TW201421185A - 增強的氣體流動速率控制之方法及設備 - Google Patents

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Abstract

本發明提供用於控制氣體流動至一半導體處理腔室的方法與設備。本發明包括：在一流動比率控制器中使比率設定點反饋控制無效；啟動氣體流動經過該流動比率控制器；當一上游壓力達到一儲存的上游壓力值時，移動該流動比率控制器的閥門至基於一儲存位置的一預設位置，其中該儲存位置與該儲存的上游壓力值於一前期處理運行期間被儲存；確定穩態流動比率控制器輸出的流動已達到；及在該流動比率控制器中使比率設定點反饋控制有效。許多額外的特徵亦為揭示。

Description

增強的氣體流動速率控制之方法及設備 【相關申請案之相互參照】
本申請案主張2012年8月21日申請之美國臨時申請案第13/591,212號，「增強的氣體流動速率控制之方法及設備」的優先權(律師文案第16437USA/FEG/SYNX/CROCKER S號)，茲將該案全部內容經由引用併於本案中，以為各目的之用。
本發明大致關於用於電子設備製造的氣體流動速率控制，並且特別是針對用於增強氣體流動速率控制得更精確的方法及設備。
半導體處理過程特別敏感於流動速率的變化和擾動。因而，用於半導體處理腔室的氣體輸送系統嘗試在精確的速度及壓力下，輸送穩定流動。先前技術中的氣體輸送系統使用分流法，以於多注入點及多腔室結構中改良混合比率的準確性、可重複性和再現性，而前述的結構共享氣體的供應端。在數種應用裏，分流也顯著地降低了氣體輸送系統的成本。分流設備的範圍由簡易的Y型管道，到即時流動反饋 比率控制器(FRC)。該流動反饋比率控制器積極地嘗試控制經由該流動反饋比率控制器的輸出通道分配的氣體之相對流動速度。然而，隨著新科技持續實現較小的關鍵尺寸，較高程度的流動控制精確性成了追求的目標，因而需要用來增強氣體流動速率控制更為精確的方法與設備。
發明的方法與設備被用於一種控制氣體流動至一半導體處理腔室中的方法。該方法包括以下步驟：於一流動比率控制器中使比率設定點反饋控制無效；啟動氣體流動經過該流動比率控制器；當一上游壓力達到一儲存的上游壓力值時，移動該流動比率控制器的閥門至基於一儲存位置的一預設位置，其中該儲存位置與該儲存的上游壓力值於一前期處理運行期間被儲存；確定穩態流動比率控制器輸出的流動已達到；及在該流動比率控制器中使比率設定點反饋控制有效。
在某些實施例中，該發明提供了一種流動比率控制器組件。該組件包括：一控制器；一輸入氣體線路；一壓力感測器，該壓力感測器耦接至該輸入氣體線路，並適於測出在該輸入氣體線路內的一上游氣體壓力；一四散分歧管，該四散分歧管具有耦接至該輸入氣體線路的一輸入端，及複數個輸出端；複數個質量流動感測器，每一質量流動感測器操作地耦接至不同的該四散分歧管的該複數個輸出端之一，且適於測出經過一各別輸出端的氣體流動；及複數個可調整閥門，每一閥門操作地耦接至不同的該四散分歧管的該複數個輸出端之一，且適於控制經過一各別輸出端的氣體流動。該 控制器操作地耦接至該複數個可調整閥門，且適於控制該閥門的每一位置，以基於一儲存的位置，設定該閥門至一預定位置。
在其他實施例中，該發明提供一種用於一或多個處理腔室的氣體輸送系統。該系統包括：一氣體供應面板，該氣體供應面板包括複數個質量流動控制器；一流動比率控制器組件，該流動比率控制器組件具有一輸入氣體線路，該輸入氣體線路耦接至該氣體供應面板，該流動比率控制器組件包括複數個輸出氣體線路，適於耦接至一或多個處理腔室。該流動比率控制器組件包括：一控制器；一壓力感測器，該壓力感測器耦接至該輸入氣體線路，並適於測出在該輸入氣體線路中的一上游氣體壓力；一四散分歧管，該四散分歧管具有一輸入端，該輸入端耦接至該輸入氣體線路與該複數個輸出氣體線路；複數個質量流動感測器，每一質量流動感測器操作地耦接至不同的該四散分歧管的該複數個輸出氣體線路之一，且適於測出經過一各別輸出氣體線路的氣體流動；及複數個可調整閥門，每一閥門操作地耦接至不同的該四散分歧管的該複數個輸出氣體線路之一，且適於控制經過一各別輸出氣體線路的氣體流動。該控制器操作地耦接至該複數個可調整閥門，且適於控制該閥門的每一位置，以設定該閥門至基於一儲存的位置的一預定位置。
許多其它的態樣提供於此。本發明的其它特徵與態樣，藉由下列詳細的描述、隨附的專利申請範圍與圖示，將顯得更加清楚。
100‧‧‧氣體輸送系統
102‧‧‧氣體供應面板
104‧‧‧質量流動控制器
106‧‧‧流動比率控制器組件
108‧‧‧處理腔室
110‧‧‧處理腔室
202‧‧‧流動比率控制器
204‧‧‧控制器
206‧‧‧線路壓力感測器
208‧‧‧質量流動感測器
210‧‧‧質量流動感測器
212‧‧‧質量流動感測器
214‧‧‧質量流動感測器
216‧‧‧閥門
218‧‧‧閥門
220‧‧‧閥門
222‧‧‧閥門
400‧‧‧曲線圖
402‧‧‧繪製圖
404‧‧‧繪製圖
500‧‧‧曲線圖
502‧‧‧繪製圖
504‧‧‧繪製圖
第1圖為一示意方塊圖，該圖描繪依照本發明某些實施例的一示例性的氣體輸送系統。
第2圖為一示意方塊圖，該圖描繪依照本發明某些實施例的一示例性的流動反饋比率控制器(FRC)。
第3圖為描繪一示例性的控制氣體流動方法的流程圖，該方法使用依照本發明某些實施例的一流動反饋比率控制器。
第4圖為一曲線圖，該曲線圖描繪經過一習用的流動反饋比率控制器的氣體流動速率對時間關係，與經過依照本發明某些實施例的一流動反饋比率控制器的氣體流動速率對時間關係的一示例性比較。
第5圖為一曲線圖，該曲線圖描繪一習用的流動反饋比率控制器的上游氣體壓力對時間關係，與依照本發明某些實施例的一流動反饋比率控制器的上游氣體壓力對時間關係的一示例性比較。
本發明提供用於控制氣體流動至處理腔室之改良的方法與設備。特別是本發明減少解決時間，以找出進入一處理腔室的流動速率，而該處理腔室在該氣體流動中以最少的擾動提供期望的氣體量。改良氣體流動控制的方法的先前技術中並未嘗試實現經過流動比率控制器的穩態流動。依照本發明藉由減少該解決時間，暫態流動被消除或最小化，並且因為氣體運送至該腔室被較佳地界定且短暫的停留時間顯著 地減少，較嚴格的製程控制能因此實現。
由本身基於反饋的控制存在著某些固有的局限性。直到偏離發生於該控制的變數後，才會採取糾正措施。因而，完美控制(在干擾發生期間該控制的變數沒有自設定點偏離或設定點改變)理論上不可行。反饋控制沒有提供預測控制作用以補償已知的(即，可預料的)或可量測的干擾的效果。在某些例子中，製程處理製作方法具有緊的公差，對於製程處理而言，反饋控制可能不甚滿意。如果一個顯著的或重複的干擾發生，該處理可能於一延長時間內，在一暫態下操作，速度不夠快以達到該所需的穩態。
本發明使用由前期處理運行得之前饋資訊，在適當的時間，從使用一習用的流動比設定點反饋控制器，直接切換設定流動控制器的閥門開口至基於該前期處理運行的一預定位置。
本發明也包括一種新穎的流動比率控制器，該流動比率控制器能在兩種不同的模式下操作以實現本發明的方法。在反饋模式中，該流動比率控制器的閥門基於測出的流動，由該控制器繼續地被調整，以實現基於一特定設定點的一所需的流動比。在前饋模式中，該流動比率控制器的閥門被設定至預先儲存的位置，該位置是在前期處理運行期間決定的。因而，在某些實施例中，本發明新穎的流動比率控制器可包括(1)質量流動感測器以便利於該反饋模式中操作(即，基於反饋資料重複地調整該閥門位置)與(2)閥門位置感測器與記憶體，用來偵測及儲存由前期處理運行得來的 位置，以便利於該前饋模式中操作(即，基於該前饋資料設定該閥門至一最終位置)兩者。此外，該新穎的流動比率控制器可包括複數個閥門，該閥門能同時(1)相對於彼此被調整以尋找實現一所需的流動比的位置以及(2)被設定於基於先前儲存的位置的之絕對的位置。
請翻到第1圖，該圖描述依照本發明的一示例性的氣體輸送系統100。該系統100包括一氣體供應面板102，其包括複數個質量流動控制器104(僅三個用於表示)。該質量流動控制器104與本發明之新穎的流動比率控制器組件106流體連通。根據在處理過程中執行的製程處理製作方法，由該質量流動控制器104供應至該流動比率控制器組件106之不同氣體的數量會變化。該流動比率控制器組件106經由一輸出線路分歧管耦接至一或多個處理腔室108、110。在某些實施例中，該處理腔室108、110可適於接收氣體於該處理腔室108、110內的一個以上的區域，並因而該分歧管可包括流入一單一腔室108、110的數個線路。雖然未圖示於第1圖，系統100的各組成部分可包括控制器、感測器、儀表及/或至一中央控制系統的連結。其他數量的質量流動控制器、區域、腔室等，可被採用。
第2圖描繪依照本發明某些實施例的一示例性的流動比率控制器組件106的細節。該流動比率控制器組件106包括一流動比率控制器202，該流動比率控制器202在一控制器204綱領性的控制下運作。線路壓力感測器206提供來自氣體供應面板102中的質量流動控制器104氣體上游線路壓 力Pup的一讀值。一輸入線路Qin被饋送至在該流動比率控制器202內的一四散分歧管，以分流氣體流動於複數個質量流動感測器208、210、212、214間(即，熱質量流動感測器)，亦於該流動比率控制器202內。在控制器204控制下，分流氣體線路的每一分枝接著經由一各別處理線路或路程，通往一各別可調整閥門216、218、220、222。可調整閥門216、218、220、222的輸出端，Q1至Q4可被耦接至處理腔室108、110的進口。
控制器204適於設定可調整閥門216、218、220、222的每一閥門位置，及讀取(及儲存)該可調整閥門216、218、220、222的每一現時位置。該控制器也適於讀取及儲存質量流動感測器208、210、212、214的每一流動速率值及來自該線路壓力感測器206的Pup。在某些實施例中，該控制器可體現為由該流動比率控制器202分離的一離散的電腦，且在某些實施例中，該控制器204可被整合或嵌入該流動比率控制器202中。其他數量的質量流動控制器、閥門、輸出端等，可被採用。任何合適的質量流動控制器及/或可調整閥門可被使用。
第3圖為描繪使用依照本發明某些實施例的一流動比率控制器組件106，控制氣體流動的一示例性疊代法300的流程圖。最初，當穩態流動達成時，一處理製作方法的步驟被執行且用於Pup與閥門位置的值被儲存，接著該儲存的資訊前饋至該處理隨後的運行中。當Pup達到時，該前饋資訊被用來設定流動比率控制器閥門位置。在這種方式下，該流動 比率控制器組件106避免必須使用反饋法供每一個新的處理運行，以尋求正確的穩態閥門位置。
需要注意的是雖然下列示例性的方法300被描述為一系列離散的步驟，但該發明並未因而受限。描述於下的步驟僅供作說明用途，便利瞭解該發明。任何數量的額外步驟可被包括，數個步驟可被忽略或合併，下列步驟的任何部分可被分散至子步驟中。此外，特定序列中顯示的步驟僅為便利理解該發明，但應當理解該些步驟，或任何合併或子步驟，可以任何可行的順序來執行。
方法300起始於步驟302，步驟中，氣體流動於一最初處理運行裏開始用於一現時步驟。藉一比率設定點模式有效，該流動比率控制器組件106被設定來操作。該流動比率控制器組件106適於找到閥門位置，而該等閥門位置由反饋達成設定點比率。於步驟304中，流動比率控制器組件106繼續調整閥門216、218、220、222，直到對於現時的處理步驟，來自該流動比率控制器組件106的一穩態流量達成。在步驟306中，該穩態流量流動比率控制器202閥門位置由控制器204隨著Pup對於現時的處理步驟被讀取及儲存。在步驟308中，方法300決定是否有額外的處理步驟在最初處理運行。若如此，進行步驟310，該處最初處理運行的下一個步驟起始(即，成為該現時步驟)且上述步驟重複用於下一個處理步驟。如果該最初處理運行已完成，進行步驟312，該步驟下一個處理運行起始。
隨著數個其它習用的步驟(即，疏散、清洗、抽空)， 於步驟312起始該下一個處理運行涉及移除由腔室中處理過的基板及放置新基板進該腔室中。一旦基板在腔室中已被取代且該腔室準備好開始再一次的處理，該方法300移至步驟314。在步驟314中，隨著該比率設定點反饋操作模式無效，對於現時的處理步驟，氣體流動開始。換句話說，閥門216、218、220、222不會再被調整。在某些實施例中，閥門216、218、220、222被設定在一適宜的開始或最初位置。該開始位置可被選擇以允許一所需的Pup達成或反之盡量減少該氣體流動中的擾動。舉例而言，在某些實施例中，所有的閥門216、218、220、222，最初是關閉的，可能是開啟的(即，到一預定位置，比如到相同或相近的一閥門位置)。然而，因為線路長度，彎曲及處理線路的整體體積可能會變化，在其他的實施例裏，用於具有較大線路長度、更多彎曲及/或較大體積處理線路的閥門可先被打開及/或打開大一些。通常來說，處理的成果可被用來決定閥門216、218、220、222所需的開始/最初位置。
隨著氣體流動與閥門在開始位置，該方法300進行至步驟316，該步驟中Pup被監控。流動比率控制器組件106可於此點被考慮操作於一前饋模式。當Pup達到於前期處理運行期間(即，於該最初處理運行或一隨後的運行期間，但早於該現時運行)儲存的穩態Pup值，而該前期處理運行對應於現時運行的現時步驟時，則閥門216、218、220、222被移動至閥門位置。當穩態流動達成於前期處理運行期間時，該些閥門位置被儲存。易言之，由前期運行來的閥門位置前饋至 現時運行中。在步驟318中，控制器204使用儲存質量流動感測器208、210、212、214，決定何時穩態流動比率控制器輸出的流動已經實現於現時處理運行的現時步驟。一旦穩態流動已經實現，在步驟320中，由使比率設定點反饋控制有效，該流動比率控制器組件106被切換至反饋操作模式。在該步驟中，如果偵測出流動比已由設定點變化，在該比率設定點閥門由該控制器所調整。在步驟322中，用於現時的處理步驟的現時流動比率控制器閥門位置與Pup的值被儲存，以被使用於一隨後的處理運行中。
在步驟324中，方法300決定是否有額外的處理步驟於該現時處理運行中。若如此，進行步驟326，該步驟現時處理運行的下一個步驟開始(即，成為該現時步驟)，步驟314至324重複用於下一個處理步驟。如果該現時處理運行已完成，進行步驟312，該步驟下一個處理運行起始。
現在請翻到第4圖，一曲線圖400提供描繪經過一習用的流動比率控制器的氣體流動速率對時間關係(繪製於402)與經過依照本發明某些實施例的一流動比率控制器組件的氣體流動速率對時間關係(繪製於404)的示例性比較。經過一習用的流動比率控制器繪製圖402的氣體流動速率對時間關係(繪製於402)包括一短暫的突波與一漸變過渡至穩態流動，該穩態流動由繪製圖402的水平部分所指出。相反地，經過依照本發明某些實施例的一流動比率控制器組件的氣體流動速率對時間關係(繪製於404)似乎幾乎為具有非常快(即，幾乎垂直的)由零流動到穩態流動過渡的一階躍函數， 該穩態流動由繪製圖404的水平部分所指出。在某些實施例中，可能會約50%更快達到穩態流速，在某些情況下約75%更快，藉本發明的流動比率控制器組件在某些情況下會約100%更快。
第5圖說明一相似之相對高程度的精確控制，於比較一習用的流動比率控制器與依照本發明某些實施例的流動比率控制器組件間上游氣體壓力反應。第5圖為一曲線圖500，描繪一習用的流動比率控制器上游氣體壓力對時間關係(繪製於502)與依照本發明某些實施例的一流動比率控制器上游氣體壓力對時間關係(繪製於504)間的示例性比較。正如該流動速率繪製圖402、404，該上游壓力繪製圖502、504說明由依照本發明某些實施例的流動比率控制器所達成的更高層次精確度。通過一習用的流動比率控制器的上游氣體壓力對時間關係(繪製於502)包括一短暫的突波與一漸變過渡至穩態壓力，該穩態壓力由繪製圖502的水平部分所指出。相反地，該通過依照本發明某些實施例的一流動比率控制器組件的上游氣體壓力對時間關係(繪製於504)似乎幾乎為具有非常快(即，相對地垂直的)由零壓力到穩態壓力過渡的一階躍函數，該穩態壓力由繪製圖504的水平部分所指出。在某些實施例中，可能會約50%更快達到穩態壓力，在某些情況下約75%更快，藉本發明的流動比率控制器組件在某些情況下會約100%更快。
於是，雖然本發明已藉相關示例性的實施例所揭示，應當理解的是由以下專利申請範圍所界定者，其它實施 例可能落於本發明的精神與範圍內。
100‧‧‧氣體輸送系統
102‧‧‧氣體供應面板
104‧‧‧質量流動控制器
106‧‧‧流動比率控制器組件
108‧‧‧處理腔室
110‧‧‧處理腔室

Claims (20)

  1. 一種控制氣體流動至一半導體處理腔室的方法，該方法包含以下步驟：於一流動比率控制器中使比率設定點反饋控制無效；啟動氣體流動經過該流動比率控制器；當一上游壓力達到一儲存的上游壓力值時，移動該流動比率控制器的閥門至基於一儲存位置的一預設位置，其中該儲存位置與該儲存的上游壓力值於一前期處理運行期間被儲存；確定穩態流動比率控制器輸出的流動已達到；及在該流動比率控制器中使比率設定點反饋控制有效。
  2. 如請求項1所述之方法進一步包含以下步驟：設定該流動比率控制器的該等閥門於一最初起始位置。
  3. 如請求項1所述之方法進一步包含以下步驟：在該流動比率控制器中，使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時流動比率控制器閥門位置。
  4. 如請求項1所述之方法進一步包含以下步驟：在該流動比率控制器中，使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時上游壓力值。
  5. 如請求項1所述之方法進一步包含以下步驟： 在啟動氣體流動經過該流動比率控制器前，設定該流動比率控制器的該等閥門於一最初起始位置；在該流動比率控制器中，使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時流動比率控制器閥門位置；及在該流動比率控制器中，使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時上游壓力值。
  6. 如請求項5所述之方法進一步包含以下步驟：對於一電子裝置製造處理中的每個步驟，重複以下步驟：於該流動比率控制器中使比率設定點反饋控制無效；在啟動氣體流動經過該流動比率控制器前，設定該流動比率控制器的該等閥門於一起始位置；啟動氣體流動經過該流動比率控制器；當一上游壓力達到一儲存的上游壓力值時，移動該流動比率控制器的該等閥門至基於一儲存位置的一預設位置，其中該儲存位置與該儲存的上游壓力值於一前期處理運行期間被儲存；確定穩態流動比率控制器輸出的流動已達到；在該流動比率控制器中使比率設定點反饋控制有效；在該流動比率控制器中，使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時流動比率控制器閥門位置；及在該流動比率控制器中，使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時上游壓力值。
  7. 如請求項6所述之方法進一步包含以下步驟：對於複數個電子裝置製造處理運行，重複以下步驟：對於一電子裝置製造處理運行中的每個步驟，重複以下步驟：於該流動比率控制器中使比率設定點反饋控制無效；在啟動氣體流動經過該流動比率控制器前，設定該流動比率控制器的該閥門於一起始位置；啟動氣體流動經過該流動比率控制器；當一上游壓力達到一儲存的上游壓力值時，移動該流動比率控制器的該閥門至基於一儲存位置的一預設位置，其中該儲存位置與該儲存的上游壓力值於一前期處理運行期間被儲存；確定穩態流動比率控制器輸出的流動已達到；在該流動比率控制器中使比率設定點反饋控制有效；在該流動比率控制器中，使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時流動比率控制器閥門位置；及在該流動比率控制器中，使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時上游壓力值。
  8. 一種流動比率控制器組件，包含：一控制器；一輸入氣體線路；一壓力感測器，該壓力感測器耦接至該輸入氣體線路，並適於測出在該輸入氣體線路內的一上游氣體壓力； 一四散分歧管，該四散分歧管具有耦接至該輸入氣體線路的一輸入端，及複數個輸出端；複數個質量流動感測器，每一質量流動感測器操作地耦接至不同的該四散分歧管的該複數個輸出端之一，且適於測出經過一各別輸出端的氣體流動；及複數個可調整閥門，每一閥門操作地耦接至不同的該四散分歧管的該複數個輸出端之一，且適於控制經過一各別輸出端的氣體流動，其中該控制器操作地耦接至該複數個可調整閥門，且適於控制該閥門的每一位置，以基於一儲存的位置，設定該閥門至一預定位置。
  9. 如請求項8所述之流動比率控制器組件，其中該控制器進一步適於讀取及儲存由該壓力感測器測出的該上游氣體壓力。
  10. 如請求項8所述之流動比率控制器組件，其中該控制器進一步適於決定是否一穩態氣體流動已經實現。
  11. 如請求項8所述之流動比率控制器組件，其中該控制器進一步適於一反饋模式與一前饋模式中，操作該流動比率控制器組件。
  12. 如請求項8所述之流動比率控制器組件，其中該控制器 進一步適於：於該流動比率控制器組件中使反饋控制無效；啟動氣體流動經過該流動比率控制器組件；當一現時上游壓力值達到一儲存的上游壓力值時，移動該流動比率控制器組件的該可調整閥門至基於一儲存位置的一預設位置，其中該儲存位置與該儲存的上游壓力值於一前期處理運行期間被儲存；決定穩態流動比率控制器組件輸出的流動已經實現；及在該流動比率控制器組件中使比率設定點反饋控制有效。
  13. 如請求項12所述之流動比率控制器組件，其中該控制器進一步適於：在該流動比率控制器組件中使比率設定點反饋控制有效後，儲存現時流動比率控制器閥門位置。
  14. 如請求項12所述之流動比率控制器組件，其中該控制器進一步適於：在該流動比率控制器組件中使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時上游壓力值。
  15. 一種用於一或多個處理腔室的氣體輸送系統，該系統包含：一氣體供應面板，該氣體供應面板包括複數個質量流動 控制器；一流動比率控制器組件，該流動比率控制器組件具有一輸入氣體線路，該輸入氣體線路耦接至該氣體供應面板，該流動比率控制器組件包括複數個輸出氣體線路，適於被耦接至一或多個處理腔室，該流動比率控制器組件包括：一控制器；一壓力感測器，該壓力感測器耦接至該輸入氣體線路，並適於測出在該輸入氣體線路中的一上游氣體壓力；一四散分歧管，該四散分歧管具有一輸入端，該輸入端耦接至該輸入氣體線路，及該複數個輸出氣體線路；複數個質量流動感測器，每一質量流動感測器操作地耦接至不同的該四散分歧管的該複數個輸出氣體線路之一，且適於測出經過一各別輸出氣體線路的氣體流動；及複數個可調整閥門，每一閥門操作地耦接至不同的該四散分歧管的該複數個輸出氣體線路之一，且適於控制經過一各別輸出氣體線路的氣體流動，其中該控制器操作地耦接至該複數個可調整閥門，且適於控制該閥門的每一位置，以設定該閥門至基於一儲存的位置的一預定位置。
  16. 如請求項15所述之該氣體輸送系統，其中該控制器進一步適於讀取及儲存由該壓力感測器測出的該上游氣體壓力。
  17. 如請求項15所述之該氣體輸送系統，其中該控制器進一 步適於決定是否一穩態氣體流動已經實現。
  18. 如請求項15所述之該氣體輸送系統，其中該控制器進一步適於在一反饋模式與一前饋模式中，操作該流動比率控制器組件。
  19. 如請求項15所述之該氣體輸送系統，其中該控制器進一步適於：於該流動比率控制器組件中使反饋控制無效；啟動氣體流動經過該流動比率控制器組件；當一現時上游壓力值達到一儲存的上游壓力值時，移動該流動比率控制器組件的該可調整閥門至基於一儲存位置的一預設位置，其中該儲存位置與該儲存的上游壓力值於一前期處理運行期間被儲存；決定穩態流動比率控制器組件輸出的流動已經實現；及在該流動比率控制器組件中使比率設定點反饋控制有效。
  20. 如請求項19所述之該氣體輸送系統，其中該控制器進一步適於：在該流動比率控制器組件中使比率設定點反饋控制有效後，儲存現時流動比率控制器閥門位置；及在該流動比率控制器組件中使比率設定點反饋控制有效後，儲存該現時上游壓力值。
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