KR102390499B1

KR102390499B1 - 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치

Info

Publication number: KR102390499B1
Application number: KR1020207029817A
Authority: KR
Inventors: 탁워 찬
Original assignee: 유니버셜 서킷 보드 이큅먼트 컴퍼니 리미티드
Priority date: 2020-07-02
Filing date: 2020-08-07
Publication date: 2022-04-25
Also published as: JP2022541861A; JP7258913B2; GB2600092A; GB202016188D0; KR20220004530A; US11889631B2; US20220007557A1

Abstract

인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 로딩 메커니즘(10), 위치 결정 메커니즘(20) 및 구동 메커니즘(30)을 포함하고, 로딩 메커니즘(10)은 원판 형상을 나타내고, 상기 인쇄 회로 기판을 고정시키도록 구성되며, 위치 결정 메커니즘(20)은 적어도 공동으로 로딩 메커니즘(10)을 지지할 수 있는 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22)을 포함하고, 위치 결정 메커니즘(20)은 제1 상태와 제2 상태 사이에서 전환될 수 있으며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에 위치할 경우, 로딩 메커니즘은 구동 메커니즘(30)와 서로 이격되고, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 경우, 구동 메커니즘(30)은 로딩 메커니즘(10)이 그의 중심 축을 중심으로 회전하도록 로딩 메커니즘(10)을 구동할 수 있으며, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 모두 로딩 메커니즘(10)의 회전을 따라 회전할 수 있다. 구동 메커니즘(30)은 인쇄 회로 기판의 자전을 구동하여, 풀 효과의 발생을 방지하고, 잔여 약액으로 인한 패널의 일부 영역에 대한 과도한 처리를 방지하여, 처리 균일성을 향상시킬 수 있다.

Description

인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치

본 출원은 인쇄 회로 기판 가공 장치 기술 분야에 관한 것으로, 특히는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치에 관한 것이다.

현재의 시판 중의 인쇄 회로 기판 처리 장치는 수평 유형 및 수직 유형의 두가지 세트가 있으며, 수평 유형의 세트의 인쇄 회로 기판은 운반 롤러 상에 수평으로 배치되고, 인쇄 회로 기판의 패널은 운반 롤러에 직접적으로 접촉되고, 운반 과정에서, 운반 롤러는 패널에서 롤러 인쇄를 형성하거나, 패널에 대해 심한 스크래치를 초래하거나, 반대로 패널의 코팅 재료가 부착되어, 인쇄 회로 기판의 처리 효과에 영향을 미치게 되므로, 인쇄 회로 기판이 수평으로 배치되어 분무 또는 약액 처리를 진행하는 방식은 장치에 대한 요구가 상대적으로 높아, 생산 비용을 증가할 뿐만 아니라, 약액으로 패널 상에 풀 효과(즉, 패널 물고임)가 쉽게 형성되어, 인쇄 회로 기판의 처리에 영향을 미치게 되어, 품질 문제가 쉽게 발생하게 된다.

또한, 수직 유형의 세트의 인쇄 회로 기판은 클램핑 장치에 의해 수직으로 클램핑되어 전방으로 운반되며, 인쇄 회로 기판에 대해 분무 처리를 진행할 경우, 약물은 패널 상에 분무된 후 중력의 작용하에 유동하게 되어, 패널의 상부 및 하부는 약물과 접촉하는 시간 상으로 차이점이 존재하여, 인쇄 회로 기판의 상부 및 하부의 처리 효과에 차이점을 초래하게 되어, 제품 불량이 쉽게 발생하게 된다.

따라서, 인쇄 회로 기판의 패널의 처리의 균일성을 확보하는 것은 시급히 해결해야 할 문제로 대두되고 있다.

본 출원은 종래 기술에서 수평 및 수직의 두가지 유형의 세트로 인쇄 회로 기판에 대해 처리를 진행할 경우 모두 패널 처리가 불균일한 경우가 나타나는 기술적 문제를 해결하기 위한 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치를 제공하고자 한다.

본 출원은 인쇄 회로 기판을 처리하기 위한 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치로 구현되며, 상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 로딩 메커니즘, 위치 결정 메커니즘 및 구동 메커니즘을 포함하되,

상기 로딩 메커니즘은 원판 형상을 나타내고, 상기 인쇄 회로 기판을 고정시키도록 구성되며, 상기 인쇄 회로 기판이 수직되게 배치되도록 상기 로딩 메커니즘의 회전 축은 수평 방향을 따라 연장되고,

상기 위치 결정 메커니즘은 적어도 제1 위치 결정 휠 및 제2 위치 결정 휠을 포함하고, 상기 제1 위치 결정 휠의 회전 축과 상기 제2 위치 결정 휠의 회전 축은 모두 수평 방향을 따라 연장되고 서로 평행되며, 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 공동으로 상기 로딩 메커니즘을 지지할 수 있으며, 상기 위치 결정 메커니즘은 제1 상태와 제2 상태 사이에서 전환될 수 있으며, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제1 상태에 위치하고 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 로딩 메커니즘은 상기 구동 메커니즘과 서로 이격되고, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제2 상태에 위치하고 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 구동 메커니즘은 상기 로딩 메커니즘이 그의 중심 축을 중심으로 회전하도록 상기 로딩 메커니즘을 구동할 수 있으며, 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 모두 상기 로딩 메커니즘의 회전을 따라 회전할 수 있다.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 모두 동일한 평면 상에 위치하고, 상기 제1 위치 결정 휠의 회전 축과 상기 로딩 메커니즘의 중심 축은 평행된다.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 위치 결정 휠은 제1 결정될 위치와 제1 작업 위치 사이에서 전환될 수 있고, 상기 제2 위치 결정 휠은 제2 결정될 위치와 제2 작업 위치 사이에서 전환될 수 있으며, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제2 상태에 위치할 경우, 상기 제1 위치 결정 휠은 상기 제1 작업 위치에 위치하고 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제2 작업 위치에 위치한다.

일 실시예에 있어서, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제1 상태에 위치할 경우, 상기 제1 위치 결정 휠은 상기 제1 결정될 위치에 위치하고 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제2 작업 위치에 위치한다.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 작업 위치는 상기 제1 결정될 위치의 상부에 위치하고, 상기 제2 작업 위치는 상기 제2 결정될 위치의 상부에 위치하며, 상기 구동 메커니즘은 상기 위치 결정 메커니즘 상부에 위치한다.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 위치 결정 휠이 상기 제1 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 상기 제2 위치 결정 휠이 상기 제2 결정될 위치에 위치할 때의 높이와 동일하고, 상기 제1 위치 결정 휠이 상기 제1 작업 위치에 위치할 때의 높이는 상기 제2 위치 결정 휠이 상기 제2 작업 위치에 위치할 때의 높이와 동일하다.

일 실시예에 있어서, 상기 구동 메커니즘은 액티브 구동 휠을 포함하고, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제1 상태에 위치하고 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 로딩 메커니즘은 상기 액티브 구동 휠과 서로 이격되고, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제2 상태에 위치하고 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 액티브 구동 휠은 상기 로딩 메커니즘에 맞대이어, 회전을 통해 상기 로딩 메커니즘의 회전을 구동할 수 있다.

일 실시예에 있어서, 상기 구동 메커니즘은 구동 모터 및 전송 벨트를 더 포함하고, 상기 전송 벨트는 상기 구동 모터 및 상기 액티브 구동 휠에 연결되고, 상기 구동 모터는 상기 전송 벨트의 운동에 대한 구동을 통해 상기 액티브 구동 휠의 회전을 구동할 수 있다.

일 실시예에 있어서, 상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 위치 제한 휠을 더 포함하고, 상기 위치 제한 휠은 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제2 상태에 위치할 경우 상기 로딩 메커니즘에 맞대일 수 있어, 상기 로딩 메커니즘의 회전을 따라 회전할 수 있으며, 상기 위치 제한 휠, 상기 액티브 구동 휠, 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠은 공동으로 상기 로딩 메커니즘의 변위를 제한시킬 수 있다.

일 실시예에 있어서, 상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 제1 지지 슬라이드 트랙을 더 포함하고, 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제1 지지 슬라이드 트랙의 연장 방향에서 순차적으로 위치되고, 상기 제1 지지 슬라이드 트랙은 상기 로딩 메커니즘을 지지하도록 구성되며, 상기 로딩 메커니즘은 상기 제1 지지 슬라이드 트랙의 연장 방향을 따라 굴러갈 수 있으며, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제1 상태에 위치할 경우, 상기 로딩 메커니즘은 상기 제1 지지 슬라이드 트랙에서 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠 상으로 굴러갈 수 있다.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 위치 결정 휠이 상기 제1 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 상기 제1 위치 결정 휠에 인접하는 상기 제1 지지 슬라이드 트랙의 일 단부의 높이와 동일하거나 낮다.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 지지 슬라이드 트랙은 수평면과 협각으로 배치되는 제1 경사면을 구비하고, 상기 로딩 메커니즘은 상기 제1 경사면에 맞대이고, 상기 제1 위치 결정 휠을 멀리하는 상기 제1 경사면의 일 단부의 높이는 상기 제1 위치 결정 휠에 인접하는 상기 제1 경사면의 일 단부의 높이보다 높다.

일 실시예에 있어서, 상기 위치 결정 메커니즘은 제3 상태를 더 구비하고, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제3 상태에 위치할 경우, 상기 제1 위치 결정 휠은 상기 제1 작업 위치에 위치하고 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제2 결정될 위치에 위치한다.

일 실시예에 있어서, 상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 제2 지지 슬라이드 트랙을 더 포함하고, 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 지지 슬라이드 트랙 사이에 위치하고, 상기 제2 지지 슬라이드 트랙은 상기 로딩 메커니즘을 지지하도록 구성되며, 상기 제2 위치 결정 휠이 상기 제2 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 상기 제2 위치 결정 휠에 인접하는 상기 제2 지지 슬라이드 트랙의 일 단부의 높이와 동일하거나 높으며, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제3 상태에 위치할 경우, 상기 로딩 메커니즘은 상기 위치 결정 메커니즘 상에서 상기 제2 지지 슬라이드 트랙 상으로 굴러가고, 상기 제2 지지 슬라이드 트랙의 연장 방향을 따라 굴러갈 수 있다.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 지지 슬라이드 트랙은 수평면과 협각으로 배치되는 제2 경사면을 구비하고, 상기 로딩 메커니즘은 상기 제2 경사면에 맞대이고, 상기 제2 위치 결정 휠에 인접하는 상기 제2 경사면의 일 단부의 높이는 상기 제2 위치 결정 휠을 멀리하는 상기 제2 경사면의 일 단부의 높이보다 높다.

일 실시예에 있어서, 상기 로딩 메커니즘은 로딩 트레이 및 상기 로딩 트레이에 배치되고 상기 인쇄 회로 기판을 고정시키도록 구성되는 고정 부재를 포함하고, 상기 구동 메커니즘은 상기 로딩 트레이가 그의 중심 축을 중심으로 회전하여 상기 로딩 트레이의 중심 축이 상기 인쇄 회로 기판에 수직되도록 상기 로딩 트레이를 구동하도록 구성된다.

일 실시예에 있어서, 상기 로딩 트레이는 제1 측면, 제2 측면 및 가장자리면을 구비하고, 제1 측면과 제2 측면은 대향되게 배치되고, 상기 가장자리면은 원주 방향에서 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 둘러싸고 상기 로딩 트레이의 중심 축을 등지며, 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 모두 상기 가장자리면에 맞대인다.

일 실시예에 있어서, 상기 로딩 트레이에는 그의 중심 축을 따라 관통되게 배치되는 관통 구멍이 개방되고, 상기 고정 부재는 상기 로딩 트레이를 상기 관통 구멍에 고정시키도록 구성되고, 상기 관통 구멍은 상기 인쇄 회로 기판을 우회한다.

일 실시예에 있어서, 상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 상기 인쇄 회로 기판을 액체에 침윤시키도록 구성되는 액체 처리 메커니즘을 더 포함한다.

일 실시예에 있어서, 상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 상기 인쇄 회로 기판에 대해 기체를 분사하여 상기 인쇄 회로 기판을 건조시키도록 구성되는 기체 분사 메커니즘을 더 포함한다.

종래 기술에 비해, 본 출원은 아래와 같은 기술적 효과를 구비한다. 즉, 인쇄 회로 기판은 로딩 메커니즘의 고정된 수직 배치를 통해, 위치 결정 메커니즘이 제2 상태에 위치할 경우, 구동 메커니즘은 로딩 메커니즘이 회전하도록 로딩 메커니즘을 구동할 수 있고, 제1 위치 결정 휠과 제2 위치 결정 휠은 로딩 메커니즘의 회전에 따라 회전할 수 있으며, 이로써 로딩 메커니즘의 자전을 실현하며, 이때, 인쇄 회로 기판은 로딩 메커니즘의 회전을 따라 회전하며, 인쇄 회로 기판의 패널이 약액에 침윤된 후, 약액은 중력 또는 원심력의 작용하에 유동하게 되며, 약액은 인쇄 회로 기판의 자전에 의해 그의 패널 상에 균일하게 분포될 수 있으며, 잔여 약물은 적하되거나 털려나가, 풀 효과의 발생을 방지하고, 잔여 약액으로 인한 패널의 일부 영역에 대한 과도한 처리를 방지할 뿐만 아니라, 인쇄 회로 기판이 수직될 경우 그의 패널의 상부 및 하부에 대한 약액의 처리 효과가 불균일한 경우를 방지하게 된다.

본 출원의 실시예의 기술적 방안을 보다 명확하게 설명하기 위하여, 아래에 본 출원의 실시예 또는 종래 기술의 설명에 사용될 필요가 있는 첨부된 도면에 대한 간단한 소개를 진행하며, 아래에 설명되는 첨부된 도면은 단지 본 출원의 일부의 실시예일 뿐, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 진보성 노동이 없이 이러한 첨부된 도면에 따라 기타의 첨부된 도면을 더 획득할 수 있음이 명확할 것이다.
도 1은 본 출원의 실시예에서 제공하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치의 구성의 투시도이되, 별도의 하우징 및 분무 메커니즘이 도시되지 않으며,
도 2는 본 출원의 실시예에서 제공하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치의 구성의 투시도이되, 별도의 하우징이 도시되지 않으며,
도 3은 본 출원의 실시예에서 제공하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치의 구성의 투시도이다.

아래에 본 출원의 실시예에 대한 상세한 설명을 진행하기로 하며, 상시 실시예의 예시는 도면에 도시되고, 여기서, 시종일관, 동일하거나 유사한 참조 부호는 동일하거나 유사한 구성요소 또는 동일하거나 유사한 기능을 구비하는 구성요소를 가리킨다. 아래에 첨부된 도면을 참조하여 설명한 실시예는 예시적인 것이며, 본 출원을 해석하기 위한 것일 뿐, 본 출원에 대한 한정으로 이해하여서는 아니된다.

본 출원의 설명에 있어서, 용어 “상”, “하”, “전”, “후”, “좌”, “우”, “수직”, “수평”, “내부”, “외부”등으로 지시되는 방향 또는 위치 관계는 첨부된 도면에 도시된 방향 또는 위치 관계를 기반으로 하며, 단지 본 출원을 설명이 편리하고 설명을 단순화시키기 위한 것일 뿐, 당해 장치 또는 구성요소가 반드시 특정된 방향을 구비하여 특정된 방향으로 구성되고 조작되는 것으로 지시하거나 암시하는 것이 아니며, 따라서, 본 출원에 대한 한정으로 이해하여서는 아니됨을 이해하여야 한다.

본 실시예에 있어서, 도 1 내지 도 3에 구축된 XYZ 데카르트 좌표계에 따라 한정하면, X 축의 정방향에 위치한 일측을 전방으로 한정하고, X 축의 음방향에 위치한 일측을 후방으로 한정하고, Y 축의 정방향에 위치한 일측을 좌측으로 한정하고, Y 축의 음방향에 위치한 일측을 우측으로 한정하고, Z 축의 정방향에 위치한 일측을 상부로 한정하며, Z 축의 음방향에 위치한 일측을 하부로 한정한다.

또한, 용어 “제1”, “제2”, “제3”은 단지 설명의 목적을 위한 것일 뿐, 그의 상대적인 중요성을 지시하거나 암시하는 것으로 이해하여서는 아니되며, 또는 지시된 기술적 특징의 수량을 암시적으로 표명하는 것으로 이해하여서는 아니된다. 따라서, “제1”, “제2”, “제3”로 한정된 특징은 하나 또는 다수의 해당 특징을 명시적으로 또는 암시적으로 포함할 수 있다. 본 출원의 설명에 있어서, 달리 구체적인 한정으로 명시되지 않는 한, “다수”의 함의는 두개 또는 두개 이상이다.

본 출원에 있어서, 명확히 다르게 규정되고 한정되지 않는 한, 용어 “장착”, “상호 연결”, “연결”, “고정” 등의 용어는 광범위하게 이해되어야 하며, 예를 들어, 고정 연결일 수 있고, 착탈가능한 연결이거나 또는 일체로 구성될 수도 있으며, 기계적 연결일 수 있고, 전기적 연결일 수도 있으며, 직접적인 상호 연결일 수 있고, 중간 매체를 경유한 간접적인 상호 연결일 수도 있으며, 2개의 구성요소 내부의 연통이거나 2개의 구성요소의 상호 작용 관계일 수 있다. 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 구체적인 경우에 따라 본 출원에서의 상술한 용어의 구체적인 함의를 이해할 수 있다.

본 출원의 목적, 기술적 방안 및 장점이 보다 명확해지도록, 아래에 첨부된 도면 및 실시예를 결부하여 본 출원에 대한 진일보로 상세한 설명을 진행하기로 한다.

첨부된 도면을 참조하면, 본 출원은 인쇄 회로 기판을 처리하기 위한 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치를 제공하며, 인쇄 회로 기판은 시트 형상을 나타내며 처리될 표면을 구비하고, 여기서, 인쇄 회로 기판은 하나의 처리될 표면을 구비할 수 있으며, 서로 등진 두개의 처리될 표면을 구비할 수도 있다. 해당 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 특히 처리될 표면이 약액에 침윤되거나 약액에 이미 침윤된 인쇄 회로 기판을 처리하도록 구성된다.

도 1을 참조하면, 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 로딩 메커니즘(10), 구동 메커니즘(30), 및 위치 결정 메커니즘(20)을 포함한다.

여기서, 로딩 메커니즘(10)은 인쇄 회로 기판을 고정시키도록 구성되고, 인쇄 회로 기판이 수직되게 배치되도록 로딩 메커니즘(10)의 중심 축은 수평 방향을 따라 연장되고, 수직되게 배치되는 것은 인쇄 회로 기판의 처리될 표면이 수평면에 수직되거나 또는 수평면에 대체적으로 수직되는 것을 가리키킴을 이해할 수 있을 것이다. 인쇄 회로 기판의 처리될 표면은 평면이거나 대체적으로 평면일 수 있다. 로딩 메커니즘(10)은 원판 형상을 나타내고, 원판 형상은 정원판 형상을 가리킬 수 있으며, 타원판 형상을 가리킬 수도 있음을 설명하고자 한다. 바람직하게, 로딩 메커니즘(10)의 중심 축은 인쇄 회로 기판의 처리될 표면에 수직되고, 로딩 메커니즘(10)이 그의 중심 축을 중심으로 회전할 수 있으며, 이때, 인쇄 회로 기판은 로딩 메커니즘(10)의 호전을 따라 회전할 수 있으며, 그의 중심 축은 즉 회전 축이다.

도 1을 참조하면, 구체적으로, 로딩 메커니즘(10)은 로딩 트레이(11) 및 로딩 트레이(11)에 배치되고 인쇄 회로 기판을 고정시키도록 구성된 고정 부재(12)를 포함한다. 로딩 트레이(11)은 원판 형상이고, 로딩 트레이(11)는 제1 측면, 제2 측면 및 가장자리면을 구비하며, 제1 측면과 제2 측면은 대향되게 배치되고, 평행되게 배치되거나 대체적으로 평행되게 배치될 수 있다. 로딩 트레이(11)의 중심 축은 즉 로딩 메커니즘(10)의 중심 축이고, 가장자리면은 원주 방향에서 제1 측면 및 제2 측면을 둘러싸고 중심 축을 등지며, 바람직하게, 가장자리면이 동등한 폭을 구비하도록 제1 측면과 제2 측면은 모두 수평면에 수직된다. 처리될 표면에 홈이 나타나 인쇄 회로 기판 상의 약액의 유동에 영향을 미치는 것을 방지하도록, 고정 부재(12)는 인쇄 회로 기판을 긴장시켜 평면 형상을 나타내게 할 수 있다. 본 실시예에 있어서, 고정 부재(12)는 로딩 트레이(11)에 연결되는 다수의 고정 클램핑 장치를 포함하고, 다수의 고정 클램핑 장치는 인쇄 회로 기판의 원주 방향을 따라 고정되게 배치되어 인쇄 회로 기판을 균일하게 고정시킨다. 여기서, 고정 부재(12)는 인쇄 회로 기판을 허공에 현수되게 할 수 있으며, 인쇄 회로 기판을 로딩 트레이(11)의 제1 측면 또는 제2 측면에 부착시키고 약액 처리가 편리하도록 처리될 표면을 외부로 향하게 할 수 있다. 본 실시예에 있어서, 로딩 트레이(11)에는 회전 축을 따라 관통되게 설치되는 관통 구멍(101)이 개방되고, 고정 부재(12)는 인쇄 회로 기판을 관통 구멍(101)에 고정시키도록 구성되며, 관통 구멍(101)은 그의 처리될 표면을 우회한다. 이러한 인쇄 회로 기판의 두개의 처리될 표면은 모두 로딩 트레이(11)에 의해 차단되고 터치되지 않으며, 이로써 추후에 인쇄 회로 기판에 대해 기타의 처리 공정을 진행하기에 편리하게 된다. 외부 장치로 로딩 트레이(11)에 대한 취득 및 현수가 편리하도록 로딩 트레이(11)에는 우회 구멍(102)이 개방된다. 본 실시예에 있어서, 로딩 트레이(11)의 회전은 즉 로딩 트레이(11)가 그의 중심 축을 중심으로 회전하는 것을 가리키는 것을 설명하고자 한다.

도 1을 참조하면, 위치 결정 메커니즘(20)은 적어도 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22)을 포함하며, 본 실시예에 있어서, 위치 결정 메커니즘(20)은 단지 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22)을 포함하며, 기타의 실시예에 있어서, 위치 결정 메커니즘(20)은 로딩 트레이(11)에 대해 위치 결정 작용을 실현할 수 있는 기타의 위치 결정 휠을 더 포함할 수 있다.

제1 위치 결정 휠(21)의 회전 축과 제2 위치 결정 휠(22)의 회전 축은 모두 수평 방향을 따라 연장되고 서로 평행되며, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 공동으로 로딩 메커니즘(10)을 지지할 수 있다. 로딩 트레이(11)는 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)에 배치될 수 있으며, 즉, 그의 가장자리면은 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)에 맞대일 수 있음을 이해할 수 있을 것이며, 여기서, 본 실시예에 있어서, 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22)은 동일한 평면에 위치하고, 로딩 트레이(11)의 정렬 및 회전이 편리하도록 제1 위치 결정 휠(21)의 회전 축과 로딩 메커니즘(10)의 중심 축은 평행된다. 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22)은 동일한 평명에 위치하지 않을 수도 있다.

위치 결정 메커니즘(20)은 제1 상태와 제2 상태 사이에서 전환될 수 있다. 로딩 메커니즘(10)이 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22) 상에 배치될 경우, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에 위치할 때, 로딩 메커니즘(10)은 구동 메커니즘과 서로 이격되고, 즉, 로딩 메커니즘(10)은 구동 메커니즘(30)의 구동 도는 제어를 받지 않으며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때, 구동 메커니즘(30)은 로딩 메커니즘(10)이 그의 중심 축을 중심으로 회전하도록 로딩 메커니즘(10)을 구동할 수 있으며, 즉, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때, 구동 메커니즘(30)으로 로딩 트레이(11)의 회전을 구동할 수 있도록, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 공동으로 로딩 트레이(11)와 구동 메커니즘(30)를 접촉시킬 수 있다. 여기서, 로딩 트레이(11)가 회전할 경우, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 모두 로딩 메커니즘(10)의 회전을 따라 회전할 수 있으며, 즉, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 모두 로딩 트레이(11)의 피동 휠이다. 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 로딩 트레이(11)에 대해 위치 결정을 진행하여 그의 직경 방향에서의 이동을 제한하거나, 또는, 제1 위치 결정 휠(21), 제2 위치 결정 휠(22) 및 구동 메커니즘(30)은 공동으로 로딩 트레이(11)에 대해 위치 결정을 진행하여 그의 직경 방향에서의 이동을 제한할 수 있음을 설명하고자 한다. 여기서, 구동 메커니즘(30)의 위치는 고정될 수 있으며, 위치를 이동시켜 로딩 트레이(11)와 접촉하거나 분리될 수도 있다.

인쇄 회로 기판은 로딩 메커니즘(10)의 고정된 수직 배치를 통해, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때, 구동 메커니즘(30)으로 로딩 메커니즘(10)의 회전을 구동할 수 있으며, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 로딩 메커니즘(10)의 회전을 따라 회전할 수 있어, 로딩 메커니즘(10)의 자전을 실현하고, 이때, 인쇄 회로 기판은 로딩 메커니즘(10)의 회전을 따라 회전하고, 인쇄 회로 기판의 패널이 약액에 침윤된 후, 약액은 중력 또는 원심력의 작용하에 유동하게 되며, 약액은 인쇄 회로 기판의 자전에 의해 그의 패널 상에 균일하게 분포될 수 있으며, 잔여 약물은 적하되거나 털려나가, 풀 효과의 발생을 방지하고, 잔여 약액으로 인한 패널의 일부 영역에 대한 과도한 처리를 방지할 뿐만 아니라, 인쇄 회로 기판이 수직될 경우 그의 패널의 상부 및 하부에 대한 약액의 처리 효과가 불균일한 경우를 방지하게 된다.

여기서, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 결정될 위치와 제1 작업 위치 사이에서 전환될 수 있고, 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 결정될 위치와 제2 작업 위치 사이에서 전환될 수 있으며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 작업 위치에 위치하고 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 작업 위치에 위치한다. 즉, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태와 제2 상태 사이에서 전환될 경우, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 결정될 위치와 제1 작업 위치 사이에서 전환되거나, 및/또는, 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 결정될 위치와 제2 작업 위치 사이에서 전환된다. 제1 위치 결정 휠(21) 또는 제2 위치 결정 휠(22)의 위치가 변화할 경우, 로딩 트레이(11)도 이를 따라 위치를 변화시켜, 구동 메커니즘(30)과의 접촉 또는 분리를 실현한다.

일 실시예에 있어서, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에 위치할 때, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 결정될 위치에 위치하고 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 결정될 위치에 위치한다. 즉, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에서 제2 상태로 전환될 경우, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 결정될 위치에서 제1 작업 위치로 전환되고, 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 결정될 위치에서 제2 작업 위치로 전환되어, 로딩 트레이(11)의 위치를 변화시켜, 이를 구동 메커니즘(30)과 접촉시킨다.

본 실시예에 있어서, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에 위치할 때, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 결정될 위치에 위치하고 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 작업 위치에 위치한다. 즉, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에서 제2 상태로 전환될 경우, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 결정될 위치에서 제1 작업 위치로 전환되고, 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 작업 위치에 변화없이 유지된다. 이러한 로딩 트레이(11)는 제1 위치 결정 휠(21)의 위치 전환을 통해 구동 메커니즘(30)과 맞대이는 위치로 이동할 수 있으며, 제2 위치 결정 휠(22)은 위치 제한 작용을 실현한다.

본 실시예에 있어서, 제1 작업 위치는 제1 결정될 위치의 상부에 위치하고, 제2 작업 위치는 제2 결정될 위치의 상부에 위치하며, 구동 메커니즘(30)은 위치 결정 메커니즘(20) 상부에 위치한다. 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에서 제2 상태로 전환될 경우, 위치 결정 메커니즘(20)은 로딩 트레이(11)를 위로 지지하여 구동 메커니즘(30)과 서로 접촉시킬 수 있으며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에서 제1 상태로 전환될 경우, 위치 결정 메커니즘(20)은 로딩 트레이(11)를 하락시켜 구동 메커니즘(30)으로부터 이탈시킬 수 있다.

도 1을 참조하면, 바람직하게, 제1 위치 결정 휠(21)이 제1 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 제2 위치 결정 휠(22)이 제2 결정될 위치에 위치할 때의 높이와 동일하며, 제1 위치 결정 휠(21)이 제1 작업 위치에 위치할 때의 높이는 제2 위치 결정 휠(22)이 제2 작업 위치에 위치할 때의 높이와 동일하다. 이로써, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에 위치할 경우, 로딩 트레이(11)는 측면에서 제1 위치 결정 휠(21) 상으로 수평으로 이동할 수 있으며, 이때 제2 위치 결정 휠(22)은 제1 위치 결정 휠(21)의 이동 방향에 위치하여 제1 위치 결정 휠(21)이 계속하여 이동하는 것을 제한한다. 여기서, 상술한 이동은 수평 이동일 수 있으며, 굴러갈 수도 있으며, 로딩 트레이(11)가 제1 위치 결정 휠(21) 상으로 굴러가 제2 위치 결정 휠(22)에 맞대일 경우, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 로딩 트레이(11)의 회전을 따라 회전하게 된다. 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)이 정렬될 때까지 로딩 트레이(11)를 상승시키며, 이떼 로딩 트레이(11)의 최저점은 수직 방향에서 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22) 사이에 위치하고, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)의 최고점은 모두 로딩 트레이(11)의 최저점보다 높으며, 이로써 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 모두 로딩 트레이(11)에 대해 위치 제한 작용을 실현하여, 구동 메커니즘(30)으로 로딩 트레이(11)의 회전을 구동할 때 로딩 트레이(11)의 자전을 실현하도록, 로딩 트레이(11)의 직경 방향에서의 구름을 제한한다.

기타의 실시예에 있어서, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때 제1 위치 결정 휠(21)의 높이는 제2 위치 결정 휠(22)의 높이와 상이할 수도 있다.

도 1을 참조하면, 구동 메커니즘(30)은 액티브 구동 휠(31), 구동 모터(32) 및 전송 벨트(33)를 포함하고, 전송 벨트(33)는 구동 모터(32) 및 액티브 구동 휠(31)에 연결되고, 구동 모터(32)은 전송 벨트(33)의 운동을 구동하여 액티브 구동 휠(31)의 회전을 구동할 수 있다. 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에 위치하고 로딩 메커니즘(10)이 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22) 상에 배치될 경우, 로딩 메커니즘(10)은 액티브 구동 휠(31)과 서로 이격되고, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치하고 로딩 메커니즘(10)이 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22) 상에 위치할 경우, 액티브 구동 휠(31)은 로딩 메커니즘(10)에 맞대이어, 회전을 통해 로딩 메커니즘(10)의 회전을 구동할 수 있다. 이로써 액티브 구동 휠(31)은 회전을 통해 로딩 트레이(11)의 회전을 구동하여, 로딩 트레이(11)의 자전을 실현한다. 여기서, 액티브 구동 휠(31)은 로딩 트레이(11)의 최고점에 맞대일 수 있으며, 로딩 트레이(11)의 측변에 맞대일 수도 있으며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때, 액티브 구동 휠(31), 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22)은 공동으로 로딩 트레이(11)의 직경 방향에서의 이동을 제한하여, 로딩 트레이(11)와 위치 결정 메커니즘(20)의 분리를 방지할 수 있다. 액티브 구동 휠(31)과 구동 모터(32)는 전송 벨트(33)를 통해 연결되어, 속도 비율을 변화시켜, 감속기를 형성하고, 구동 모터(32)에서 액티브 구동 휠(31)로 전송되는 속도를 감소시킬 수 있다.

도 1을 참조하면, 로딩 트레이(11)에 대해 위치 제한을 진일보로 진행하기 위하여, 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 위치 제한 휠(40)을 더 포함하고, 위치 제한 휠(40)은 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태에 위치할 때 로딩 메커니즘(10)에 맞대일 수 있으며, 로딩 트레이(11)의 회전을 따라 회전할 수 있으며, 위치 제한 휠(40), 액티브 구동 휠(31), 제1 위치 결정 휠(21) 및 제2 위치 결정 휠(22)은 공동으로 로딩 메커니즘(10)의 변위를 제한할 수 있다. 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에서 제2 상태로 전환될 경우, 로딩 트레이(11)는 위로 상승되어 액티브 구동 휠(31) 및 위치 제한 휠(40)에 맞대이게 되고, 여기서, 로딩 트레이(11)의 최고점은 액티브 구동 휠(31)과 위치 제한 휠(40) 사이에 위치하며, 이로써 액티브 구동 휠(31)과 위치 제한 휠(40)은 상부에서, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 하부에서 공동으로 로딩 트레이(11)를 클램핑하여, 로딩 메커니즘(10)의 직경 방향에서의 이동을 진일보로 제한하는 것을 이해할 수 있을 것이다.

인쇄 회로 기판의 처리가 완료된 후, 로딩 트레이(11)를 액티브 구동 휠(31)에서 다시 분리시키고 위치 결정 메커니즘(20) 상으로부터 이동시키도록, 위치 결정 메커니즘(20)은 제3 상태를 더 구비한다. 본 실시예에 있어서, 위치 결정 메커니즘(20)이 제3 상태에 위치할 경우, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 작업 위치에 위치하고 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 결정될 위치에 위치한다. 위치 결정 메커니즘(20)은 제2 상태에서 제3 상태로 전환될 수 있으며, 즉, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 작업 위치에 유지하고, 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 작업 위치에서 제1 결정될 위치로 전환되며, 로딩 트레이(11)는 하강하고, 아울러 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)의 높이 차이로 인해, 제1 위치 결정 휠(21)은 로딩 트레이(11)에 대해 수평 방향에서의 지지력을 생성하여, 로딩 트레이(11)를 제1 위치 결정 휠(21)에서 제2 위치 결정 휠(22)로의 방향을 향해 구르게함으로써, 로딩 트레이(11)를 위치 결정 메커니즘(20) 상에서 구르게하여, 다음 공정으로 진입한다. 이로써 위치 결정 메커니즘(20)은 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)의 위치 변화를 통해 로딩 트레이(11)의 위치 제한 처리 및 자동 운반을 실현한다.

로딩 트레이(11)는 제1 상태에 위치하는 위치 결정 메커니즘(20) 상에 정지되게 배치되어, 구동 메커니즘(30)으로 구동된 후 회전을 시작할 수 있으며, 항상 회전 상태에 위치하여, 구동 메커니즘(30)로 이를 계속하여 동일한 방향으로 회전하도록 구동할 수도 있음을 설명하고자 한다.

도 1을 참조하면, 로딩 트레이(11)를 위치 결정 메커니즘(20) 상에 수송시키는 것을 실현하기 위하여, 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 제1 지지 슬라이드 트랙(50)을 더 포함하며, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 제1 지지 슬라이드 트랙(50)의 연장 방향에 순차적으로 위치하며, 즉, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 지지 슬라이드 트랙(50)과 제2 위치 결정 휠(22) 사이에 위치하고, 제1 지지 슬라이드 트랙(50)은 로딩 트레이(11)를 지지하도록 구성되며, 로딩 메커니즘(10)은 제1 지지 슬라이드 트랙(50) 상에 배치되어 제1 지지 슬라이드 트랙(50)의 연장 방향을 따라 굴러갈 수 있으며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에 위치할 때, 로딩 메커니즘(10)은 제1 지지 슬라이드 트랙(50)에서 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22) 상으로 굴러갈 수 있다. 여기서, 제1 지지 슬라이드 트랙(50)은 가이드 작용을 실현하며, 로딩 트레이(11)은 관성 작용을 통해 제1 지지 슬라이드 트랙(50) 상에서 굴러가고, 관성력의 작용 하에 제1 상태에 위치하는 위치 결정 메커니즘(20) 상으로 굴러갈 수 있으며, 이때 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 작업 위치에 위치하여, 로딩 트레이(11)가 계속하여 구르는 것을 제한할 수 있으며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제2 상태로 전환될 때, 제1 위치 결정 휠(21)은 제1 작업 위치에 전환되어, 구동 메커니즘(30)으로 로딩 트레이(11)가 계속하여 동일한 방향으로 회전하도록 구동한다. 예를 들어, 도시된 바와 같이, 제1 위치 결정 휠(21)이 좌측에 위치하고 제2 위치 결정 휠(22)이 우측에 위치할 경우, 제1 지지 슬라이드 트랙(50)은 제1 위치 결정 휠(21)의 좌측에 위치하고, 로딩 트레이(11)은 제1 지지 슬라이드 트랙(50) 상에서 시계 방향으로 구르고, 구동 메커니즘(30)으로 로딩 트레이(11)가 계속하여 시계 방향으로 회전하도록 구동할 수 있다.

로딩 트레이(11)를 제1 지지 슬라이드 트랙(50)에서 제1 위치 결정 휠(21) 상으로 순조롭게 굴러가게 하기 위하여, 제1 위치 결정 휠(21)이 제1 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 제1 위치 결정 휠(21)에 인접한 제1 지지 슬라이드 트랙(50)의 일 단부의 높이와 동일하거나 낮다. 이러한 로딩 트레이(11)는 관성력 및 중력의 작용 하에 제1 위치 결정 휠(21)에 인접한 제1 지지 슬라이드 트랙(50)의 일 단부에서 포물선을 따라 구르며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제1 상태에 위치할 경우, 제1 위치 결정 휠(21)의 높이로 로딩 트레이(11)를 그의 상부로 하락시키거나 그의 상부로 이동시켜 제2 위치 결정 휠(22)과 접촉시킬 수 있다.

로딩 트레이(11)는 제1 지지 슬라이드 트랙(50) 상에서 외력을 통해 굴러가고, 본 실시예에 있어서, 제1 지지 슬라이드 트랙(50)은 수평면과 협각으로 배치되는 제1 경사면을 구비하고, 로딩 메커니즘(10)은 제1 경사면에 맞대이며, 제1 위치 결정 휠(21)을 멀리한 제1 경사면의 일 단부의 높이는 제1 위치 결정 휠(21)에 인접한 제1 경사면의 일 단부의 높이보다 높다. 즉, 제1 경사면은 제1 위치 결정 휠(21)을 향해 아래로 경사지게 연장되는 경사면이고, 로딩 트레이(11)는 제1 지지 슬라이드 트랙(50) 상에서 중력의 작용으로 인해 제1 위치 결정 휠(21)을 향해 자동으로 가속되어, 필요한 외력의 에너지 소모를 감소시킬 수 있다.

도 1을 참조하면, 위치 결정 메커니즘(20) 상으로 운동된 로딩 트레이(11)가 다시 제1 지지 슬라이드 트랙(50)으로 복귀하는 것을 방지하기 위하여, 제1 위치 결정 휠(21)에 인접한 제1 지지 슬라이드 트랙(50)의 일 단부에는 체크 밸브(51)가 구비되고, 체크 밸브(51)는 로딩 트레이(11)를 제1 지지 슬라이드 트랙(50)을 통해 제1 위치 결정 휠(21)을 향해 슬라이딩시키고, 로딩 트레이(11)가 제1 위치 결정 휠(21)을 통해 다시 제1 지지 슬라이드 트랙(50)으로 복귀하는 것을 제한할 수 있다.

도 1을 참조하면, 인쇄 회로 기판이 처리가 완료된 후 다음 공정으로 진입하기 위하여, 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 제2 지지 슬라이드 트랙(60)을 더 포함하며, 지지 메커니즘은 제1 지지 슬라이드 트랙(50)과 제2 지지 슬라이드 트랙(60) 사이에 위치하고, 제2 위치 결정 휠(22)은 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 지지 슬라이드 트랙(60) 사이에 위치하며, 제2 지지 슬라이드 트랙(60)은 로딩 트레이(11)를 지지하도록 구성되고, 제2 위치 결정 휠(22)이 제2 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 제2 위치 결정 휠(22)에 인접한 제2 지지 슬라이드 트랙(60)의 일 단부의 높이와 동일하거나 높으며, 위치 결정 메커니즘(20)이 제3 상태에 위치할 경우, 로딩 메커니즘(10)은 위치 결정 메커니즘(20) 상에서 제2 지지 슬라이드 트랙(60) 상으로 굴러가고, 제2 지지 슬라이드 트랙(60)의 연장 방향을 따라 굴러갈 수 있다. 이로써 위치 결정 메커니즘(20)이 제3 상태로 전환될 경우, 로딩 트레이(11)는 제1 위치 결정 휠(21)의 추진 작용 하에 제2 지지 슬라이드 트랙(60)으로 굴러가고, 제2 지지 슬라이드 트랙(60) 상에서 제2 지지 슬라이드 트랙(60)의 연장 방향을 따라 계속하여 구르게된다.

제2 지지 슬라이드 트랙(60)은 수평면과 협각으로 배치되는 제2 경사면을 구비하고, 로딩 메커니즘(10)은 제2 경사면에 맞대이며, 제2 위치 결정 휠(22)에 인접한 제2 경사면의 일 단부의 높이는 제2 위치 결정 휠(22)을 멀리한 제2 경사면의 일 단부의 높이보다 높다. 즉, 제2 경사면은 제2 위치 결정 휠(22)을 등지게 아래로 경사지게 연장되는 경사면이고, 로딩 트레이(11)가 제2 경사면 상으로 운동된 후, 중력의 작용 하에 위치 결정 메커니즘(20)을 멀리하는 방향을 향해 자동으로 가속하여 굴러가, 다음 공정으로 진입하여, 에너지 소모를 절약한다.

당해 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치가 작동될 경우, 로딩 트레이(11)는 제1 지지 슬라이드 트랙(50) 상에서 굴러가고, 이때 위치 결정 메커니즘(20)은 제1 상태에 위치하고, 로딩 트레이(11)는 중력의 작용 하에 제1 위치 결정 휠(21) 상으로 굴러가고, 제2 위치 결정 휠(22)은 로딩 트레이(11)가 계속하여 구르는 것을 제한하며, 본 실시예에 있어서, 감지 메커니즘가 배치될 수 있으며, 감지 메커니즘으로 로딩 트레이(11)가 기정의 위치에 위치하는 것이 감지된 후, 위치 결정 메커니즘(20)은 제1 상태에서 제2 상태로 전환되며, 로딩 트레이(11)는 상승되어 액티브 구동 휠(31)에 맞대이게 되며, 구동 모터(32)는 액티브 구동 휠(31)의 회전을 구동함으로써, 로딩 트레이(11)의 회전을 구동하며, 제1 위치 결정 휠(21)과 제2 위치 결정 휠(22)은 로딩 트레이(11)의 회전을 따라 회전하여, 로딩 트레이(11)가 자전하게 되어, 인쇄 회로 기판에 대해 액체 균일화 처리를 진행하고, 액체 균일화 처리가 완료된 후, 위치 결정 메커니즘(20)은 제2 상태에서 제3 상태로 전환되며, 제2 위치 결정 휠(22)은 제2 결정될 위치로 하락하며, 로딩 트레이(11)는 제1 위치 결정 휠(21)의 지지력의 작용 하에 위치 결정 메커니즘(20) 상으로 부터 아래로 굴러가 제2 지지 슬라이드 트랙(60) 상으로 구르며, 중력의 작용 하에 제2 지지 슬라이드 트랙(60) 상에서 계속하여 굴러가, 다음 작업 위치로 도달하게 된다.

도 1을 참조하면, 로딩 트레이(11)의 축 방향에서의 이동을 제한하기 위하여, 제1 위치 결정 휠(21), 제2 위치 결정 휠(22), 액티브 구동 휠(31) 및 위치 제한 휠(40) 중의 적어도 하나의 측 환형벽에는 고리 홈(201)이 개방되고, 로딩 트레이(11)는 고리 홈(201) 내부에 위치 제한되고, 고리 홈(201)의 홈벽은 위치 제한 작용을 실현할 수 있으며, 제1 지지 슬라이드 트랙(50)에는 제1 슬라이드 홈(501)이 개방되고, 제2 지지 슬라이드 트랙(60)에는 제2 슬라이드 홈(601)이 개방되며, 로딩 트레이(11)는 제1 슬라이드 홈(501) 및 제2 슬라이드 홈(601) 내부에서 구르며, 제1 슬라이드 홈(501)의 홈벽 및 제2 슬라이드 홈(601)의 홈벽은 위치 제한 작용을 실현할 수 있다. 바람직하게, 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 별도로 배치되는 기타의 위치 제한 메커니즘(80)을 더 포함할 수 있으며, 위치 제한 메커니즘(80)은 로딩 트레이(11)의 축 방향에서의 기울어짐 또는 변위가 발생하는 것을 제한할 수 있다. 위치 제한 메커니즘(80)은 두개의 위치 제한 부재(81)를 포함할 수 있으며, 두개의 위치 제한 부재(81)는 각각 로딩 트레이(11)의 축 방향에서의 양측에 위치한다.

도 2를 참조하면, 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 처리될 표면을 액체에 침윤시키도록 구성된 액체 처리 메커니즘을 더 포함한다. 액체 처리 메커니즘은 처리될 표면을 다시 액체에 침윤시킴으로써, 로딩 트레이(11)로 인쇄 회로 기판에 대해 다시 액체 균일화 처리를 진행할 수 있다. 액체에 진일보로 침윤하는 과정에, 로딩 트레이(11)는 다시 회전을 통해 액체를 처리될 표면에 균일하게 분포시켜, 처리될 표면의 처리 효과가 균일해지는 것을 이해할 수 있을 것이다. 여기서, 침윤의 방식은 침포일 수 있으며, 분무일수 도 있다. 여기서, 액체는 인쇄 회로 기판에 대해 처리를 진행하기 위한 약물일 수 있으며, 인쇄 회로 기판에 대해 세척을 진행하기 위한 맑은 물일 수도 있다.

도 2를 참조하면, 액체 처리 메커니즘은 유통관 및 유통관에 연통되고 로딩 트레이(11)를 향한 노즐(71)를 포함하고, 유통관은 액체를 위해 유동 통로를 제공하고, 노즐(71)은 유통관 내부의 액체를 로딩 트레이(11) 상으로 분무할 수 있다. 바람직하게, 유통관은 횡방향으로 연장되고, 노즐(71)은 다수개를 구비하며 유통관의 연장 방향을 따라 진열되게 배열된다.

인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 처리될 표면에 공기를 분무하여 처리될 표면을 건조시키도록 구성된 기체 분사 메커니즘을 더 포함한다. 기체 분사 메커니즘은 처리될 표면에 균일하게 바람을 제공하여 균일한 건조 효과를 구비한다.

도 3을 참조하면, 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 별도의 하우징(90)을 더 포함하고, 해당 별도의 하우징(90)은 수용 챔버(901)를 구비하고 수용 챔버(901)와 서로 연통되는 수송 구멍(902)이 개방되며, 수용 챔버(901)는 위치 결정 메커니즘(20), 구동 메커니즘(30), 제1 지지 슬라이드 트랙(50), 제2 지지 슬라이드 트랙(60), 위치 제한 휠(40), 분무 메커니즘(70) 또는 기체 분사 메커니즘, 및 위치 제한 메커니즘(80)을 수용하도록 구성되며, 수송 구멍(902)은 로딩 트레이(11)가 외부에서 수용 챔버(901) 내부로 수송되고 제1 지지 슬라이드 트랙(50) 상에서 굴러가도록 구성되거나, 및/또는 로딩 트레이(11)가 수용 챔버(901) 내부에서 제2 지지 슬라이드 트랙(60)을 따라 수용 챔버(901) 밖으로 굴러가도록 구성된다.

인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치에는 다수의 작업 위치가 구비될 수 있으며, 본 실시예에 있어서, 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치에는 하나의 작업 위치가 구비된다. 구체적으로, 인쇄 회로 기판의 하나의 생산라인에는 적어도 3개의 작업 위치가 구비되며, 즉, 3개의 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치가 구비된다.

제1 작업 위치에는 액체 처리 메커니즘이 구비되고, 해당 액체 처리 메커니즘은 처리될 표면에 대해 처리를 진행하도록 처리될 표면을 향해 약액을 분무한다. 로딩 트레이(11)는 회전을 통해 처리될 표면 상의 약액을 균일하게 분포시켜, 처리될 표면의 처리 효과가 균일해진다.

제2 작업 위치에는 다른 하나의 액체 처리 메커니즘이 구비되고, 로딩 트레이(11)가 제2 작업 위치로 수송될 경우, 해당 액체 처리 메커니즘은 처리될 표면에 대해 세척을 진행하도록 처리될 표면을 향해 세척액을 분무하도록 구성된다. 여기서, 진일보로 처리가 완료된 처리될 표면을 세척하기 위하여, 세척액은 맑은 물일 수 있다.

제3 작업 위치에는 기체 분사 메커니즘이 구비되고, 로딩 트레이(11)가 제3 작업 위치로 수송될 경우, 기체 분사 메커니즘은 처리될 표면을 향해 기체를 분사하며, 구동 메커니즘(30)은 로딩 트레이(11)의 회전을 구동함으로써, 처리될 표면을 균일하게 건조시킨다.

여기서, 로딩 트레이(11)가 해당 작업 위치로 운동될 때 액체 균일화 또는 건조 처리를 진일보로 진행하도록, 액체 처리 메커니즘과 기체 분사 메커니즘은 모두 임의의 하나의 작업 위치에 고정될 수 있다.

앞선 내용은 단지 본 출원의 보다 바람직한 실시예일 뿐, 본 출원을 한정하기 위한 것이 아니며, 본 출원의 사상 및 원리의 범위 내에서 진행한 임의의 수정, 균등한 대체 및 개선 등은 모두 본 출원의 보호 범위 내에 포함되어야 한다.

10: 로딩 메커니즘
101: 관통 구멍
102: 우회 구멍
11: 로딩 트레이
12: 고정 부재
20: 위치 결정 메커니즘
201: 고리 홈
21: 제1 위치 결정 휠
22: 제2 위치 결정 휠
30: 구동 메커니즘
31: 액티브 구동 휠
32: 구동 모터
33: 전송 벨트
40: 위치 제한 휠
50: 제1 지지 슬라이드 트랙
501: 제1 슬라이드 홈
51: 체크 밸브
60: 제2 지지 슬라이드 트랙
601: 제2 슬라이드 홈
70: 분무 메커니즘
71: 노즐
80: 위치 제한 메커니즘
81: 위치 제한 부재
90: 별도의 하우징
901: 수용 챔버
902: 수송 구멍

Claims

인쇄 회로 기판을 처리하기 위한 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치에 있어서, 로딩 메커니즘, 위치 결정 메커니즘 및 구동 메커니즘을 포함하되,
상기 로딩 메커니즘은 원판 형상을 나타내고, 상기 인쇄 회로 기판을 고정시키도록 구성되며, 상기 인쇄 회로 기판이 수직되게 배치되도록 상기 로딩 메커니즘의 중심 축은 수평 방향을 따라 연장되고,
상기 위치 결정 메커니즘은 적어도 제1 위치 결정 휠 및 제2 위치 결정 휠을 포함하고, 상기 제1 위치 결정 휠의 회전 축과 상기 제2 위치 결정 휠의 회전 축은 모두 수평 방향을 따라 연장되고 서로 평행되며, 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 공동으로 상기 로딩 메커니즘을 지지할 수 있으며, 상기 위치 결정 메커니즘은 제1 상태와 제2 상태 사이에서 전환될 수 있으며,
상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제1 상태에 위치하고 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 로딩 메커니즘은 상기 구동 메커니즘과 서로 이격되고, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제2 상태에 위치하고 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 구동 메커니즘은 상기 로딩 메커니즘이 그의 중심 축을 중심으로 회전하도록 상기 로딩 메커니즘을 구동할 수 있으며, 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 모두 상기 로딩 메커니즘의 회전을 따라 회전할 수 있으며,
상기 제1 위치 결정 휠은 제1 결정될 위치와 제1 작업 위치 사이에서 전환될 수 있고,
상기 제2 위치 결정 휠은 제2 결정될 위치와 제2 작업 위치 사이에서 전환될 수 있으며,
상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제2 상태에 위치할 경우, 상기 제1 위치 결정 휠은 상기 제1 작업 위치에 위치하고 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제2 작업 위치에 위치하며,
상기 제1 작업 위치는 상기 제1 결정될 위치의 상부에 위치하고, 상기 제2 작업 위치는 상기 제2 결정될 위치의 상부에 위치하며, 상기 구동 메커니즘은 상기 위치 결정 메커니즘 상부에 위치하는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 모두 동일한 평면 상에 위치하고,
상기 제1 위치 결정 휠의 회전 축과 상기 로딩 메커니즘의 중심 축은 평행되는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
삭제
제1항에 있어서,
상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제1 상태에 위치할 경우, 상기 제1 위치 결정 휠은 상기 제1 결정될 위치에 위치하고 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제2 작업 위치에 위치하는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
삭제
제1항에 있어서,
상기 제1 위치 결정 휠이 상기 제1 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 상기 제2 위치 결정 휠이 상기 제2 결정될 위치에 위치할 때의 높이와 동일하고,
상기 제1 위치 결정 휠이 상기 제1 작업 위치에 위치할 때의 높이는 상기 제2 위치 결정 휠이 상기 제2 작업 위치에 위치할 때의 높이와 동일한 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 구동 메커니즘은 액티브 구동 휠을 포함하고, 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제1 상태에 위치하고 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 로딩 메커니즘은 상기 액티브 구동 휠과 서로 이격되고,
상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제2 상태에 위치하고 상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 액티브 구동 휠은 상기 로딩 메커니즘에 맞대이어, 회전을 통해 상기 로딩 메커니즘의 회전을 구동할 수 있는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제7항에 있어서,
상기 구동 메커니즘은 구동 모터 및 전송 벨트를 더 포함하고,
상기 전송 벨트는 상기 구동 모터 및 상기 액티브 구동 휠에 연결되고,
상기 구동 모터는 상기 전송 벨트의 운동에 대한 구동을 통해 상기 액티브 구동 휠의 회전을 구동할 수 있는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제8항에 있어서,
상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 위치 제한 휠을 더 포함하고,
상기 위치 제한 휠은 상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제2 상태에 위치할 경우 상기 로딩 메커니즘에 맞대일 수 있어, 상기 로딩 메커니즘의 회전을 따라 회전할 수 있으며,
상기 위치 제한 휠, 상기 액티브 구동 휠, 상기 제1 위치 결정 휠 및 상기 제2 위치 결정 휠은 공동으로 상기 로딩 메커니즘의 변위를 제한시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제1항, 제4항, 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 제1 지지 슬라이드 트랙을 더 포함하고,
상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제1 지지 슬라이드 트랙의 연장 방향에서 순차적으로 위치되고,
상기 제1 지지 슬라이드 트랙은 상기 로딩 메커니즘을 지지하도록 구성되며,
상기 로딩 메커니즘은 상기 제1 지지 슬라이드 트랙의 연장 방향을 따라 굴러갈 수 있으며,
상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제1 상태에 위치할 경우, 상기 로딩 메커니즘은 상기 제1 지지 슬라이드 트랙에서 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠 상으로 굴러갈 수 있는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제10항에 있어서,
상기 제1 위치 결정 휠이 상기 제1 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 상기 제1 위치 결정 휠에 인접하는 상기 제1 지지 슬라이드 트랙의 일 단부의 높이와 동일하거나 낮은 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제11항에 있어서,
상기 제1 지지 슬라이드 트랙은 수평면과 협각으로 배치되는 제1 경사면을 구비하고,
상기 로딩 메커니즘은 상기 제1 경사면에 맞대이고,
상기 제1 위치 결정 휠을 멀리하는 상기 제1 경사면의 일 단부의 높이는 상기 제1 위치 결정 휠에 인접하는 상기 제1 경사면의 일 단부의 높이보다 높은 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제1항, 제4항, 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 위치 결정 메커니즘은 제3 상태를 더 구비하고,
상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제3 상태에 위치할 경우, 상기 제1 위치 결정 휠은 상기 제1 작업 위치에 위치하고 상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제2 결정될 위치에 위치하는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제13항에 있어서,
상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 제2 지지 슬라이드 트랙을 더 포함하고,
상기 제2 위치 결정 휠은 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 지지 슬라이드 트랙 사이에 위치하고,
상기 제2 지지 슬라이드 트랙은 상기 로딩 메커니즘을 지지하도록 구성되며,
상기 제2 위치 결정 휠이 상기 제2 결정될 위치에 위치할 때의 높이는 상기 제2 위치 결정 휠에 인접하는 상기 제2 지지 슬라이드 트랙의 일 단부의 높이와 동일하거나 높으며,
상기 위치 결정 메커니즘이 상기 제3 상태에 위치할 경우, 상기 로딩 메커니즘은 상기 위치 결정 메커니즘 상에서 상기 제2 지지 슬라이드 트랙 상으로 굴러가고, 상기 제2 지지 슬라이드 트랙의 연장 방향을 따라 굴러갈 수 있는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제14항에 있어서,
상기 제2 지지 슬라이드 트랙은 수평면과 협각으로 배치되는 제2 경사면을 구비하고,
상기 로딩 메커니즘은 상기 제2 경사면에 맞대이고,
상기 제2 위치 결정 휠에 인접하는 상기 제2 경사면의 일 단부의 높이는 상기 제2 위치 결정 휠을 멀리하는 상기 제2 경사면의 일 단부의 높이보다 높은 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 로딩 메커니즘은 로딩 트레이 및 상기 로딩 트레이에 배치되고 상기 인쇄 회로 기판을 고정시키도록 구성되는 고정 부재를 포함하고,
상기 구동 메커니즘은 상기 로딩 트레이가 그의 중심 축을 중심으로 회전하여 상기 로딩 트레이의 중심 축이 상기 인쇄 회로 기판에 수직되도록 상기 로딩 트레이를 구동하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제16항에 있어서,
상기 로딩 트레이는 제1 측면, 제2 측면 및 가장자리면을 구비하고,
제1 측면과 제2 측면은 대향되게 배치되고,
상기 가장자리면은 원주 방향에서 상기 제1 측면 및 상기 제2 측면을 둘러싸고 상기 로딩 트레이의 중심 축을 등지며,
상기 로딩 메커니즘이 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠 상에 배치될 경우, 상기 제1 위치 결정 휠과 상기 제2 위치 결정 휠은 모두 상기 가장자리면에 맞대이는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제16항에 있어서,
상기 로딩 트레이에는 그의 중심 축을 따라 관통되게 배치되는 관통 구멍이 개방되고,
상기 고정 부재는 상기 로딩 트레이를 상기 관통 구멍에 고정시키도록 구성되고,
상기 관통 구멍은 상기 인쇄 회로 기판을 우회하는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제1항, 제4항, 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 상기 인쇄 회로 기판을 액체에 침윤시키도록 구성되는 액체 처리 메커니즘을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.
제1항, 제4항, 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치는 상기 인쇄 회로 기판에 대해 기체를 분사하여 상기 인쇄 회로 기판을 건조시키도록 구성되는 기체 분사 메커니즘을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 회로 기판의 균일 액체 처리 장치.