프로필렌 글라이콜) 비스(2-아미노프로필 에터)(Hunstman사제의 Jeffamine D-230)
·A1-4: 중량 평균 분자량 4000의 (프로필렌 글라이콜) 비스(2-아미노프로필 에터)(Hunstman사제의 Jeffamine D-4000)
·A1-5: m-자일릴렌다이아민
·A1-6: 헥사메틸렌다이아민
(아민 화합물(A2))
·A2-1: 중량 평균 분자량 2000의 (프로필렌 글라이콜) 비스(2-아미노프로필 에터)(Hunstman사제의 Jeffamine D-2000)
(다이올 화합물(B1))
·B1-1: 프로필렌 글라이콜
·B1-2: 다이프로필렌 글라이콜
·B1-3: 트라이프로필렌 글라이콜
·B1-4: 에틸렌 글라이콜
·B1-5: 다이에틸렌 글라이콜
·B1-6: 트라이에틸렌 글라이콜
·B1-7: 폴리프로필렌 글라이콜, 다이올형 400
·B1-8: 트라이사이클로데케인다이메탄올
(다이올 화합물(B2))
·B2-1: 1,4-사이클로헥세인다이메탄올
·B2-2: 트라이사이클로데케인다이메탄올
·B2-3: 폴리에터 폴리올(중량 평균 분자량 2000, 미쓰이 화학사제, 액트콜 ED-56)
·B2-4: 폴리카프로락톤다이올(중량 평균 분자량 500, 다이셀 화학사제)
·B2-5: 폴리카보네이트 다이올(중량 평균 분자량 500, 우베 흥산사제)
·B2-6: 폴리카보네이트 다이올(중량 평균 분자량 1000, 우베 흥산사제)
·B2-7: 비스페놀 A 에톡실레이트(수 평균 분자량 492, 알드리치 시약 EO/phenol, 3)
(폴리아이소사이아네이트 화합물(C))
·C-1: 2,5-비스(아이소사이아네이토메틸)-바이사이클로[2.2.1]헵테인과 2,6-비스(아이소사이아네이토메틸)-바이사이클로[2.2.1]헵테인의 혼합물
·C-2: 헥사메틸렌 다이아이소사이아네이트
(폴리싸이올 화합물(D1)
·d1: 비스(2-머캅토에틸)설파이드
·d2-1: 4-머캅토메틸-1,8-다이머캅토-3,6-다이싸이아옥테인
·d2-2: 5,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인과 4,7-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인과 4,8-다이머캅토메틸-1,11-다이머캅토-3,6,9-트라이싸이아운데케인의 혼합물
실시예의 방법에서는, 프리폴리머 합성 시에 폴리머가 석출됨이 없이, 광학 특성과 기계적 특성의 균형이 우수한 수지가 얻어졌다. 한편, 비교예의 방법에서는, 프리폴리머 합성 시에 폴리머가 석출되어 수지의 조제를 할 수 없었다.
이 출원은 2018년 3월 16일에 출원된 일본 출원 특원 2018-048936호를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시의 전부를 여기에 원용한다.

Claims (23)

  1. 제 1 아민 화합물(A1)과, 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는 제 1 다이올 화합물(B1)과, 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)의 반응 생성물인 프리폴리머,
    제 1 폴리싸이올 화합물(D1), 및
    촉매를 포함하고,
    상기 제 1 아민 화합물(A1)이, 폴리에터아민 및 방향족 아민으로부터 선택되는 적어도 하나이고,
    상기 폴리에터아민의 중량 평균 분자량은, 230 초과 4000 미만이고,
    상기 방향족 아민은, 3,5-다이에틸톨루엔-2,4-다이아민 및 3,5-다이에틸톨루엔-2,6-다이아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고,
    상기 제 1 다이올 화합물(B1)의 분자량은, 50 이상 350 이하이고,
    상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)이, 2개의 머캅토기를 갖는 다이싸이올 화합물(d1) 및 3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)를 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 폴리에터아민이, 식(1)로 표시되는 폴리에터아민 및 식(2)로 표시되는 폴리에터아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
    Figure 112020088580050-pct00009

    (식(1) 중, R3∼R5는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. p는 0∼49의 정수를 나타내고, q는 0∼65의 정수를 나타내고, r은 1∼50의 정수를 나타내고, p+r은 1∼99의 정수를 만족시킨다. 복수 존재하는 R4끼리 또는 R5끼리는 동일해도 상이해도 된다.)
    Figure 112020088580050-pct00010

    (식(2) 중, R6, R8, R9는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R7은 탄소수 1∼20의 직쇄 알킬기, 탄소수 3∼20의 분기 알킬기 또는 탄소수 3∼20의 환상 알킬기를 나타낸다. x+y+z는 1∼50의 정수를 나타낸다. n은 0∼10의 정수를 나타낸다. 복수 존재하는 R6끼리, R8끼리 또는 R9끼리는 각각 동일해도 상이해도 된다.).
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 2 다이올 화합물(B2)를 추가로 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 2 아민 화합물(A2)를 추가로 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 2 아민 화합물(A2) 및 제 2 다이올 화합물(B2)를 추가로 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 다이올 화합물(B1)이, 지방족 직쇄 다이올을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 다이올 화합물(B1)이, 1mPa·s 이상 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  8. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 2 다이올 화합물(B2)가, 100mPa·s 이상의 점도(25℃)를 갖는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 촉매가, 다이메틸주석 클로라이드, 다이뷰틸주석 클로라이드 및 다이뷰틸주석 다이라우레이트로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  10. 제 1 아민 화합물(A1)과 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는 제 1 다이올 화합물(B1)을 혼합하여, 제 1 혼합물을 얻는 제 1 공정으로서, 상기 제 1 아민 화합물(A1)이 폴리에터아민 및 방향족 아민으로부터 선택되는 적어도 하나이고, 상기 폴리에터아민의 중량 평균 분자량은 230 초과 4000 미만이고, 상기 방향족 아민은 3,5-다이에틸톨루엔-2,4-다이아민 및 3,5-다이에틸톨루엔-2,6-다이아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나이고, 상기 제 1 다이올 화합물(B1)의 분자량은 50 이상 350 이하인 제 1 공정과,
    상기 제 1 혼합물과 폴리아이소사이아네이트 화합물(C)를 혼합하여, 프리폴리머를 얻는 제 2 공정과,
    상기 프리폴리머와 촉매를 혼합하고, 이어서 2개의 머캅토기를 갖는 다이싸이올 화합물(d1) 및 3개 이상의 머캅토기를 갖는 폴리싸이올 화합물(d2)를 포함하는 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가하고 이들을 혼합하는 제 3 공정을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 폴리에터아민이, 식(1)로 표시되는 폴리에터아민 및 식(2)로 표시되는 폴리에터아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
    Figure 112022031042817-pct00011

    (식(1) 중, R3∼R5는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. p는 0∼49의 정수를 나타내고, q는 0∼65의 정수를 나타내고, r은 1∼50의 정수를 나타내고, p+r은 1∼99의 정수를 만족시킨다. 복수 존재하는 R4끼리 또는 R5끼리는 동일해도 상이해도 된다.)
    Figure 112022031042817-pct00012

    (식(2) 중, R6, R8, R9는 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R7은 탄소수 1∼20의 직쇄 알킬기, 탄소수 3∼20의 분기 알킬기 또는 탄소수 3∼20의 환상 알킬기를 나타낸다. x+y+z는 1∼50의 정수를 나타낸다. n은 0∼10의 정수를 나타낸다. 복수 존재하는 R6끼리, R8끼리 또는 R9끼리는 각각 동일해도 상이해도 된다.).
  12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 제 3 공정이, 상기 프리폴리머와 상기 촉매를 혼합하고, 이어서 상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가하고 이들을 혼합한 후, 제 2 다이올 화합물(B2)를 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  13. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 제 3 공정이, 상기 프리폴리머와 상기 촉매를 혼합하고, 이어서 400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 2 아민 화합물(A2) 및 상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1)을 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  14. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 제 3 공정이, 상기 프리폴리머와 상기 촉매를 혼합하고, 이어서 400 이상 4000 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 제 2 아민 화합물(A2), 상기 제 1 폴리싸이올 화합물(D1) 및 제 2 다이올 화합물(B2)를 첨가하고 이들을 혼합하는 공정을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  15. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 다이올 화합물(B1)이, 지방족 직쇄 다이올을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  16. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 다이올 화합물(B1)이, 1mPa·s 이상 100mPa·s 이하의 점도(25℃)를 갖는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  17. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 2 다이올 화합물(B2)가, 100mPa·s 이상의 점도(25℃)를 갖는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  18. 제 1 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을, 주형(注型) 중합법에 의해 중합 경화하여 광학 물품을 얻는 공정을 포함하는 광학 물품의 제조 방법.
  19. 제 10 항에 기재된 방법에 의해 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정과,
    상기 광학 재료용 중합성 조성물을, 주형 중합법에 의해 중합 경화하여 광학 물품을 얻는 공정을 포함하는 광학 물품의 제조 방법.
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