JP7258913B2 - プリント回路基板の液体均一化処理装置 - Google Patents
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Description
前記材料搬送機構は円盤状であり且つ前記プリント回路基板を固定するためのものであり、前記プリント回路基板を鉛直に設置するために、前記材料搬送機構の回転軸線は水平方向に伸びており;
前記位置決め機構は少なくとも第一位置決め輪及び第二位置決め輪を含み、前記第一位置決め輪の回転軸線と前記第二位置決め輪の回転軸線はいずれも水平方向に沿って伸びて且つ互いに平行であり、前記第一位置決め輪は前記第二位置決め輪とともに前記材料搬送機構を支えられ、前記位置決め機構は第一状態と第二状態との間で切り換えることが可能で、前記位置決め機構が前記第一状態にあり且つ前記材料搬送機構が前記第一位置決め輪及び前記第二位置決め輪上に置かれた場合、前記材料搬送機構は前記駆動機構と離間し、前記位置決め機構が前記第二状態にあり且つ前記材料搬送機構が前記第一位置決め輪及び前記第二位置決め輪上に置かれた場合、前記駆動機構は前記材料搬送機構をその中心軸線回りに回転するように駆動でき、前記第一位置決め輪と前記第二位置決め輪はいずれも前記材料搬送機構の回転とともに回転できる。
101 貫通孔、
102 退避穴、
11 材料搬送盤、
12 固定部材、
20 位置決め機構、
201 環状溝、
21 第一位置決め輪、
22 第二位置決め輪、
30 駆動機構、
31 主動駆動輪、
32 駆動モータ、
33 コンベヤベルト、
40 位置制限輪、
50 第一支持シュート、
501 第一スライド溝、
51 逆止め弁、
60 第二支持シュート、
601 第二スライド溝、
70 スプレー機構、
71 ノズル、
80 位置制限機構、
81 位置制限部材、
90 独立ケース、
901 格納チャンバー、
902 搬送孔。
Claims (15)
- プリント回路基板を処理するためのプリント回路基板の液体均一化処理装置であって、前記プリント回路基板の液体均一化処理装置は材料搬送機構、位置決め機構及び駆動機構を含み、
前記材料搬送機構は円盤状であり且つ前記プリント回路基板を固定するためのものであり、前記プリント回路基板を鉛直に設置するために、前記材料搬送機構の中心軸線は水平方向に伸びており;
前記位置決め機構は少なくとも第一位置決め輪及び第二位置決め輪を含み、前記第一位置決め輪の回転軸線と前記第二位置決め輪の回転軸線はいずれも水平方向に沿って伸びて且つ互いに平行であり、前記第一位置決め輪は前記第二位置決め輪とともに前記材料搬送機構を支えられ、前記位置決め機構は第一状態と第二状態との間で切り換えることが可能で、前記位置決め機構が前記第一状態にあり且つ前記材料搬送機構が前記第一位置決め輪及び前記第二位置決め輪上に置かれた場合、前記材料搬送機構は前記駆動機構と離間し、前記位置決め機構が前記第二状態にあり且つ前記材料搬送機構が前記第一位置決め輪及び前記第二位置決め輪上に置かれた場合、前記駆動機構は前記材料搬送機構をその中心軸線回りに回転するように駆動でき、前記第一位置決め輪と前記第二位置決め輪はいずれも前記材料搬送機構の回転とともに回転でき、
前記第一位置決め輪と前記第二位置決め輪はいずれも同一の平面上に位置し、前記第一位置決め輪の回転軸線が前記材料搬送機構の中心軸線に平行であり、
前記第一位置決め輪は第一仮位置と第一作業位置との間で切り換えることができ、前記第二位置決め輪は第二仮位置と第二作業位置との間で切り換えることができ、前記位置決め機構が前記第二状態にある時、前記第一位置決め輪は前記第一作業位置にあって且つ前記第二位置決め輪は前記第二作業位置にあり、
さらに、第一支持シュートおよび第二支持シュートを含み、
前記第一支持シュートは水平面と挟角をなして設置された第一傾斜面を有し、前記材料搬送機構は前記第一傾斜面に当接し、前記第一傾斜面の前記第一位置決め輪から遠く離れた端の高さは、前記第一傾斜面の前記第一位置決め輪寄りの端の高さより高く、前記第二支持シュートは水平面と挟角をなして設置された第二傾斜面を有し、前記材料搬送機構は前記第二傾斜面に当接し、前記第二傾斜面の前記第二位置決め輪寄りの端の高さは、前記第二傾斜面の前記第二位置決め輪から遠く離れた端の高さより高い
ことを特徴とするプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記位置決め機構が前記第一状態にある時、前記第一位置決め輪は前記第一仮位置にあって且つ前記第二位置決め輪は前記第二作業位置にある
ことを特徴とする請求項1に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記第一作業位置は前記第一仮位置の上方にあり、前記第二作業位置は前記第二仮位置の上方にあり、前記駆動機構は前記位置決め機構の上方にある
ことを特徴とする請求項1に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記第一位置決め輪の前記第一仮位置にある時の高さは前記第二位置決め輪の前記第二仮位置にある時の高さと同じで、前記第一位置決め輪の前記第一作業位置にある時の高さは前記第二位置決め輪の前記第二作業位置にある時の高さと同じである
ことを特徴とする請求項3に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記駆動機構は主動駆動輪を含み、前記位置決め機構が前記第一状態にあり且つ前記材料搬送機構が前記第一位置決め輪と前記第二位置決め輪上に置かれた時、前記材料搬送機構は前記主動駆動輪から離間し、前記位置決め機構が前記第二状態にあり且つ前記材料搬送機構が前記第一位置決め輪と前記第二位置決め輪上に置かれた時、前記主動駆動輪は前記材料搬送機構に当接して、且つ回転により前記材料搬送機構の回転を駆動できる
ことを特徴とする請求項3に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記駆動機構はさらに駆動モータ及びコンベヤベルトを含み、前記コンベヤベルトは前記駆動モータ及び前記主動駆動輪に接続され、前記駆動モータは前記コンベヤベルトの運動を駆動することで前記主動駆動輪の回転を駆動できる
ことを特徴とする請求項5に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記プリント回路基板の液体均一化処理装置はさらに位置制限輪を含み、前記位置決め機構が前記第二状態にある時、前記位置制限輪は前記材料搬送機構に当接して、且つ前記材料搬送機構の回転とともに回転でき、そして前記位置制限輪、前記主動駆動輪、前記第一位置決め輪及び前記第二位置決め輪は共同して前記材料搬送機構の変位を制限できる
ことを特徴とする請求項5に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記第一位置決め輪と前記第二位置決め輪はこの順に前記第一支持シュートの延伸方向に位置し、前記第一支持シュートは前記材料搬送機構を支持するためのものであり、前記材料搬送機構は前記第一支持シュートの延伸方向に沿って転動することができ、前記位置決め機構が前記第一状態にある時、前記材料搬送機構は前記第一支持シュートにより前記第一位置決め輪と前記第二位置決め輪上に転動できる
ことを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記位置決め機構はさらに第三状態を有し、前記位置決め機構が前記第三状態にある時、前記第一位置決め輪が前記第一作業位置にあり且つ前記第二位置決め輪が前記第二仮位置にある
ことを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記第二位置決め輪が前記第一位置決め輪と前記第二支持シュートとの間に位置し、前記第二支持シュートは前記材料搬送機構を支持するためのものであり、前記第二位置決め輪の前記第二仮位置にある時の高さは前記第二支持シュートの前記第二位置決め輪寄りの端の高さ以上であり、前記位置決め機構が前記第三状態にある時、前記材料搬送機構は前記位置決め機構上から前記第二支持シュート上にスライドして、且つ前記第二支持シュートの延伸方向に沿って転動できる
ことを特徴とする請求項9に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記材料搬送機構は材料搬送盤及び前記材料搬送盤に設けられて且つ前記プリント回路基板を固定するための固定部材を含み、前記駆動機構は前記材料搬送盤をその中心軸線回りに回転するように駆動するためのものであり、前記材料搬送盤の中心軸線は前記プリント回路基板に垂直である
ことを特徴とする請求項1に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記材料搬送盤は第一側面、第二側面及びエッジ面を有し、第一側面及び第二側面は反対に設置されて、前記エッジ面は前記第一側面及び第二側面を周方向において囲繞しており、前記材料搬送機構が前記第一位置決め輪と前記第二位置決め輪上に置かれた時、前記第一位置決め輪及び前記第二位置決め輪はいずれも前記エッジ面に当接する
ことを特徴とする請求項11に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記材料搬送盤にはその中心軸線に沿って貫通するように設置された貫通孔が開けられて、前記固定部材は前記材料搬送盤を前記貫通孔に固定するためのものであり、前記貫通孔は前記プリント回路基板を避ける
ことを特徴とする請求項11に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記プリント回路基板の液体均一化処理装置はさらに前記プリント回路基板に液体を浸潤させるための液体処理機構を含む
ことを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。 - 前記プリント回路基板の液体均一化処理装置はさらに前記プリント回路基板に空気をスプレーして前記プリント回路基板を乾燥させるための空気スプレー機構を含む
ことを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載のプリント回路基板の液体均一化処理装置。
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