KR102327853B1 - 처리 프로세스를 조정하는 방법 - Google Patents

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Abstract

하나의 프로세스 레시피를 복수의 상이한 가스 공급계에서 이용하기 위한 기술이 제공된다. 기판 처리 장치에서 이용되는 프로세스 레시피를 기판 처리 장치와 상이한 구성을 구비하는 기판 처리 장치에 적용하여 피처리체를 처리하는 경우에, 처리 프로세스를 조정하는 방법으로서, 기판 처리 장치의 가스 공급계 및 기판 처리 장치의 가스 공급계에 관한 장치 정보를 이용하여, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터 미리 설정된 시간만큼, 또는 가스 처리 공정의 개시 전의 미리 설정된 시간만큼, 가스 공급계에 있어서의 가스의 유량을 증감시켜, 처리 프로세스를 조정하는 공정을 포함하고, 이 공정은, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치의 처리 프로세스를, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치의 처리 프로세스에 적합하게 한다.

Description

처리 프로세스를 조정하는 방법{METHOD OF ARRANGING TREATMENT PROCESS}
본 발명의 실시형태는, 처리 프로세스를 조정하는 방법에 관한 것이다.
플라즈마 처리 장치와 같은 기판 처리 장치에서는, 이 기판 처리 장치의 처리 용기에 가스 공급계로부터의 가스가 공급되어, 기판이 처리된다. 기판 처리 장치에서는 복수 종류의 처리가 순차로 행해지는 경우가 있다. 이로 인하여, 가스 공급계는, 복수 종류의 가스 중 하나 이상의 가스의 유량을 제어하여, 유량이 제어된 하나 이상의 가스를 처리 용기 내에 공급하도록 구성되는 경우가 있다. 복수 종류의 가스에 따른 복수 종류의 가스원의 각각에는, 복수의 분기관로가 접속되어 있다. 처리 용기에는, 가스의 주관로가 접속되고, 이 주관로의 일단에는 복수의 분기관로가 접속되는 간선관로가 접속된다. 복수의 분기관로는, 주관로에 가까운 쪽으로부터 순차로, 간선관로에 접속된다. 하나의 분기관로는, 하나의 가스원에 접속되어 있으며, 복수의 분기관로의 각각은, 서로 상이한 설정 유량, 최대 유량을 갖는 경우가 있다.
상기와 같이 설정 유량이 상이한 복수의 분기관로를 구비하는 가스 공급계가 이용되는 기술로서, 혼합 가스의 공급 방법, 혼합 가스 공급 장치, 및 당해 방법, 당해 장치를 구비한 반도체 제조 장치가 특허문헌 1에 개시되어 있다. 특허문헌 1에 관한 기술은, 반도체 제조 장치용 혼합 가스 공급 장치에 있어서, 대유량 공급 가스가 소유량 공급 가스의 라인 내로 역류하는 것이 원인으로 밸브나 매스 플로 미터에 발생할 수 있는 각종 현상을 방지하는 것을 목적으로 하고 있으며, 복수의 가스 공급 라인을 통하여 복수의 가스를 공급하고 복수의 가스의 혼합 가스를 가스 아웃부를 통하여 가스 사용 대상에 공급하는 혼합 가스 공급 방법에 있어서, 복수의 가스 중의 최소 유량의 가스를 가스 아웃부로부터 가장 먼 위치에 마련한 가스 공급 라인으로부터 공급하는 구성을 갖는다.
특허문헌 1: 일본 공개특허공보 평9-283504호
상기와 같이 가스종마다 마련된 복수의 분기관로는, 가스종이 서로 상이함과 함께 가스의 설정 유량도 서로 상이하다. 이와 같은 가스의 분기관로의 배치 등은, 가스 공급계마다 상이한 경우가 있으며, 가스 처리 공정의 내용이 규정되는 프로세스 레시피는, 가스 공급계마다 적합하게 설정되어 있는 경우가 있다. 이로 인하여, 하나의 가스 공급계에서 이용되는 프로세스 레시피가 다른 가스 공급계에서 이용되는 경우에는, 당해 하나의 가스 공급계에서 얻어지는 처리 결과와는 다른 처리 결과가 당해 다른 가스 공급계에서 얻어지는 경우가 있다. 따라서, 하나의 프로세스 레시피를 복수의 상이한 가스 공급계에서 이용하기 위한 기술이 요망되고 있다.
일 양태에 있어서는, 제1 처리 장치에서 이용되는 프로세스 레시피를 상기 제1 처리 장치와 상이한 구성을 구비하는 제2 처리 장치에 적용하여 피처리체를 처리하는 경우에, 처리 프로세스를 조정하는 방법이 제공된다. (1) 제1 처리 장치는, 피처리체가 처리되는 제1 처리 용기와, 제1 가스 공급계를 구비하고, 제1 가스 공급계는, 제1 주관로와 제1 간선관로와 복수의 제1 분기관로와 복수의 제1 유량 제어기와 복수의 제1 가스원을 구비하며, 제1 주관로의 일단은, 제1 처리 용기에 접속되고, 제1 주관로의 타단은, 제1 간선관로의 일단에 접속되며, 복수의 제1 분기관로의 각각의 일단은, 제1 간선관로에 접속되고, 복수의 제1 분기관로의 각각의 타단은, 복수의 제1 가스원의 각각에 접속되며, 복수의 제1 유량 제어기의 각각은, 복수의 제1 분기관로의 각각에 대하여 설치되어 있고, 상기 복수의 제1 분기관로의 각각을 흐르는 가스의 유량을 제어하며, 복수의 제1 분기관로는, 제1 관번호가 할당되어 있고, 제1 관번호는, 제1번으로부터 제M번까지의 번호이며, M은, 복수의 제1 분기관로의 총수를 나타내는 1보다 큰 자연수이고, 제1번~제M번의 제1 분기관로는, 제1 관번호의 순으로, 제1 주관로에 가까운 쪽으로부터 제1 간선관로에 접속되어 있으며, 제1번~제M번의 제1 분기관로의 각각으로부터 제1 간선관로를 흐르는 가스의 설정 유량의 값은, 서로 상이하고, (2) 제2 처리 장치는, 피처리체가 처리되는 제2 처리 용기와, 제2 가스 공급계를 구비하고, 제2 가스 공급계는, 제2 주관로와 제2 간선관로와 복수의 제2 분기관로와 복수의 제2 유량 제어기와 복수의 제2 가스원을 구비하며, 제2 주관로의 일단은, 제2 처리 용기에 접속되고, 제2 주관로의 타단은, 제2 간선관로의 일단에 접속되며, 복수의 제2 분기관로의 각각의 일단은, 제2 간선관로에 접속되고, 복수의 제2 분기관로의 각각의 타단은, 복수의 제2 가스원의 각각에 접속되며, 복수의 제2 유량 제어기의 각각은, 복수의 제2 분기관로의 각각에 대하여 설치되어 있고, 상기 복수의 제2 분기관로의 각각을 흐르는 가스의 유량을 제어하며, 복수의 제2 분기관로는, 제2 관번호가 할당되어 있고, 제2 관번호는, 제1번으로부터 제N번까지의 번호이며, N은, 복수의 제2 분기관로의 총수를 나타내는 1보다 큰 자연수이고, 제1번~제N번의 제2 분기관로는, 제2 관번호의 순으로, 제2 주관로에 가까운 쪽으로부터 제2 간선관로에 접속되어 있으며, 제1번~제N번의 제2 분기관로의 각각으로부터 제2 간선관로를 흐르는 가스의 설정 유량의 값은, 서로 상이하다. 본 양태에 관한 방법은, 제1 가스 공급계 및 제2 가스 공급계에 관한 장치 정보를 이용하여, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터 미리 설정된 시간만큼, 또는 상기 가스 처리 공정의 개시 전의 미리 설정된 시간만큼, 제2 가스 공급계에 있어서의 가스의 유량을 증감시켜, 처리 프로세스를 조정하는 공정을 포함하며, 이 조정하는 공정은, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를, 상기 프로세스 레시피를 이용한 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 적합하게 한다.
상기 방법에서는, 가스 공급계의 분기관로의 배치가 서로 상이할 수 있는 제1 처리 장치와 제2 처리 장치에 있어서, 제1 처리 장치에서 이용되는 프로세스 레시피를 제2 처리 장치에 적용하여 피처리체를 처리하는 경우에, 제1 가스 공급계 및 제2 가스 공급계에 관한 장치 정보를 이용하여, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터 미리 설정된 시간만큼, 또는 가스 처리 공정의 개시 전의 미리 설정된 시간만큼, 제2 가스 공급계에 있어서의 가스의 유량이 증감되고(가스의 유량의 증감에 따라 가스의 공급 개시 시를 지연시키는 경우를 포함함), 제2 처리 장치의 처리 프로세스가 조정되므로, 제1 처리 장치에서 이용되는 프로세스 레시피가 제2 처리 장치에 이용되어도, 제2 처리 장치에 있어서, 제1 처리 장치와 동일한 처리 프로세스가 실현된다.
일 실시형태에서는, 조정하는 공정은, (3) 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에 있어서 2종류의 가스종이 이용되는 경우에, 복수의 제1 분기관로 중 상기 2종류의 가스종에 대응하는 제M1번(M1은, 1≤M1≤M-1을 충족시키는 자연수)의 제1 분기관로 및 제M2번(M2는, 2≤M2≤M이고 또한 M1＜M2를 충족시키는 자연수)의 제1 분기관로와, 복수의 제2 분기관로 중 상기 2종류의 가스종에 대응하는 제N1번(N1은, 1≤N1≤N-1을 충족시키는 자연수)의 제2 분기관로 및 제N2번(N2는, 2≤N2≤N이고 또한 N1＜N2를 충족시키는 자연수)의 제2 분기관로를 선택하는 제1 공정과, (4) 복수의 제1 분기관로 중 제1 공정에 있어서 선택된 제M1번의 제1 분기관로 및 제M2번의 제1 분기관로의 각각에 대응하는 제1 관번호인 M1, M2 및 설정 유량의 값과, 복수의 제2 분기관로 중 상기 제1 공정에 있어서 선택된 제N1번의 제2 분기관로 및 제N2번의 제2 분기관로의 각각에 대응하는 제2 관번호인 N1, N2 및 상기 설정 유량의 값의 조합에 근거하여, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는 제2 공정을 포함한다. 이와 같이, 제1 가스 공급계의 구성과 제2 가스 공급계의 구성의 차이가 제1 공정에서 정확하게 특정되고, 제1 공정에서 특정된 당해 차이에 근거하여 제2 공정에 있어서 제2 처리 장치의 처리 프로세스가 조정되므로, 당해 조정을 정확하게 행할 수 있다.
일 실시형태에서는, 제2 공정은, 제N2번의 제2 분기관로에 대응하는 설정 유량의 값이 제N1번의 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제M1번의 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M2번의 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 큰 경우에는, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 제2 간선관로에 흘려 보내는 제N2번의 제2 분기관로로부터의 가스의 유량이 설정 유량에 도달할 때까지의 시간을, 제M2번의 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량으로 압력 안정 시에 제1 간선관로에 있는 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급이 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 제1 처리 장치측의 지연에 맞추어 제2 가스 공급계의 설정 유량을 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 제2 공정은, 제N1번의 제2 분기관로에 대응하는 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제M2번의 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M1번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 큰 경우에는, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 제N2번의 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로부터 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 설정 유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 유량으로 압력 안정 시에 제2 간선관로에 있는 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량을 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급이 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 시로부터 제2 가스 공급계에 있어서의 가스의 유량을 설정보다 증가시켜 제2 처리 장치측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 제2 공정은, 제N1번의 제2 분기관로에 대응하는 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제M2번의 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M1번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 큰 경우에는, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전에 있어서, 제N2번의 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 최대 유량으로 압력 안정 시에 제2 간선관로에 있는 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과하여 상기 가스 처리 공정이 개시될 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량을 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급이 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 전부터 제2 가스 공급계의 가스 공급을 개시하고 가스 처리 공정의 개시 시까지 제2 처리 장치측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 제2 공정은, 제M1번의 제1 분기관로에 대응하는 설정 유량의 값이 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제N1번의 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크며, 또한 M2가 N2보다 큰 경우에는, 압력 안정 시에 제1 간선관로에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 제2 간선관로에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 제2 간선관로에 흘려 보내는 제N2번의 제2 분기관로로부터의 가스의 유량이 설정 유량에 도달할 때까지의 시간을, 제M2번의 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량으로 차분 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급이 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 제1 처리 장치측의 지연에 맞추어 제2 가스 공급계의 설정 유량을 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 제2 공정은, 제M1번의 제1 분기관로에 대응하는 설정 유량의 값이 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제N1번의 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크며, 또한 N2가 M2보다 큰 경우에는, 압력 안정 시에 제2 간선관로에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 제1 간선관로에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 제N2번의 제2 분기관로로부터 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로부터 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 설정 유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 유량으로 차분 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량을 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급이 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 시로부터 제2 가스 공급계에 있어서의 가스의 유량을 설정보다 증가시켜 제2 처리 장치측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 제2 공정은, 제M1번의 제1 분기관로에 대응하는 설정 유량의 값이 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제N1번의 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크며, 또한 N2가 M2보다 큰 경우에는, 압력 안정 시에 제2 간선관로에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 제1 간선관로에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전에 있어서, 제N2번의 제2 분기관로로부터 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 최대 유량으로 차분 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과하여 상기 가스 처리 공정이 개시될 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량을 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급이 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 전부터 제2 가스 공급계의 가스 공급을 개시하고 가스 처리 공정의 개시 시까지 제2 처리 장치측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 조정하는 공정은, 제1 주관로의 용적 및 제2 주관로의 용적의 대소를 판정하고, 이 판정 결과에 근거하여, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 처리 용기에 직결되는 주관로의 용적의 대소에 따라 가스 공급계로부터 처리 용기로의 가스의 공급의 속도가 상이하므로, 제1 주관로의 용적 및 제2 주관로의 용적의 대소의 판정 결과에 근거하여, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 조정하는 공정은, 제1 주관로의 용적이 제2 주관로의 용적보다 큰 경우에는, 압력 안정 시에 제1 주관로에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 제2 주관로에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 제2 주관로를 흐르는 가스의 주유량(主流量)이 상기 제2 주관로에 대응하는 설정 주유량에 도달할 때까지의 시간을, 제1 주관로에 대응하는 상기 설정 주유량으로 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 처리 용기에 직결되는 주관로의 용적의 대소에 기인하여 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급이 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 제1 처리 장치측의 지연에 맞추어 제2 가스 공급계의 설정 유량을 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 조정하는 공정은, 제2 주관로의 용적이 제1 주관로의 용적보다 큰 경우에는, 압력 안정 시에 제2 주관로에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 제1 주관로에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 제2 주관로에 흘려 보내는 가스의 최대 주유량의 값으로부터 상기 제2 주관로에 대응하는 상기 설정 주유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 주유량으로 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 상기 제2 주관로를 흐르는 가스의 주유량을 상기 제2 주관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 주유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 처리 용기에 직결되는 주관로의 용적의 대소에 기인하여 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급이 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 시로부터 제2 가스 공급계에 있어서의 가스의 유량을 설정보다 증가시켜 제2 처리 장치측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
실시형태에서는, 조정하는 공정은, 제2 주관로의 용적이 제1 주관로의 용적보다 큰 경우에는, 압력 안정 시에 제2 주관로에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 제1 주관로에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전에 있어서, 제2 주관로를 흐르는 가스의 최대 주유량으로 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과하여 상기 가스 처리 공정이 개시될 때까지의 동안에 있어서, 상기 제2 주관로를 흐르는 가스의 주유량을 상기 제2 주관로를 흐르는 가스의 상기 최대 주유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 처리 용기에 직결되는 주관로의 용적의 대소에 기인하여 제2 가스 공급계로부터 제2 처리 용기로의 가스의 공급이 제1 가스 공급계로부터 제1 처리 용기로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 전부터 제2 가스 공급계의 가스 공급을 개시하고 가스 처리 공정의 개시 시까지 제2 처리 장치측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
일 실시형태에서는, 가스 처리 공정의 종료 시에 있어서, 제1 가스 공급계에 있어서의 가스의 공급의 정지 시로부터 감쇠하는 제1 주관로에 있어서의 가스의 제1 감쇠 주유량과, 제2 가스 공급계에 있어서의 가스의 공급의 정지 시로부터 감쇠하는 제2 주관로에 있어서의 가스의 제2 감쇠 주유량을 비교하여, 상기 제1 감쇠 주유량이 상기 제2 감쇠 주유량보다 많은 경우에, 상기 제1 감쇠 주유량으로부터 상기 제2 감쇠 주유량을 뺀 차분 감쇠 주유량을 산출하고, 제2 가스 공급계에 있어서, 가스의 공급의 정지 시로부터, 상기 차분 감쇠 주유량의 가스가 상기 제2 주관로로 흐르도록, 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정한다. 이와 같이, 제1 감쇠 주유량이 제2 감쇠 주유량보다 많은 경우에는, 제2 가스 공급계에 있어서, 가스의 공급의 정지 시로부터, 제1 감쇠 주유량으로부터 제2 감쇠 주유량을 뺀 차분 감쇠 주유량의 가스를 제2 주관로에 흘려 보내도록 제2 가스 공급계를 제어함으로써, 제1 처리 장치의 프로세스 레시피를 이용한 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 하나의 프로세스 레시피를 복수의 상이한 가스 공급계에서 이용하기 위한 기술이 제공된다.
도 1은, 일 실시형태에 관한 방법의 일 부분을 나타내는 흐름도이다.
도 2는, 일 실시형태에 관한 방법의 다른 부분을 나타내는 흐름도이다.
도 3은, (a)부 및 (b)부를 포함하고, 도 3의 (a)부에는, 하나의 기판 처리 장치의 일례가 나타나 있으며, 도 3의 (b)부에는, 다른 기판 처리 장치의 일례가 나타나 있다.
도 4는, 일 실시형태에 관한 제1 조정, 제3 조정, 및 제5 조정의 각 처리 내용을, 시간의 경과를 따라 나타내는 도이다.
도 5는, 일 실시형태에 관한 제2 조정, 제4 조정, 및 제7 조정의 각 처리 내용을, 시간의 경과를 따라 나타내는 도이다.
도 6은, 일 실시형태에 관한 제6 조정의 처리 내용을, 시간의 경과를 따라 나타내는 도이다.
이하, 도면을 참조하여 다양한 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서 동일하거나 또는 상당하는 부분에 대해서는 동일한 부호를 붙이는 것으로 한다.
도 1 및 도 2는, 각각, 일 실시형태에 관한 방법을 나타내는 흐름도이다. 도 1 및 도 2에 나타내는 일 실시형태의 방법 MT는, 처리 프로세스를 조정하는 방법이다. 도 3은, (a)부 및 (b)부를 포함한다. 도 3의 (a)부에는, 하나의 기판 처리 장치의 일례가 나타나 있으며, 도 3의 (b)부에는, 다른 기판 처리 장치의 일례가 나타나 있다. 도 3의 (a)부에는, 기판을 처리하는 방법의 다양한 실시형태에서 이용 가능한 기판 처리 장치(A10)(제1 처리 장치)의 구성이 모식적으로 나타나 있으며, 도 3의 (b)부에는, 기판을 처리하는 방법의 다양한 실시형태에서 이용 가능한 기판 처리 장치(B10)(제2 처리 장치)의 구성이 모식적으로 나타나 있다.
먼저, 도 3의 (a)부를 참조하여, 기판 처리 장치(A10)(제1 처리 장치)의 주요한 구성을 설명한다. 기판 처리 장치(A10)는, 가스 공급계(A1)(제1 가스 공급계), 처리 용기(A6)(제1 처리 용기), 배관(A7), 압력 조정 밸브(A71), 배기 장치(A8)를 구비한다. 가스 공급계(A1)는, M개(M은, M＞1을 충족시키는 자연수이고, 이하 동일)의 가스원(A2)(복수의 제1 가스원), M개의 분기관로(A3)(복수의 제1 분기관로), M개의 유량 제어기(A31)(복수의 제1 유량 제어기), M개의 밸브(A32), M개의 밸브(A33), 간선관로(A4)(제1 간선관로), 주관로(A5)(제1 주관로), 밸브(A51), 퍼지 가스원(A9), 배관(A11), 밸브(A111), 밸브(A112), 배관(A113), M개의 밸브(A114), 제어부(A12)를 구비한다. M은, 가스 공급계(A1)가 구비하는 복수의 분기관로(A3)의 총수를 나타내는 1보다 큰 자연수이다. 가스 공급계(A1)는, 처리 용기(A6)에 각종 가스를 공급하는 구성이다. 처리 용기(A6)는, 피처리체(웨이퍼)가 처리되는 용기이다.
주관로(A5)의 일단은, 밸브(A51)를 통하여, 처리 용기(A6)에 접속된다. 주관로(A5)의 타단은, 간선관로(A4)의 일단에 접속된다. M개의 분기관로(A3)의 각각의 일단은, 간선관로(A4)에 접속된다. M개의 분기관로(A3)의 각각의 타단은, M개의 가스원(A2)의 각각에 접속된다. M개의 유량 제어기(A31)의 각각은, M개의 분기관로(A3)의 각각에 대하여 설치되어 있고, 제어부(A12)로부터의 지시에 따라, M개의 분기관로(A3)의 각각을 흐르는 가스의 유량을 제어한다. M개의 분기관로(A3)는, 관번호(제1 관번호)가 할당되어 있다. 제1 관번호는, 제1번으로부터 제M번까지의 번호이다. 제1번~제M번의 분기관로(A3)는, 제1 관번호의 순으로, 주관로(A5)에 가까운 쪽으로부터 간선관로(A4)에 접속되어 있다. 제1번~제M번의 분기관로(A3)의 각각은, 서로 설정 유량이 상이하다. 간선관로(A4)와 주관로(A5)의 접속 개소는, 제1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접속 개소이다.
분기관로(A3) 상에 있어서 유량 제어기(A31)의 전후에는, 밸브(A32) 및 밸브(A33)가 마련되어 있다. 밸브(A32), 밸브(A33), 밸브(A51)는, 가스 처리 공정의 실행 시에는 모두 개방(OPEN)이 되고, 가스 처리 공정 이외의 공정에서는 모두 폐쇄(CLOSE)가 된다. 처리 용기(A6)는, 배관(A7)을 통하여 배기 장치(A8)에 접속되어 있다. 배관(A7) 상에 있어서 처리 용기(A6)와 배기 장치(A8)의 사이에는, 압력 조정 밸브(A71)가 마련되어 있다. 압력 조정 밸브(A71)는, 배기 처리 공정의 실행 시에는 개방(OPEN)이 되고, 배기 처리 공정 이외의 공정에서는 폐쇄(CLOSE)가 된다.
배관(A11)의 일단은, 밸브(A111)를 통하여 퍼지 가스원(A9)에 접속되어 있다. 배관(A11)의 타단은, 밸브(A112)를 통하여 주관로(A5)에 접속되어 있다. 배관(A11)은, 밸브(A111)와 밸브(A112)의 사이에 있어서, 배관(A113)에 접속되어 있다. 배관(A113)은, 밸브(A114)를 통하여, 밸브(A32)와 유량 제어기(A31)의 사이에 있어서 분기관로(A3)에 접속되어 있다.
제어부(A12)는, CPU, 및 ROM, RAM(메모리)을 구비하는 컴퓨터 장치이다. 제어부(A12), 제어부(A12)의 CPU가, 제어부(A12)의 메모리에 격납되어 있는 각종 컴퓨터 프로그램 및 데이터를 이용하여, 기판 처리 장치(A10)를 통괄적으로 제어한다.
다음으로, 도 3의 (b)부를 참조하여, 기판 처리 장치(B10)(제2 처리 장치)의 주요한 구성을 설명한다. 또한, 기판 처리 장치(B10)의 각 구성 요소(예를 들면, 가스 공급계(B1))는, 기판 처리 장치(A10)의 각 구성 요소에 붙어 있는 부호의 A를 B로 대신한 것에 대응하고 있다. 예를 들면, 기판 처리 장치(B10)의 가스 공급계(B1)에는 기판 처리 장치(A10)의 가스 공급계(A1)가 대응하고 있다.
기판 처리 장치(B10)는, 가스 공급계(B1)(제2 가스 공급계), 처리 용기(B6)(제2 처리 용기), 배관(B7), 압력 조정 밸브(B71), 배기 장치(B8)를 구비한다. 가스 공급계(B1)는, N개(N는, N＞1을 충족시키는 자연수이고, 이하 동일)의 가스원(B2)(복수의 제2 가스원), N개의 분기관로(B3)(복수의 제2 분기관로), N개의 유량 제어기(B31)(복수의 제2 유량 제어기), N개의 밸브(B32), N개의 밸브(B33), 간선관로(B4)(제2 간선관로), 주관로(B5)(제2 주관로), 밸브(B51), 퍼지 가스원(B9), 배관(B11), 밸브(B111), 밸브(B112), 배관(B113), N개의 밸브(B114), 제어부(B12)를 구비한다. N은, 가스 공급계(B1)가 구비하는 복수의 분기관로(B3)의 총수를 나타내는 1보다 큰 자연수이다. 가스 공급계(B1)는, 처리 용기(B6)에 각종 가스를 공급하는 구성이다. 처리 용기(B6)는, 피처리체(웨이퍼)가 처리되는 용기이다.
주관로(B5)의 일단은, 밸브(B51)를 통하여, 처리 용기(B6)에 접속된다. 주관로(B5)의 타단은, 간선관로(B4)의 일단에 접속된다. N개의 분기관로(B3)의 각각의 일단은, 간선관로(B4)에 접속된다. N개의 분기관로(B3)의 각각의 타단은, N개의 가스원(B2)의 각각에 접속된다. N개의 유량 제어기(B31)의 각각은, N개의 분기관로(B3)의 각각에 대하여 설치되어 있고, 제어부(B12)로부터의 지시에 따라, N개의 분기관로(B3)의 각각을 흐르는 가스의 유량을 제어한다. N개의 분기관로(B3)는, 관번호(제2 관번호)가 할당되어 있다. 제2 관번호는, 제1번으로부터 제N번까지의 번호이다. 제1번~제N번의 분기관로(B3)는, 제2 관번호의 순으로, 주관로(B5)에 가까운 쪽으로부터 간선관로(B4)에 접속되어 있다. 제1번~제N번의 분기관로(B3)의 각각은, 서로 설정 유량이 상이하다. 간선관로(B4)와 주관로(B5)의 접속 개소는, 제1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접속 개소이다.
분기관로(B3) 상에 있어서 유량 제어기(B31)의 전후에는, 밸브(B32) 및 밸브(B33)가 마련되어 있다. 밸브(B32), 밸브(B33), 밸브(B51)는, 가스 처리 공정의 실행 시에는 모두 개방(OPEN)이 되고, 가스 처리 공정 이외의 공정에서는 모두 폐쇄(CLOSE)가 된다. 처리 용기(B6)는, 배관(B7)을 통하여 배기 장치(B8)에 접속되어 있다. 배관(B7) 상에 있어서 처리 용기(B6)와 배기 장치(B8)의 사이에는, 압력 조정 밸브(B71)가 마련되어 있다. 압력 조정 밸브(B71)는, 배기 처리 공정의 실행 시에는 개방(OPEN)이 되고, 배기 처리 공정 이외의 공정에서는 폐쇄(CLOSE)가 된다.
배관(B11)의 일단은, 밸브(B111)를 통하여 퍼지 가스원(B9)에 접속되어 있다. 배관(B11)의 타단은, 밸브(B112)를 통하여 주관로(B5)에 접속되어 있다. 배관(B11)은, 밸브(B111)와 밸브(B112)의 사이에 있어서, 배관(B113)에 접속되어 있다. 배관(B113)은, 밸브(B114)를 통하여, 밸브(B32)와 유량 제어기(B31)의 사이에 있어서 분기관로(B3)에 접속되어 있다.
제어부(B12)는, CPU, 및 ROM, RAM(메모리)을 구비하는 컴퓨터 장치이다. 제어부(B12), 제어부(B12)의 CPU가, 제어부(B12)의 메모리에 격납되어 있는 각종 컴퓨터 프로그램 및 데이터를 이용하여, 기판 처리 장치(B10)를 통괄적으로 제어한다. 특히, 제어부(B12)의 메모리에는, 후술하는 프로세스 레시피와, 장치 정보와, 도 1, 2의 흐름도에 나타내는 후술하는 조정 처리를 실행하기 위한 컴퓨터 프로그램 및 각종 데이터가 격납되어 있으며, 제어부(B12)의 CPU는, 제어부(B12)의 메모리에 격납되어 있는 프로세스 레시피와, 장치 정보와, 도 1, 2의 흐름도에 나타내는 조정 처리를 실행하기 위한 컴퓨터 프로그램 및 각종 데이터를 이용하여, 도 1, 2의 흐름도에 나타내는 조정 처리를 실행한다.
다음으로, 도 1, 도 2, 도 4~6을 참조하여, 일 실시형태의 방법 MT(조정 처리)에 대하여 설명한다. 또한, 도 4~6의 가로축은 시간의 경과를 나타내고 있다. 방법 MT는, 기판 처리 장치(A10)에서 이용되는 프로세스 레시피(기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피)를 기판 처리 장치(A10)와 상이한 구성을 구비하는 기판 처리 장치(B10)에 적용하여 피처리체(기판)를 처리하는 경우에, 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정하는 방법이다. 도 1은, 일 실시형태에 관한 방법 MT의 일 부분을 나타내는 흐름도이다. 도 2는, 일 실시형태에 관한 방법 MT의 다른 부분을 나타내는 흐름도이다. 도 1 및 도 2에 나타내는 방법 MT는, 제어부(B12)가, 가스 공급계(B1)에 있어서, 복수의 유량 제어기(B31), 복수의 밸브(B32, B33, B51), 및 압력 조정 밸브(B71)를 제어함으로써 실현된다. 또한, 방법 MT에 있어서, 밸브(B111, B112, B114)는, 모두 폐쇄되어 있는 것으로 한다. 또, 이하에서는, 밸브(B32, B33, B51)를, 총 밸브라고 총칭하는 경우가 있다.
먼저, 제어부(B12)의 메모리에는, 기판 처리 장치(B10)의 가스 공급계(B1)에 관한 장치 정보가 격납되어 있다. 장치 정보는, i를 분기관로(B3)의 제2 관번호라고 하면, 제2 관번호(i), 제i번의 분기관로(B3)에 관한 가스종, 제i번의 분기관로(B3)의 길이, 제i번의 분기관로(B3)의 직경, 제i번의 분기관로(B3)에 관한 유로 외 용적, 제i번의 분기관로(B3)의 설정 유량, 제i번의 분기관로(B3)의 최대 유량, 제i번의 분기관로(B3)에 관한 점성 계수, 주관로(B5)의 설정 주유량, 주관로(B5)의 최대 주유량, 주관로(B5)에 관한 점성 계수를 포함한다.
·제2 관번호는, 분기관로(B3)의 각각에 부여되어 있다.
·제i번의 분기관로(B3)에 관한 가스종은, 분기관로(B3)에 접속되어 있는 가스원(B2)의 가스종이다.
·제i번의 분기관로(B3)의 길이는, 제i번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터, 제i번의 분기관로(B3)의 설정 유량보다 큰 설정 유량을 흘려 보내고 있는 제j번(j는, i와 상이한 자연수임)의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이의 길이이다.
·제i번의 분기관로(B3)의 직경은, 간선관로(B4)의 단면의 직경이다.
·제i번의 분기관로(B3)에 관한 유로 외 용적은, 간선관로(B4)의 용적 중, 제i번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터, 제1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이의 용적을 제외한 것이다.
·제i번의 분기관로(B3)의 설정 유량은, 압력 안정 시에 있어서 제i번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 미리 설정된 유량이다.
·제i번의 분기관로(B3)의 최대 유량은, 제i번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량의 허용된 최대의 유량이다.
·제i번의 분기관로(B3)에 관한 점성 계수는, 제i번의 분기관로(B3)에 대응하는 가스종의 점성 계수이다.
·주관로(B5)의 설정 주유량은, 압력 안정 시에 있어서 주관로(B5)를 흐르는 가스의 미리 설정된 주유량이다.
·주관로(B5)의 최대 주유량은, 주관로(B5)를 흐르는 가스의 주유량의 허용된 최대의 주유량(가스비가 유지된 상태에서 허용되는 최대의 주유량)이다.
·주관로(B5)에 관한 점성 계수는, 주관로(B5)를 흐르는 가스의 점성 계수이다.
또, 장치 정보는, 주관로(B5)의 길이, 주관로(B5)의 직경을 더 포함한다. 주관로(B5)의 길이는, 주관로(B5) 자체의 실질적인 길이(주관로(B5)의 일단으로부터 타단까지의 길이), 및 제i번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터 처리 용기(B6)까지의 길이(N개의 분기관로(B3)마다 정의되는 길이)를 포함한다. 이하에 있어서, 주관로(B5)의 길이라고 하는 경우는, 특별히 설명하지 않는 한, 주관로(B5) 자체의 실질적인 길이를 의미한다. 주관로(B5)의 직경은, 주관로(B5)의 단면의 직경이다.
또한, 제어부(B12)의 메모리에는, 기판 처리 장치(A10)의 가스 공급계(A1)에 관한 장치 정보도 격납되어 있다. 가스 공급계(A1)에 관한 장치 정보는, 가스 공급계(B1)에 관한 상기의 장치 정보와 동일하며, 설명을 생략한다.
방법 MT는, 복수의 분기관로(A3) 및 복수의 분기관로(B3)의 각각의 설정 유량과, 복수의 분기관로(A3) 및 복수의 분기관로(B3)의 각각에 할당되어 있는 제1 관번호 및 제2 관번호와, 주관로(A5)의 용적 및 주관로(B5)의 용적을 포함하는 장치 정보를 이용하여, 기판 처리 장치(B10)에 적용되는 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터 미리 설정된 시간만큼, 또는 상기 가스 처리 공정의 개시 전의 미리 설정된 시간만큼, 가스 공급계(B1)에 있어서의 가스의 유량을 증감시켜, 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정하는 공정(도 1의 흐름도에 나타내는 전체 공정, 및 도 2의 흐름도에 나타내는 전체 공정)을 구비한다. 당해 공정은, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를, 상기 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 적합하게 한다. 또한, 본 실시형태에서 이용되는 프로세스 레시피는, 기판 처리 장치(A10)의 가스 공급계(A1)의 구성을 전제로 하여 작성된 것이며, 기판 처리 장치(A10)가 행하는 가스 처리 공정에서 이용하기 위한 레시피이다.
따라서, 가스 공급계의 분기관로의 배치가 서로 상이할 수 있는 기판 처리 장치(A10)와 기판 처리 장치(B10)에 있어서, 기판 처리 장치(A10)에서 이용되는 프로세스 레시피를 기판 처리 장치(B10)에 적용하여 피처리체를 처리하는 경우에, 가스 공급계(A1) 및 가스 공급계(B1)에 관한 장치 정보를 이용하여, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터 미리 설정된 시간만큼, 또는 가스 처리 공정의 개시 전의 미리 설정된 시간만큼, 가스 공급계(B1)에 있어서의 가스의 유량이 증감되고(가스의 유량의 증감에 따라 가스의 공급 개시 시를 지연시키는 경우를 포함함), 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스가 조정되므로, 기판 처리 장치(A10)에서 이용되는 프로세스 레시피가 기판 처리 장치(B10)에 이용되어도, 기판 처리 장치(B10)에 있어서, 기판 처리 장치(A10)와 동일한 처리 프로세스가 실현된다.
이하, 도 1에 나타내는 흐름도를 따라 방법 MT에 대하여 설명한다. 도 1의 흐름도에 나타내는 처리는, 제어부(B12)에 의하여 N개의 유량 제어기(B31), N개의 밸브(B32), N개의 밸브(B33), 밸브(B51), 압력 조정 밸브(B71), 배기 장치(B8)가 제어됨으로써 실현된다. 도 1의 흐름도에 나타내는 모든 처리는, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에 있어서 2종류의 가스종이 이용되는 경우를 상정하고 있다.
공정 S1(제1 공정)에서는, 제어부(B12)는, 메모리에 격납된 장치 정보에 근거하여, 복수의 분기관로(A3) 중 상기 2종류의 가스종에 대응하는 제M1번(M1은, 1≤M1≤M-1을 충족시키는 자연수)의 분기관로(A3) 및 제M2번(M2는, 2≤M2≤M이고 또한 M1＜M2를 충족시키는 자연수)의 분기관로(A3)와, 복수의 분기관로(B3) 중 상기 2종류의 가스종에 대응하는 제N1번(N1은, 1≤N1≤N-1을 충족시키는 자연수)의 분기관로(B3) 및 제N2번(N2는, 2≤N2≤N이고 또한 N1＜N2를 충족시키는 자연수)의 분기관로(B3)를 선택한다.
공정 S1에 이어서, 공정 S2(제2 공정)에서는, 제어부(B12)는, 메모리에 격납된 장치 정보에 근거하여, 복수의 분기관로(A3) 중 공정 S1에 있어서 선택한 제M1번의 분기관로(A3) 및 제M2번의 분기관로(A3)의 각각에 대응하는 제1 관번호인 M1, M2 및 설정 유량의 값과, 복수의 분기관로(B3) 중 공정 S1에 있어서 선택한 제N1번의 분기관로(B3) 및 제N2번의 분기관로(B3)의 각각에 대응하는 제2 관번호인 N1, N2 및 설정 유량의 값의 조합에 따라, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다. 공정 S2는, 공정 S21~S29를 구비한다.
따라서, 가스 공급계(A1)의 구성(분기관로(A3) 등의 구성)과 가스 공급계(B1)의 구성(분기관로(B3) 등의 구성)의 차이가 제1 공정에서 정확하게 특정되고, 제1 공정에서 특정된 당해 차이에 근거하여 제2 공정에 있어서 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스가 조정되므로, 당해 조정을 정확하게 행할 수 있다.
제어부(B12)는, 공정 S1에 이어지는 공정 S21에서는, 공정 S1에서 선택된 복수의 제2 분기관로(분기관로(B3))에 대하여, "대유량의 관번호"＞"소유량의 관번호"의 관계가 성립하고 있다(공정 S21: Yes)고 판정하고, 공정 S21: Yes에 이어지는 공정 S22에서는, 공정 S1에서 선택된 복수의 제1 분기관로(분기관로(A3))에 있어서, "대유량의 관번호"＞"소유량의 관번호"의 관계가 성립하고 있지 않다(공정 S22: No)고 판정하는 경우에는, 공정 S23의 처리(제1 조정)를 행한다. 즉, 제어부(B12)는, 제N2번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값이 제N1번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제M1번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량의 값이 제M2번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량의 값보다 큰 경우(공정 S21: Yes이고, 또한 공정 S22: No의 경우)에는, 공정 S23의 처리(제1 조정)를 행한다.
제1 조정에서는, 제어부(B12)는, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)로부터, 간선관로(B4)에 흘려 보내는 제N1번의 분기관로(B3)로부터의 가스의 유량이 설정 유량에 도달할 때까지의 시간을, 압력 안정 시에 간선관로(A4)에 있는 가스양이 제M2번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량으로 공급되는 경우에 필요한 시간(TK1)으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제1 조정이 행해지지 않는 경우, 도 4의 그래프 GR1에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되고, 제N1번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)가, 제N1번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 유량을 설정 유량으로 제어하면, 도 4의 그래프 GR2에 나타내는 바와 같이, 제N1번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량이 신속하게 설정 유량에 도달한다.
이에 대하여, 제1 조정이 행해지는 경우, 도 4의 그래프 GR3에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 제N1번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)는, 도 4의 그래프 GR4에 나타내는 바와 같이, 제N1번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을 서서히 증가시켜, 시간 TK1이 경과했을 때에, 제N1번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을 제N1번의 분기관로(B3)의 설정 유량으로 하도록 제어한다.
따라서, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 기판 처리 장치(A10)측의 지연에 맞추어 가스 공급계(B1)의 설정 유량을 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
상기의 TK1의 산출 방법을 설명한다. 공정 S1에 있어서 선택된 분기관로를 전제로 하여 설명한다. 먼저, 이하와 같이 정의한다.
·제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소에 있어서의 압력 안정 시의 압력의 값을 P11[Pa]로 한다.
·제M1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소에 있어서의 압력 안정 시의 압력의 값을 P12[Pa]로 한다.
·주관로(A5)의 설정 주유량의 값을 QP1[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(A5)를 흐르는 가스의 점성 계수의 값을 ηP1[Pa·sec]로 한다.
·제M2번의 분기관로(A3)의 설정 유량의 값을 QS1[Pa·m3/sec]로 한다.
·제M2번의 분기관로(A3)에 대응하는 가스종의 점성 계수의 값을 ηS1[Pa·sec]로 한다.
·간선관로(A4)와 제M1번의 분기관로(A3)의 접합 개소로부터 처리 용기(A6)까지의 길이를 LP1[m]로 한다.
·주관로(A5)의 단면의 직경을 RP1[m]로 한다.
·간선관로(A4)에 있어서 제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소로부터 제M1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소까지의 길이를 LS1[m]로 한다.
·간선관로(A4)의 단면의 직경을 RS1[m]로 한다.
·간선관로(A4) 중 제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소로부터 제M1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소까지의 사이에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S11[Pa·m3]로 한다.
·간선관로(A4) 중 제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소로부터 제1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소까지의 사이를 제외한 영역에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S12[Pa·m3]로 한다.
·제M2번의 분기관로(A3)에 관한 유로 외 용적(간선관로(A4)의 용적 중, 제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소로부터, 제1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소까지의 사이의 용적을 제외한 것)의 값을 V1로 한다.
이하의 식이 성립된다. 또한, 실시형태로 나타내는 모든 식에 있어서, 기호 ^가 포함되어 있는 경우에는, 예를 들면 A^2는 A의 2승을 나타내고, A^(3/2)는 A의 3/2승을 나타내고 있다. 이하에서 나타내는 모든 식에 있어서, 기호 π가 포함되어 있는 경우에는, π는 원주율을 나타내고 있다. 또, 하기 식 11, 12 및 후술하는 식 21, 22는, 하겐·푸아죄유(Hagen-Poiseuille) 흐름(하겐·푸아죄유의 식)에 근거하고 있다.
(식 11)…P12^2=(16×QP1×ηP1×LP1)/(π×RP1^4).
(식 12)…P11^2=P12^2＋(16×QS1×ηS1×LS1)/(π×RS1^4).
(식 13)…S11=((16×QS1×ηS1×π×LS1＋P12^2×π^2×RS1^4)^(3/2)-P12^3×π^3×RS1^6)/(24×QS1×ηS1×π).
(식 14)…S12=P11×V1.
(식 15)…TK1=(S11＋S12)/QS1.
제어부(B12)는, 공정 S1에 이어지는 공정 S21에서는, 공정 S1에서 선택된 제2 분기관로(분기관로(B3))에 대하여, "대유량의 관번호"＞"소유량의 관번호"의 관계가 성립하고 있지 않다(공정 S21: No)고 판정하고, 공정 S21: No에 이어지는 공정 S24에서는, 공정 S1에서 선택된 제1 분기관로(분기관로(A3))에 있어서, "대유량의 관번호"＞"소유량의 관번호"의 관계가 성립하고 있다(공정 S24: Yes)고 판정하는 경우에는, 공정 S25의 처리(제2 조정)를 행한다. 즉, 제어부(B12)는, 제N1번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값이 제N2번의 분기관로(B3)에 대응하는 그 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제M2번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량의 값이 제M1번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량의 값보다 큰 경우(공정 S21: No이고, 또한 공정 S24: Yes의 경우)에는, 공정 S25의 처리(제2 조정)를 행한다.
제2 조정의 제1 양태에서는, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)로부터, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로부터 제N2번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 유량으로 압력 안정 시에 간선관로(B4)에 있는 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간(TK21)이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 분기관로(B3)로부터의 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제2 조정의 제1 양태가 행해지지 않는 경우, 도 5의 그래프 GR5에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되고, 제N2번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)가, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 유량을 설정 유량으로 제어하면, 도 5의 그래프 GR6에 나타내는 바와 같이, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량이 신속하게 설정 유량에 도달한다.
이에 대하여, 제2 조정의 제1 양태가 행해지는 경우, 도 5의 그래프 GR7에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 제N2번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)는, 도 5의 그래프 GR8에 나타내는 바와 같이, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을, 시간 TK21이 경과할 때까지, 제N2번의 분기관로(B3)의 최대 유량으로 하고, 시간 TK21이 경과하면, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)의 설정 유량으로 하도록 제어한다.
이와 같이, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 시로부터 가스 공급계(B1)에 있어서의 가스의 유량을 설정보다 증가시켜 기판 처리 장치(B10)측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
제2 조정의 제2 양태에서는, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전(T2)에 있어서, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 최대 유량으로 압력 안정 시에 간선관로(B4)에 있는 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간(TK22)이 경과하여 가스 처리 공정이 개시될 때까지(T2로부터 T1까지의 동안)에 있어서, 제N2번의 분기관로(B3)로부터의 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제2 조정의 제2 양태가 행해지는 경우, 도 5의 그래프 GR9에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전(T2)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 제N2번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)는, 도 5의 그래프 GR10에 나타내는 바와 같이, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을, 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 도달할 때까지(시간 TK22의 동안), 제N2번의 분기관로(B3)의 최대 유량으로 하고, 가스 처리 공정의 개시 시(T1)로부터, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)의 설정 유량으로 하도록 제어한다.
따라서, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 전부터 가스 공급계(B1)의 가스 공급을 개시하고 가스 처리 공정의 개시 시까지 기판 처리 장치(B10)측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
상기의 TK21, TK22의 산출 방법을 설명한다. 공정 S1에 있어서 선택된 분기관로를 전제로 하여 설명한다. 먼저, 이하와 같이 정의한다.
·제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소에 있어서의 압력 안정 시의 압력의 값을 P21[Pa]로 한다.
·제N1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소에 있어서의 압력 안정 시의 압력의 값을 P22[Pa]로 한다.
·주관로(B5)의 설정 주유량의 값을 QP2[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(B5)를 흐르는 가스의 점성 계수의 값을 ηP2[Pa·sec]로 한다.
·제N2번의 분기관로(B3)의 설정 유량의 값을 QS2[Pa·m3/sec]로 한다.
·제N2번의 분기관로(B3)에 대응하는 가스종의 점성 계수의 값을 ηS2[Pa·sec]로 한다.
·간선관로(B4)와 제N1번의 분기관로(B3)의 접합 개소로부터 처리 용기(B6)까지의 길이를 LP2[m]로 한다.
·주관로(B5)의 단면의 직경을 RP2[m]로 한다.
·간선관로(B4)에 있어서 제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터 제N1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 길이를 LS2[m]로 한다.
·간선관로(B4)의 단면의 직경을 RS2[m]로 한다.
·간선관로(B4) 중 제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터 제N1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S21[Pa·m3]로 한다.
·간선관로(B4) 중 제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터 제1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이를 제외한 영역에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S22[Pa·m3]로 한다.
·제N2번의 분기관로(B3)의 최대 유량의 값을 QS2max[Pa·m3/sec]로 한다.
·제N2번의 분기관로(B3)에 관한 유로 외 용적(간선관로(B4)의 용적 중, 제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터, 제1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이의 용적을 제외한 것)의 값을 V2로 한다.
이하의 식이 성립된다.
(식 21)…P22^2=(16×QP2×ηP2×LP2)/(π×RP2^4).
(식 22)…P21^2=P22^2＋(16×QS2×ηS2×LS2)/(π×RS2^4).
(식 23)…S21=((16×QS2×ηS2×π×LS2＋P22^2×π^2×RS2^4)^(3/2)-P22^3×π^3×RS2^6)/(24×QS2×ηS2×π).
(식 24)…S22=P21×V2.
(식 25)…TK21=(S21＋S22)/(QS2max-QS2).
(식 26)…TK22=(S21＋S22)/QS2max.
제어부(B12)는, 공정 S24: No에 이어지는 공정 S26에서는, 공정 S1에서 선택된 제1 분기관로(분기관로(A3)) 및 제2 분기관로(분기관로(B3))에 대하여, M2(제M2번의 분기관로(A3)의 제1 관번호)=N2(제N2번의 분기관로(B3)의 제2 관번호)가 성립하고 있지 않다(공정 S26: No)고 판정하고, 공정 S26: No에 이어지는 공정 S27에서는, 공정 S1에서 선택된 제1 분기관로(분기관로(A3)) 및 제2 분기관로(분기관로(B3))에 대하여, M2(제M2번의 분기관로(A3)의 제1 관번호)＞N2(제N2번의 분기관로(B3)의 제2 관번호)가 성립하고 있다(공정 S27: Yes)고 판정하는 경우에는, 공정 S28(제3 조정)을 행한다. 즉, 제어부(B12)는, 제M1번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량의 값이 제M2번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제N1번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값이 제N2번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값보다 크며, 또한 M2가 N2보다 큰 경우(공정 S21: No이고, 또한 공정 S24: No이며, 또한 공정 S26: No이고, 또한 공정 S27: Yes의 경우)에는, 공정 S28(제3 조정)을 행한다.
제3 조정에서는, 압력 안정 시에 간선관로(A4)에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 간선관로(B4)에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)로부터, 간선관로(B4)에 흘려 보내는 제N2번의 분기관로(B3)로부터의 가스의 유량이 설정 유량에 도달할 때까지의 시간을, 차분 가스양이 제M2번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량으로 공급되는 경우에 필요한 시간(TK3)으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제3 조정이 행해지지 않는 경우, 도 4의 그래프 GR1에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되고, 제N2번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)가, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 유량을 설정 유량으로 제어하면, 도 4의 그래프 GR2에 나타내는 바와 같이, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량이 신속하게 설정 유량에 도달한다.
이에 대하여, 제3 조정이 행해지는 경우, 도 4의 그래프 GR3에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 제N2번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)는, 도 4의 그래프 GR4에 나타내는 바와 같이, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을 서서히 증가시켜, 시간 TK3가 경과했을 때에, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)의 설정 유량으로 하도록 제어한다.
따라서, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 기판 처리 장치(A10)측의 지연에 맞추어 가스 공급계(B1)의 설정 유량을 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
상기의 시간 TK3의 산출 방법을 설명한다. 공정 S1에 있어서 선택된 분기관로를 전제로 하여 설명한다. 먼저, 이하와 같이 정의한다.
·제M2번의 분기관로(A3)의 설정 유량의 값을 QS3A[Pa·m3/sec]로 한다.
·간선관로(A4) 중 제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소로부터 제M1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소까지의 사이에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S3A1[Pa·m3]로 한다.
·간선관로(A4) 중 제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소로부터 제1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소까지의 사이를 제외한 영역에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S3A2[Pa·m3]로 한다.
·간선관로(B4) 중 제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터 제N1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S3B1[Pa·m3]로 한다.
·간선관로(B4) 중 제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터 제1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이를 제외한 영역에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S3B2[Pa·m3]로 한다.
이하의 식이 성립된다.
(식 31)…((S3A1＋S3A2)-(S3B1＋S3B2)/QS3A.
또한, S3A1[Pa·m3]은, 식 13의 S11[Pa·m3]에 대응하고 있고, S3A2[Pa·m3]는, 식 14의 S12[Pa·m3]에 대응하고 있으므로, S3A1[Pa·m3]과 S3A2[Pa·m3]는, 식 11~14와 동일하게 산출된다. S3B1[Pa·m3]은, 식 23의 S21[Pa·m3]에 대응하고 있고, S3B2[Pa·m3]는, 식 24의 S22[Pa·m3]에 대응하고 있으므로, S3B1[Pa·m3]과 S3B2[Pa·m3]는, 식 21~24와 동일하게 산출된다.
제어부(B12)는, 공정 S24: No에 이어지는 공정 S26에서는, 공정 S1에서 선택된 제1 분기관로(분기관로(A3)) 및 제2 분기관로(분기관로(B3))에 대하여, M2(제M2번의 분기관로(A3)의 제1 관번호)=N2(제N2번의 분기관로(B3)의 제2 관번호)가 성립하고 있지 않다(공정 S26: No)고 판정하고, 공정 S26: No에 이어지는 공정 S27에서는, 공정 S1에서 선택된 제1 분기관로(분기관로(A3)) 및 제2 분기관로(분기관로(B3))에 대하여, M2(제M2번의 분기관로(A3)의 제1 관번호)＞N2(제N2번의 분기관로(B3)의 제2 관번호)가 성립하고 있지 않다(공정 S27: No)고 판정하는 경우에는, 공정 S29(제4 조정)를 행한다. 즉, 제어부(B12)는, 제M1번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량의 값이 제M2번의 분기관로(A3)에 대응하는 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제N1번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값이 제N2번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값보다 크며, 또한 N2가 M2보다 큰 경우(공정 S21: No이고, 또한 공정 S24: No이며, 또한 공정 S26: No이고, 또한 공정 S27: No의 경우)에는, 공정 S29(제4 조정)를 행한다.
제4 조정의 제1 양태에서는, 압력 안정 시에 간선관로(B4)에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 간선관로(A4)에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)로부터, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로부터 제N2번의 분기관로(B3)에 대응하는 설정 유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 유량으로 차분 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간(TK41)이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 분기관로(B3)로부터의 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제4 조정의 제1 양태가 행해지지 않는 경우, 도 5의 그래프 GR5에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되고, 제N2번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)가, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 유량을 설정 유량으로 제어하면, 도 5의 그래프 GR6에 나타내는 바와 같이, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량이 신속하게 설정 유량에 도달한다.
이에 대하여, 제4 조정의 제1 양태가 행해지는 경우, 도 5의 그래프 GR7에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 제N2번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)는, 도 5의 그래프 GR8에 나타내는 바와 같이, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을, 시간 TK41이 경과할 때까지, 제N2번의 분기관로(B3)의 최대 유량으로 하고, 시간 TK41이 경과하면, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)의 설정 유량으로 하도록 제어한다.
이와 같이, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 시로부터 가스 공급계(B1)에 있어서의 가스의 유량을 설정보다 증가시켜 기판 처리 장치(B10)측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
제4 조정의 제2 양태에서는, 압력 안정 시에 간선관로(B4)에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 간선관로(A4)에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전에 있어서, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 최대 유량으로 차분 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간(TK42)이 경과하여 가스 처리 공정이 개시될 때까지의 동안(T2로부터 T1까지의 동안)에 있어서, 제N2번의 분기관로(B3)로부터의 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제4 조정의 제2 양태가 행해지는 경우, 도 5의 그래프 GR9에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전(T2)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 제N2번의 분기관로(B3)에 마련되어 있는 유량 제어기(B31)는, 도 5의 그래프 GR10에 나타내는 바와 같이, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을, 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 도달할 때까지(시간 TK42의 동안), 제N2번의 분기관로(B3)의 최대 유량으로 하고, 가스 처리 공정의 개시 시(T1)로부터, 제N2번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)로 흐르는 가스의 유량을 제N2번의 분기관로(B3)의 설정 유량으로 하도록 제어한다.
따라서, 분기관로의 관번호의 대소(주관로까지의 분기관로의 위치의 차이)와 설정 유량의 값의 대소에 기인하여 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 전부터 가스 공급계(B1)의 가스 공급을 개시하고 가스 처리 공정의 개시 시까지 기판 처리 장치(B10)측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
상기의 시간 TK41, TK42의 산출 방법을 설명한다. 공정 S1에 있어서 선택된 분기관로를 전제로 하여 설명한다. 먼저, 이하와 같이 정의한다.
·간선관로(A4) 중 제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소로부터 제M1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소까지의 사이에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S4A1[Pa·m3]로 한다.
·간선관로(A4) 중 제M2번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소로부터 제1번의 분기관로(A3)와 간선관로(A4)의 접합 개소까지의 사이를 제외한 영역에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S4A2[Pa·m3]로 한다.
·제N2번의 분기관로(B3)의 설정 유량의 값을 QS4B[Pa·m3/sec]로 한다.
·제N2번의 분기관로(B3)의 최대 유량의 값을 QS4Bmax[Pa·m3/sec]로 한다.
·간선관로(B4) 중 제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터 제N1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S4B1[Pa·m3]로 한다.
·간선관로(B4) 중 제N2번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소로부터 제1번의 분기관로(B3)와 간선관로(B4)의 접합 개소까지의 사이를 제외한 영역에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S4B2[Pa·m3]로 한다.
이하의 식이 성립된다.
(식 41)…TK41=((S4B1＋S4B2)-(S4A1＋S4A2))/(QS4Bmax-QS4B).
(식 42)…TK42=((S4B1＋S4B2)-(S3A1＋S4A2))/QS4Bmax.
또한, S4A1[Pa·m3]은, 식 13의 S11[Pa·m3]에 대응하고 있고, S4A2[Pa·m3]는, 식 14의 S12[Pa·m3]에 대응하고 있으므로, S4A1[Pa·m3]과 S4A2[Pa·m3]는, 식 11~14와 동일하게 산출된다. S4B1[Pa·m3]은, 식 23의 S21[Pa·m3]에 대응하고 있고, S4B2[Pa·m3]는, 식 24의 S22[Pa·m3]에 대응하고 있으므로, S4B1[Pa·m3]과 S4B2[Pa·m3]는, 식 21~24와 동일하게 산출된다.
다음으로, 도 2에 나타내는 흐름도를 따라 방법 MT에 대하여 설명한다. 도 2의 흐름도에 나타내는 처리는, 제어부(B12)에 의하여 N개의 유량 제어기(B31), N개의 밸브(B32), N개의 밸브(B33), 밸브(B51), 압력 조정 밸브(B71), 배기 장치(B8)를 제어함으로써 실현된다. 공정 S3~S5에서는, 제어부(B12)는, 메모리에 격납된 장치 정보에 근거하여, 주관로(A5)의 용적 및 주관로(B5)의 용적의 대소를 판정하고, 이 판정 결과에 근거하여, 프로세스 레시피를 이용한 주관로(B5)의 처리 프로세스를 조정한다.
따라서, 처리 용기에 직결되는 주관로의 용적의 대소에 따라 가스 공급계로부터 처리 용기로의 가스의 공급의 속도가 상이하므로, 주관로(A5)의 용적 및 주관로(B5)의 용적의 대소의 판정 결과에 근거하여, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
공정 S3에서는, 제어부(B12)는, "제1 주관로(주관로(A5))의 용적"＞"제2 주관로(주관로(B5))의 용적"의 관계가 성립하고 있다(공정 S3: Yes)고 판정하는 경우에는, 공정 S4(제5 조정, 또는 제6 조정)를 행한다. 즉, 제어부(B12)는, 주관로(A5)의 용적이 주관로(B5)의 용적보다 큰 경우에는, 공정 S4(제5 조정, 또는 제6 조정)를 행한다.
제5 조정에서는, 압력 안정 시에 주관로(A5)에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 주관로(B5)에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)로부터, 주관로(B5)를 흐르는 가스의 주유량이 주관로(B5)에 대응하는 설정 주유량에 도달할 때까지의 시간을, 주관로(A5)에 대응하는 설정 주유량으로 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간(TK5)으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제5 조정이 행해지지 않는 경우, 도 4의 그래프 GR1에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에서 이용되는 가스종에 대응하는 유량 제어기(B31)가 주관로(B5)의 주유량을 설정 주유량으로 하도록 제어하면, 도 4의 그래프 GR2에 나타내는 바와 같이, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 주유량이 신속하게 설정 주유량에 도달한다.
이에 대하여, 제5 조정이 행해지는 경우, 도 4의 그래프 GR3에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에서 이용되는 가스종에 대응하는 유량 제어기(B31)는, 도 4의 그래프 GR4에 나타내는 바와 같이, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 유량을 서서히 증가시켜, 시간 TK5가 경과했을 때에, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 유량을 주관로(B5)의 설정 주유량으로 하도록 제어한다.
따라서, 처리 용기에 직결되는 주관로의 용적의 대소에 기인하여 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 기판 처리 장치(A10)측의 지연에 맞추어 가스 공급계(B1)의 설정 유량을 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
상기의 시간 TK5의 산출 방법을 설명한다. 먼저, 이하와 같이 정의한다.
·주관로(A5)의 설정 주유량의 값을 QP5A[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(A5)를 흐르는 가스의 점성 계수의 값을 ηP5A[Pa·sec]로 한다.
·주관로(A5)의 길이를 LP5A[m]로 한다.
·주관로(A5)에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S5A[Pa·m3]로 한다.
·주관로(B5)의 설정 주유량의 값을 QP5B[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(B5)를 흐르는 가스의 점성 계수의 값을 ηP5B[Pa·sec]로 한다.
·주관로(B5)의 길이를 LP5B[m]로 한다.
·주관로(B5)에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S5B[Pa·m3]로 한다.
이하의 식이 성립된다.
(식 51)…S5A=(8×(QP5A×ηP5A×π×LP5A^3)^(1/2))/3.
(식 52)…S5B=(8×(QP5B×ηP5B×π×LP5B^3)^(1/2))/3.
(식 53)…TK5=(S5A-S5B)/QP5A.
제6 조정에서는, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 종료 시에 있어서, 가스 공급계(A1)에 있어서의 가스의 공급의 정지 시로부터 감쇠하는 주관로(A5)에 있어서의 가스의 제1 감쇠 주유량과, 가스 공급계(B1)에 있어서의 가스의 공급의 정지 시로부터 감쇠하는 주관로(B5)에 있어서의 가스의 제2 감쇠 주유량을 비교하여, 제1 감쇠 주유량이 제2 감쇠 주유량보다 많은 경우에, 제1 감쇠 주유량으로부터 제2 감쇠 주유량을 뺀 차분 감쇠 주유량(Q(t)[Pa·m3/sec])을 산출하고, 가스 공급계(B1)에 있어서, 가스의 공급의 정지 시로부터, 차분 감쇠 주유량(Q(t)[Pa·m3/sec])의 가스가 주관로(B5)로 흐르도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다. Q(t)[Pa·m3/sec]는 t의 함수이다. t는 시간[sec]을 나타내고 있다.
제6 조정이 행해지지 않는 경우, 도 6의 그래프 GR11에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 종료 시(T3)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 개방(OPEN) 상태로부터 폐쇄(CLOSE) 상태로 이행되고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에서 이용되는 가스종에 대응하는 유량 제어기(B31)가 주관로(B5)측으로의 가스의 공급을 정지하면, 도 6의 그래프 GR12에 나타내는 바와 같이, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 주유량이 신속하게 실질적인 제로값(예를 들면, 가스양의 검출 오차를 하회하는 값)에 가까워진다.
이에 대하여, 제6 조정이 행해지는 경우, 도 6의 그래프 GR13에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 정지 시(T3)로부터 미리 설정된 시간이 경과한 시점(T4)에서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))를 개방(OPEN) 상태로부터 폐쇄(CLOSE) 상태로 이행하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에서 이용되는 가스종에 대응하는 유량 제어기(B31)는, 가스 처리 공정의 정지 시(T3)로부터, 당해 가스종의 가스를 차분 감쇠 주유량(Q(t)[Pa·m3/sec])으로 주관로(B5)측에 흘려 보낸다. 정지 시 T3으로부터 시간 T4까지의 시간은, 당해 차분 감쇠 주유량이 실질적인 제로값(예를 들면, 가스양의 검출 오차를 하회하는 값)이 되기까지 필요한 시간이다.
이와 같이, 제1 감쇠 주유량이 제2 감쇠 주유량보다 많은 경우에는, 가스 공급계(B1)에 있어서, 가스의 공급의 정지 시로부터, 제1 감쇠 주유량으로부터 제2 감쇠 주유량을 뺀 차분 감쇠 주유량(Q(t)[Pa·m3/sec])의 가스를 주관로(B5)에 흘려 보내도록 가스 공급계(B1)를 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
상기의 차분 감쇠 주유량(Q(t)[Pa·m3/sec])의 산출 방법을 설명한다.
·가스 공급 정지 후에 감쇠하는 주관로(A5)의 가스의 감쇠 주유량의 값(시간 t의 함수)을 QA(t)[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(A5)를 흐르는 가스의 점성 계수의 값을 ηP6A[Pa·sec]로 한다.
·주관로(A5)의 길이를 LP6A[m]로 한다.
·가스 공급 정지 후에 감쇠하는 주관로(B5)의 가스의 감쇠 주유량의 값(시간 t의 함수)을 QB(t)[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(B5)를 흐르는 가스의 점성 계수의 값을 ηP6B[Pa·sec]로 한다.
·주관로(B5)의 길이를 LP6B[m]로 한다.
또한, t는 정지 시 T3으로부터의 경과 시간[sec]을 나타내고 있으며, QA(t) 및 QB(t)는, t가 0보다 큰 값(예를 들면, 수 msec 등)으로 정의되어 있다.
이하의 식이 성립된다.
(식 61)…QA(t)=(64×ηP6A×π×LP6A^3)/(9×t^2).
(식 62)…QB(t)=(64×ηP6B×π×LP6B^3)/(9×t^2).
(식 63)…Q(t)=QA(t)-QB(t).
공정 S3에서는, 제어부(B12)는, "제1 주관로(주관로(A5))의 용적"＞"제2 주관로(주관로(B5))의 용적"의 관계가 성립하고 있지 않다(공정 S3: No)고 판정하는 경우에는, 공정 S5(제7 조정)를 행한다. 즉, 제어부(B12)는, 주관로(B5)의 용적이 주관로(A5)의 용적보다 큰 경우에는, 공정 S5(제7 조정)를 행한다.
제7 조정의 제1 양태에서는, 압력 안정 시에 주관로(B5)에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 주관로(A5)에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 주관로(B5)에 흘려 보내는 가스의 최대 주유량의 값으로부터 주관로(B5)에 대응하는 설정 주유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 주유량으로 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간(TK71)이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 주관로(B5)를 흐르는 가스의 주유량을 주관로(B5)에 흘려 보내는 가스의 최대 주유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제7 조정의 제1 양태가 행해지지 않는 경우, 도 5의 그래프 GR5에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에서 이용되는 가스종에 대응하는 유량 제어기(B31)가 주관로(B5)의 주유량을 설정 주유량으로 하도록 제어하면, 도 5의 그래프 GR6에 나타내는 바와 같이, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 주유량이 신속하게 설정 주유량에 도달한다.
이에 대하여, 제7 조정의 제1 양태가 행해지는 경우, 도 5의 그래프 GR7에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에서 이용되는 가스종에 대응하는 유량 제어기(B31)는, 도 5의 그래프 GR8에 나타내는 바와 같이, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 주유량을, 시간 TK71이 경과할 때까지, 주관로(B5)의 최대 주유량으로 하고, 시간 TK71이 경과하면, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 주유량을 주관로(B5)의 설정 주유량으로 하도록 제어한다.
이와 같이, 처리 용기에 직결되는 주관로의 용적의 대소에 기인하여 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 시로부터 가스 공급계(B1)에 있어서의 가스의 유량을 설정보다 증가시켜 기판 처리 장치(B10)측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
제7 조정의 제2 양태에서는, 압력 안정 시에 주관로(B5)에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 주관로(A5)에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전(T2)에 있어서, 주관로(B5)를 흐르는 가스의 최대 주유량으로 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간(TK72)이 경과하여 가스 처리 공정이 개시될 때까지의 동안(T2로부터 T1까지의 동안)에 있어서, 주관로(B5)를 흐르는 가스의 주유량을 주관로(B5)를 흐르는 가스의 최대 주유량의 값으로 하도록, 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 조정한다.
제7 조정의 제2 양태가 행해지는 경우, 도 5의 그래프 GR9에 나타내는 바와 같이, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 전(T2)에 있어서, 가스 공급계(B1)의 총 밸브(밸브(B32, B33, B51))가 폐쇄(CLOSE) 상태로부터 개방(OPEN) 상태로 이행되면, 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에서 이용되는 가스종에 대응하는 유량 제어기(B31)는, 도 5의 그래프 GR10에 나타내는 바와 같이, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 주유량을, 가스 처리 공정의 개시 시(T1)에 도달할 때까지(시간 TK72의 동안), 주관로(B5)의 최대 주유량으로 하고, 가스 처리 공정의 개시 시(T1)로부터, 주관로(B5)로 흐르는 가스의 주유량을 주관로(B5)의 설정 주유량으로 하도록 제어한다.
이와 같이, 처리 용기에 직결되는 주관로의 용적의 대소에 기인하여 가스 공급계(B1)로부터 처리 용기(B6)로의 가스의 공급이 가스 공급계(A1)로부터 처리 용기(A6)로의 가스의 공급보다 지연되는 경우에는, 가스 처리 공정의 개시 전부터 가스 공급계(B1)의 가스 공급을 개시하고 가스 처리 공정의 개시 시까지 기판 처리 장치(B10)측의 지연을 보완하도록 제어함으로써, 기판 처리 장치(A10)의 프로세스 레시피를 이용한 기판 처리 장치(B10)의 처리 프로세스를 기판 처리 장치(A10)의 처리 프로세스에 맞출 수 있다.
상기의 시간 TK71, TK72의 산출 방법을 설명한다. 먼저, 이하와 같이 정의한다.
·주관로(A5)의 설정 주유량의 값을 QP7A[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(A5)를 흐르는 가스의 점성 계수의 값을 ηP7A[Pa·sec]로 한다.
·주관로(A5)의 길이를 LP7A[m]로 한다.
·주관로(A5)에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S7A[Pa·m3]로 한다.
·주관로(B5)의 설정 주유량의 값을 QP7B[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(B5)의 최대 주유량의 값을 QP7Bmax[Pa·m3/sec]로 한다.
·주관로(B5)를 흐르는 가스의 점성 계수의 값을 ηP7B[Pa·sec]로 한다.
·주관로(B5)의 길이를 LP7B[m]로 한다.
·주관로(B5)에 있어서 압력 안정 시에 있는 가스양의 값을 S7B[Pa·m3]로 한다.
이하의 식이 성립된다.
(식 71)…S7A=(8×(QP7A×ηP7A×π×LP7A^3)^(1/2))/3.
(식 72)…S7B=(8×(QP7B×ηP7B×π×LP7B^3)^(1/2))/3.
(식 73)…TK71=(S7B-S7A)/(QP7Bmax-QP7B).
(식 74)…TK72=(S7B-S7A)/QP7Bmax.
이상, 적합한 실시형태에 있어서 본 발명의 원리를 도시하고 설명했지만, 본 발명이, 이와 같은 원리로부터 일탈하지 않고 배치 및 상세에 있어서 변경될 수 있는 것은, 당업자에 의하여 인식된다. 본 발명은, 본 실시형태에 개시된 특정 구성에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 청구범위 및 그 정신의 범위로부터 발생하는 모든 수정 및 변경에 권리를 청구한다.
예를 들면, 도 1의 흐름도에 나타내는 처리와 도 2의 흐름도에 나타내는 처리가 병행되어(동시에) 행해지는 양태가 가능하다. 양 처리가 병행되어 행해지는 경우, 제5 조정 및 제7 조정을 제외하고, 상기한 방법으로 조정이 가능하다. 제5 조정 및 제7 조정은, 가스 공급계(B1)의 제N1번의 분기관로(B3)로부터 간선관로(B4)에 흘려 보내는 가스의 유량을 제어함으로써 실현된다.

Claims (13)

  1. 제1 처리 장치에서 이용되는 프로세스 레시피를 상기 제1 처리 장치와 상이한 구성을 구비하는 제2 처리 장치에 적용하여 피처리체를 처리하는 경우에, 처리 프로세스를 조정하는 방법으로서,
    상기 제1 처리 장치는,
    상기 피처리체가 처리되는 제1 처리 용기와,
    제1 가스 공급계
    를 구비하고,
    상기 제1 가스 공급계는, 제1 주관로와 제1 간선관로와 복수의 제1 분기관로와 복수의 제1 유량 제어기와 복수의 제1 가스원을 구비하며,
    상기 제1 주관로의 일단은, 상기 제1 처리 용기에 접속되고,
    상기 제1 주관로의 타단은, 상기 제1 간선관로의 일단에 접속되며,
    상기 복수의 제1 분기관로의 각각의 일단은, 상기 제1 간선관로에 접속되고,
    상기 복수의 제1 분기관로의 각각의 타단은, 상기 복수의 제1 가스원의 각각에 접속되며,
    상기 복수의 제1 유량 제어기의 각각은, 상기 복수의 제1 분기관로의 각각에 대하여 설치되어 있고, 상기 복수의 제1 분기관로의 각각을 흐르는 가스의 유량을 제어하며,
    상기 복수의 제1 분기관로는, 제1 관번호가 할당되어 있고,
    상기 제1 관번호는, 제1번으로부터 제M번까지의 번호이며, M은, 상기 복수의 제1 분기관로의 총수를 나타내는 1보다 큰 자연수이고,
    제1번~제M번의 상기 제1 분기관로는, 상기 제1 관번호의 순으로, 상기 제1 주관로에 가까운 쪽으로부터 상기 제1 간선관로에 접속되어 있으며,
    제1번~제M번의 상기 제1 분기관로의 각각으로부터 상기 제1 간선관로를 흐르는 가스의 설정 유량의 값은, 서로 상이하고,
    상기 제2 처리 장치는,
    상기 피처리체가 처리되는 제2 처리 용기와,
    제2 가스 공급계
    를 구비하고,
    상기 제2 가스 공급계는, 제2 주관로와 제2 간선관로와 복수의 제2 분기관로와 복수의 제2 유량 제어기와 복수의 제2 가스원을 구비하며,
    상기 제2 주관로의 일단은, 상기 제2 처리 용기에 접속되고,
    상기 제2 주관로의 타단은, 상기 제2 간선관로의 일단에 접속되며,
    상기 복수의 제2 분기관로의 각각의 일단은, 상기 제2 간선관로에 접속되고,
    상기 복수의 제2 분기관로의 각각의 타단은, 상기 복수의 제2 가스원의 각각에 접속되며,
    상기 복수의 제2 유량 제어기의 각각은, 상기 복수의 제2 분기관로의 각각에 대하여 설치되어 있고, 상기 복수의 제2 분기관로의 각각을 흐르는 가스의 유량을 제어하며,
    상기 복수의 제2 분기관로는, 제2 관번호가 할당되어 있고,
    상기 제2 관번호는, 제1번으로부터 제N번까지의 번호이며, N은, 상기 복수의 제2 분기관로의 총수를 나타내는 1보다 큰 자연수이고,
    제1번~제N번의 상기 제2 분기관로는, 상기 제2 관번호의 순으로, 상기 제2 주관로에 가까운 쪽으로부터 상기 제2 간선관로에 접속되어 있으며,
    제1번~제N번의 상기 제2 분기관로의 각각으로부터 상기 제2 간선관로를 흐르는 가스의 설정 유량의 값은, 서로 상이하고,
    상기 방법은,
    상기 제1 가스 공급계 및 상기 제2 가스 공급계에 관한 장치 정보를 이용하여, 상기 프로세스 레시피의 가스 처리 공정의 개시 시로부터 미리 설정된 시간만큼, 또는 상기 가스 처리 공정의 개시 전의 미리 설정된 시간만큼, 상기 제2 가스 공급계에 있어서의 가스의 유량을 증감시켜, 상기 처리 프로세스를 조정하는 공정을 포함하며,
    상기 조정하는 공정은, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제1 처리 장치의 처리 프로세스에 적합하게 하는,
    방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 조정하는 공정은,
    상기 프로세스 레시피의 가스 처리 공정에 있어서 2종류의 가스종이 이용되는 경우에, 상기 복수의 제1 분기관로 중 상기 2종류의 가스종에 대응하는 제M1번(M1은, 1≤M1≤M-1을 충족시키는 자연수)의 상기 제1 분기관로 및 제M2번(M2는, 2≤M2≤M이고 또한 M1＜M2를 충족시키는 자연수)의 상기 제1 분기관로와, 상기 복수의 제2 분기관로 중 상기 2종류의 가스종에 대응하는 제N1번(N1은, 1≤N1≤N-1을 충족시키는 자연수)의 상기 제2 분기관로 및 제N2번(N2는, 2≤N2≤N이고 또한 N1＜N2를 충족시키는 자연수)의 상기 제2 분기관로를 선택하는 제1 공정과,
    상기 복수의 제1 분기관로 중 상기 제1 공정에 있어서 선택된 제M1번의 상기 제1 분기관로 및 제M2번의 상기 제1 분기관로의 각각에 대응하는 상기 제1 관번호인 M1, M2 및 상기 설정 유량의 값과, 상기 복수의 제2 분기관로 중 상기 제1 공정에 있어서 선택된 제N1번의 상기 제2 분기관로 및 제N2번의 상기 제2 분기관로의 각각에 대응하는 상기 제2 관번호인 N1, N2 및 상기 설정 유량의 값의 조합에 근거하여, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는 제2 공정
    을 포함하는,
    방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 공정은,
    제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N1번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제M1번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 큰 경우에는,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량이 상기 설정 유량에 도달할 때까지의 시간을, 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량으로 압력 안정 시에 상기 제1 간선관로에 있는 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 공정은,
    제N1번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M1번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 큰 경우에는,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로부터 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 유량으로 압력 안정 시에 상기 제2 간선관로에 있는 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량을 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 유량의 값으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 공정은,
    제N1번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M1번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 큰 경우에는,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 전에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 최대 유량으로 압력 안정 시에 상기 제2 간선관로에 있는 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과하여 상기 가스 처리 공정이 개시될 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량을 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 유량의 값으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  6. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 공정은,
    제M1번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제N1번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크며, 또한 M2가 N2보다 큰 경우에는,
    압력 안정 시에 상기 제1 간선관로에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 상기 제2 간선관로에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량이 상기 설정 유량에 도달할 때까지의 시간을, 제M2번의 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량으로 상기 차분 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  7. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 공정은,
    제M1번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제N1번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크며, 또한 N2가 M2보다 큰 경우에는,
    압력 안정 시에 상기 제2 간선관로에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 상기 제1 간선관로에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 최대 유량의 값으로부터 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 유량으로 상기 차분 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량을 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 유량의 값으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  8. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 공정은,
    제M1번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제M2번의 상기 제1 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크고, 또한 제N1번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값이 제N2번의 상기 제2 분기관로에 대응하는 상기 설정 유량의 값보다 크며, 또한 N2가 M2보다 큰 경우에는,
    압력 안정 시에 상기 제2 간선관로에 있는 가스양으로부터 압력 안정 시에 상기 제1 간선관로에 있는 가스양을 빼서 얻어지는 차분 가스양을 산출하고,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 전에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 최대 유량으로 상기 차분 가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과하여 상기 가스 처리 공정이 개시될 때까지의 동안에 있어서, 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터의 가스의 유량을 제N2번의 상기 제2 분기관로로부터 상기 제2 간선관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 유량의 값으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  9. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조정하는 공정은, 상기 제1 주관로의 용적 및 상기 제2 주관로의 용적의 대소를 판정하고, 이 판정 결과에 근거하여, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 조정하는 공정은,
    상기 제1 주관로의 용적이 상기 제2 주관로의 용적보다 큰 경우에는,
    압력 안정 시에 상기 제1 주관로에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 상기 제2 주관로에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 상기 제2 주관로를 흐르는 가스의 주유량이 상기 제2 주관로에 대응하는 설정 주유량에 도달할 때까지의 시간을, 상기 제1 주관로에 대응하는 상기 설정 주유량으로 상기 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 조정하는 공정은,
    상기 제2 주관로의 용적이 상기 제1 주관로의 용적보다 큰 경우에는,
    압력 안정 시에 상기 제2 주관로에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 상기 제1 주관로에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 시로부터, 상기 제2 주관로에 흘려 보내는 가스의 최대 주유량의 값으로부터 상기 제2 주관로에 대응하는 설정 주유량의 값을 빼서 얻어지는 차분 주유량으로 상기 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과할 때까지의 동안에 있어서, 상기 제2 주관로를 흐르는 가스의 주유량을 상기 제2 주관로에 흘려 보내는 가스의 상기 최대 주유량의 값으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  12. 청구항 9에 있어서,
    상기 조정하는 공정은,
    상기 제2 주관로의 용적이 상기 제1 주관로의 용적보다 큰 경우에는,
    압력 안정 시에 상기 제2 주관로에 있는 주가스양으로부터 압력 안정 시에 상기 제1 주관로에 있는 주가스양을 빼서 얻어지는 차분 주가스양을 산출하고,
    상기 프로세스 레시피의 상기 가스 처리 공정의 개시 전에 있어서, 상기 제2 주관로를 흐르는 가스의 최대 주유량으로 상기 차분 주가스양이 공급되는 경우에 필요한 시간이 경과하여 상기 가스 처리 공정이 개시될 때까지의 동안에 있어서, 상기 제2 주관로를 흐르는 가스의 주유량을 상기 제2 주관로를 흐르는 가스의 상기 최대 주유량의 값으로 하도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
  13. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가스 처리 공정의 종료 시에 있어서,
    상기 제1 가스 공급계에 있어서의 가스의 공급의 정지 시로부터 감쇠하는 상기 제1 주관로에 있어서의 가스의 제1 감쇠 주유량과, 상기 제2 가스 공급계에 있어서의 가스의 공급의 정지 시로부터 감쇠하는 상기 제2 주관로에 있어서의 가스의 제2 감쇠 주유량을 비교하여,
    상기 제1 감쇠 주유량이 상기 제2 감쇠 주유량보다 많은 경우에, 상기 제1 감쇠 주유량으로부터 상기 제2 감쇠 주유량을 뺀 차분 감쇠 주유량을 산출하고,
    상기 제2 가스 공급계에 있어서, 가스의 공급의 정지 시로부터, 상기 차분 감쇠 주유량의 가스가 상기 제2 주관로로 흐르도록, 상기 프로세스 레시피를 이용한 상기 제2 처리 장치의 처리 프로세스를 조정하는,
    방법.
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