KR102229719B1 - 다이렉트라이트 스크린 제판기기 및 그 사용방법 - Google Patents

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장쑤 기스 레이저 테크놀로지스 인크.
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Abstract

본 발명은 다이렉트라이트 스크린 제판기기 및 그 사용방법을 공개한 것으로, 상기 다이렉트라이트 스크린 제판기기와 초점면 제어방법은, 하나의 Z 축 컨트롤러(7)를 이용하여 다음 스캔할 스캔 스트립의 초점면 위치와 스캔 플랫폼(2-2) 위치신호 사이의 매핑관계를 사전에 구축하고, 다음 스캔시, 이러한 매핑관계에 의하여 광학 렌즈(8) 위치를 조절하여, 변위 센서(10)와 광학 렌즈(8) 사이의 장착위치가 편이되어 측정되는 초점면과 실제 초점면이 일치하지 않는 문제를 일으키는 것을 방지한다. 본 발명은 관심 영역을 이용하여 노광하는 방법과 온라인 실시간 광 균일성 보상방법을 더 제공하여, 디지털 마이크로미러 소자(6) 수명을 연장하고 디지털 마이크로미러 소자(6)에서 에너지 출력분포가 불균일한 문제를 해결하였다.

Description

다이렉트라이트 스크린 제판기기 및 그 사용방법
본 발명은 스크린 제판 기술분야에 관한 것으로, 구체적으로 다이렉트라이트 스크린 제판기기 및 그 사용방법에 관한 것이다.
기존의 레이저 다이렉트라이트 기기에서, 일반적으로 노광점 옆의 변위 센서를 이용하여 노광점 위치에서의 광학 렌즈와 전개판의 거리를 측정하는 바, 비록 노광점 위치가 변위 센서와 근접할 지라도, 이들은 아주 작은 거리로 이격되지만, 이들 양자는 실제상 동일한 위치에 있지 않고; 따라서, 변위 센서로 측정된 거리 또한 광학 렌즈와 전개판의 실제거리가 아니고, 이들은 대부분 상황에서 매우 근접하다.
선행기술에서, 상기 측정된 거리를 이용하여 노광점에 있는 광학 렌즈의 초점면을 조절하는데, 이는 변위 센서 장착위치와 노광점 위치 사이가 일치하지 않기 때문에, 변위 센서가 측정한 거리를 이용하여 광학 렌즈의 초점면을 조절하면 오차가 발생할 수 있다.
이밖에, 기존의 레이저 다이렉트라이트 기기에서, 디지털 마이크로미러 소자는 종종 제판면을 사용하게 되는데, 디지털 마이크로미러 소자가 대량의 마이크로미러로 구성되어, 일부분 마이크로미러가 효능을 상실하게 될 때 디지털 마이크로미러 소자는 전부 폐기되어, 디지털 마이크로미러 소자 이용율 저하 및 사용수명이 상대적으로 짧은 결점을 초래한다.
이밖에, 기존의 레이저 다이렉트라이트 기기에서, 디지털 마이크로미러 소자가 스캔과정에서, 각 마이크로미러점의 스캔 궤도에서 각 궤도의 에너지 분포는 균일하지 않아, 디지털 마이크로미러 소자에서의 에너지 출력분포가 균일하지 못하는 문제를 일으킨다. 이는 이미지 노광품질에 영향을 준다.
본 발명은 다이렉트라이트 스크린 제판기기 및 그 사용방법을 제공하여, 상기 문제를 해결하는 데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 본체, 운동 시스템, 광원 컨트롤러, 광원, 데이터 처리모듈, 디지털 마이크로미러 소자, Z 축 컨트롤러, 광학 렌즈, 신호 스플리터, 변위 센서, Z 축 기구와 미동기구를 포함하는 스크린 인쇄의 제판 공정을 위한 다이렉트라이트 스크린 제판기기를 제공하고;
상기의 운동 시스템은 점진식 플랫폼, 스캔 플랫폼 및 플랫폼 구동기로 구성되되; 여기서 플랫폼 구동기는 본체와 연결되어, 점진식 플랫폼과 스캔 플랫폼이 움직이도록 구동하기 위한 것이고;
상기의 광원 컨트롤러는 본체와 연결되어 광원의 온오프 상태 및 광의 세기를 제어하고, 광원은 디지털 마이크로미러 소자가 제공하는 연속으로 출력되는 광에너지로서, 디지털 마이크로미러 소자가 출력한 광은 광학 렌즈를 통과한 후 균일한 면광으로 변하고;
상기의 데이터 처리모듈은 본체와 연결되어 본체의 제어하에 디지털 마이크로미러 소자가 이미지 생성과 투사를 완성하도록 구동하고;
상기의 광학 렌즈는 Z 축 기구와 미동기구에 의해 공동으로 수직방향의 상하동작을 진행하고, Z 축 기구는 저주파수 조절작용을 일으키고, 미동기구는 고주파수 조절작용을 일으키며;
상기의 Z 축 컨트롤러는 본체와 연결되어, Z 축 기구가 전송한 Z 축 리딩수, 변위 센서가 전송한 측정 데이터 및 신호 스플리터가 전송한 위치 데이터를 종합적으로 처리하기 위한 것이고; 상기의 Z 축 컨트롤러는 Z 축 기구와 미동기구 동작을 제어하기도 하여, 광학 렌즈와 노광 대기 전개판 사이의 거리를 조절하기 위한 것이며; 광학 렌즈는 Z 축 컨트롤러의 간접적인 제어하에서 높이 거리를 조절하여 디지털 마이크로미러 소자가 투사한 이미지를 뚜렷하게 집속한 후 전개판 표면에 투사하여 노광시키고;
상기의 신호 스플리터는 스캔 플랫폼과 연결되고, 스캔 플랫폼의 위치신호를 동기화적으로 데이터 처리모듈과 Z 축 컨트롤러에 전송하며;
상기의 변위 센서와 광학 렌즈는 병렬적으로 장착되고, 변위 센서는 광학 렌즈와 노광 대기 전개판 사이의 실제거리를 측정하여 Z 축 컨트롤러에 측정결과를 전송하기 위한 것이고;
상기의 점진식 플랫폼은 노광 대기 전개판을 적재하여 전개판이 움직이도록 하기 위한 것이고; 상기의 스캔 플랫폼은 Z 축 기구, 미동기구, 디지털 마이크로미러 소자, 광학 렌즈와 변위 센서를 적재하여, 이들이 움직이도록 하기 위한 것이다.
바람직한 것은, 상기 다이렉트라이트 스크린 제판기기의 데이터 처리모듈 내에 오차 수정 유닛이 집적되는 바, 오차 수정 유닛은 신호 스플리터가 전송한 스캔 플랫폼 위치신호를 수정하기 위한 것이다.
바람직한 것은, 점진식 플랫폼의 전개판 클램프에는 코더를 구비하는 길이 측정 레일과 물체 탐지 센서가 설치되고; 코더를 구비하는 길이 측정 레일과 물체 탐지 센서는 각각 본체와 연결된다.
바람직한 것은, 상기 다이렉트라이트 스크린 제판기기에 있어서, 상기의 디지털 마이크로미러 소자의 반사면은 스캔대기 노광면과 평행되고, 상기의 스캔 플랫폼에서의 스캔축 스캔방향과 디지털 마이크로미러 소자에서의 마이크로미러 어레이의 열방향은 일정한 협각을 이루되, 이러한 협각의 각도값 범위는 이하 9가지 각도값 영역으로 한정되는 바:
각도범위 1: 7.1150°～ 7.1350°;
각도범위 2: 6.3302°～ 6.3502°;
각도범위 3: 5.7006°～ 5.7206°;
각도범위 4: 5.1844°～ 5.2044°;
각도범위 5: 4.7536°～ 4.7736°;
각도범위 6: 4.3887°～ 4.4087°;
각도범위 7: 4.0756°～ 4.0956°;
각도범위 8: 3.8041°～ 3.8241°;
각도범위 9: 3.5663°～ 3.5863°.
더욱 바람직한 것은, 상기의 점진식 플랫폼의 전개판 클램프에는 코더를 구비하는 레일과 물체 탐지 센서가 설치되고; 코더를 구비하는 레일과 물체 탐지 센서는 센서 컨트롤러에 의해 각각 본체와 연결된다.
디지털 마이크로미러 소자가 스캔방향과 하나의 협각을 이루면서 경사지게 장착되어 사용시, 본 발명은 TIF 포맷 제판 이미지의 처리방법을 더 제공하는 바, 이는 하기 몇개 단계를 포함하고:
단계(a), 우선 본체에 이미지 처리 소프트웨어를 설치하고;
단계(b), 단계(a)에 따른 이미지 처리 소프트웨어에 처리대기 TIF 이미지의 경로, 이미지 처리 파라미터를 설정하며;
단계(c), 이미지 처리 소프트웨어가 TIF 이미지를 판독하고;
단계(d), 이미지 처리 소프트웨어가 TIF 이미지의 해상도를 식별하며;
단계(e), 이미지 처리 소프트웨어가 TIF 이미지 중의 패턴의 윤곽을 식별하고;
단계(f), 이미지 처리 소프트웨어가 단계(e)에서 식별된 패턴윤곽을 벡터로 표현되는 다변형으로 변환하되, 상기의 다변형은 다수의 벡터로 표현되는 선분의 시작과 끝부분을 서로 연결하여 감싸도록 이루어진 영역이고;
단계(g), 이미지 처리 소프트웨어가 이미지 처리 파라미터에 의하여, 단계(f)에서 발생되는 다변형에 대해 광학근접 효과에 따른 계산기하학적 처리를 진행하는 바, 처리된 다변형은 노광될 때 광학근접 효과에 의해 생긴 패턴 편차를 수정하고,
단계(h), 이미지 처리 소프트웨어가 이미지 처리 파라미터에 의하여, 단계(g)에서 얻어진 도형에 대해 스케일링 변환하고 도형을 스케일링 처리하여, 새로운 벡터 이미지를 얻어, 생산 수요를 충족시키도록 하고;
단계(i), 이미지 처리 소프트웨어가 단계(h)에서 발생되는 도형을 본체(1)의 메모리에 저장하여 사용한다.
본 발명은 다이렉트라이트 스크린 제판기기에 사용되는 온라인 광학보상 기술을 더 제공하여, 디지털 마이크로미러 소자에서의 에너지 출력 분배가 불균일한 문제를 해결하기 위한 것으로, 구체적인 기술방안은 하기 단계를 포함하고:
단계(a), 광의 세기 분포 교정: 디지털 마이크로미러 소자의 저부에 광의 세기 검출기기를 넣고, 디지털 마이크로미러 소자를 전반적으로 개방하고, 광의 세기 검출기기는 광학에너지 분포를 포획하여, 광의 세기 검출기기에 의해 포획되는 광학에너지 분포 데이터에 의하여 에너지 보상 파라미터를 생성하고;
단계(b), 단계(a)에서 얻어진 보상 파라미터를 데이터 처리모듈에 피드백하며;
단계(c), 데이터 처리모듈이 이미지 프레임 데이터를 생성할 때, 이 보상 파라미터를 이용하여, 에너지가 가장 낮은 영역을 기준으로 하여, 디지털 마이크로미러 소자에서의 에너지가 너무 높은 영역의 마이크로미러의 개방 횟수를 감소하여, 에너지를 균형화하는 목적을 달성한다.
본 발명은 다이렉트라이트 스크린 제판기기의 노광방법을 더 제공하는 것으로, 하기 단계를 포함하고:
(a) 전개판 준비단계: 본체가 플랫폼 구동기에 명령을 보내면, 플랫폼 구동기는 점진식 플랫폼이 상판 위치에 이동하도록 구동하고, 전개판을 점진식 플랫폼에 방치한 후, 점진식 플랫폼에 설치된 전개판 고정장치에 의해 전개판을 고정하며; 고정과정에서, 고정장치 상에 위치하는 물체 탐지 센서와 길이 측정 레일은 측정결과를 본체에 전송하고;
(b) 도형전송단계: 본체가 제판 이미지를 데이터 처리모듈에 발송하는 동시에, 데이터 처리모듈에 디지털 마이크로미러 소자를 오프하는 명령을 발송하고; 단계에서 물체 탐지 센서와 길이 측정 레일이 전송한 데이터가 정확하지 않으면, 본체는 전개판이 비정상임을 경고하고, 정상일 경우 아래 단계를 진행하며;
(c) 노광준비단계: 본체가 초기 노광점 위치를 산출한 후, 플랫폼 구동기를 제어하여 점진식 플랫폼과 스캔 플랫폼이 초기 노광점 위치에 이동하도록 구동하고;
(d) 주동집속단계: 본체가 Z 축 컨트롤러를 트리거하고, Z 축 컨트롤러는 Z 축 기구와 미동기구를 제어하여 광학 렌즈가 주동집속하도록 하고, 카메라의 초점면을 잠금하며;
(e) 제판 이미지 러너블 신호 및 도형 생성 단계: 데이터 처리모듈이 제판 이미지를 수신하고 준비완료 후, 러너블 신호로 리턴 후, 데이터 처리모듈은 단계에서 수신되는 제판 이미지에 의하여, 지속적으로 디지털 마이크로미러 소자의 너비 크기에 따라 스트립형의 도형 데이터를 생성하고;
(f) 광원오픈단계: 광원 컨트롤러는 본체가 보낸 명령을 수신하여, 광원을 오픈하고;
(g) 프레임 패턴 생성단계: 데이터 처리모듈는 단계(e)에서 생성된 스트립형의 도형 데이터에 의하여, 스캔방향의 위치 파라미터, 디지털 마이크로미러 소자의 마이크로미러 어레이의 투여사용 영역을 결합하여, 서로 다른 위치의 프레임 패턴을 생성하고;
(h) 정방향의 스캔단계: 스캔 플랫폼은 정방향으로 스캔되는 완료위치까지 균일한 속도로 정방향 이동하되, 이동과정에서, 스캔 플랫폼은 신호 스플리터를 통하여 데이터 처리모듈에 지속적으로 위치신호를 피드백하고, 데이터 처리모듈은 수신된 위치신호를 수정하여 정확한 위치신호를 얻어, 정확한 위치신호에 의하여 디지털 마이크로미러 소자가 지정된 위치에서 프레임 패턴을 투사하도록 제어하되, 정방향 스트립 도형이 다 처리될 때까지 제어하여, 정방향 노광을 완성하고;
(i) 노광 스트립 교체단계: 정방향으로 스캔이 완성된 후, 점진식 플랫폼이 노광대기 영역으로 하나의 스캔 너비만큼의 거리를 이동하여, 역방향 스캔 스트립에 진입하고;
(j) 역방향 스캔단계: 스캔 플랫폼은 역방향으로 스캔되는 엔드위치에 균일한 속도로 역방향 이동하되, 이동과정에서, 스캔 플랫폼은 지속적으로 데이터 처리모듈에 위치신호를 피드백하고, 데이터 처리모듈은 수신된 위치신호를 수정하여 정확한 신호를 얻어, 정확한 신호에 의하여 디지털 마이크로미러 소자가 지정된 위치에서 프레임 패턴을 투사하도록 제어하되, 역방향 스트립 도형이 다 처리될 때까지 제어하여, 역방향 노광을 완성하고; 역방향 과정은 정방향 처리과정과 동일하되, 다만 스캔 플랫폼의 스캔 구동방향과 반대되며;
(k) 단계(j)의 역방향 스캔이 완료된 후, 다시 정방향 스캔과정에 진입하고; 이렇게 반복하되, 모든 스트립 도형이 모두 처리될 때까지 반복하면, 모든 노광과정이 완료된다.
본 발명은 다이렉트라이트 스크린 제판기기 중 디지털 마이크로미러 소자의 사용방법을 더 제공하는 것으로, 디지털 마이크로미러 소자 중의 일부 영역을 관심영역으로 선택하여 투입사용하고, 기타 부분은 방치하며; 관심영역이 사용기한이 만료된 후, 방치 영역을 사용한다. 이는 디지털 마이크로미러 소자 이용률이 높지 않고 사용수명이 상대적으로 짧은 결점을 해결하기 위한 것이다.
본 발명은 다이렉트라이트 스크린 제판기기가 작업과정에서의 초점면 제어방법을 더 제공하는 것으로, 하기 단계를 포함하고:
(a)노광이 시작되기 전에, 본체는 플랫폼 구동기를 제어하여, 변위 센서를 첫번째 스캔 스트립의 시작점에 이동한 후, 스캔동작을 1회 완성하고, 광학 렌즈가 변위 센서에 접근한 후, 제 1 스캔 스트립을 커버링하지 않고; 변위 센서가 제 1 스캔 스트립을 커버링하고, 제 1 스캔 스트립의 서로 다른 위치의 높이 데이터를 측정하고; 스캔 동작과정에서, Z 축 컨트롤러는 변위 센서의 측정 데이터 및 Z 축 기구 Z축의 판독수를 동기화적으로 판독하고, 판독된 데이터에 의하여 각 스캔위치에서의 광학 렌즈가 있어야 할 초점면 위치를 산출하고; 이어서, Z 축 컨트롤러는 산출된 초점면 위치와 신호 스플리터가 동기화적으로 전송한 스캔 플랫폼의 위치신호를 병합하여, 일일이 대응되는 매핑관계를 구축하고;
(b)점진식 플랫폼은 전개판이 앞으로 한걸음 전진하도록 한 후, 스캔 플랫폼은 단계의 엔드 위치로부터 플라이백되고; 플라이백 과정에서, Z 축 컨트롤러는 단계(a)에서 구축된 매핑 데이터에 의하여 Z 축 기구와 미동기구를 구동하여 광학렌즈의 위치를 조절하여, 초점면을 정정하고; 플라이백되는 동시에, 변위 센서는 제 2 스캔 스트립을 측정하는 실제 높이 위치 데이터를 커버링하고, Z 축 컨트롤러는 제 2 스캔 스트립의 초점면 위치와 스캔 플랫폼 위치신호 사이의 매핑관계를 동시에 구축하며;
(c)점진식 플랫폼은 전개판을 한걸음 더 전진시킨 후, 스캔 플랫폼은 단계(b)의 종점으로부터 다시 플라이백되고; 플라이백 과정에서, Z 축 컨트롤러는 단계(b)에서 구축된 매핑 데이터에 의하여 Z 축 기구와 미동기구를 구동하여 광학 렌즈의 위치를 조절하도록 하여, 초점면을 정정하고; 플라이백되는 동시에, 변위 센서는 제 3 스캔 스트립 실제 높이 데이터를 측정하고, Z 축 컨트롤러는 제 3 스캔 스트립의 초점면 위치와 스캔 플랫폼 위치신호 사이의 매평관계를 동시에 구축하며;
(d)상기 단계(b)와 단계(c)를 반복하되, 스캔이 완료될 때까지 반복한다.
본 발명의 기술적 효과는 아래와 같다.
(1)본 발명에 제공된 다이렉트라이트 스크린 제판기기, 다이렉트라이트 스크린 제판기기가 작업과정에서의 초점면 제어방법은, 하나의 Z 축 컨트롤러를 이용하여 다음 스캔할 스캔 스트립의 초점면 위치와 스캔 플랫폼 위치신호 사이의 매핑관계를 사전에 구축하고, 다음 스캔시, 이러한 매핑관계에 의하여 광학 렌즈 위치를 조절하여, 변위 센서와 광학 렌즈 사이의 장착위치가 편이되어 측정되는 초점면과 실제 초점면이 일치하지 않는 문제를 일으키는 것을 방지한다.
바람직한 방안으로서, 디지털 마이크로미러 소자의 스캔방향과 디지털 마이크로미러 소자에서의 마이크로미러 어레이의 행방향 또는 열방향이 일정한 협각을 이룰 경우, 스캔 이미지의 데이터 해상도가 높아지고, 패턴 리프레시 비율이 높아지며, 노광에 의해 생성된 패턴이 우수하다.
더욱 바람직한 것은, 점진식 플랫폼의 전개판 클램프에는 코더를 구비하는 레일과 물체 탐지 센서가 설치되고; 코더를 구비하는 길이 측정 레일과 물체 탐지 센서는 각각 본체와 연결된다. 물체 탐지 센서는 클램프에 전개판이 있는지의 여부를 검출하고, 길이 측정 레일은 전개판의 크기를 측정하여 데이터를 본체에 업로드시키고, 본체는 전송된 전개판 크기 데이터와 노광할 도형 크기를 비교하여, 양자가 매칭되지 않음으로 인한 기기 불량문제를 방지한다.
(2)본 발명에 제공된 디지털 마이크로미러 소자 관심영역은 디지털 마이크로미러 소자의 중복 이용률을 향상시킬 수 있어, 후기 유지보수시 투입되는 하드웨어 원가를 줄임으로써, 디지털 마이크로미러 소자의 리프레시 비율을 증가할 수 있을 뿐만 아니라 데이터 통신과정에서의 데이터양을 줄일 수도 있다.
(3)경사형 레이저 다이렉트라이트 기술을 사용할 때, 선행기술에서는 TIF 포맷 이미지를 확대처리하는 바, 이 과정의 산출양과 데이터양은 어마어마하다. 본 발명에 제공된 TIF 이미지 처리방법은, TIF 이미지에 대하여 벡터화 처리를 진행하는 바, 선행기술에 비해, 본 발명에 제공된 방법이 처리과정에서의 산출양과 데이터양이 적고, 얻어진 도형 해상도가 높으며, 기기가 저부하 작동하는데 유리한 동시에, 디지털 마이크로미러 소자(DMD)의 패턴 리프레시 비율을 향상시킬 수 있다.
(4)선행기술에 있어서, 출력되는 광의 스캔과정에서, 궤적마다 모두 에너지가 불균일하여, 디지털 마이크로미러 소자에서의 에너지 출력 분포가 불균일한 문제를 일으킨다. 본 발명에 제공된 온라인 광학 보상기술은 상기 결점을 극복하였다.
도 1은 본 발명의 다이렉트라이트 스크린 제판기기의 구조 블록도이다.
도 2는 본 발명의 다이렉트라이트 스크린 제판기기의 입체 구조 모식도이다.
도 3은 초점면 제어방법 실시과정 모식도이다.
도 4는 정방향 스캔과 경사방향 스캔 과정 대조 모식도이다.
도 5는 디지털 마이크로미러 소자 중의 관심영역의 위치 모식도이다.
도 6은 점진식 플랫폼 클램프에 센서가 장착되는 모식도이다.
이하 도면과 실시예를 결합하여 본 발명의 기술방안을 명확하고 완전하게 기술한다.
실시예 1:
도 1과 도 2를 참조하면, 스크린 인쇄의 제판공정을 위한 다이렉트라이트 스크린 제판기기에 있어서, 본체(1), 운동 시스템(2), 광원 컨트롤러(3), 광원(4), 데이터 처리모듈(5), 디지털 마이크로미러 소자(6), Z 축 컨트롤러(7), 광학 렌즈(8), 신호 스플리터(9), 변위 센서(10), Z 축 기구(11)와 미동기구(12)를 포함하고;
상기의 운동 시스템(2)은 점진식 플랫폼(2-1), 스캔 플랫폼(2-2) 및 플랫폼 구동기(2-3)로 구성되고; 여기서 플랫폼 구동기(2-3)는 본체(1)와 연결되어, 점진식 플랫폼(2-1)과 스캔 플랫폼(2-2)이 움직이도록 구동하기 위한 것이고;
상기의 광원 컨트롤러(3)는 본체(1)와 연결되어 광원(4)의 온오프 상태 및 광의 세기를 제어하고, 광원(4)은 디지털 마이크로미러 소자(6)가 제공하는 연속으로 출력되는 광에너지로서, 디지털 마이크로미러 소자(6)가 출력한 광은 광학 렌즈(8)를 통과한 후 균일한 면광으로 변하고;
상기의 데이터 처리모듈(5)은 본체(1)와 연결되어 본체(1)의 제어하에 디지털 마이크로미러 소자(6)가 이미지 생성과 투사를 완성하도록 구동하고;
상기의 광학 렌즈(8)는 Z 축 기구(11)와 미동기구(12)에 의해 공동으로 수직방향의 상하동작을 진행하고, Z 축 기구(11)는 저주파수 조절작용을 일으키고, 미동기구(12)는 고주파수 조절작용을 일으키며;
상기의 Z 축 컨트롤러(7)는 본체(1)와 연결되어, Z 축 기구(11)가 전송한 Z 축 리딩수, 변위 센서(10)가 전송한 측정 데이터 및 신호 스플리터(9)가 전송한 위치 데이터를 종합적으로 처리하기 위한 것이고; 상기의 Z 축 컨트롤러(7)는 Z 축 기구(11)와 미동기구(12) 동작을 제어하기도 하여, 광학 렌즈(8)와 노광 대기 전개판 사이의 거리를 조절하기 위한 것이며; 광학 렌즈(8)는 Z 축 컨트롤러(7)의 간접적인 제어하에서 높이 거리를 조절하여 디지털 마이크로미러 소자(6)가 투사한 이미지를 뚜렷하게 집속한 후 전개판 표면에 투사하여 노광시키고;
상기의 신호 스플리터(9)는 스캔 플랫폼(2-2)과 연결되고, 스캔 플랫폼(2-2)의 위치신호를 동기화적으로 데이터 처리모듈(5)과 Z 축 컨트롤러(7)에 전송하며;
상기의 변위 센서(10)와 광학 렌즈(8)는 병렬적으로 장착되고, 변위 센서(10)는 광학 렌즈(8)와 노광 대기 전개판 사이의 실제거리를 측정하여 Z 축 컨트롤러(7)에 측정결과를 전송하기 위한 것이고;
상기의 점진식 플랫폼(2-1)은 노광 대기 전개판을 적재하여 전개판이 움직이도록 하기 위한 것이고; 상기의 스캔 플랫폼(2-2)은 Z 축 기구(11), 미동기구(12), 디지털 마이크로미러 소자(6), 광학 렌즈(8)와 변위 센서(10)를 적재하여, 이들이 움직이도록 하기 위한 것이다.
도 6을 참조하면, 본 실시예의 점진식 플랫폼(2-1)의 전개판 클램프에 코더가 구비된 레일(17)과 물체 탐지 센서(16)가 설치되고; 코더가 구비된 길이 측정 레일(17)과 물체 탐지 센서(16)는 센서 컨트롤러에 의해 각각 본체(1)와 연결된다. 전개판(18)은 점진식 플랫폼(2-1)의 클램프에 의해 클램핑된다. 물체 탐지 센서(16)는 클램프에 전개판(18)이 있는지의 여부를 탐지하고, 길이 측정 레일(17)은 전개판(18)의 크기를 측정하여 측정 데이터를 본체(1)에 업로드시키고, 본체(1)는 전송된 전개판 크기 데이터와 노광할 도형 크기를 비교하여, 양자가 매칭되지 않음으로 인한 기기 불량문제를 방지한다.
실시예 2:
도 4(b)를 참조하면, 도 4(b) 중의 디지털 마이크로미러 소자(6)의 스캔방향과 디지털 마이크로미러 소자에서의 마이크로미러가 정열되는 행방향은 하나의 협각(θ)을 이루는 바, 이러한 θ각도일 경우, 디지털 마이크로미러 소자에서의 마이크로미러의 정열은 매번 몇개의 행을 지날 때마다 1회 반복되는 바, 스캔 대기 이미지 영역(20)은 간격이 pw2인 세분(細分) 블록으로 구획되고 pw2=d×sinθ이며;
도 4(a)를 참조하면, 도 4(b) 중의 디지털 마이크로미러 소자(6)의 스캔방향과 디지털 마이크로미러 소자에서의 마이크로미러가 정열되는 행방향은 협각을 이루지 않는 바, 스캔 대기 이미지 영역(20)은 간격이 pw1인 세분 블록으로 구획되고, pw1=d이며, pw2=d×sinθ이기에, pw2는 pw1보다 현저히 작고, 디지털 마이크로미러 소자(6)의 스캔방향과 디지털 마이크로미러 소자에서의 마이크로미러가 정열되는 행방향이 하나의 협각(θ)을 이룰 경우, 스캔 대기 이미지 영역(20)은 더욱 세분화되게 구획되어, 데이터 해상도가 높아지고, 패턴 리프레시 비율이 높아지며, 노광으로 생성된 패턴이 우수하다.
따라서, 본 실시예의 구체적인 상황은 하기와 같은 것으로, 도 1과 도 2를 참조하면, 스크린 인쇄의 제판 공정을 위한 다이렉트라이트 스크린 제판기기에 있어서, 본체(1), 운동 시스템(2), 광원 컨트롤러(3), 광원(4), 데이터 처리모듈(5), 디지털 마이크로미러 소자(6), Z 축 컨트롤러(7), 광학 렌즈(8), 신호 스플리터(9), 변위 센서(10), Z 축 기구(11)와 미동기구(12)를 포함하고;
상기의 운동 시스템(2)은 점진식 플랫폼(2-1), 스캔 플랫폼(2-2) 및 플랫폼 구동기(2-3)로 구성되되; 여기서 플랫폼 구동기(2-3)는 본체(1)와 연결되어, 점진식 플랫폼(2-1)과 스캔 플랫폼(2-2)이 움직이도록 구동하기 위한 것이고;
상기의 광원 컨트롤러(3)는 본체(1)와 연결되어 광원(4)의 온오프 상태 및 광의 세기를 제어하고, 광원(4)은 디지털 마이크로미러 소자(6)가 제공하는 연속으로 출력되는 광에너지로서, 디지털 마이크로미러 소자(6)가 출력한 광은 광학 렌즈(8)를 통과한 후 균일한 면광으로 변하고;
상기의 데이터 처리모듈(5)은 본체(1)와 연결되어 본체(1)의 제어하에 디지털 마이크로미러 소자(6)가 이미지 생성과 투사를 완성하도록 구동하고;
상기의 광학 렌즈(8)는 Z 축 기구(11)와 미동기구(12)에 의해 공동으로 수직방향의 상하동작을 진행하고, Z 축 기구(11)는 저주파수 조절작용을 일으키고, 미동기구(12)는 고주파수 조절작용을 일으키며;
상기의 Z 축 컨트롤러(7)는 본체(1)와 연결되어, Z 축 기구(11)가 전송한 Z 축 리딩수, 변위 센서(10)가 전송한 측정 데이터 및 신호 스플리터(9)가 전송한 위치 데이터를 종합적으로 처리하기 위한 것이고; 상기의 Z 축 컨트롤러(7)는 Z 축 기구(11)와 미동기구(12) 동작을 제어하기도 하여, 광학 렌즈(8)와 노광 대기 전개판 사이의 거리를 조절하기 위한 것이며; 광학 렌즈(8)는 Z 축 컨트롤러(7)의 간접적인 제어하에서 높이 거리를 조절하여 디지털 마이크로미러 소자(6)가 투사한 이미지를 뚜렷하게 집속한 후 전개판 표면에 투사하여 노광시키고;
상기의 신호 스플리터(9)는 스캔 플랫폼(2-2)과 연결되고, 스캔 플랫폼(2-2)의 위치신호를 동기화적으로 데이터 처리모듈(5)과 Z 축 컨트롤러(7)에 전송하며;
상기의 변위 센서(10)와 광학 렌즈(8)는 병렬적으로 장착되고, 변위 센서(10)는 광학 렌즈(8)와 노광 대기 전개판 사이의 실제거리를 측정하여 Z 축 컨트롤러(7)에 측정결과를 전송하기 위한 것이고;
상기의 점진식 플랫폼(2-1)은 노광 대기 전개판을 적재하여 전개판이 움직이도록 하기 위한 것이고; 상기의 스캔 플랫폼(2-2)은 Z 축 기구(11), 미동기구(12), 디지털 마이크로미러 소자(6), 광학 렌즈(8)와 변위 센서(10)를 적재하여, 이들이 움직이도록 하기 위한 것이다.
디지털 마이크로미러 소자(6)가 감광재료에 대해 스캔 노광할 때, 이의 스캔방향과 디지털 마이크로미러 소자(6)에서의 마이크로미러 어레이의 열방향이 이루는 협각θ=3.8141°이고, 디지털 마이크로미러 소자(6)의 인접하는 두개의 마이크로미러 사이의 중심간격은 d이며; 이때 스캔방향에서의 스캔 대기 영역(20)이 마이크로미러 유닛에 의해 세분화된 스캔 스트립의 간격은 PW2이고, PW2=d×sinθ= 0.06652d이다. 선행기술에 비해, 마이크로미러 유닛에 의해 세분화된 스캔 스트립은 밀집도가 약 15배로 향상되고; 단일한 스캔 스트립의 매 하나의 점에 있어서, 디지털 마이크로미러 소자(6)는 이에 대해 스캔하되, 15 행의 마이크로미러 유닛을 지날 때마다, 이 점은 마이크로미러에 의해 반복적으로 커버링된다.
이밖에, 본 실시예에서, 도 5를 참조하면, 디지털 마이크로미러 소자(6)는 두개로 분류되어 사용되는 바, 디지털 마이크로미러 소자(6)의 절반 행수 영역을 관심영역(21)으로 구획하되, 이러한 설정은, 디지털 마이크로미러 소자(6)(DMD)의 중복 이용률을 향상할 수 있고, 본 실시예에서 DMD는 두개로 분류되는 바, DMD의 중복 이용률은 배로 증가되어, 후기 유지보수시 투입되는 하드웨어 원가를 줄일 수 있고, DMD의 리프레시 비율도 증가시키는 동시에, 데이터 통신과정에서의 데이터양을 줄이기도 하였다.
실시예 3:
경사형 레이저 다이렉트라이트 기술은, 인쇄 분야에서 사용되는 TIF 이미지를 직접 사용할 수 없고, 선행기술에서는 포맷 이미지를 확대처리하는 바, 이 과정의 산출양과 데이터양은 어마어마하다. 선행기술에 비해, 본 실시예는 처리과정에서의 산출양과 데이터양이 적고, 얻어진 도형 해상도가 높으며, 기기가 저부하 작동하는데 유리한 동시에, 디지털 마이크로미러 소자(DMD)의 패턴 리프레시 비율을 향상시킬 수 있다.
본 실시예는 TIF 이미지를 벡터 이미지로 전환하는 것으로, 구체적인 실시과정은 하기의 단계를 사용하였다.
도 1을 참조하면, 다이렉트라이트 스크린 제판기기에 사용되는 TIF 이미지 처리방법은, 하기의 몇가지 단계로 분류되는 바:
단계(a), 우선 본체(1)에 이미지 처리 소프트웨어를 설치하고;
단계(b), 단계(a)에 따른 이미지 처리 소프트웨어에 처리대기 TIF 이미지의 경로, 이미지 처리 파라미터를 설정하며;
단계(c), 이미지 처리 소프트웨어가 TIF 이미지를 판독하고;
단계(d), 이미지 처리 소프트웨어가 TIF 이미지의 해상도를 식별하며;
단계(e), 이미지 처리 소프트웨어가 TIF 이미지 중의 패턴의 윤곽을 식별하고;
단계(f), 이미지 처리 소프트웨어가 단계(e)에서 식별된 패턴윤곽을 벡터로 표현되는 다변형으로 변환하되, 상기의 다변형은 다수의 벡터로 표현되는 선분의 시작과 끝부분을 서로 연결하여 감싸도록 이루어진 영역이고;
단계(g), 이미지 처리 소프트웨어가 이미지 처리 파라미터에 의하여, 단계(f)에서 발생되는 다변형에 대해 광학근접 효과에 따른 계산기하학적 처리를 진행하는 바, 처리된 다변형은 노광될 때 광학근접 효과에 의해 생긴 패턴 편차를 수정하고;
단계(h), 이미지 처리 소프트웨어가 이미지 처리 파라미터에 의하여, 단계(g)에서 얻어진 도형에 대해 스케일링 변환하고 도형을 스케일링 처리하여, 새로운 벡터 이미지를 얻어, 생산 수요를 충족시키도록 하고;
단계(i), 이미지 처리 소프트웨어가 단계(h)에서 발생되는 도형을 본체(1)의 메모리에 저장하여 사용한다.
실시예 4:
선행기술에 있어서, 출력되는 광의 스캔과정에서, 궤적마다 모두 에너지가 불균일하여, 디지털 마이크로미러 소자(6)에서의 에너지 출력 분포가 불균일한 문제를 일으킨다. 본 실시예에 사용되는 온라인 광학 보상기술은 상기 결점을 극복하였다. 본 실시예의 구체적인 실시 과정은 하기와 같은 바:
단계(a), 광의 세기 분포 교정: 디지털 마이크로미러 소자(6)의 저부에 광의 세기 검출기기를 넣고, 디지털 마이크로미러 소자를 전반적으로 개방하고, 광의 세기 검출기기는 광학에너지 분포를 포획하여, 광의 세기 검출기기에 의해 포획되는 광학에너지 분포 데이터에 의하여 에너지 보상 파라미터를 생성하고;
단계(b), 단계(a)에서 얻어진 보상 파라미터를 데이터 처리모듈(5)에 피드백하며;
단계(c), 데이터 처리모듈(5)이 이미지 프레임 데이터를 생성할 때, 이 보상 파라미터를 이용하여, 에너지가 가장 낮은 영역을 기준으로 하여, 디지털 마이크로미러 소자(6)에서의 에너지가 너무 높은 영역의 마이크로 미러의 개방 횟수를 감소하여, 에너지를 균형화하는 목적을 달성한다.
실시예 5:
기존의 레이저 다이렉트라이트 기기에서, 일반적으로 노광점 옆의 변위 센서를 이용하여 노광점 위치에서의 광학 렌즈와 전개판의 거리를 측정하는 바, 비록 노광점 위치가 변위 센서와 근접할 지라도, 이들은 아주 작은 거리로 이격되지만, 이들 양자는 실제상 동일한 위치에 있지 않고; 따라서, 변위 센서로 측정된 거리 또한 광학 렌즈와 전개판의 실제거리가 아니고, 이들은 대부분 상황에서 매우 근접하다.
도 1, 도 2와 도 3을 참조하면, 다이렉트라이트 스크린 제판기기가 작업과정에서의 초점면 제어과정은, 하기 단계를 포함하고:
(a)노광이 시작되기 전에, 본체(1)는 플랫폼 구동기(2-3)를 제어하여, 변위 센서(10)를 제 1 스캔 스트립(13)의 시작점에 이동한 후, 스캔동작을 1회 완성하고, 도 3(a)을 참조하면, 광학 렌즈(8)가 변위 센서(10)에 접근한 후, 제 1 스캔 스트립(13)을 커버링 하지 않고; 변위 센서(10)가 제 1 스캔 스트립(13)을 커버링하고, 제 1 스캔 스트립(13)의 서로 다른 위치의 높이 데이터를 측정하고; 스캔 동작과정에서, Z 축 컨트롤러(7)는 변위 센서(10)의 측정 데이터 및 Z 축 기구(11) Z축의 판독수를 동기화적으로 판독하고, 판독된 데이터에 의하여 각 스캔위치에서의 광학 렌즈(8)가 있어야 할 초점면 위치를 산출하고; 이어서, Z 축 컨트롤러(7)는 산출된 초점면 위치와 신호 스플리터(9)가 동기화적으로 전송한 스캔 플랫폼(2-2)의 위치신호를 병합하여, 일일이 대응되는 매핑관계를 구축하고;
(b)점진식 플랫폼(2-1)은 전개판이 앞으로 한걸음 전진하도록 한 후, 스캔 플랫폼(2-2)은 단계(a)의 엔드 위치로부터 플라이백되고; 플라이백 과정에서, Z 축 컨트롤러(7)는 단계(a)에서 구축된 매핑 데이터에 의하여 Z 축 기구(11)와 미동기구(12)를 구동하여 광학 렌즈(8)의 위치를 조절하여, 초점면을 정정하며; 도 3(b)를 참조하면, 플라이백되는 동시에, 변위 센서(10)는 제 2 스캔 스트립(14)을 측정하는 실제 높이 위치 데이터를 커버링하고, Z 축 컨트롤러(7)는 제 2 스캔 스트립(14)의 초점면 위치와 스캔 플랫폼 위치신호 사이의 매핑관계를 동시에 구축하며;
(c)점진식 플랫폼(2-1)은 전개판을 한걸음 더 전진시킨 후, 스캔 플랫폼(2-2)은 단계(b)의 종점으로부터 다시 플라이백되고; 플라이백 과정에서, Z 축 컨트롤러(7)는 단계(b)에서 구축된 매핑 데이터에 의하여 Z 축 기구(11)와 미동기구(12)를 구동하여 광학 렌즈(8)의 위치를 조절하도록 하여, 초점면을 정정하고; 플라이백되는 동시에, 도 3(c)를 참조하면, 변위 센서(10)는 제 3 스캔 스트립(15) 실제 높이 위치 데이터를 측정하고, Z 축 컨트롤러(7)는 제 3 스캔 스트립(15)의 초점면 위치와 스캔 플랫폼 위치신호 사이의 매평관계를 동시에 구축하며;
(d)상기 단계(b)와 단계(c)를 반복하되, 스캔이 완료될 때까지 반복한다.
본 실시예는 하나의 Z 축 컨트롤러(7)를 이용하여 다음 스캔할 스캔 스트립의 초점면 위치와 스캔 플랫폼 위치신호 사이의 매핑관계를 사전에 구축하고, 다음 스캔시, 이러한 매핑관계에 의하여 광학 렌즈(8) 위치를 조절하여, 변위 센서(10)와 광학 렌즈(8) 사이의 장착위치가 편이되어 측정되는 초점면과 실제 초점면이 일치하지 않는 문제를 일으키는 것을 방지한다.
실시예 6:
다이렉트라이트 스크린 제판기기의 노광과정은, 도 1, 도 2와 도 6을 참조하면, 하기 단계로 분류되는 바:
(a) 전개판 준비단계: 본체(1)가 플랫폼 구동기(2-3)에 명령을 보내면, 플랫폼 구동기(2-3)는 점진식 플랫폼(2-1)이 상판 위치에 이동하도록 구동하고, 전개판(18)을 점진식 플랫폼(2-1)에 방치한 후, 점진식 플랫폼(2-1)에 설치된 전개판 고정장치에 의해 전개판(18)을 고정하며; 고정과정에서, 고정장치 상에 위치하는 물체 탐지 센서(16)와 길이 측정 레일(17)은 측정결과를 본체(1)에 전송하고;
(b) 도형전송단계: 본체(1)가 제판 이미지를 데이터 처리모듈(5)에 발송하는 동시에, 데이터 처리모듈(5)에 디지털 마이크로미러 소자(6)를 오프하는 명령을 발송하고; 단계(a)에서 물체 탐지 센서(16)와 길이 측정 레일(17)이 전송한 데이터가 정확하지 않으면, 본체(1)는 전개판(18)의 방치가 비정상임을 경고하고, 정상일 경우 아래 단계를 진행하며;
(c) 노광준비단계: 본체(1)가 초기 노광점 위치를 산출한 후, 플랫폼 구동기(2-3)를 제어하여 점진식 플랫폼(2-1)과 스캔 플랫폼(2-2)이 초기 노광점 위치에 이동하도록 구동하고;
(d) 주동집속단계: 본체(1)가 Z 축 컨트롤러(7)를 트리거하고, Z 축 컨트롤러(7)는 Z 축 기구(11)와 미동기구(12)를 제어하여 광학 렌즈(8)가 주동집속하도록 하고, 카메라의 초점면을 잠금하며;
(e) 제판 이미지 러너블 신호 및 도형 생성 단계: 데이터 처리모듈(5)이 제판 이미지를 수신하고 준비완료 후, 러너블 신호로 리턴한 후, 데이터 처리모듈(5)은 단계(b)에서 수신되는 제판 이미지에 의하여, 지속적으로 디지털 마이크로미러 소자(6)의 너비 크기에 따라 스트립형의 도형 데이터를 생성하고;
(f) 광원오픈단계: 광원 컨트롤러(3)는 본체(1)가 보낸 명령을 수신하여, 광원(4)을 오픈하고;
(g) 프레임 패턴 생성단계: 데이터 처리모듈(5)는 단계(e)에서 생성된 스트립형의 도형 데이터에 의하여, 스캔방향의 위치 파라미터, 디지털 마이크로미러 소자(6)의 마이크로미러 어레이의 투여사용 영역을 결합하여, 서로 다른 위치의 프레임 패턴을 생성하고;
(h) 정방향의 스캔단계: 스캔 플랫폼(2-2)은 정방향으로 스캔되는 완료위치까지 균일한 속도로 정방향 이동하되, 이동과정에서, 스캔 플랫폼(2-2)은 신호 스플리터(9)를 통하여 데이터 처리모듈(5)에 지속적으로 위치신호를 피드백하고, 데이터 처리모듈(5)은 수신된 위치신호를 수정하여 정확한 위치신호를 얻어, 정확한 위치신호에 의하여 디지털 마이크로미러 소자(6)가 지정된 위치에서 프레임 패턴을 투사하도록 제어하되, 정방향 스트립 도형이 처리 완료될 때까지 제어하여, 정방향 노광을 완성하고;
(i) 노광 스트립 교체단계: 정방향으로 스캔이 완성된 후, 점진식 플랫폼(2-1)이 노광대기 영역으로 하나의 스캔 너비만큼의 거리를 이동하여, 역방향 스캔 스트립에 진입하고;
(j) 역방향 스캔단계: 스캔 플랫폼(2-2)은 역방향으로 스캔되는 엔드위치에 균일한 속도로 역방향 이동하되, 이동과정에서, 스캔 플랫폼(2-2)은 지속적으로 데이터 처리모듈(5)에 위치신호를 피드백하고, 데이터 처리모듈(5)은 수신된 위치신호를 수정하여 정확한 신호를 얻어, 정확한 신호에 의하여 디지털 마이크로미러 소자(6)가 지정된 위치에서 프레임 패턴을 투사하도록 제어하되, 역방향 스트립 도형이 다 처리될 때까지 제어하여, 역방향 노광을 완성하고; 역방향 과정은 정방향 처리과정과 동일하되, 다만 스캔 플랫폼(2-2)의 스캔 구동방향과 반대되며;
(k) 단계(j)의 역방향 스캔이 완료된 후, 다시 정방향 스캔과정에 진입하고; 이렇게 반복하되, 모든 스트립 도형이 모두 처리될 때까지 반복하면, 모든 노광과정이 완료된다.
이상, 구체적인 실시예는 본 발명의 기술방안에 대하여 상세하게 설명하였는 바, 상기 실시예는 본 발명의 핵심사상에 대한 이해를 도모하기 위한 것일 뿐, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 있어서, 본 발명의 사상에 따라, 발명의 실시를 위한 구체적인 형태 및 적용범위에서 모두 개변의 소지가 있다. 따라서, 본 명세서의 실시방식과 실시예에 기반하여, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자가 노동 창출이 없는 전제하에서 얻어낸 모든 기타 실시예는 전부 본 발명의 보호 범위에 속할 것이다. 종합해보면, 본 명세서 내용은 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니다.

Claims (9)

  1. 본체(1)가 플랫폼 구동기(2-3)에 명령을 보내면, 플랫폼 구동기(2-3)는 점진식 플랫폼(2-1)이 상판 위치에 이동하도록 구동하고, 전개판을 점진식 플랫폼(2-1)에 방치한 후, 점진식 플랫폼(2-1)에 설치된 전개판 고정장치에 의해 전개판을 고정하며; 고정과정에서, 고정장치 상에 위치하는 물체 탐지 센서(16)와 길이 측정 레일(17)은 측정결과를 본체(1)에 전송하는 (a) 전개판 준비단계;
    본체(1)가 제판 이미지를 데이터 처리모듈(5)에 발송하는 동시에, 데이터 처리모듈(5)에 디지털 마이크로미러 소자(6)를 오프하는 명령을 발송하고; 단계(a)에서 물체 탐지 센서(16)와 길이 측정 레일(17)이 전송한 데이터가 정확하지 않으면, 본체(1)는 전개판이 비정상임을 경고하고, 정상일 경우 아래 단계를 진행하는(b) 도형전송단계 ;
    본체(1)가 초기 노광점 위치를 산출한 후, 플랫폼 구동기(2-3)를 제어하여 점진식 플랫폼(2-1)과 스캔 플랫폼(2-2)이 초기 노광점 위치에 이동하도록 구동하는 (c) 노광준비단계;
    본체(1)가 Z 축 컨트롤러(7)를 트리거하고, Z 축 컨트롤러(7)는 Z 축 기구(11)와 미동기구(12)를 제어하여 광학 렌즈(8)가 주동집속하도록 하고, 카메라의 초점면을 잠금하는 (d) 주동집속단계;
    데이터 처리모듈(5)이 제판 이미지를 수신하고 준비완료 후, 러너블 신호로 리턴 한 후, 데이터 처리모듈(5)은 단계(b)에서 수신되는 제판 TIF 이미지에 의하여, 지속적으로 디지털 마이크로미러 소자(6)의 너비 크기에 따라 스트립형의 도형 데이터를 생성하는 (e) 제판 TIF 이미지 러너블 신호 및 도형 생성 단계;
    광원 컨트롤러(3)는 본체(1)가 보낸 명령을 수신하여, 광원(4)을 오픈하는 (f) 광원오픈단계 ;
    데이터 처리모듈(5)는 단계(e)에서 생성된 스트립형의 도형 데이터에 의하여, 스캔방향의 위치 파라미터, 디지털 마이크로미러 소자(6)의 마이크로미러 어레이의 투여사용 영역을 결합하여, 서로 다른 위치의 프레임 패턴을 생성하는 (g) 프레임 패턴 생성단계;
    스캔 플랫폼(2-2)은 정방향으로 스캔되는 완료위치까지 균일한 속도로 정방향 이동하되, 이동과정에서, 스캔 플랫폼(2-2)은 신호 스플리터(9)를 통하여 데이터 처리모듈(5)에 지속적으로 위치신호를 피드백하고, 데이터 처리모듈(5)은 수신된 위치신호를 수정하여 정확한 위치신호를 얻어, 정확한 위치신호에 의하여 디지털 마이크로미러 소자(6)가 지정된 위치에서 프레임 패턴을 투사하도록 제어하되, 정방향 스트립 도형이 처리될 때까지 제어하여, 정방향 노광을 완성하는 (h) 정방향의 스캔단계;
    정방향으로 스캔이 완성된 후, 점진식 플랫폼(2-1)이 노광대기 영역으로 하나의 스캔 너비만큼의 거리를 이동하여, 역방향 스캔 스트립에 진입하는 (i) 노광 스트립 교체단계;
    스캔 플랫폼(2-2)은 역방향으로 스캔되는 엔드위치에 균일한 속도로 역방향 이동하되, 이동과정에서, 스캔 플랫폼(2-2)은 지속적으로 데이터 처리모듈(5)에 위치신호를 피드백하고, 데이터 처리모듈(5)은 수신된 위치신호를 수정하여 정확한 신호를 얻어, 정확한 신호에 의하여 디지털 마이크로미러 소자(6)가 지정된 위치에서 프레임 패턴을 투사하도록 제어하되, 역방향 스트립 도형이 처리완료될 때까지 제어하여, 역방향 노광을 완성하고; 역방향 과정은 정방향 처리과정과 동일하되, 다만 스캔 플랫폼(2-2)의 스캔 구동방향과 반대되는 (j) 역방향 스캔단계;
    단계(j)의 역방향 스캔이 완료된 후, 다시 정방향 스캔과정에 진입하고; 이렇게 반복하되, 모든 스트립 도형이 모두 처리될 때까지 반복하면, 모든 노광과정이 완료되는 (k) 단계; 를 포함하고,
    상기 (d) 주동집속단계에서 카메라의 초점면을 잠금하기 전에 초점면을 제어하는 방법을 더 포함하고,
    상기 초점면을 제어하는 방법은
    노광이 시작되기 전에, 본체(1)는 플랫폼 구동기(2-3)를 제어하여, 변위 센서(10)를 첫번째 스캔 스트립의 시작점에 이동한 후, 스캔동작을 1회 완성하고, 광학 렌즈(8)가 변위 센서(10)에 접근한 후, 제 1 스캔 스트립을 커버링 하지 않고; 변위 센서(10)가 제 1 스캔 스트립을 커버링하는 동시에 제 1 스캔 스트립의 서로 다른 위치의 높이 데이터를 측정하고; 스캔 동작과정에서, Z 축 컨트롤러(7)는 변위 센서(10)의 측정 데이터 및 Z 축 기구(11) Z축의 판독수를 동기화적으로 판독하고, 판독된 데이터에 의하여 각 스캔위치에서의 광학 렌즈(8)가 있어야 할 초점면 위치를 산출하고; 이어서, Z 축 컨트롤러(7)는 산출된 초점면 위치와 신호 스플리터(9)가 동기화적으로 전송한 스캔 플랫폼(2-2)의 위치신호를 병합하여, 일일이 대응되는 매핑관계를 구축하는 (1)단계;
    점진식 플랫폼(2-1)은 전개판이 앞으로 한걸음 전진하도록 한 후, 스캔 플랫폼(2-2)은 단계(1)의 엔드 위치로부터 플라이백되고; 플라이백 과정에서, Z 축 컨트롤러(7)는 단계(1)에서 구축된 매핑 데이터에 의하여 Z 축 기구(11)와 미동기구(12)를 구동하여 광학렌즈(8)의 위치를 조절하여, 초점면을 정정하고; 플라이백되는 동시에, 변위 센서(10)는 제 2 스캔 스트립을 측정하는 높이 위치 데이터를 커버링하고, Z 축 컨트롤러(7)는 제 2 스캔 스트립의 초점면 위치와 스캔 플랫폼 위치신호 사이의 매핑관계를 동시에 구축하는 (2)단계;
    점진식 플랫폼(2-1)은 전개판을 한걸음 더 전진시킨 후, 스캔 플랫폼(2-2)은 단계(2)의 종점으로부터 다시 플라이백되고; 플라이백 과정에서, Z 축 컨트롤러(7)는 단계(2)에서 구축된 매핑 데이터에 의하여 Z 축 기구(11)와 미동기구(12)를 구동하여 광학 렌즈(8)의 위치를 조절하도록 하여, 초점면을 정정하고; 플라이백되는 동시에, 변위 센서(10)는 제 3 스캔 스트립의 실제 높이 데이터를 측정하고, Z 축 컨트롤러(7)는 제 3 스캔 스트립의 초점면 위치와 스캔 플랫폼 위치신호 사이의 매평관계를 동시에 구축하는 (3)단계; 및
    상기 단계(2)와 단계(3)를 반복하되, 중복할 때마다, 스캔이 완료될 때까지 점진식 플랫폼(2-1)이 전개판을 한걸음 전진시키는 (4)단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 다이렉트라이트 스크린 제판기기의 노광방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기의 디지털 마이크로미러 소자의 반사면은 스캔대기 노광면과 평행되고, 상기의 스캔 플랫폼에서의 스캔축 스캔방향과 디지털 마이크로미러 소자에서의 마이크로미러 어레이의 열방향은 일정한 협각을 이루되, 이러한 협각의 각도값 범위는 이하 9가지 각도값 영역:
    각도범위 1: 7.1150°～ 7.1350°;
    각도범위 2: 6.3302°～ 6.3502°;
    각도범위 3: 5.7006°～ 5.7206°;
    각도범위 4: 5.1844°～ 5.2044°;
    각도범위 5: 4.7536°～ 4.7736°;
    각도범위 6: 4.3887°～ 4.4087°;
    각도범위 7: 4.0756°～ 4.0956°;
    각도범위 8: 3.8041°～ 3.8241°;
    각도범위 9: 3.5663°～ 3.5863°;
    으로 한정되고,
    상기 (e) 제판 TIF 이미지 러너블 신호 및 도형 생성 단계후에, 상기 제판 TIF 이미지 처리방법을 더 포함하고, 상기 제판 TIF 이미지 처리 방법은,
    우선 본체(1)에 이미지 처리 소프트웨어를 설치하는 단계(11);
    단계(11)에 따른 이미지 처리 소프트웨어에 처리대기 제판 TIF 이미지의 경로, 이미지 처리 파라미터를 설정하는 단계(12);
    이미지 처리 소프트웨어가 제판 TIF 이미지를 판독하는 단계(13);
    이미지 처리 소프트웨어가 제판 TIF 이미지의 해상도를 식별하는 단계(14);
    이미지 처리 소프트웨어가 제판 TIF 이미지 중의 패턴의 윤곽을 식별하는 단계(15);
    이미지 처리 소프트웨어가 단계(15)에서 식별된 패턴윤곽을 벡터로 표현되는 다변형으로 변환하되, 상기의 다변형은 다수의 벡터로 표현되는 선분(線段)의 시작과 끝부분을 서로 연결하여 감싸도록 이루어진 영역인 단계(16);
    이미지 처리 소프트웨어가 이미지 처리 파라미터에 의하여, 단계(16)에서 발생되는 다변형에 대해 광학근접 효과에 따른 계산기하학적 처리를 진행하는 바, 처리된 다변형은 노광될 때 광학근접 효과에 의해 생긴 패턴 편차를 수정하는 단계(17);
    이미지 처리 소프트웨어가 이미지 처리 파라미터에 의하여, 단계(17)에서 얻어진 도형에 대해 스케일링 변환하고 도형을 스케일링 처리하여, 새로운 벡터 이미지를 얻어, 생산 수요를 충족시키도록 하는 단계(18);
    이미지 처리 소프트웨어가 단계(18)에서 발생되는 도형을 본체(1)의 메모리에 저장하여 사용하는 단계(19); 로 나누는 것을 특징으로 하는 다이렉트라이트 스크린 제판기기의 노광 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 (f) 광원오픈단계후에 온라인 광학 보상 방법을 더 포함하고,
    상기 온라인 광학 보상 방법은
    광의 세기 분포 교정: 디지털 마이크로미러 소자(6)의 저부에 광의 세기 검출기기를 넣고, 디지털 마이크로미러 소자를 전반적으로 개방하고, 광의 세기 검출기기는 광학에너지 분포를 포획하여, 광의 세기 검출기기에 의해 포획되는 광학에너지 분포 데이터에 의하여 에너지 보상 파라미터를 생성하는 단계(21);
    단계(21)에서 얻어진 보상 파라미터를 데이터 처리모듈(5)에 피드백하는 단계(22); 및
    데이터 처리모듈(5)이 이미지 프레임 데이터를 생성할 때, 이의 보상 파라미터를 이용하여, 에너지가 가장 낮은 영역을 기준으로 하여, 디지털 마이크로미러 소자(6)에서의 에너지가 너무 높은 영역의 마이크로 미러의 개방 횟수를 감소하여, 에너지를 균형화하는 목적을 달성하는 단계(23); 를 포함하는 것을 특징으로 하는 다이렉트라이트 스크린 제판기기의 노광방법.

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107561876A (zh) * 2017-10-19 2018-01-09 苏州源卓光电科技有限公司 一种新型无掩膜光刻系统及其工艺流程
CN107664927A (zh) * 2017-11-28 2018-02-06 苏州源卓光电科技有限公司 一种基于无掩膜光刻系统的新型运动平台架构及工作流程
CN112130418A (zh) * 2019-06-25 2020-12-25 无锡星微科技有限公司 一种用于光栅尺刻写的大尺寸激光直写运动台
CN111552151B (zh) * 2020-04-03 2022-06-14 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 双向扫描的拼接错位补偿方法和无掩膜光刻设备
CN112230512B (zh) * 2020-09-18 2024-01-09 江苏迪盛智能科技有限公司 一种网版曝光高度调节装置、曝光机及调节方法
WO2022148037A1 (zh) * 2021-01-07 2022-07-14 江苏迪盛智能科技有限公司 光刻系统的扫描方法和光刻系统
CN114734717B (zh) * 2022-04-06 2023-07-14 深圳市先地图像科技有限公司 一种tiff图像曝光方法
WO2023205093A1 (en) * 2022-04-19 2023-10-26 Applied Materials, Inc. Digital lithography apparatus with autofocus position control and methods of use thereof
CN114932738B (zh) * 2022-05-31 2022-12-27 广东微容电子科技有限公司 一种高精度丝网的制作方法
CN115047005B (zh) * 2022-08-15 2022-12-16 山东志盈医学科技有限公司 一种高通量数字切片扫描装置及方法
CN116690307B (zh) 2023-04-10 2023-12-05 大连理工大学 一种全闭环五轴数控机床的在机实时测量方法及系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002277706A (ja) 2001-03-22 2002-09-25 Asahi Optical Co Ltd レンズ鏡筒
WO2008119517A2 (en) 2007-03-30 2008-10-09 Innolas Systems Gmbh Device for correcting a laser beam deflector
CN102368138A (zh) 2011-10-19 2012-03-07 广东工业大学 一种大面积tft光刻装置及其光刻方法
CN104865800A (zh) * 2015-05-27 2015-08-26 中山新诺科技股份有限公司 无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法和数字激光直写系统

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1082762C (zh) * 1997-08-21 2002-04-10 力捷电脑股份有限公司 成像系统中重新形成具有高对比的图像的方法和装置
JP2001082925A (ja) * 1999-09-14 2001-03-30 Sony Corp 紫外光の焦点位置制御機構及び方法、並びに、検査装置及び方法
JP2004191660A (ja) * 2002-12-11 2004-07-08 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2004355315A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Canon Inc 画像処理方法
JP2005266779A (ja) * 2004-02-18 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置及び方法
JP4238753B2 (ja) * 2004-03-16 2009-03-18 富士ゼロックス株式会社 画像形成支援装置、画像形成支援方法、及び画像形成支援システム
JP2005266216A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2006047363A (ja) * 2004-07-30 2006-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置および画像記録方法
US7403265B2 (en) * 2005-03-30 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering
EP1732071A1 (en) * 2005-06-09 2006-12-13 Sony Corporation Lens positioning method, cutting method, positioning method and cutting apparatus
CN100468205C (zh) * 2005-11-17 2009-03-11 苏州大学 一种消色差光变图像的制作方法
DE102006008080A1 (de) * 2006-02-22 2007-08-30 Kleo Maschinenbau Ag Belichtungsanlage
JP5180446B2 (ja) * 2006-07-20 2013-04-10 株式会社ナノシステムソリューションズ 露光装置及び露光方法
DK1892576T3 (da) * 2006-08-25 2013-09-16 Luescher Technologies Ag Eksponeringsindretning til at fremstille serigrafiskabeloner
TW200826686A (en) * 2006-12-11 2008-06-16 Univ Nat Kaohsiung Applied Sci Method of authentication and restoration for images
JP4846635B2 (ja) * 2007-03-22 2011-12-28 株式会社東芝 パターン情報生成方法
US8363209B2 (en) * 2007-07-10 2013-01-29 Lg Electronics Inc. Method and apparatus to adjust misalignment of the maskless exposure apparatus
CN101499177A (zh) * 2008-01-28 2009-08-05 上海西门子医疗器械有限公司 一种三维模型的建立方法和系统
GB0802944D0 (en) * 2008-02-19 2008-03-26 Rumsby Philip T Apparatus for laser processing the opposite sides of thin panels
CN101480880B (zh) * 2008-11-25 2011-09-28 深圳市大族激光科技股份有限公司 成像装置以及曝光影像偏差的校正方法
JP2011049409A (ja) * 2009-08-28 2011-03-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd パターン描画装置およびパターン描画方法
JP5813961B2 (ja) * 2011-02-10 2015-11-17 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 描画装置、光学ユニット及び描画装置の調整方法
CN102768477A (zh) * 2011-05-05 2012-11-07 上海微电子装备有限公司 一种调焦调平检测装置
CN102841507B (zh) * 2011-06-23 2014-06-25 虎尾科技大学 激光直写式纳米周期性结构图案制造设备
CN102963143A (zh) * 2011-08-28 2013-03-13 瑞世达科技(厦门)有限公司 步进网版印刷方法及其印刷装置
CN103246169B (zh) * 2012-02-03 2015-04-15 上海微电子装备有限公司 一种焦面变化测量装置与方法
CN102566325B (zh) * 2012-03-21 2013-07-24 苏州大学 光学加工系统和方法
US10149390B2 (en) * 2012-08-27 2018-12-04 Mycronic AB Maskless writing of a workpiece using a plurality of exposures having different focal planes using multiple DMDs
US8739076B2 (en) * 2012-09-11 2014-05-27 Synopsys, Inc. Method and apparatus for process window modeling
CN103149801B (zh) * 2013-03-16 2014-09-03 陈乃奇 平面丝网印刷网版用激光直接制版装置及方法
JP6117593B2 (ja) * 2013-03-29 2017-04-19 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 描画装置および描画方法
CN103744271B (zh) * 2014-01-28 2015-10-28 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 一种激光直写系统与光刻方法
CN204790309U (zh) * 2015-05-27 2015-11-18 中山新诺科技股份有限公司 用于大面积印刷网版制作的数字激光直写设备
CN105487349A (zh) * 2016-01-22 2016-04-13 江苏影速光电技术有限公司 一种dmd投影光路激光直写垂直双面曝光系统

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002277706A (ja) 2001-03-22 2002-09-25 Asahi Optical Co Ltd レンズ鏡筒
WO2008119517A2 (en) 2007-03-30 2008-10-09 Innolas Systems Gmbh Device for correcting a laser beam deflector
CN102368138A (zh) 2011-10-19 2012-03-07 广东工业大学 一种大面积tft光刻装置及其光刻方法
CN104865800A (zh) * 2015-05-27 2015-08-26 中山新诺科技股份有限公司 无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法和数字激光直写系统

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