JP6546867B2 - 処理プロセスを調整する方法 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、処理プロセスを調整する方法に関するものである。

プラズマ処理装置といった基板処理装置では、この基板処理装置の処理容器にガス供給系からのガスが供給され、基板が処理される。基板処理装置では複数種類の処理が順次行われることがある。このため、ガス供給系は、複数種類のガスのうち一以上のガスの流量を制御して、流量が制御された一以上のガスを処理容器内に供給するよう構成されることがある。複数種類のガスに応じた複数種類のガス源のそれぞれには、複数の枝管路が接続されている。処理容器には、ガスの主管路が接続され、この主管路の一端には複数の枝管路が接続される幹管路が接続される。複数の枝管路は、主管路に近い方から順次、幹管路に接続される。一の枝管路は、一のガス源に接続されており、複数の枝管路のそれぞれは、互いに異なる設定流量、最大流量を有する場合がある。

上記のように設定流量の異なる複数の枝管路を備えるガス供給系が用いられる技術として、混合ガスの供給方法、混合ガス供給装置、および、当該方法、当該装置を備えた半導体製造装置が特許文献１に開示されている。特許文献１に係る技術は、半導体製造装置用の混合ガス供給装置において、大流量供給ガスが小流量供給ガスのライン内へ逆流することが原因でバルブやマスフロメータに生じ得る各種の現象を防止することを目的としており、複数のガス供給ラインを通して複数のガスを供給し複数のガスの混合ガスをガスアウト部を通してガス使用対象へ供給する混合ガス供給方法において、複数のガスの中の最小流量のガスをガスアウト部から最も離れた位置に設けたガス供給ラインから供給する構成を有する。

特開平９−２８３５０４号公報

上記のようにガス種毎に設けられた複数の枝管路は、ガス種が互いに異なると共にガスの設定流量も互いに異なる。このようなガスの枝管路の配置等は、ガス供給系毎に異なる場合があり、ガス処理工程の内容が規定されるプロセスレシピは、ガス供給系毎に好適に設定されている場合がある。このため、一のガス供給系で用いられるプロセスレシピが他のガス供給系で用いられる場合には、当該一のガス供給系で得られる処理結果とは異なる処理結果が当該他のガス供給系で得る場合がある。したがって、一のプロセスレシピを複数の異なるガス供給系で用いるための技術が望まれている。

一態様においては、第１の処理装置で用いられるプロセスレシピを該第１の処理装置と異なる構成を備える第２の処理装置に適用して被処理体を処理する場合に、処理プロセスを調整する方法が提供される。（１）第１の処理装置は、被処理体が処理される第１の処理容器と、第１のガス供給系と、を備え、第１のガス供給系は、第１の主管路と第１の幹管路と複数の第１の枝管路と複数の第１の流量制御器と複数の第１のガス源とを備え、第１の主管路の一端は、第１の処理容器に接続され、第１の主管路の他端は、第１の幹管路の一端に接続され、複数の第１の枝管路のそれぞれの一端は、第１の幹管路に接続され、複数の第１の枝管路のそれぞれの他端は、複数の第１のガス源のそれぞれに接続され、複数の第１の流量制御器のそれぞれは、複数の第１の枝管路のそれぞれに対して設置されており、該複数の第１の枝管路のそれぞれを流れるガスの流量を制御し、複数の第１の枝管路は、第１の管番号が割り当てられており、第１の管番号は、第１番から第Ｍ番までの番号であって、Ｍは、複数の第１の枝管路の総数を表す１より大きな自然数であり、第１番〜第Ｍ番の第１の枝管路は、第１の管番号の順に、第１の主管路に近い側から第１の幹管路に接続されており、第１番〜第Ｍ番の第１の枝管路のそれぞれから第１の幹管路を流れるガスの設定流量の値は、互いに異なっており、（２）第２の処理装置は、被処理体が処理される第２の処理容器と、第２のガス供給系と、を備え、第２のガス供給系は、第２の主管路と第２の幹管路と複数の第２の枝管路と複数の第２の流量制御器と複数の第２のガス源とを備え、第２の主管路の一端は、第２の処理容器に接続され、第２の主管路の他端は、第２の幹管路の一端に接続され、複数の第２の枝管路のそれぞれの一端は、第２の幹管路に接続され、複数の第２の枝管路のそれぞれの他端は、複数の第２のガス源のそれぞれに接続され、複数の第２の流量制御器のそれぞれは、複数の第２の枝管路のそれぞれに対して設置されており、該複数の第２の枝管路のそれぞれを流れるガスの流量を制御し、複数の第２の枝管路は、第２の管番号が割り当てられており、第２の管番号は、第１番から第Ｎ番までの番号であって、Ｎは、複数の第２の枝管路の総数を表す１より大きな自然数であり、第１番〜第Ｎ番の第２の枝管路は、第２の管番号の順に、第２の主管路に近い側から第２の幹管路に接続されており、第１番〜第Ｎ番の第２の枝管路のそれぞれから第２の幹管路を流れるガスの設定流量の値は、互いに異なっている。本態様に係る方法は、第１のガス供給系および第２のガス供給系に係る装置情報を用いて、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から予め設定された時間だけ、または、該ガス処理工程の開始前の予め設定された時間だけ、第２のガス供給系におけるガスの流量を増減し、処理プロセスを調整する工程を備え、この調整する工程は、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを、該プロセスレシピを用いた第１の処理装置の処理プロセスに適合させる。

上記方法では、ガス供給系の枝管路の配置が互いに相違し得る第１の処置装置と第２の処理装置とにおいて、第１の処理装置で用いられるプロセスレシピを第２の処理装置に適用して被処理体を処理する場合に、第１のガス供給系および第２のガス供給系に係る装置情報を用いて、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から予め設定された時間だけ、または、ガス処理工程の開始前の予め設定された時間だけ、第２のガス供給系におけるガスの流量が増減され（ガスの流量の増減によってガスの供給開始時を遅延させる場合を含む）、第２の処理装置の処理プロセスが調整されるので、第１の処理装置で用いられるプロセスレシピが第２の処理装置に用いられても、第２の処理装置において、第１の処理装置と同様な処理プロセスが実現される。

一実施形態では、調整する工程は、（３）プロセスレシピのガス処理工程において二種類のガス種が用いられる場合に、複数の第１の枝管路のうち該二種類のガス種に対応する第Ｍ１番（Ｍ１は、１≦Ｍ１≦Ｍ−１を満たす自然数。）の第１の枝管路および第Ｍ２番（Ｍ２は、２≦Ｍ２≦Ｍ且つＭ１＜Ｍ２を満たす自然数。）の第１の枝管路と、複数の第２の枝管路のうち該二種類のガス種に対応する第Ｎ１番（Ｎ１は、１≦Ｎ１≦Ｎ−１を満たす自然数。）の第２の枝管路および第Ｎ２番（Ｎ２は、２≦Ｎ２≦Ｎ且つＮ１＜Ｎ２を満たす自然数。）の第２の枝管路とを選択する第１の工程と、（４）複数の第１の枝管路のうち第１の工程において選択された第Ｍ１番の第１の枝管路および第Ｍ２番の第１の枝管路のそれぞれに対応する第１の管番号のＭ１、Ｍ２および設定流量の値と、複数の第２の枝管路のうち該第１の工程において選択された第Ｎ１番の第２の枝管路およびＮ２番の第２の枝管路のそれぞれに対応する第２の管番号のＮ１、Ｎ２および該設定流量の値との組み合わせに基づいて、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する第２の工程と、を備える。このように、第１のガス供給系の構成と第２のガス供給系の構成との相違が第１の工程で正確に特定され、第１の工程で特定された当該相違に基づいて第２の工程において第２の処理装置の処理プロセスが調整されるので、当該調整が正確に行える。

一実施形態では、第２の工程は、第Ｎ２番の第２の枝管路に対応する設定流量の値が第Ｎ１番の第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｍ１番の第１の枝管路に対応する該設定流量の値が第Ｍ２番の第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きい場合には、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から、第２の幹管路に流す第Ｎ２番の第２の枝管路からのガスの流量が設定流量に至るまでの時間を、第Ｍ２番の第１の枝管路に対応する該設定流量で圧力安定時に第１の幹管路にあるガス量が供給される場合に要する時間とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因して第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給が第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、第１の処理装置側の遅延に合わせて第２のガス供給系の設定流量を制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、第２の工程は、第Ｎ１番の第２の枝管路に対応する設定流量の値が第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｍ２番の第１の枝管路に対応する該設定流量の値が第Ｍ１番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きい場合には、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から、第Ｎ２番の第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの最大流量の値から第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する設定流量の値を差し引いて得られる差分流量で圧力安定時に第２の幹管路にあるガス量が供給される場合に要する時間が経過するまでの間において、第Ｎ２番の該第２の枝管路からのガスの流量を第Ｎ２番の該第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの該最大流量の値とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因して第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給が第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始時から第２のガス供給系におけるガスの流量を設定よりも増加させ第２の処理装置側の遅れを補うように制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、第２の工程は、第Ｎ１番の第２の枝管路に対応する設定流量の値が第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｍ２番の第１の枝管路に対応する該設定流量の値が第Ｍ１番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きい場合には、プロセスレシピのガス処理工程の開始前において、第Ｎ２番の第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの最大流量で圧力安定時に第２の幹管路にあるガス量が供給される場合に要する時間が経過して該ガス処理工程が開始されるまでの間において、第Ｎ２番の該第２の枝管路からのガスの流量を第Ｎ２番の該第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの該最大流量の値とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因して第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給が第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始前から第２のガス供給系のガス供給を開始しガス処理工程の開始時までに第２の処理装置側の遅れを補うように制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、第２の工程は、第Ｍ１番の第１の枝管路に対応する設定流量の値が第Ｍ２番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｎ１番の第２の枝管路に対応する該設定流量の値が第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、Ｍ２がＮ２より大きい場合には、圧力安定時に第１の幹管路にあるガス量から圧力安定時に第２の幹管路にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から、第２の幹管路に流す第Ｎ２番の第２の枝管路からのガスの流量が設定流量に至るまでの時間を、第Ｍ２番の第１の枝管路に対応する該設定流量で差分ガス量が供給される場合に要する時間とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因して第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給が第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、第１の処理装置側の遅延に合わせて第２のガス供給系の設定流量を制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、第２の工程は、第Ｍ１番の第１の枝管路に対応する設定流量の値が第Ｍ２番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｎ１番の第２の枝管路に対応する該設定流量の値がＮ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、Ｎ２がＭ２より大きい場合には、圧力安定時に第２の幹管路にあるガス量から圧力安定時に第１の幹管路にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から、第Ｎ２番の第２の枝管路から第２の幹管路に流すガスの最大流量の値から第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する設定流量の値を差し引いて得られる差分流量で差分ガス量が供給される場合に要する時間が経過するまでの間において、第Ｎ２番の該第２の枝管路からのガスの流量を第Ｎ２番の該第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの該最大流量の値とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因して第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給が第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始時から第２のガス供給系におけるガスの流量を設定よりも増加させ第２の処理装置側の遅れを補うように制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、第２の工程は、第Ｍ１番の第１の枝管路に対応する設定流量の値が第Ｍ２番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｎ１番の第２の枝管路に対応する該設定流量の値がＮ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、Ｎ２がＭ２より大きい場合には、圧力安定時に第２の幹管路にあるガス量から圧力安定時に第１の幹管路にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始前において、第Ｎ２番の第２の枝管路から第２の幹管路に流すガスの最大流量で差分ガス量が供給される場合に要する時間が経過して該ガス処理工程が開始されるまでの間において、第Ｎ２番の該第２の枝管路からのガスの流量を第Ｎ２番の該第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの該最大流量の値とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因して第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給が第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始前から第２のガス供給系のガス供給を開始しガス処理工程の開始時までに第２の処理装置側の遅れを補うように制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、調整する工程は、第１の主管路の容積および第２の主管路の容積の大小を判定し、この判定結果に基づいて、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。処理容器に直結する主管路の容積の大小によってガス供給系から処理容器へのガスの供給の速さが異なるので、第１の主管路の容積および第２の主管路の容積の大小の判定結果に基づいて、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、調整する工程は、第１の主管路の容積が第２の主管路の容積より大きい場合には、圧力安定時に第１の主管路にある主ガス量から圧力安定時に第２の主管路にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から、第２の主管路を流れるガスの主流量が該第２の主管路に対応する設定主流量に至るまでの時間を、第１の主管路に対応する該設定主流量で差分主ガス量が供給される場合に要する時間とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、処理容器に直結する主管路の容積の大小に起因して第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給が第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、第１の処理装置側の遅延に合わせて第２のガス供給系の設定流量を制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、調整する工程は、第２の主管路の容積が第１の主管路の容積より大きい場合には、圧力安定時に第２の主管路にある主ガス量から圧力安定時に第１の主管路にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から、第２の主管路に流すガスの最大主流量の値から該第２の主管路に対応する該設定主流量の値を差し引いて得られる差分主流量で差分主ガス量が供給される場合に要する時間が経過するまでの間において、該第２の主管路を流れるガスの主流量を該第２の主管路に流すガスの該最大主流量の値とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、処理容器に直結する主管路の容積の大小に起因して第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給が第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始時から第２のガス供給系におけるガスの流量を設定よりも増加させ第２の処理装置側の遅れを補うように制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

実施形態では、調整する工程は、第２の主管路の容積が第１の主管路の容積より大きい場合には、圧力安定時に第２の主管路にある主ガス量から圧力安定時に第１の主管路にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始前において、第２の主管路を流れるガスの最大主流量で差分主ガス量が供給される場合に要する時間が経過して該ガス処理工程が開始されるまでの間において、該第２の主管路を流れるガスの主流量を該第２の主管路を流れるガスの該最大主流量の値とするように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、処理容器に直結する主管路の容積の大小に起因して第２のガス供給系から第２の処理容器へのガスの供給が第１のガス供給系から第１の処理容器へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始前から第２のガス供給系のガス供給を開始しガス処理工程の開始時までに第２の処理装置側の遅れを補うように制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

一実施形態では、ガス処理工程の終了時において、第１のガス供給系におけるガスの供給の停止時から減衰する第１の主管路におけるガスの第１の減衰主流量と、第２のガス供給系におけるガスの供給の停止時から減衰する第２の主管路におけるガスの第２の減衰主流量とを比較し、該第１の減衰主流量が該第２の減衰主流量より多い場合に、該第１の減衰主流量から該第２の減衰主流量を差し引いた差分減衰主流量を算出し、第２のガス供給系において、ガスの供給の停止時から、該差分減衰主流量のガスが該第２の主管路に流れるように、プロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを調整する。このように、第１の減衰主流量が第２の減衰主流量より多い場合には、第２のガス供給系において、ガスの供給の停止時から、第１の減衰主流量から第２の減衰主流量を差し引いた差分減衰主流のガスを第２の主管路に流するように第２のガス供給系を制御することによって、第１の処理装置のプロセスレシピを用いた第２の処理装置の処理プロセスを第１の処理装置の処理プロセスに合わせ得る。

以上説明したように、一のプロセスレシピを複数の異なるガス供給系で用いるための技術が提供される。

図１は、一実施形態に係る方法の一の部分を示す流図である。 図２は、一実施形態に係る方法の他の部分を示す流図である。 図３は、（ａ）部および（ｂ）部を含み、図３の（ａ）部には、一の基板処理装置の一例が示されており、図３の（ｂ）部には、他の基板処理装置の一例が示されている。 図４は、一実施形態に係る第１の調整、第３の調整、および、第５の調整の各処理内容を、時間の経過に沿って示す図である。 図５は、一実施形態に係る第２の調整、第４の調整、および、第７の調整の各処理内容を、時間の経過に沿って示す図である。 図６は、一実施形態に係る第６の調整の処理内容を、時間の経過に沿って示す図である。

以下、図面を参照して種々の実施形態について詳細に説明す。なお、各図面において同一または相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。

図１および図２は、それぞれ、一実施形態に係る方法を示す流図である。図１および図２に示す一実施形態の方法ＭＴは、処理プロセスを調整する方法である。図３は、（ａ）部および（ｂ）部を含む。図３の（ａ）部には、一の基板処理装置の一例が示されており、図３の（ｂ）部には、他の基板処理装置の一例が示されている。図３の（ａ）部には、基板を処理する方法の種々の実施形態で利用可能な基板処理装置Ａ１０（第１の処理装置）の構成が模式的に示されており、図３の（ｂ）部には、基板を処理する方法の種々の実施形態で利用可能な基板処理装置Ｂ１０（第２の処理装置）の構成が模式的に示されている。

まず、図３の（ａ）部を参照して、基板処理装置Ａ１０（第１の処理装置）の主要な構成を説明する。基板処理装置Ａ１０は、ガス供給系Ａ１（第１のガス供給系）、処理容器Ａ６（第１の処理容器）、配管Ａ７、圧力調整弁Ａ７１、排気装置Ａ８を備える。ガス供給系Ａ１は、Ｍ個（Ｍは、Ｍ＞１を満たす自然数であり、以下同様。）のガス源Ａ２（複数の第１のガス源）、Ｍ個の枝管路Ａ３（複数の第１の枝管路）、Ｍ個の流量制御器Ａ３１（複数の第１の流量制御器）、Ｍ個のバルブＡ３２、Ｍ個のバルブＡ３３、幹管路Ａ４（第１の幹管路）、主管路Ａ５（第１の主管路）、バルブＡ５１、パージガス源Ａ９，配管Ａ１１、バルブＡ１１１、バルブＡ１１２、配管Ａ１１３、Ｍ個のバルブＡ１１４、制御部Ａ１２を備える。Ｍは、ガス供給系Ａ１が備える複数の枝管路Ａ３の総数を表す１より大きな自然数である。ガス供給系Ａ１は、処理容器Ａ６に各種のガスを供給する構成である。処理容器Ａ６は、被処理体（ウエハ）が処理される容器である。

主管路Ａ５の一端は、バルブＡ５１を介して、処理容器Ａ６に接続される。主管路Ａ５の他端は、幹管路Ａ４の一端に接続される。Ｍ個の枝管路Ａ３のそれぞれの一端は、幹管路Ａ４に接続される。Ｍ個の枝管路Ａ３のそれぞれの他端は、Ｍ個のガス源Ａ２のそれぞれに接続される。Ｍ個の流量制御器Ａ３１のそれぞれは、Ｍ個の枝管路Ａ３のそれぞれに対して設置されており、制御部Ａ１２からの指示に応じて、Ｍ個の枝管路Ａ３のそれぞれを流れるガスの流量を制御する。Ｍ個の枝管路Ａ３は、管番号（第１の管番号）が割り当てられている。第１の管番号は、第１番から第Ｍ番までの番号である。第１番〜第Ｍ番の枝管路Ａ３は、第１の管番号の順に、主管路Ａ５に近い側から幹管路Ａ４に接続されている。第１番〜第Ｍ番の枝管路Ａ３のそれぞれは、互いに設定流量が異なっている。幹管路Ａ４と主管路Ａ５との接続箇所は、第１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接続箇所である。

枝管路Ａ３上において流量制御器Ａ３１の前後には、バルブＡ３２およびバルブＡ３３が設けられている。バルブＡ３２、バルブＡ３３、バルブＡ５１は、ガス処理工程の実行時には全て開（ＯＰＥＮ）となり、ガス処理工程以外の工程では全て閉（ＣＬＯＳＥ）となる。処理容器Ａ６は、配管Ａ７を介して排気装置Ａ８に接続されている。配管Ａ７上において処理容器Ａ６と排気装置Ａ８との間には、圧力調整弁Ａ７１が設けられている。圧力調整弁Ａ７１は、排気処理工程の実行時には開（ＯＰＥＮ）となり、排気処理工程以外の工程では閉（ＣＬＯＳＥ）となる。

配管Ａ１１の一端は、バルブＡ１１１を介してパージガス源Ａ９に接続されている。配管Ａ１１の他端は、バルブＡ１１２を介して主管路Ａ５に接続されている。配管Ａ１１は、バルブＡ１１１とバルブＡ１１２との間において、配管Ａ１１３に接続されている。配管Ａ１１３は、バルブＡ１１４を介して、バルブＡ３２と流量制御器Ａ３１との間において枝管路Ａ３に接続されている。

制御部Ａ１２は、ＣＰＵ、および、ＲＯＭ、ＲＡＭ（メモリ）を備えるコンピュータ装置である。制御部Ａ１２、制御部Ａ１２のＣＰＵが、制御部Ａ１２のメモリに格納されている各種のコンピュータプログラムおよびデータを用いて、基板処理装置Ａ１０を統括的に制御する。

次に、図３の（ｂ）部を参照して、基板処理装置Ｂ１０（第２の処理装置）の主要な構成を説明する。なお、基板処理装置Ｂ１０の各構成要素（例えば、ガス供給系Ｂ１）は、基板処理装置Ａ１０の各構成要素に付されている符号のＡをＢに代えたものに対応している。例えば、基板処理装置Ｂ１０のガス供給系Ｂ１には基板処理装置Ａ１０のガス供給系Ａ１が対応している。

基板処理装置Ｂ１０は、ガス供給系Ｂ１（第２のガス供給系）、処理容器Ｂ６（第２の処理容器）、配管Ｂ７、圧力調整弁Ｂ７１、排気装置Ｂ８を備える。ガス供給系Ｂ１は、Ｎ個（Ｎは、Ｎ＞１を満たす自然数であり、以下同様。）のガス源Ｂ２（複数の第２のガス源）、Ｎ個の枝管路Ｂ３（複数の第２の枝管路）、Ｎ個の流量制御器Ｂ３１（複数の第２の流量制御器）、Ｎ個のバルブＢ３２、Ｎ個のバルブＢ３３、幹管路Ｂ４（第２の幹管路）、主管路Ｂ５（第２の主管路）、バルブＢ５１、パージガス源Ｂ９，配管Ｂ１１、バルブＢ１１１、バルブＢ１１２、配管Ｂ１１３、Ｎ個のバルブＢ１１４、制御部Ｂ１２を備える。Ｎは、ガス供給系Ｂ１が備える複数の枝管路Ｂ３の総数を表す１より大きな自然数である。ガス供給系Ｂ１は、処理容器Ｂ６に各種のガスを供給する構成である。処理容器Ｂ６は、被処理体（ウエハ）が処理される容器である。

主管路Ｂ５の一端は、バルブＢ５１を介して、処理容器Ｂ６に接続される。主管路Ｂ５の他端は、幹管路Ｂ４の一端に接続される。Ｎ個の枝管路Ｂ３のそれぞれの一端は、幹管路Ｂ４に接続される。Ｎ個の枝管路Ｂ３のそれぞれの他端は、Ｎ個のガス源Ｂ２のそれぞれに接続される。Ｎ個の流量制御器Ｂ３１のそれぞれは、Ｎ個の枝管路Ｂ３のそれぞれに対して設置されており、制御部Ｂ１２からの指示に応じて、Ｎ個の枝管路Ｂ３のそれぞれを流れるガスの流量を制御する。Ｎ個の枝管路Ｂ３は、管番号（第２の管番号）が割り当てられている。第２の管番号は、第１番から第Ｎ番までの番号である。第１番〜第Ｎ番の枝管路Ｂ３は、第２の管番号の順に、主管路Ｂ５に近い側から幹管路Ｂ４に接続されている。第１番〜第Ｎ番の枝管路Ｂ３のそれぞれは、互いに設定流量が異なっている。幹管路Ｂ４と主管路Ｂ５との接続箇所は、第１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接続箇所である。

枝管路Ｂ３上において流量制御器Ｂ３１の前後には、バルブＢ３２およびバルブＢ３３が設けられている。バルブＢ３２、バルブＢ３３、バルブＢ５１は、ガス処理工程の実行時には全て開（ＯＰＥＮ）となり、ガス処理工程以外の工程では全て閉（ＣＬＯＳＥ）となる。処理容器Ｂ６は、配管Ｂ７を介して排気装置Ｂ８に接続されている。配管Ｂ７上において処理容器Ｂ６と排気装置Ｂ８との間には、圧力調整弁Ｂ７１が設けられている。圧力調整弁Ｂ７１は、排気処理工程の実行時には開（ＯＰＥＮ）となり、排気処理工程以外の工程では閉（ＣＬＯＳＥ）となる。

配管Ｂ１１の一端は、バルブＢ１１１を介してパージガス源Ｂ９に接続されている。配管Ｂ１１の他端は、バルブＢ１１２を介して主管路Ｂ５に接続されている。配管Ｂ１１は、バルブＢ１１１とバルブＢ１１２との間において、配管Ｂ１１３に接続されている。配管Ｂ１１３は、バルブＢ１１４を介して、バルブＢ３２と流量制御器Ｂ３１との間において枝管路Ｂ３に接続されている。

制御部Ｂ１２は、ＣＰＵ、および、ＲＯＭ、ＲＡＭ（メモリ）を備えるコンピュータ装置である。制御部Ｂ１２、制御部Ｂ１２のＣＰＵが、制御部Ｂ１２のメモリに格納されている各種のコンピュータプログラムおよびデータを用いて、基板処理装置Ｂ１０を統括的に制御する。特に、制御部Ｂ１２のメモリには、後述するプロセスレシピと、装置情報と、図１，２の流図に示す後述の調整処理を実行するためのコンピュータプログラム及び各種データと、が格納されており、制御部Ｂ１２のＣＰＵは、制御部Ｂ１２のメモリに格納されているプロセスレシピと、装置情報と、図１，２の流図に示す調整処理を実行するためのコンピュータプログラム及び各種データとを用いて、図１，２の流図に示す調整処理を実行する。

次に、図１、図２、図４〜６を参照して、一実施形態の方法ＭＴ（調整処理）について説明する。なお、図４〜６の横軸は時間の経過を表している。方法ＭＴは、基板処理装置Ａ１０で用いられるプロセスレシピ（基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピ）を基板処理装置Ａ１０と異なる構成を備える基板処理装置Ｂ１０に適用して被処理体（基板）を処理する場合に、基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する方法である。図１は、一実施形態に係る方法ＭＴの一の部分を示す流図である。図２は、一実施形態に係る方法ＭＴの他の部分を示す流図である。図１および図２に示す方法ＭＴは、制御部Ｂ１２が、ガス供給系Ｂ１において、複数の流量制御器Ｂ３１、複数のバルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１、および圧力調整弁Ｂ７１を制御することによって、実現される。なお、方法ＭＴにおいて、バルブＢ１１１，Ｂ１１２，Ｂ１１４は、全て閉じられているものとする。また、以下では、バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１を、総バルブと総称する場合がある。

まず、制御部Ｂ１２のメモリには、基板処理装置Ｂ１０のガス供給系Ｂ１に係る装置情報が格納されている。装置情報は、ｉを枝管路Ｂ３の第２の管番号とすると、第２の管番号（ｉ）、第ｉ番の枝管路Ｂ３に係るガス種、第ｉ番の枝管路Ｂ３の長さ、第ｉ番の枝管路Ｂ３の径、第ｉ番の枝管路Ｂ３に係る流路外容積、第ｉ番の枝管路Ｂ３の設定流量、第ｉ番の枝管路Ｂ３の最大流量、第ｉ番の枝管路Ｂ３に係る粘性係数、主管路Ｂ５の設定主流量、主管路Ｂ５の最大主流量、主管路Ｂ５に係る粘性係数、を含む。
・第２の管番号は、枝管路Ｂ３のそれぞれに付与されている。
・第ｉ番の枝管路Ｂ３に係るガス種は、枝管路Ｂ３に接続されているガス源Ｂ２のガス種である。
・第ｉ番の枝管路Ｂ３の長さは、第ｉ番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から、第ｉ番の設定流量より大きい設定流量を流している第ｊ番（ｊは、ｉと異なる自然数である。）の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間の長さである。
・第ｉ番の枝管路Ｂ３の径は、幹管路Ｂ４の断面の径である。
・第ｉ番の枝管路Ｂ３に係る流路外容積は、幹管路Ｂ４の容積のうち、第ｉ番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から、第１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間の容積を除いたものである。
・第ｉ番の枝管路Ｂ３の設定流量は、圧力安定時において第ｉ番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの予め設定された流量である。
・第ｉ番の枝管路Ｂ３の最大流量は、第ｉ番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量の許容された最大の流量である。
・第ｉ番の枝管路Ｂ３に係る粘性係数は、第ｉ番の枝管路Ｂ３に対応するガス種の粘性係数である。
・主管路Ｂ５の設定主流量は、圧力安定時において主管路Ｂ５を流れるガスの予め設定された主流量である。
・主管路Ｂ５の最大主流量は、主管路Ｂ５を流れるガスの主流量の許容された最大の主流量（ガス比が保たれた状態で許容される最大の主流量）である。
・主管路Ｂ５に係る粘性係数は、主管路Ｂ５を流れるガスの粘性係数である。

また、装置情報は、主管路Ｂ５の長さ、主管路Ｂ５の径、を更に含む。主管路Ｂ５の長さは、主管路Ｂ５自体の実質的な長さ（主管路Ｂ５の一端から他端までの長さ）、および、第ｉ番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から処理容器Ｂ６までの長さ（Ｎ個の枝管路Ｂ３毎に定義される長さ）、とを含む。以下において、主管路Ｂ５の長さ、という場合は、特にことわらない限り、主管路Ｂ５自体の実質的な長さを意味する。主管路Ｂ５の径は、主管路Ｂ５の断面の径である。

なお、制御部Ｂ１２のメモリには、基板処理装置Ａ１０のガス供給系Ａ１に係る装置情報も格納されている。ガス供給系Ａ１に係る装置情報は、ガス供給系Ｂ１に係る上記の装置情報と同様であり、説明を省略する。

方法ＭＴは、複数の枝管路Ａ３および複数の枝管路Ｂ３のそれぞれの設定流量と、複数の枝管路Ａ３および複数の枝管路Ｂ３のそれぞれに割り当てられている第１の管番号および第２の管番号と、主管路Ａ５の容積および主管路Ｂ５の容積と、を含む装置情報を用いて、基板処理装置Ｂ１０に適用されるプロセスレシピのガス処理工程の開始時から予め設定された時間だけ、または、該ガス処理工程の開始前の予め設定された時間だけ、ガス供給系Ｂ１におけるガスの流量を増減し、基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する工程（図１の流図に示す全工程、および、図２の流図に示す全工程）を備える。当該工程は、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを、該プロセスレシピを用いた基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに適合させる。なお、本実施形態で用いられるプロセスレシピは、基板処理装置Ａ１０のガス供給系Ａ１の構成を前提にして作成されたものであり、基板処理装置Ａ１０が行うガス処理工程で用いるためのレシピである。

従って、ガス供給系の枝管路の配置が互いに相違し得る基板処理装置Ａ１０と基板処理装置Ｂ１０とにおいて、基板処理装置Ａ１０で用いられるプロセスレシピを基板処理装置Ｂ１０に適用して被処理体を処理する場合に、ガス供給系Ａ１およびガス供給系Ｂ１に係る装置情報を用いて、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から予め設定された時間だけ、または、ガス処理工程の開始前の予め設定された時間だけ、ガス供給系Ｂ１におけるガスの流量が増減され（ガスの流量の増減によってガスの供給開始時を遅延させる場合を含む）、基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスが調整されるので、基板処理装置Ａ１０で用いられるプロセスレシピが基板処理装置Ｂ１０に用いられても、基板処理装置Ｂ１０において、基板処理装置Ａ１０と同様な処理プロセスが実現される。

以下、図１に示す流図に沿って方法ＭＴについて説明する。図１の流図に示す処理は、制御部Ｂ１２によってＮ個の流量制御器Ｂ３１、Ｎ個のバルブＢ３２、Ｎ個のバルブＢ３３、バルブＢ５１、圧力調整弁Ｂ７１、排気装置Ｂ８が制御されることによって、実現される。図１の流図に示す全ての処理は、プロセスレシピのガス処理工程において二種類のガス種が用いられる場合を想定している。

工程Ｓ１（第１の工程）では、制御部Ｂ１２は、メモリに格納された装置情報に基づいて、複数の枝管路Ａ３のうち該二種類のガス種に対応する第Ｍ１番（Ｍ１は、１≦Ｍ１≦Ｍ−１を満たす自然数。）の枝管路Ａ３および第Ｍ２番（Ｍ２は、２≦Ｍ２≦Ｍ且つＭ１＜Ｍ２を満たす自然数。）の枝管路Ａ３と、複数の枝管路Ｂ３のうち該二種類のガス種に対応する第Ｎ１番（Ｎ１は、１≦Ｎ１≦Ｎ−１を満たす自然数。）の枝管路Ｂ３および第Ｎ２番（Ｎ２は、２≦Ｎ２≦Ｎ且つＮ１＜Ｎ２を満たす自然数。）の枝管路Ｂ３とを選択する。

工程Ｓ１に引き続き、工程Ｓ２（第２の工程）では、制御部Ｂ１２は、メモリに格納された装置情報に基づいて、複数の枝管路Ａ３のうち工程Ｓ１において選択した第Ｍ１番の枝管路Ａ３および第Ｍ２番の枝管路Ａ３のそれぞれに対応する第１の管番号のＭ１、Ｍ２および設定流量の値と、複数の枝管路Ｂ３のうち工程Ｓ１において選択した第Ｎ１番の枝管路Ｂ３および第Ｎ２番の枝管路Ｂ３のそれぞれに対応する第２の管番号のＮ１、Ｎ２および設定流量の値との組み合わせに応じて、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。工程Ｓ２は、工程Ｓ２１〜Ｓ２９を備える。

従って、ガス供給系Ａ１の構成（枝管路Ａ３等の構成）とガス供給系Ｂ１の構成（枝管路Ｂ３等の構成）との相違が第１の工程で正確に特定され、第１の工程で特定された当該相違に基づいて第２の工程において基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスが調整されるので、当該調整が正確に行える。

制御部Ｂ１２は、工程Ｓ１に引き続く工程Ｓ２１では、工程Ｓ１で選択された複数の第２の枝管路（枝管路Ｂ３）に対し、「大流量の管番号」＞「小流量の管番号」、の関係が成立している（工程Ｓ２１：Ｙｅｓ）と判定し、工程Ｓ２１：Ｙｅｓに引き続く工程Ｓ２２では、工程Ｓ１で選択された複数の第１の枝管路（枝管路Ａ３）において、「大流量の管番号」＞「小流量の管番号」、の関係が成立していない（工程Ｓ２２：Ｎｏと判定）と判定する場合には、工程Ｓ２３の処理（第１の調整）を行う。すなわち、制御部Ｂ１２は、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値が第Ｎ１番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値より大きく、且つ、第Ｍ１番の枝管路Ａ３に対応する設定流量の値が第Ｍ２番の枝管路Ａ３に対応する設定流量の値より大きい場合（工程Ｓ２１：Ｙｅｓ、且つ、工程Ｓ２２：Ｎｏの場合）には、工程Ｓ２３の処理（第１の調整）を行う。

第１の調整では、制御部Ｂ１２は、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）から、幹管路Ｂ４に流す第Ｎ１番の枝管路Ｂ３からのガスの流量が設定流量に至るまでの時間を、圧力安定時に幹管路Ａ４にあるガス量が第Ｍ２番の枝管路Ａ３に対応する設定流量で供給される場合に要する時間（ＴＫ１）とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。

第１の調整が行われない場合、図４のグラフＧＲ１に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行し、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１が、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの流量を設定流量に制御すると、図４のグラフＧＲ２に示すように、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量が速やかに設定流量に至る。

これに対し、第１の調整が行われる場合、図４のグラフＧＲ３に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１は、図４のグラフＧＲ４に示すように、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を徐々に増加し、時間ＴＫ１が経過した時に、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を第Ｎ１番の枝管路Ｂ３の設定流量とするように制御する。

従って、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因してガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給がガス供給系Ｂ１から処理容器Ｂ６へのガスの供給よりも遅延する場合には、基板処理装置Ａ１０側の遅延に合わせてガス供給系Ｂ１の設定流量を制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

上記のＴＫ１の算出方法を説明する。工程Ｓ１において選択された枝管路を前提として説明する。まず、以下のように定義する。
・第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所における圧力安定時の圧力の値をＰ１１［Ｐａ］とする。
・第Ｍ１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所における圧力安定時の圧力の値をＰ１２［Ｐａ］とする。
・主管路Ａ５の設定主流量の値をＱＰ１［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ａ５を流れるガスの粘性係数の値をηＰ１［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・第Ｍ２番の枝管路Ａ３の設定流量の値をＱＳ１［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・第Ｍ２番の枝管路Ａ３に対応するガス種の粘性係数の値をηＳ１［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・幹管路Ａ４と第Ｍ１番の枝管路Ａ３との接合箇所から処理容器Ａ６までの長さをＬＰ１［ｍ］とする。
・主管路Ａ５の断面の径をＲＰ１［ｍ］とする。
・幹管路Ａ４において第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所から第Ｍ１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所までの長さをＬＳ１［ｍ］とする。
・幹管路Ａ４の断面の径をＲＳ１［ｍ］とする。
・幹管路Ａ４のうち第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所から第Ｍ１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所までの間において圧力安定時にあるガス量の値をＳ１１［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・幹管路Ａ４のうち第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所から第１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所までの間を除いた領域において圧力安定時にあるガス量の値をＳ１２［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・第Ｍ２番の枝管路Ａ３に係る流路外容積（幹管路Ａ４の容積のうち、第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所から、第１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所までの間の容積を除いたもの）の値をＶ１とする。

以下の式が成り立つ。なお、実施形態で示す全ての式において、記号＾が含まれている場合には、たとえばＡ＾２はＡの２乗を表し、Ａ＾（３／２）はＡの３／２乗を表している。以下で示す全ての式において、記号πが含まれている場合には、πは円周率を表している。また、下記式１１，１２および後述の式２１，２２は、ハーゲン・ポアズイユ（Hagen-Poiseuille）流れ（ハーゲン・ポアズイユの式）に基づいている。
（式１１）…Ｐ１２＾２＝（１６×ＱＰ１×ηＰ１×ＬＰ１）／（π×ＲＰ１＾４）。
（式１２）…Ｐ１１＾２＝Ｐ１２＾２＋（１６×ＱＳ１×ηＳ１×ＬＳ１）／（π×ＲＳ１＾４）。
（式１３）…Ｓ１１＝（（１６×ＱＳ１×ηＳ１×π×ＬＳ１＋Ｐ１２＾２×π＾２×ＲＳ１＾４）＾（３／２）−Ｐ１２＾３×π＾３×ＲＳ１＾６）／（２４×ＱＳ１×ηＳ１×π）。
（式１４）…Ｓ１２＝Ｐ１１×Ｖ１。
（式１５）…ＴＫ１＝（Ｓ１１＋Ｓ１２）／ＱＳ１。

制御部Ｂ１２は、工程Ｓ１に引き続く工程Ｓ２１では、工程Ｓ１で選択された第２の枝管路（枝管路Ｂ３）に対し、「大流量の管番号」＞「小流量の管番号」、の関係が成立していない（工程Ｓ２１：Ｎｏ）と判定し、工程Ｓ２１：Ｎｏに引き続く工程Ｓ２４では、工程Ｓ１で選択された第１の枝管路（枝管路Ａ３）において、「大流量の管番号」＞「小流量の管番号」、の関係が成立している（工程Ｓ２４：Ｙｅｓ）と判定する場合には、工程Ｓ２５の処理（第２の調整）を行う。すなわち、制御部Ｂ１２は、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値が第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｍ２番の枝管路Ａ３に対応する設定流量の値が第Ｍ１番の枝管路Ａ３に対応する設定流量の値より大きい場合（構成Ｓ２１：Ｎｏ、且つ、工程Ｓ２４：Ｙｅｓの場合）には、工程Ｓ２５の処理（第２の調整）を行う。

第２の調整の第１態様では、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）から、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの最大流量の値から第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値を差し引いて得られる差分流量で圧力安定時に幹管路Ｂ４にあるガス量が供給される場合に要する時間（ＴＫ２１）が経過するまでの間において、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３からのガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの最大流量の値とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０置の処理プロセスを調整する。

第２の調整の第１態様が行われない場合、図５のグラフＧＲ５に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行し、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１が、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの流量を設定流量に制御すると、図５のグラフＧＲ６に示すように、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量が速やかに設定流量に至る。

これに対し、第２の調整の第１態様が行われる場合、図５のグラフＧＲ７に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１は、図５のグラフＧＲ８に示すように、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を、時間ＴＫ２１が経過するまで、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の最大流量とし、時間ＴＫ２１が経過すると、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の設定流量とするように制御する。

このように、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因してガス供給系Ｂ１から処理容器Ｂ６へのガスの供給がガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始時からガス供給系Ｂ１におけるガスの流量を設定よりも増加させ基板処理装置Ｂ１０側の遅れを補うように制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

第２の調整の第２態様では、プロセスレシピのガス処理工程の開始前（Ｔ２）において、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの最大流量で圧力安定時に幹管路Ｂ４にあるガス量が供給される場合に要する時間（ＴＫ２２）が経過してガス処理工程が開始されるまでの間（Ｔ２からＴ１までの間）において、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３からのガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの最大流量の値とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。

第２の調整の第２態様が行われる場合、図５のグラフＧＲ９に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始前（Ｔ２）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１は、図５のグラフＧＲ１０に示すように、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を、ガス処理工程の開始時（Ｔ１）に至るまで（時間ＴＫ２２の間）、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の最大流量とし、ガス処理工程の開始時（Ｔ１）から、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の設定流量とするように制御する。

従って、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因してガス供給系Ｂ１から処理容器Ｂ６へのガスの供給がガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始前からガス供給系Ｂ１のガス供給を開始しガス処理工程の開始時までに基板処理装置Ｂ１０側の遅れを補うように制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

上記のＴＫ２１，ＴＫ２２の算出方法を説明する。工程Ｓ１において選択された枝管路を前提として説明する。まず、以下のように定義する。
・第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所における圧力安定時の圧力の値をＰ２１［Ｐａ］とする。
・第Ｎ１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所における圧力安定時の圧力の値をＰ２２［Ｐａ］とする。
・主管路Ｂ５の設定主流量の値をＱＰ２［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ｂ５を流れるガスの粘性係数の値をηＰ２［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の設定流量の値をＱＳ２［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に対応するガス種の粘性係数の値をηＳ２［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・幹管路Ｂ４と第Ｎ１番の枝管路Ｂ３との接合箇所から処理容器Ｂ６までの長さをＬＰ２［ｍ］とする。
・主管路Ｂ５の断面の径をＲＰ２［ｍ］とする。
・幹管路Ｂ４において第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から第Ｎ１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの長さをＬＳ２［ｍ］とする。
・幹管路Ｂ４の断面の径をＲＳ２［ｍ］とする。
・幹管路Ｂ４のうち第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から第Ｎ１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間において圧力安定時にあるガス量の値をＳ２１［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・幹管路Ｂ４のうち第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から第１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間を除いた領域において圧力安定時にあるガス量の値をＳ２２［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の最大流量の値をＱＳ２ｍａｘ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に係る流路外容積（幹管路Ｂ４の容積のうち、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から、第１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間の容積を除いたもの）の値をＶ２とする。

以下の式が成り立つ。
（式２１）…Ｐ２２＾２＝（１６×ＱＰ２×ηＰ２×ＬＰ２）／（π×ＲＰ２＾４）。
（式２２）…Ｐ２１＾２＝Ｐ２２＾２＋（１６×ＱＳ２×ηＳ２×ＬＳ２）／（π×ＲＳ２＾４）。
（式２３）…Ｓ２１＝（（１６×ＱＳ２×ηＳ２×π×ＬＳ２＋Ｐ２２＾２×π＾２×ＲＳ２＾４）＾（３／２）−Ｐ２２＾３×π＾３×ＲＳ２＾６）／（２４×ＱＳ２×ηＳ２×π）。
（式２４）…Ｓ２２＝Ｐ２１×Ｖ２。
（式２５）…ＴＫ２１＝（Ｓ２１＋Ｓ２２）／（ＱＳ２ｍａｘ−ＱＳ２）。
（式２６）…ＴＫ２２＝（Ｓ２１＋Ｓ２２）／ＱＳ２ｍａｘ。

制御部Ｂ１２は、工程Ｓ２４：Ｎｏに引き続く工程Ｓ２６では、工程Ｓ１で選択された第１の枝管路（枝管路Ａ３）および第２の枝管路（枝管路Ｂ３）に対し、Ｍ２（第Ｍ２番の枝管路Ａ３の第１の管番号）＝Ｎ２（第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の第２の管番号）が成立していない（工程Ｓ２６：Ｎｏ）と判定し、工程Ｓ２６：Ｎｏに引き続く工程Ｓ２７では、工程Ｓ１で選択された第１の枝管路（枝管路Ａ３）および第２の枝管路（枝管路Ｂ３）に対し、Ｍ２（第Ｍ２番の枝管路Ａ３の第１の管番号）＞Ｎ２（第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の第２の管番号）が成立している（工程Ｓ２７：Ｙｅｓ）と判定する場合には、工程Ｓ２８（第３の調整）を行う。すなわち、制御部Ｂ１２は、第Ｍ１番の枝管路Ａ３に対応する設定流量の値が第Ｍ２番の枝管路Ａ３に対応する設定流量の値より大きく、且つ、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値が第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値より大きく、且つ、Ｍ２がＮ２より大きい場合（工程Ｓ２１：Ｎｏ、且つ、工程Ｓ２４：Ｎｏ、且つ、工程Ｓ２６：Ｎｏ、且つ、工程Ｓ２７：Ｙｅｓの場合）には、工程Ｓ２８（第３の調整）を行う。

第３の調整では、圧力安定時に幹管路Ａ４にあるガス量から圧力安定時に幹管路Ｂ４にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）から、幹管路Ｂ４に流す第Ｎ２番の枝管路Ｂ３からのガスの流量が設定流量に至るまでの時間を、差分ガス量が第Ｍ２番の枝管路Ａ３に対応する設定流量で供給される場合に要する時間（ＴＫ３）とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。

第３の調整が行われない場合、図４のグラフＧＲ１に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行し、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１が、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの流量を設定流量に制御すると、図４のグラフＧＲ２に示すように、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量が速やかに設定流量に至る。

これに対し、第３の調整が行われる場合、図４のグラフＧＲ３に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１は、図４のグラフＧＲ４に示すように、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を徐々に増加し、時間ＴＫ３が経過した時に、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の設定流量とするように制御する。

従って、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因してガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給がガス供給系Ｂ１から基板処理装置Ｂ１０へのガスの供給よりも遅延する場合には、基板処理装置Ａ１０側の遅延に合わせてガス供給系Ｂ１の設定流量を制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

上記の時間ＴＫ３の算出方法を説明する。工程Ｓ１において選択された枝管路を前提として説明する。まず、以下のように定義する。
・第Ｍ２番の枝管路Ａ３の設定流量の値をＱＳ３Ａ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・幹管路Ａ４のうち第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所から第Ｍ１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所までの間において圧力安定時にあるガス量の値をＳ３Ａ１［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・幹管路Ａ４のうち第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所から第１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所までの間を除いた領域において圧力安定時にあるガス量の値をＳ３Ａ２［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・幹管路Ｂ４のうち第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から第Ｎ１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間において圧力安定時にあるガス量の値をＳ３Ｂ１［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・幹管路Ｂ４のうち第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から第１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間を除いた領域において圧力安定時にあるガス量の値をＳ３Ｂ２［Ｐａ・ｍ^３］とする。

以下の式が成り立つ。
（式３１）…（（Ｓ３Ａ１＋Ｓ３Ａ２）−（Ｓ３Ｂ１＋Ｓ３Ｂ２）／ＱＳ３Ａ。
なお、Ｓ３Ａ１［Ｐａ・ｍ^３］は、式１３のＳ１１［Ｐａ・ｍ^３］に対応しており、Ｓ３Ａ２［Ｐａ・ｍ^３］は、式１４のＳ１２［Ｐａ・ｍ^３］に対応しているので、Ｓ３Ａ１［Ｐａ・ｍ^３］とＳ３Ａ２［Ｐａ・ｍ^３］とは、式１１〜１４と同様にして算出される。Ｓ３Ｂ１［Ｐａ・ｍ^３］は、式２３のＳ２１［Ｐａ・ｍ^３］に対応しており、Ｓ３Ｂ２［Ｐａ・ｍ^３］は、式２４のＳ２２［Ｐａ・ｍ^３］に対応しているので、Ｓ３Ｂ１［Ｐａ・ｍ^３］とＳ３Ｂ２［Ｐａ・ｍ^３］とは、式２１〜２４と同様にして算出される。

制御部Ｂ１２は、工程Ｓ２４：Ｎｏに引き続く工程Ｓ２６では、工程Ｓ１で選択された第１の枝管路（枝管路Ａ３）および第２の枝管路（枝管路Ｂ３）に対し、Ｍ２（第Ｍ２番の枝管路Ａ３の第１の管番号）＝Ｎ２（第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の第２の管番号）が成立していない（工程Ｓ２６：Ｎｏ）と判定し、工程Ｓ２６：Ｎｏに引き続く工程Ｓ２７では、工程Ｓ１で選択された第１の枝管路（枝管路Ａ３）および第２の枝管路（枝管路Ｂ３）に対し、Ｍ２（第Ｍ２番の枝管路Ａ３の第１の管番号）＞Ｎ２（第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の第２の管番号）が成立していない（工程Ｓ２７：Ｎｏ）と判定する場合には、工程２９（第４の調整）を行う。すなわち、制御部Ｂ１２は、第Ｍ１番の枝管路Ａ３に対応する設定流量の値が第Ｍ２番の枝管路Ａ３に対応する設定流量の値より大きく、且つ、第Ｎ１番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値がＮ２番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値より大きく、且つ、Ｎ２がＭ２より大きい場合（工程Ｓ２１：Ｎｏ、且つ、工程Ｓ２４：Ｎｏ、且つ、工程Ｓ２６：Ｎｏ、且つ、工程Ｓ２７：Ｎｏの場合）には、工程Ｓ２９（第４の調整）を行う。

第４の調整の第１態様では、圧力安定時に幹管路Ｂ４にあるガス量から圧力安定時に幹管路Ａ４にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）から、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの最大流量の値から第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に対応する設定流量の値を差し引いて得られる差分流量で差分ガス量が供給される場合に要する時間（ＴＫ４１）が経過するまでの間において、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３からのガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの最大流量の値とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。

第４の調整の第１態様が行われない場合、図５のグラフＧＲ５に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行し、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１が、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの流量を設定流量に制御すると、図５のグラフＧＲ６に示すように、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量が速やかに設定流量に至る。

これに対し、第４の調整の第１態様が行われる場合、図５のグラフＧＲ７に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１は、図５のグラフＧＲ８に示すように、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を、時間ＴＫ４１が経過するまで、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の最大流量とし、時間ＴＫ４１が経過すると、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の設定流量とするように制御する。

このように、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因してガス供給系Ｂ１から処理容器Ｂ６へのガスの供給がガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始時からガス供給系Ｂ１におけるガスの流量を設定よりも増加させ基板処理装置Ｂ１０側の遅れを補うように制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

第４の調整の第２態様では、圧力安定時に幹管路Ｂ４にあるガス量から圧力安定時に幹管路Ａ４にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始前において、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの最大流量で差分ガス量が供給される場合に要する時間（ＴＫ４２）が経過してガス処理工程が開始されるまでの間（Ｔ２からＴ１までの間）において、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３からのガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの最大流量の値とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。

第４の調整の第２態様が行われる場合、図５のグラフＧＲ９に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始前（Ｔ２）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３に設けられている流量制御器Ｂ３１は、図５のグラフＧＲ１０に示すように、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を、ガス処理工程の開始時（Ｔ１）に至るまで（時間ＴＫ４２の間）、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の最大流量とし、ガス処理工程の開始時（Ｔ１）から、第Ｎ２番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流れるガスの流量を第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の設定流量とするように制御する。

従って、枝管路の管番号の大小（主管路までの枝管路の位置の違い）と設定流量の値の大小とに起因してガス供給系Ｂ１から処理容器Ｂ６へのガスの供給がガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始前からガス供給系Ｂ１のガス供給を開始しガス処理工程の開始時までに基板処理装置Ｂ１０側の遅れを補うように制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

上記の時間ＴＫ４１，ＴＫ４２の算出方法を説明する。工程Ｓ１において選択された枝管路を前提として説明する。まず、以下のように定義する。
・幹管路Ａ４のうち第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所から第Ｍ１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所までの間において圧力安定時にあるガス量の値をＳ４Ａ１［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・幹管路Ａ４のうち第Ｍ２番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所から第１番の枝管路Ａ３と幹管路Ａ４との接合箇所までの間を除いた領域において圧力安定時にあるガス量の値をＳ４Ａ２［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の設定流量の値をＱＳ４Ｂ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・第Ｎ２番の枝管路Ｂ３の最大流量の値をＱＳ４Ｂｍａｘ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・幹管路Ｂ４のうち第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から第Ｎ１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間において圧力安定時にあるガス量の値をＳ４Ｂ１［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・幹管路Ｂ４のうち第Ｎ２番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所から第１番の枝管路Ｂ３と幹管路Ｂ４との接合箇所までの間を除いた領域において圧力安定時にあるガス量の値をＳ４Ｂ２［Ｐａ・ｍ^３］とする。

以下の式が成り立つ。
（式４１）…ＴＫ４１＝（（Ｓ４Ｂ１＋Ｓ４Ｂ２）−（Ｓ４Ａ１＋Ｓ４Ａ２））／（ＱＳ４Ｂｍａｘ−ＱＳ４Ｂ）。
（式４２）…ＴＫ４２＝（（Ｓ４Ｂ１＋Ｓ４Ｂ２）−（Ｓ３Ａ１＋Ｓ４Ａ２））／ＱＳ４Ｂｍａｘ。

なお、Ｓ４Ａ１［Ｐａ・ｍ^３］は、式１３のＳ１１［Ｐａ・ｍ^３］に対応しており、Ｓ４Ａ２［Ｐａ・ｍ^３］は、式１４のＳ１２［Ｐａ・ｍ^３］に対応しているので、Ｓ４Ａ１［Ｐａ・ｍ^３］とＳ４Ａ２［Ｐａ・ｍ^３］とは、式１１〜１４と同様にして算出される。Ｓ４Ｂ１［Ｐａ・ｍ^３］は、式２３のＳ２１［Ｐａ・ｍ^３］に対応しており、Ｓ４Ｂ２［Ｐａ・ｍ^３］は、式２４のＳ２２［Ｐａ・ｍ^３］に対応しているので、Ｓ４Ｂ１［Ｐａ・ｍ^３］とＳ４Ｂ２［Ｐａ・ｍ^３］とは、式２１〜２４と同様にして算出される。

次に、図２に示す流図に沿って方法ＭＴについて説明する。図２の流図に示す処理は、制御部Ｂ１２によってＮ個の流量制御器Ｂ３１、Ｎ個のバルブＢ３２、Ｎ個のバルブＢ３３、バルブＢ５１、圧力調整弁Ｂ７１、排気装置Ｂ８を制御することによって、実現される。工程Ｓ３〜Ｓ５では、制御部Ｂ１２は、メモリに格納された装置情報に基づいて、主管路Ａ５の容積および主管路Ｂ５の容積の大小を判定し、この判定結果に基づいて、プロセスレシピを用いた主管路Ｂ５の処理プロセスを調整する。

従って、処理容器に直結する主管路の容積の大小によってガス供給系から処理容器へのガスの供給の速さが異なるので、主管路Ａ５の容積および主管路Ｂ５の容積の大小の判定結果に基づいて、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

工程Ｓ３では、制御部Ｂ１２は、「第１の主管路（主管路Ａ５）の容積」＞「第２の主管路（主管路Ｂ５）の容積」、の関係が成立している（工程Ｓ３：Ｙｅｓ）と判定する場合には、工程Ｓ４（第５の調整、または、第６の調整）を行う。すなわち、制御部Ｂ１２は、主管路Ａ５の容積が主管路Ｂ５の容積より大きい場合には、工程Ｓ４（第５の調整、または、第６の調整）を行う。

第５の調整では、圧力安定時に主管路Ａ５にある主ガス量から圧力安定時に主管路Ｂ５にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）から、主管路Ｂ５を流れるガスの主流量が主管路Ｂ５に対応する設定主流量に至るまでの時間を、主管路Ａ５に対応する設定主流量で差分主ガス量が供給される場合に要する時間（ＴＫ５）とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。

第５の調整が行われない場合、図４のグラフＧＲ１に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行し、プロセスレシピのガス処理工程で用いられるガス種に対応する流量制御器Ｂ３１が主管路Ｂ５の主流量を設定主流量とするよう制御すると、図４のグラフＧＲ２に示すように、主管路Ｂ５に流れるガスの主流量が速やかに設定主流量に至る。

これに対し、第５の調整が行われる場合、図４のグラフＧＲ３に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、プロセスレシピのガス処理工程で用いられるガス種に対応する流量制御器Ｂ３１は、図４のグラフＧＲ４に示すように、主管路Ｂ５に流れるガスの流量を徐々に増加し、時間ＴＫ５が経過した時に、主管路Ｂ５に流れるガスの流量を主管路Ｂ５の設定主流量とするように制御する。

従って、処理容器に直結する主管路の容積の大小に起因してガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給がガス供給系Ｂ１から処理容器Ｂ６へのガスの供給よりも遅延する場合には、基板処理装置Ａ１０側の遅延に合わせてガス供給系Ｂ１の設定流量を制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

上記の時間ＴＫ５の算出方法を説明する。まず、以下のように定義する。
・主管路Ａ５の設定主流量の値をＱＰ５Ａ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ａ５を流れるガスの粘性係数の値をηＰ５Ａ［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・主管路Ａ５の長さをＬＰ５Ａ［ｍ］とする。
・主管路Ａ５において圧力安定時にあるガス量の値をＳ５Ａ［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・主管路Ｂ５の設定主流量の値をＱＰ５Ｂ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ｂ５を流れるガスの粘性係数の値をηＰ５Ｂ［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・主管路Ｂ５の長さをＬＰ５Ｂ［ｍ］とする。
・主管路Ｂ５において圧力安定時にあるガス量の値をＳ５Ｂ［Ｐａ・ｍ^３］とする。

以下の式が成り立つ。
（式５１）…Ｓ５Ａ＝（８×（ＱＰ５Ａ×ηＰ５Ａ×π×ＬＰ５Ａ＾３）＾（１／２））／３。
（式５２）…Ｓ５Ｂ＝（８×（ＱＰ５Ｂ×ηＰ５Ｂ×π×ＬＰ５Ｂ＾３）＾（１／２））／３。
（式５３）…ＴＫ５＝（Ｓ５Ａ−Ｓ５Ｂ）／ＱＰ５Ａ。

第６の調整では、プロセスレシピのガス処理工程の終了時において、ガス供給系Ａ１におけるガスの供給の停止時から減衰する主管路Ａ５におけるガスの第１の減衰主流量と、ガス供給系Ｂ１におけるガスの供給の停止時から減衰する主管路Ｂ５におけるガスの第２の減衰主流量とを比較し、第１の減衰主流量が第２の減衰主流量より多い場合に、第１の減衰主流量から第２の減衰主流量を差し引いた差分減衰主流量（Ｑ（ｔ）［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］）を算出し、ガス供給系Ｂ１において、ガスの供給の停止時から、差分減衰主流量（Ｑ（ｔ）［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］）のガスが主管路Ｂ５に流れるように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。Ｑ（ｔ）［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］はｔの関数である。ｔは時間［ｓｅｃ］を表している。

第６の調整が行われない場合、図６のグラフＧＲ１１に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の終了時（Ｔ３）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が開（ＯＰＥＮ）の状態から閉（ＣＬＯＳＥ）の状態に移行し、プロセスレシピのガス処理工程で用いられるガス種に対応する流量制御器Ｂ３１が主管路Ｂ５側へのガスの供給を停止すると、図６のグラフＧＲ１２に示すように、主管路Ｂ５に流れるガスの主流量が速やかに実質的なゼロ値（例えば、ガス量の検出誤差を下回る値）に近づく。

これに対し、第６の調整が行われる場合、図６のグラフＧＲ１３に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の停止時（Ｔ３）から予め設定された時間が経過した時点（Ｔ４）で、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）を開（ＯＰＥＮ）の状態から閉（ＣＬＯＳＥ）の状態に移行し、プロセスレシピのガス処理工程で用いられるガス種に対応する流量制御器Ｂ３１は、ガス処理工程の停止時（Ｔ３）から、当該ガス種のガスを差分減衰主流量（Ｑ（ｔ）［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］）で主管路Ｂ５側に流す。停止時Ｔ３から時間Ｔ４までの時間は、当該差分減衰主流量が実質的なゼロ値（例えば、ガス量の検出誤差を下回る値）となるまでに要する時間である。

このように、第１の減衰主流量が第２の減衰主流量より多い場合には、ガス供給系Ｂ１において、ガスの供給の停止時から、第１の減衰主流量から第２の減衰主流量を差し引いた差分減衰主流（Ｑ（ｔ）［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］）のガスを主管路Ｂ５に流するようにガス供給系Ｂ１を制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

上記の差分減衰主流量（Ｑ（ｔ）［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］）の算出方法を説明する。
・ガス供給停止後に減衰する主管路Ａ５のガスの減衰主流量の値（時間ｔの関数）をＱＡ（ｔ）［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ａ５を流れるガスの粘性係数の値をηＰ６Ａ［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・主管路Ａ５の長さをＬＰ６Ａ［ｍ］とする。
・ガス供給停止後に減衰する主管路Ｂ５のガスの減衰主流量の値（時間ｔの関数）をＱＢ（ｔ）［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ｂ５を流れるガスの粘性係数の値をηＰ６Ｂ［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・主管路Ｂ５の長さをＬＰ６Ｂ［ｍ］とする。
なお、ｔは停止時Ｔ３からの経過時間［ｓｅｃ］を表しており、ＱＡ（ｔ）およびＱＢ（ｔ）は、ｔが０より大きい値（例えば、数ｍｓｅｃ等）で定義されている。

以下の式が成り立つ。
（式６１）…ＱＡ（ｔ）＝（６４×ηＰ６Ａ×π×ＬＰ６Ａ＾３）／（９×ｔ＾２）。
（式６２）…ＱＢ（ｔ）＝（６４×ηＰ６Ｂ×π×ＬＰ６Ｂ＾３）／（９×ｔ＾２）。
（式６３）…Ｑ（ｔ）＝ＱＡ（ｔ）−ＱＢ（ｔ）。

工程Ｓ３では、制御部Ｂ１２は、「第１の主管路（主管路Ａ５）の容積」＞「第２の主管路（主管路Ｂ５）の容積」、の関係が成立していない（工程Ｓ３：Ｎｏ）と判定する場合には、工程Ｓ５（第７の調整）を行う。すなわち、制御部Ｂ１２は、主管路Ｂ５の容積が主管路Ａ５の容積より大きい場合には、工程Ｓ５（第７の調整）を行う。

第７の調整の第１態様では、圧力安定時に主管路Ｂ５にある主ガス量から圧力安定時に主管路Ａ５にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始時から、主管路Ｂ５に流すガスの最大主流量の値から主管路Ｂ５に対応する設定主流量の値を差し引いて得られる差分主流量で差分主ガス量が供給される場合に要する時間（ＴＫ７１）が経過するまでの間において、主管路Ｂ５を流れるガスの主流量を主管路Ｂ５に流すガスの最大主流量の値とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。

第７の調整の第１態様が行われない場合、図５のグラフＧＲ５に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行し、プロセスレシピのガス処理工程で用いられるガス種に対応する流量制御器Ｂ３１が主管路Ｂ５の主流量を設定主流量とするよう制御すると、図５のグラフＧＲ６に示すように、主管路Ｂ５に流れるガスの主流量が速やかに設定主流量に至る。

これに対し、第７の調整の第１態様が行われる場合、図５のグラフＧＲ７に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始時（Ｔ１）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、プロセスレシピのガス処理工程で用いられるガス種に対応する流量制御器Ｂ３１は、図５のグラフＧＲ８に示すように、主管路Ｂ５に流れるガスの主流量を、時間ＴＫ７１が経過するまで、主管路Ｂ５の最大主流量とし、時間ＴＫ７１が経過すると、主管路Ｂ５に流れるガスの主流量を主管路Ｂ５の設定主流量とするように制御する。

このように、処理容器に直結する主管路の容積の大小に起因してガス供給系Ｂ１から処理容器Ｂ６へのガスの供給がガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始時からガス供給系Ｂ１におけるガスの流量を設定よりも増加させ基板処理装置Ｂ１０側の遅れを補うように制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

第７の調整の第２態様では、圧力安定時に主管路Ｂ５にある主ガス量から圧力安定時に主管路Ａ５にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、プロセスレシピのガス処理工程の開始前（Ｔ２）において、主管路Ｂ５を流れるガスの最大主流量で差分主ガス量が供給される場合に要する時間（ＴＫ７２）が経過してガス処理工程が開始されるまでの間（Ｔ２からＴ１までの間）において、主管路Ｂ５を流れるガスの主流量を主管路Ｂ５を流れるガスの最大主流量の値とするように、プロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを調整する。

第７の調整の第２態様が行われる場合、図５のグラフＧＲ９に示すように、プロセスレシピのガス処理工程の開始前（Ｔ２）において、ガス供給系Ｂ１の総バルブ（バルブＢ３２，Ｂ３３，Ｂ５１）が閉（ＣＬＯＳＥ）の状態から開（ＯＰＥＮ）の状態に移行すると、プロセスレシピのガス処理工程で用いられるガス種に対応する流量制御器Ｂ３１は、図５のグラフＧＲ１０に示すように、主管路Ｂ５に流れるガスの主流量を、ガス処理工程の開始時（Ｔ１）に至るまで（時間ＴＫ７２の間）、主管路Ｂ５の最大主流量とし、ガス処理工程の開始時（Ｔ１）から、主管路Ｂ５に流れるガスの主流量を主管路Ｂ５の設定主流量とするように制御する。

このように、処理容器に直結する主管路の容積の大小に起因してガス供給系Ｂ１から処理容器Ｂ６へのガスの供給がガス供給系Ａ１から処理容器Ａ６へのガスの供給よりも遅延する場合には、ガス処理工程の開始前からガス供給系Ｂ１のガス供給を開始しガス処理工程の開始時までに基板処理装置Ｂ１０側の遅れを補うように制御することによって、基板処理装置Ａ１０のプロセスレシピを用いた基板処理装置Ｂ１０の処理プロセスを基板処理装置Ａ１０の処理プロセスに合わせ得る。

上記の時間ＴＫ７１，ＴＫ７２の算出方法を説明する。まず、以下のように定義する。
・主管路Ａ５の設定主流量の値をＱＰ７Ａ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ａ５を流れるガスの粘性係数の値をηＰ７Ａ［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・主管路Ａ５の長さをＬＰ７Ａ［ｍ］とする。
・主管路Ａ５において圧力安定時にあるガス量の値をＳ７Ａ［Ｐａ・ｍ^３］とする。
・主管路Ｂ５の設定主流量の値をＱＰ７Ｂ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ｂ５の最大主流量の値をＱＰ７Ｂｍａｘ［Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ］とする。
・主管路Ｂ５を流れるガスの粘性係数の値をηＰ７Ｂ［Ｐａ・ｓｅｃ］とする。
・主管路Ｂ５の長さをＬＰ７Ｂ［ｍ］とする。
・主管路Ｂ５において圧力安定時にあるガス量の値をＳ７Ｂ［Ｐａ・ｍ^３］とする。

以下の式が成り立つ。
（式７１）…Ｓ７Ａ＝（８×（ＱＰ７Ａ×ηＰ７Ａ×π×ＬＰ７Ａ＾３）＾（１／２））／３。
（式７２）…Ｓ７Ｂ＝（８×（ＱＰ７Ｂ×ηＰ７Ｂ×π×ＬＰ７Ｂ＾３）＾（１／２））／３。
（式７３）…ＴＫ７１＝（Ｓ７Ｂ−Ｓ７Ａ）／（ＱＰ７Ｂｍａｘ−ＱＰ７Ｂ）。
（式７４）…ＴＫ７２＝（Ｓ７Ｂ−Ｓ７Ａ）／ＱＰ７Ｂｍａｘ。

以上、好適な実施の形態において本発明の原理を図示し説明してきたが、本発明は、そのような原理から逸脱することなく配置および詳細において変更され得ることは、当業者によって認識される。本発明は、本実施の形態に開示された特定の構成に限定されるものではない。したがって、特許請求の範囲およびその精神の範囲から来る全ての修正および変更に権利を請求する。

例えば、図１の流図に示す処理と図２の流図に示す処理とが並行して（同時に）行われる態様が可能である。両処理が並行して行われる場合、第５の調整および第７の調整を除き、上記した方法で調整が可能である。第５の調整および第７の調整は、ガス供給系Ｂ１の第Ｎ１番の枝管路Ｂ３から幹管路Ｂ４に流すガスの流量を制御することによって実現される。

Ａ１…ガス供給系、Ａ１０…基板処理装置、Ａ１１…配管、Ａ１１１…バルブ、Ａ１１２…バルブ、Ａ１１３…配管、Ａ１１４…バルブ、Ａ１２…制御部、Ａ２…ガス源、Ａ３…枝管路、Ａ３１…流量制御器、Ａ３２…バルブ、Ａ３３…バルブ、Ａ４…幹管路、Ａ５…主管路、Ａ５１…バルブ、Ａ６…処理容器、Ａ７…配管、Ａ７１…圧力調整弁、Ａ８…排気装置、Ａ９…パージガス源、Ｂ１…ガス供給系、Ｂ１０…基板処理装置、Ｂ１１…配管、Ｂ１１１…バルブ、Ｂ１１２…バルブ、Ｂ１１３…配管、Ｂ１１４…バルブ、Ｂ１２…制御部、Ｂ２…ガス源、Ｂ３…枝管路、Ｂ３１…流量制御器、Ｂ３２…バルブ、Ｂ３３…バルブ、Ｂ４…幹管路、Ｂ５…主管路、Ｂ５１…バルブ、Ｂ６…処理容器、Ｂ７…配管、Ｂ７１…圧力調整弁、Ｂ８…排気装置、Ｂ９…パージガス源、ＭＴ…方法。

Claims (13)

1. 第１の処理装置で用いられるプロセスレシピを該第１の処理装置と異なる構成を備える第２の処理装置に適用して被処理体を処理する場合に、処理プロセスを調整する方法であって、
   前記第１の処理装置は、
   前記被処理体が処理される第１の処理容器と、
   第１のガス供給系と、
   を備え、
   前記第１のガス供給系は、第１の主管路と第１の幹管路と複数の第１の枝管路と複数の第１の流量制御器と複数の第１のガス源とを備え、
   前記第１の主管路の一端は、前記第１の処理容器に接続され、
   前記第１の主管路の他端は、前記第１の幹管路の一端に接続され、
   前記複数の第１の枝管路のそれぞれの一端は、前記第１の幹管路に接続され、
   前記複数の第１の枝管路のそれぞれの他端は、前記複数の第１のガス源のそれぞれに接続され、
   前記複数の第１の流量制御器のそれぞれは、前記複数の第１の枝管路のそれぞれに対して設置されており、該複数の第１の枝管路のそれぞれを流れるガスの流量を制御し、
   前記複数の第１の枝管路は、第１の管番号が割り当てられており、
   前記第１の管番号は、第１番から第Ｍ番までの番号であって、Ｍは、前記複数の第１の枝管路の総数を表す１より大きな自然数であり、
   第１番〜第Ｍ番の前記第１の枝管路は、前記第１の管番号の順に、前記第１の主管路に近い側から前記第１の幹管路に接続されており、
   第１番〜第Ｍ番の前記第１の枝管路のそれぞれから前記第１の幹管路を流れるガスの設定流量の値は、互いに異なっており、
   前記第２の処理装置は、
   前記被処理体が処理される第２の処理容器と、
   第２のガス供給系と、
   を備え、
   前記第２のガス供給系は、第２の主管路と第２の幹管路と複数の第２の枝管路と複数の第２の流量制御器と複数の第２のガス源とを備え、
   前記第２の主管路の一端は、前記第２の処理容器に接続され、
   前記第２の主管路の他端は、前記第２の幹管路の一端に接続され、
   前記複数の第２の枝管路のそれぞれの一端は、前記第２の幹管路に接続され、
   前記複数の第２の枝管路のそれぞれの他端は、前記複数の第２のガス源のそれぞれに接続され、
   前記複数の第２の流量制御器のそれぞれは、前記複数の第２の枝管路のそれぞれに対して設置されており、該複数の第２の枝管路のそれぞれを流れるガスの流量を制御し、
   前記複数の第２の枝管路は、第２の管番号が割り当てられており、
   前記第２の管番号は、第１番から第Ｎ番までの番号であって、Ｎは、前記複数の第２の枝管路の総数を表す１より大きな自然数であり、
   第１番〜第Ｎ番の前記第２の枝管路は、前記第２の管番号の順に、前記第２の主管路に近い側から前記第２の幹管路に接続されており、
   第１番〜第Ｎ番の前記第２の枝管路のそれぞれから前記第２の幹管路を流れるガスの設定流量の値は、互いに異なっており、
   該方法は、
   前記第１のガス供給系および前記第２のガス供給系に係る装置情報を用いて、前記プロセスレシピのガス処理工程の開始時から予め設定された時間だけ、または、該ガス処理工程の開始前の予め設定された時間だけ、前記第２のガス供給系におけるガスの流量を増減し、前記処理プロセスを調整する工程を備え、
   前記調整する工程は、前記プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを、該プロセスレシピを用いた前記第１の処理装置の処理プロセスに適合させる、
   方法。
2. 前記調整する工程は、
   前記プロセスレシピのガス処理工程において二種類のガス種が用いられる場合に、前記複数の第１の枝管路のうち該二種類のガス種に対応する第Ｍ１番（Ｍ１は、１≦Ｍ１≦Ｍ−１を満たす自然数。）の前記第１の枝管路および第Ｍ２番（Ｍ２は、２≦Ｍ２≦Ｍ且つＭ１＜Ｍ２を満たす自然数。）の該第１の枝管路と、前記複数の第２の枝管路のうち該二種類のガス種に対応する第Ｎ１番（Ｎ１は、１≦Ｎ１≦Ｎ−１を満たす自然数。）の前記第２の枝管路および第Ｎ２番（Ｎ２は、２≦Ｎ２≦Ｎ且つＮ１＜Ｎ２を満たす自然数。）の該第２の枝管路とを選択する第１の工程と、
   前記複数の第１の枝管路のうち前記第１の工程において選択された第Ｍ１番の前記第１の枝管路および第Ｍ２番の該第１の枝管路のそれぞれに対応する前記第１の管番号のＭ１、Ｍ２および前記設定流量の値と、前記複数の第２の枝管路のうち該第１の工程において選択された第Ｎ１番の前記第２の枝管路およびＮ２番の該第２の枝管路のそれぞれに対応する前記第２の管番号のＮ１、Ｎ２および該設定流量の値との組み合わせに基づいて、前記プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する第２の工程と、
   を備える、
   請求項１に記載の方法。
3. 前記第２の工程は、
   第Ｎ２番の前記第２の枝管路に対応する前記設定流量の値が第Ｎ１番の前記第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｍ１番の前記第１の枝管路に対応する該設定流量の値が第Ｍ２番の前記第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きい場合には、
   前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始時から、前記第２の幹管路に流す第Ｎ２番の前記第２の枝管路からのガスの流量が前記設定流量に至るまでの時間を、第Ｍ２番の前記第１の枝管路に対応する該設定流量で圧力安定時に前記第１の幹管路にあるガス量が供給される場合に要する時間とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
   請求項２に記載の方法。
4. 前記第２の工程は、
   第Ｎ１番の前記第２の枝管路に対応する前記設定流量の値が第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｍ２番の前記第１の枝管路に対応する該設定流量の値が第Ｍ１番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きい場合には、
   前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始時から、第Ｎ２番の前記第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの最大流量の値から第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する前記設定流量の値を差し引いて得られる差分流量で圧力安定時に該第２の幹管路にあるガス量が供給される場合に要する時間が経過するまでの間において、第Ｎ２番の該第２の枝管路からのガスの流量を第Ｎ２番の該第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの該最大流量の値とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
   請求項２に記載の方法。
5. 前記第２の工程は、
   第Ｎ１番の前記第２の枝管路に対応する前記設定流量の値が第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｍ２番の前記第１の枝管路に対応する該設定流量の値が第Ｍ１番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きい場合には、
   前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始前において、第Ｎ２番の前記第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの最大流量で圧力安定時に該第２の幹管路にあるガス量が供給される場合に要する時間が経過して該ガス処理工程が開始されるまでの間において、第Ｎ２番の該第２の枝管路からのガスの流量を第Ｎ２番の該第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの該最大流量の値とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
   請求項２に記載の方法。
6. 前記第２の工程は、
   第Ｍ１番の前記第１の枝管路に対応する前記設定流量の値が第Ｍ２番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｎ１番の前記第２の枝管路に対応する該設定流量の値が第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、Ｍ２がＮ２より大きい場合には、
   圧力安定時に前記第１の幹管路にあるガス量から圧力安定時に前記第２の幹管路にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、
   前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始時から、前記第２の幹管路に流す第Ｎ２番の前記第２の枝管路からのガスの流量が前記設定流量に至るまでの時間を、第Ｍ２番の第１の枝管路に対応する該設定流量で前記差分ガス量が供給される場合に要する時間とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
   請求項２に記載の方法。
7. 前記第２の工程は、
   第Ｍ１番の前記第１の枝管路に対応する前記設定流量の値が第Ｍ２番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｎ１番の前記第２の枝管路に対応する該設定流量の値がＮ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、Ｎ２がＭ２より大きい場合には、
   圧力安定時に前記第２の幹管路にあるガス量から圧力安定時に前記第１の幹管路にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、
   前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始時から、第Ｎ２番の前記第２の枝管路から前記第２の幹管路に流すガスの最大流量の値から第Ｎ２番の該第２の枝管路に対応する前記設定流量の値を差し引いて得られる差分流量で前記差分ガス量が供給される場合に要する時間が経過するまでの間において、第Ｎ２番の該第２の枝管路からのガスの流量を第Ｎ２番の該第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの該最大流量の値とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
   請求項２に記載の方法。
8. 前記第２の工程は、
   第Ｍ１番の前記第１の枝管路に対応する前記設定流量の値が第Ｍ２番の該第１の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、第Ｎ１番の前記第２の枝管路に対応する該設定流量の値がＮ２番の該第２の枝管路に対応する該設定流量の値より大きく、且つ、Ｎ２がＭ２より大きい場合には、
   圧力安定時に前記第２の幹管路にあるガス量から圧力安定時に前記第１の幹管路にあるガス量を差し引いて得られる差分ガス量を算出し、
   前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始前において、第Ｎ２番の前記第２の枝管路から前記第２の幹管路に流すガスの最大流量で前記差分ガス量が供給される場合に要する時間が経過して該ガス処理工程が開始されるまでの間において、第Ｎ２番の該第２の枝管路からのガスの流量を第Ｎ２番の該第２の枝管路から該第２の幹管路に流すガスの該最大流量の値とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
   請求項２に記載の方法。
9. 前記調整する工程は、前記第１の主管路の容積および前記第２の主管路の容積の大小を判定し、この判定結果に基づいて、前記プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
   請求項１〜８の何れか一項に記載の方法。
10. 前記調整する工程は、
    前記第１の主管路の容積が前記第２の主管路の容積より大きい場合には、
    圧力安定時に前記第１の主管路にある主ガス量から圧力安定時に前記第２の主管路にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、
    前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始時から、前記第２の主管路を流れるガスの主流量が該第２の主管路に対応する設定主流量に至るまでの時間を、前記第１の主管路に対応する該設定主流量で前記差分主ガス量が供給される場合に要する時間とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
    請求項９に記載の方法。
11. 前記調整する工程は、
    前記第２の主管路の容積が前記第１の主管路の容積より大きい場合には、
    圧力安定時に前記第２の主管路にある主ガス量から圧力安定時に前記第１の主管路にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、
    前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始時から、前記第２の主管路に流すガスの最大主流量の値から該第２の主管路に対応する設定主流量の値を差し引いて得られる差分主流量で前記差分主ガス量が供給される場合に要する時間が経過するまでの間において、該第２の主管路を流れるガスの主流量を該第２の主管路に流すガスの該最大主流量の値とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
    請求項９に記載の方法。
12. 前記調整する工程は、
    前記第２の主管路の容積が前記第１の主管路の容積より大きい場合には、
    圧力安定時に前記第２の主管路にある主ガス量から圧力安定時に前記第１の主管路にある主ガス量を差し引いて得られる差分主ガス量を算出し、
    前記プロセスレシピの前記ガス処理工程の開始前において、前記第２の主管路を流れるガスの最大主流量で前記差分主ガス量が供給される場合に要する時間が経過して該ガス処理工程が開始されるまでの間において、該第２の主管路を流れるガスの主流量を該第２の主管路を流れるガスの該最大主流量の値とするように、該プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
    請求項９に記載の方法。
13. 前記ガス処理工程の終了時において、
    前記第１のガス供給系におけるガスの供給の停止時から減衰する前記第１の主管路におけるガスの第１の減衰主流量と、前記第２のガス供給系におけるガスの供給の停止時から減衰する前記第２の主管路におけるガスの第２の減衰主流量とを比較し、
    前記第１の減衰主流量が前記第２の減衰主流量より多い場合に、該第１の減衰主流量から該第２の減衰主流量を差し引いた差分減衰主流量を算出し、
    前記第２のガス供給系において、ガスの供給の停止時から、前記差分減衰主流量のガスが前記第２の主管路に流れるように、前記プロセスレシピを用いた前記第２の処理装置の処理プロセスを調整する、
    請求項１〜１２の何れか一項に記載の方法。

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