JP6360480B2 - ガス流を制御する方法、流量比率コントローラアセンブリ、及びガス供給システム - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 73
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 38
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 27
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 67
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
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- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0664—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged for the control of a plurality of diverging flows from a single flow
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D16/00—Control of fluid pressure
- G05D16/20—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
- G05D16/2006—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45561—Gas plumbing upstream of the reaction chamber
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K21/00—Fluid-delivery valves, e.g. self-closing valves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K37/00—Special means in or on valves or other cut-off apparatus for indicating or recording operation thereof, or for enabling an alarm to be given
- F16K37/0025—Electrical or magnetic means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
- Y10T137/0379—By fluid pressure
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7761—Electrically actuated valve
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/877—With flow control means for branched passages
- Y10T137/87885—Sectional block structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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Description
本願は、2012年8月21日に出願された「METHODS AND APPARATUS FOR ENHANCED GAS FLOW RATE CONTROL」(代理人整理番号16437USA/FEG/SYNX/CROCKER S)と題する米国特許出願第13/591,212号から優先権を主張し、あらゆる目的のためにその全体が参照により本明細書に組み込まれるものとする。
Claims (14)
- 半導体処理チャンバへのガス流を制御する方法であって、
流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を無効にすること;
前記流量比率コントローラを経由するガス流を開始すること;
上流の圧力が保存された上流の圧力値に達すると、前記流量比率コントローラのバルブを保存された位置に基づくプリセット位置まで動かすことであって、前記保存された位置及び前記保存された上流の圧力値は、前のプロセス実行中に保存され;
前記流量比率コントローラにおいて定常状態の出力フローが達成されたことを判断すること;及び
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にすること
を含む方法。 - 流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を無効にすることの前に、前記流量比率コントローラの前記バルブを開始位置に設定すること
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在のバルブ位置を保存すること
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在の上流圧力値を保存すること
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記流量比率コントローラを経由するガス流を開始する前に、前記流量比率コントローラの前記バルブを開始位置に設定すること;
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在のバルブ位置を保存すること;及び
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在の上流圧力値を保存すること
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 電子デバイス製造プロセスの各ステップに対して:
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を無効にすること:
前記流量比率コントローラを経由するガス流を開始する前に、前記流量比率コントローラの前記バルブを開始位置に設定すること;
前記流量比率コントローラを経由するガス流を開始すること;
上流の圧力が保存された上流の圧力値に達すると、前記流量比率コントローラの前記バルブを保存された位置に基づくプリセット位置まで動かすことであって、前記保存された位置及び前記保存された上流の圧力値は、前のプロセス実行中に保存され;
前記流量比率コントローラにおいて定常状態の出力フローが達成されたことを判断すること;
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にすること;
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、前記現在のバルブ位置を保存すること;及び
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、前記現在の上流圧力値を保存すること
を反復することをさらに含む、請求項5に記載の方法。 - 複数の電子デバイス製造プロセス実行に対して前記反復することをさらに含む、請求項6に記載の方法。
- コントローラ;
入力ガスライン;
前記入力ガスラインに結合され、前記入力ガスラインの上流ガス圧力を感知するように適合される圧力センサ;
前記入力ガスラインに結合された入力及び複数の出力を有するファンアウトマニフォールド;
各々の質量フローセンサが前記ファンアウトマニフォールドの複数の出力のうちの1つに動作可能に結合され、それぞれの出力を経由してガス流を感知するように適合されている、複数の質量フローセンサ;及び
各々のバルブが前記ファンアウトマニフォールドの複数の出力のうちの1つに動作可能に結合され、それぞれの出力を経由してガス流を制御するように適合されている、複数の調整可能なバルブ
を備える流量比率コントローラアセンブリであって、
前記コントローラは、保存位置に基づいて前記バルブを所定の位置に設定するため、前記複数の調整可能なバルブに動作可能に結合され、前記バルブの各々の位置を制御するように適合されており、前記コントローラは、フィードバックモード及びフィードフォワードモードで前記流量比率コントローラアセンブリを動作するようにさらに適合されており、流量比率が設定点から変動したことが検出された場合、前記コントローラによって前記バルブが調整される比率設定点フィードバック制御を有効にすることによって、フィードバックモードに動作を切り換えられる、流量比率コントローラアセンブリ。 - 前記コントローラは、前記圧力センサによって感知された前記上流ガス圧力を読み取る及び保存するようにさらに適合されている、請求項8に記載の流量比率コントローラアセンブリ。
- 前記コントローラは、定常状態ガス流が実現されるかどうかを判断するようにさらに適合されている、請求項8に記載の流量比率コントローラアセンブリ。
- 前記コントローラは:
前記流量比率コントローラアセンブリにおけるフィードバック制御を無効にし;
前記流量比率コントローラアセンブリを経由するガス流を開始し;
現在の上流の圧力値が保存された上流の圧力値に達すると、前記流量比率コントローラアセンブリの前記調整可能なバルブを保存された位置に基づくプリセット位置まで動かすことであって、前記保存された位置及び前記保存された上流の圧力値は、前のプロセス実行中に保存され;
流量比率コントローラアセンブリにおける定常状態の出力フローが実現されたことを判断し;及び
前記流量比率コントローラアセンブリにおける比率設定点フィードバック制御を有効にする
ようにさらに適合されている、請求項8に記載の流量比率コントローラアセンブリ。 - 前記コントローラは:
前記流量比率コントローラアセンブリにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、前記コントローラにおける現在のバルブ位置を保存するようにさらに適合されている、請求項11に記載の流量比率コントローラアセンブリ。 - 前記コントローラは:
前記流量比率コントローラアセンブリにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在の上流圧力値を保存するようにさらに適合されている、請求項11に記載の流量比率コントローラアセンブリ。 - 一又は複数の処理チャンバのためのガス供給システムであって、前記システムは:
複数の質量フローコントローラを含むガス供給パネルと;
前記ガス供給パネルに結合された入力ガスラインを有する流量比率コントローラアセンブリであって、一又は複数の処理チャンバに結合されるように適合されている複数の出力ガスラインを含み、且つ、:
コントローラ;
前記入力ガスラインに結合され、前記入力ガスラインの上流ガス圧力を感知するように適合される圧力センサ;
前記入力ガスラインに結合された入力及び前記複数の出力ガスラインを有するファンアウトマニフォールド;
各々の質量フローセンサが前記ファンアウトマニフォールドの前記複数の出力ガスラインのうちの1つに動作可能に結合され、それぞれの出力ガスラインを経由してガス流を感知するように適合されている、複数の質量フローセンサ;及び
各々のバルブが前記ファンアウトマニフォールドの前記複数の出力ガスラインのうちの1つに動作可能に結合され、それぞれの出力ガスラインを経由してガス流を制御するように適合されている、複数の調整可能なバルブを含む、前記流量比率コントローラアセンブリと
を備え、
前記コントローラは、保存位置に基づいて前記バルブを所定の位置に設定するため、前記複数の調整可能なバルブに動作可能に結合され、前記バルブの各々の位置を制御するように適合されており、前記コントローラは、フィードバックモード及びフィードフォワードモードで前記流量比率コントローラアセンブリを動作するようにさらに適合されており、流量比率が設定点から変動したことが検出された場合、前記コントローラによって前記バルブが調整される比率設定点フィードバック制御を有効にすることによって、フィードバックモードに動作を切り換えられる、ガス供給システム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/591,212 US9004107B2 (en) | 2012-08-21 | 2012-08-21 | Methods and apparatus for enhanced gas flow rate control |
US13/591,212 | 2012-08-21 | ||
PCT/US2013/054522 WO2014031378A1 (en) | 2012-08-21 | 2013-08-12 | Methods and apparatus for enhanced gas flow rate control |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015531137A JP2015531137A (ja) | 2015-10-29 |
JP6360480B2 true JP6360480B2 (ja) | 2018-07-18 |
Family
ID=50146939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015528517A Active JP6360480B2 (ja) | 2012-08-21 | 2013-08-12 | ガス流を制御する方法、流量比率コントローラアセンブリ、及びガス供給システム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9004107B2 (ja) |
JP (1) | JP6360480B2 (ja) |
KR (1) | KR102104883B1 (ja) |
CN (1) | CN104583658B (ja) |
TW (1) | TWI575349B (ja) |
WO (1) | WO2014031378A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9934956B2 (en) * | 2015-07-27 | 2018-04-03 | Lam Research Corporation | Time multiplexed chemical delivery system |
CN108883843A (zh) * | 2015-11-25 | 2018-11-23 | 克里蒂尔系统公司 | 气体管理系统和控制器 |
US10269600B2 (en) | 2016-03-15 | 2019-04-23 | Applied Materials, Inc. | Methods and assemblies for gas flow ratio control |
US10453721B2 (en) | 2016-03-15 | 2019-10-22 | Applied Materials, Inc. | Methods and assemblies for gas flow ratio control |
FR3056314B1 (fr) * | 2016-09-21 | 2018-09-07 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede et appareil de regulation de plusieurs fluides |
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US11841715B2 (en) | 2020-10-22 | 2023-12-12 | Applied Materials, Inc. | Piezo position control flow ratio control |
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CN116658672B (zh) * | 2023-07-28 | 2023-10-31 | 华能济南黄台发电有限公司 | 一种电厂用汽轮机疏水阀门流量特性辨识系统 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2013
- 2013-08-12 CN CN201380044160.XA patent/CN104583658B/zh active Active
- 2013-08-12 JP JP2015528517A patent/JP6360480B2/ja active Active
- 2013-08-12 KR KR1020157006763A patent/KR102104883B1/ko active IP Right Grant
- 2013-08-12 WO PCT/US2013/054522 patent/WO2014031378A1/en active Application Filing
- 2013-08-20 TW TW102129848A patent/TWI575349B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014031378A1 (en) | 2014-02-27 |
CN104583658B (zh) | 2018-05-22 |
KR102104883B1 (ko) | 2020-04-27 |
TW201421185A (zh) | 2014-06-01 |
JP2015531137A (ja) | 2015-10-29 |
US20140053912A1 (en) | 2014-02-27 |
US9004107B2 (en) | 2015-04-14 |
KR20150044934A (ko) | 2015-04-27 |
CN104583658A (zh) | 2015-04-29 |
TWI575349B (zh) | 2017-03-21 |
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