KR102179182B1 - 액정패널의 제조장치 및 액정패널의 제조방법 - Google Patents

액정패널의 제조장치 및 액정패널의 제조방법 Download PDF

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Abstract

피처리 패널의 생산성을 향상시킬 수 있는 액정패널의 제조장치 및 액정패널의 제조방법을 제공한다.
실시형태의 액정패널의 제조장치(1)는 광조사부(10), 조사박스(20), 스테이지(30), 챔버(40), 순환형 공조장치(50), 및 보온 챔버(6)를 구비한다. 광조사부(10)는 광을 방출한다.. 조사박스(20)는 광조사부(10)로부터의 광을 투과하는 창재(21)를 갖는다. 스테이지(30)는 창재(21)와 대면하고 또한 피처리 패널(2)이 배치되는 배치면(31)을 구비하고 있다. 스테이지(30)는 배치면(31)을 온도 제어하는 액체를 유통시킨다. 챔버(40)는 조사박스(20)와 스테이지(30)를 덮는다. 순환형 공조장치(50)는 도입구(51)로부터 도입된 기체가 배출구(52)로부터 배출된다. 보온 챔버(60)는 챔버(40)내와 동등한 온도로 유지되고 또한 챔버(40)와의 사이에서 피처리 패널(2)을 이동 가능하다.

Description

액정패널의 제조장치 및 액정패널의 제조방법{METHOD AND APPARATUS FOR FABRICATING LIQUID CRYSTAL PANEL}
본 발명은 액정패널의 제조장치 및 액정패널의 제조방법에 관한 것이다.
액정패널의 제조에 있어서, 광 반응성을 갖는 고분자체를 구비한 피처리 패널에, 자외선 램프 등의 광원을 사용하여 소정 파장의 광을 조사함으로써 고분자체를 화학 반응시켜 배향 기능을 갖게 하는 광배향이라는 공정을 실시하는 방법이 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).
이 자외선 조사시의 액정패널의 온도는 패널면에서 균일한 것이 요망되고 있다. 특히, 액정의 블루층을 고분자로 안정시킨 상태, 즉 고분자 안정화 블루상(Polymer Stabilized Blue Phase: PSBP)를 사용하는 구성에서는 광 조사시의 패널면에서의 온도 불균일 및 온도의 시간경과에 따른 변화가 표시특성의 불균일에 주는 영향이 크므로, 온도 균일화가 강하게 요망되고 있다.
일본 공개특허공보 제2011-215463호
그러나, 특허문헌 1에 개시된 자외선 조사장치에서, 온도의 균일화를 도모하면서도 피처리 패널의 생산성을 향상시키는 것이 요구되고 있다.
본 발명은 피처리 패널의 생산성을 향상시킬 수 있는 액정패널의 제조장치 및 액정패널의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
실시형태의 액정패널의 제조장치는 광조사부; 조사박스; 스테이지; 챔버(chamber); 순환형 공조장치; 및 보온 챔버를 구비한다. 광조사부는 광을 방출한다. 조사 박스는 광조사부로부터의 광을 투과하는 창재를 갖는다. 스테이지는 창재와 대면하도록 설치되고 또한 피처리 패널이 배치되는 배치면을 구비하고 있다. 스테이지는 내부에 배치면의 광이 조사되는 영역을 온도 제어하는 액체를 유통시킨다. 챔버는 조사박스와 스테이지를 덮는다. 순환형 공조장치는 챔버에 설치된 도입구와 배출구를 구비하고, 도입구로부터 도입된 기체가 배출구로부터 배출되어, 챔버 내의 온도를 제어한다. 보온 챔버는, 챔버내와 동등한 온도로 유지되고 또한 챔버와의 사이에서 피처리 패널이 이동 가능하다.
본 발명에 따르면 생산성을 향상시킬 수 있는 액정패널의 제조장치 및 액정패널의 제조방법을 제공할 수 있다.
도 1은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치의 개략 구성을 도시한 단면도이다.
도 2는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치에 의해 광이 조사되는 피처리 패널의 구성을 도시한 단면도이다.
도 3은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치의 창재를 투과하는 광을 설명하는 도면이다.
도 4는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치의 창재의 구성을 도시한 단면도이다.
도 5는 실시형태의 변형예에 관한 액정패널의 제조장치의 개략 구성을 도시한 단면도이다.
도 6은 비교예 및 본 발명품의 피처리 패널의 온도 변화를 도시한 도면이다.
이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 광조사부(10), 조사박스(20), 스테이지(30), 챔버(40), 순환형 공조장치(50), 및 보온 챔버(60)를 구비한다. 광조사부(10)는 광을 방출한다. 조사박스(20)는 광조사부(10)로부터의 광을 투과하는 창재(21)를 갖는다. 스테이지(30)는 창재(21)와 대면하도록 설치되고 또한 피처리 패널(2)이 배치되는 배치면(31)을 구비하고 있다. 스테이지(30)는 내부에 배치면(31)의 광이 조사되는 영역을 온도 제어하는 액체를 유통시킨다. 챔버(40)는 조사 박스(20)와 스테이지(30)를 덮는다. 순환형 공조장치(50)는 챔버(40)에 설치된 도입구(51)와 배출구(52)를 구비하고, 도입구(51)로부터 도입된 기체가 배출구(52)로부터 배출되어 챔버(40)내의 온도를 제어한다. 보온 챔버(60)는 챔버(40)내와 동등한 온도로 유지되고 또한 챔버(40)와의 사이에서 피처리 패널(2)이 이동 가능하다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 상기 창재(21)가, 미리 정해진 파장의 자외선 또는 적외선의 투과를 억제하고, 또는 미리 정해진 파장의 자외선 및 적외선의 쌍방의 투과를 억제하는 기능을 구비한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는, 피처리 패널(2)이 컬러필터기판(3), 대향기판(4), 및 액정층(5)을 구비한다. 대향기판(4)은 컬러필터기판(3)에 대향한다. 액정층(5)은 컬러필터기판(3)과 대향기판(4) 사이에 설치된다. 피처리 패널(2)은 컬러필터기판(3)측이 배치면(31)과 접촉되도록 스테이지(30)에 배치되고, 광조사부(10)는 대향기판(4)측으로부터 피처리 패널(2)에 광을 조사한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 액정층(5)이 적어도 네마틱 액정조성물, 블루상을 발현하는 액정조성물, 및 중합성 모노머를 포함하고 있다. 액정층(5)은 광의 조사에 의해 고분자 안정화 블루상을 발현한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 광조사부(10)가 300㎚~400㎚을 주파장으로 하고, 또한 배치면에서의 365㎚인 파장의 광의 조도가 15mW/㎠ 이하인 광원(11)을 구비한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)는 광이 조사될 때의 피처리 패널(2)에서의 온도가 10℃~70℃ 사이의 설정온도에 대해서 ±0.5℃ 이내가 되도록 스테이지(30) 및 순환형 공조장치(50)가 제어된다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 액정패널의 제조방법은 온도를 제어하기 위해 내부에 일정 온도의 액체를 유통시키는 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치한다. 배치면(31)과 대면하고 또한 광조사부(10)로부터의 광이 조사되는 창재(21)를 갖는 조사 박스(20) 내에 상기 피처리 패널(2)을 수용한다. 스테이지(30), 조사 박스(20)를 덮도록 도입구(51)와 배출구(52)를 설치한 챔버(40)를 배치한다. 스테이지(30)내에 일정 온도의 액체를 유통시키고 또한 일정 온도의 매체를 도입구(51)로부터 챔버 내에 도입하여 배출구(52)로부터 배출 순환시키면서, 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)에 창재(21)를 통하여 광조사부(10)로부터 광을 조사한다. 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치하기 전에, 챔버(40)내와 동등한 온도로 유지된 온도 챔버(60)내에 피처리 패널(2)을 위치 결정한다.
[실시형태]
다음에, 본 발명의 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치(1)를 도면에 기초하여 설명한다. 도 1은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치의 개략적인 구성을 도시한 단면도, 도 2는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치에 의해 광이 조사되는 피처리 패널의 구성을 도시한 단면도, 도 3은 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치의 창재를 투과하는 광을 설명하는 도면, 도 4는 실시형태에 관한 액정패널의 제조장치의 창재의 구성을 도시한 단면도이다.
도 1에 도시된 실시형태의 액정패널의 제조장치(이하, 단순히 제조장치라고 기재함)(1)는 일정한 온도로 유지하면서 피처리 패널(2)에 광을 조사하고, 피처리 패널(2)에 예를 들어 액정디스플레이를 구성하는 고분자 안정화 블루상 등을 발현시키는 것이다. 제조장치(1)에 의해 광이 조사되는 피처리 패널(2)은 도 2에 도시한 바와 같이, 컬러필터기판(3)과, 컬러필터기판(3)에 대향하는 대향기판(4)과, 컬러필터기판(3)과 대향기판(4) 사이에 설치된 액정층(5)을 구비하고 있다.
컬러필터기판(3)은 예를 들어 적색, 녹색, 청색의 광을 투과하는 컬러필터를 기판상에 배치하고 보호막으로 덮은 것이다. 대향기판(4)은 전극이 어레이 형상으로 배치된 기판이다. 액정층(5)은 적어도 네마틱 액정조성물, 블루상을 발현하는 액정조성물, 및 중합성 모노머를 포함하고 있다. 액정층(5)은 제조장치(1)에 의한 광의 조사에 의해 고분자 안정화 블루상을 발현하는 것이다.
액정층(5)을 구성하는 네마틱 액정조성물이라는 것은 유전이방성을 갖는 재료로 구성된다.
블루상을 발현하는 액정조성물이라는 것은 안정적으로 존재할 수 있는 온도범위를 예를 들어 실온, 구체적으로는 0℃ 이상으로 확대하면서도, 광이 조사됨으로써 네마틱 액정조성물보다도 고응답성을 가능하게 하는 재료이다. 블루상을 발현하는 액정조성물이라는 것은 예를 들어 10℃~70℃ 사이의 소정의 설정온도에 대하여 ±0.5℃ 이내로 유지된 상태에서, 광이 조사되면, 불균일없이 고분자 안정화 블루상을 발현하는 것이다. 예를 들어 설정온도가 55℃인 경우에는 블루상을 발현하는 액정조성물이라는 것은 54.5℃~55.5℃의 범위내에 온도가 유지된 상태에서, 광이 조사되면, 불균일없이 고분자 안정화 블루상을 발현하는 것이고, 설정온도가 60℃인 경우에는 블루상을 발현하는 액정조성물이라는 것은 59.5℃~60.5℃의 범위내로 온도가 유지된 상태에서, 광이 조사되면 불균일없이 고분자 안정화 블루상을 발현하는 것이다.
중합성 모노머라는 것은 네마틱 액정조성물이나 고분자 안정화 블루상을 발현하는 액정조성물의 조성을 안정화시키기 위한 재료이다.
제조장치(1)는 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 광을 방출하는 광조사부(10), 조사박스(20), 스테이지(30), 챔버(40), 순환형 공조장치(5), 보온 챔버(60), 및 제어수단(80) 등을 구비하고 있다.
광조사부(10)는 광을 방출하는 것으로, 조사박스(20)내, 구체적으로는 조사박스(20)에 광조사부(10)로부터의 광을 투과하는 창재(21)와 대면하는 스테이지(30)의 배치면(31)상에 배치되는 피처리 패널(2)에 창재(21)를 통하여 광을 조사 가능한 것이다. 광조사부(10)는 광원으로서의 복수의 봉형상 램프(11)와, 봉형상 램프(11)가 방출하는 광을 스테이지(30)의 배치면(31)을 향하여 반사하는 미러(12)를 구비하고 있다. 봉형상 램프(11)는 수은, 철이나 요오드 등의 메탈할라이드, 아르곤 등의 희가스를 봉입하고, 주로 자외선을 방출하는 메탈할라이드 등의 직선형상으로 연장된 관형 램프이다. 봉형상 램프(11)는 300㎚~400㎚를 주파장으로 하고, 또한 파장이 365㎚인 광(자외선)의 조도가 15mW/㎠ 이하이다. 또한, 조도계로서 UV-M02(가부시키가이샤 오크 세이사쿠쇼제)를 사용하여 수광기로서 UV-SN35(가부시키가이샤 오크 세이사쿠쇼제)를 사용할 수 있다.
본 실시형태에서 봉형상 램프(11)는 4개 설치되고, 또한 조사박스(2) 및 스테이지(30), 배치면(31)상에 배치된 피처리 패널(2)의 상방에 배치되어 있다. 또한, 봉형상 램프(11)는 상기 봉형상 램프(11)가 조사하는 광을 통과하는 도시하지 않은 수냉 재킷에 덮여져 있다. 수냉 재킷은 물이 충전되고, 상기 충전된 물이 순환됨으로써 봉형상 램프(11)를 원하는 동작온도로 유지하는 것이다.
광조사부(10)는 개폐함으로써 봉형상 램프(11)가 방출하는 광이 스테이지(30)의 배치면(31)상에 배치되는 피처리 패널(2)에 조사되거나, 봉형상 램프(11)가 방출하는 광을 차단하여 피처리 패널(2)에 조사되는 것을 규제하는 셔터(13)를 구비하고 있다. 셔터(13)는 봉형상 램프(11)와 조사박스(20) 사이에 설치되어 있다.
조사박스(20)는 상자형상으로 형성되고, 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)을 내부에 수용하도록, 스테이지(30)상에 배치된다. 또한, 조사박스(20)는 광조사부(10)와 배치면(31) 사이에 설치되고, 광조사부(10)로부터의 광이 조사되는 창재(21)를 갖고 있다.
창재(21)는 미리 정해진 파장의 자외선 및 적외선의 쌍방의 투과를 억제하는 기능을 갖는 것이다. 창재(21)는 액정층(5)이 고분자 안정화 블루상을 발현하는 데에 적합한 파장의 광을 투과시키고, 다른 광의 투과를 억제(제한)하는 것이다. 본 실시형태에서 창재(21)는 도 4에 도시한 바와 같이 제1 필터(22)와, 제2 필터(23)가 겹쳐져 구성되어 있다. 제1 필터(22)는 도 3에 실선으로 도시한 바와 같이, 파장 [㎚]이 A~B인 자외선을 투과시키고, 다른 광(파장 [㎚]이 A 보다 짧은 자외선, 파장 [㎚]이 B보다 긴 자외선, 가시광선, 적외선)의 투과를 억제(제한)한다. 제 2 필터(23)는 도 3에 2점 쇄선으로 도시한 바와 같이 파장[㎚]이 C~D인 자외선, 가시광선, 적외선을 투과시키고, 다른 광(특히, 파장 [㎚]이 C보다 짧은 자외선, 파장 [㎚]이 D보다 긴 적외선)의 투과를 억제(제한)한다. 또한, C는 A보다 길고, B보다 짧고, B는 D보다 짧다. 이 때문에, 본 실시형태에서 창재(21)는 도 3에 평행 사선으로 도시한 바와 같이 파장[㎚]이 C~B인 자외선을 투과하고, 다른 광의 투과를 억제(제한)하는 것이다. 또한, 본 발명에서, 상술한 제2 필터(23)에 파장[㎚]이 A~B인 자외선을 투과시키고 또한 다른 광의 투과를 억제(제한)하는 필터를 증착함으로서, 창재(21)를 구성해도 좋다.
또한, 본 발명에서 창재(21)는 액정층(5)이 고분자 안정화 블루상을 발현하는데에 적합한 파장의 광을 투과시킬 수 있는 것이면, 미리 정해진 파장의 자외선의 투과를 억제(제한)하는 필터로 구성되어도 좋고, 미리 정해진 파장의 적외선의 투과를 억제(제한)하는 필터로 구성되어도 좋다. 이와 같이, 본 발명에서 창재(21)는 액정층(5)이 고분자 안정화 블루상을 발현하는 데에 적합한 파장에 의해, 미리 정해진 파장의 자외선 또는 적외선의 투과를 억제(제한)하는 기능을 구비하고 있으면 좋다.
스테이지(30)는 피처리 패널(2)을 배치하는 배치면(31)을 구비하고, 내부에 일정 온도의 액체로서의 물을 순환시킴으로써, 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)의 온도를 제어하는 것이다. 스테이지(30)는 배치면(31)의 광이 조사되는 영역을 온도 제어하기 위해 내부에 일정 온도의 액체로서 물을 유통시키는 것이다. 배치면(31)은 창재(21)와 대면하도록 설치되고 광조사부(10)와 대향하고 있다. 또한, 본 발명에서 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)이 유지되는 온도가 가능한 일정한 것이 바람직하고, 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)의 온도가 일정하게 유지되는 것이면, 스테이지(30)내에 순환되는 유체로서의 액체의 온도가 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)의 온도보다 약간 낮은 온도이어도 약간 높은 온도이어도 좋다. 또한, 본 발명에서 스테이지(30)는 물 이외에 여러가지 액체를 순환시켜도 좋다.
스테이지(30)상에는 컬러필터기판(3)측이 배치면(31)과 접촉되도록, 피처리 패널(2)에 배치된다. 즉, 피처리 패널(2)은 컬러필터기판(3)이 배치면(31)에 접촉되도록, 스테이지(30)의 배치면(31)상에 배치된다. 이 때문에, 광조사부(10)는 대향기판(4)측으로부터의 피처리 패널(2)에 광을 조사한다.
스테이지(30)는 알루미늄 합금 등으로 구성된 두꺼운 평판형상으로 형성되고, 내부에 피처리 패널(2)이 원하는 온도가 되는 온도의 액체가 순환되는 순환로(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 스테이지(30)에는 피처리 패널(2)의 온도를 일정하게 유지하고, 또한 스테이지(30)의 순환로내에서 액체를 순환시키는 액체보온 순환수단(32)이 접속되어 있다. 액체보온 순환수단(32)은 예를 들어 액체를 순환시키기 위한 순환로에 연결된 배관(도 2에 일부를 도시)(33), 주지의 히터, 냉각장치나 배관(33)내의 액체를 송출하는 펌프 등으로 구성된다.
챔버(40)는 상자 형상으로 형성되고, 조사 박스(20)와 스테이지(30) 전체를 덮고, 상부에 광조사부(10)를 설치하고 있다. 즉, 챔버(40)는 조사박스(20), 스테이지(30)를 덮도록 배치되어 있다.
순환형 공조장치(50)는 도 1에 도시한 바와 같이 챔버(40)에 설치된 도입구(51)와 배출구(52)를 구비하고, 도입구(51)로부터 도입된 매체로서의 기체가 배출구(52)로부터 배출되며, 챔버(40)내의 온도를 제어하는 것이다. 순환형 공조장치(50)는 도입구(51)로부터 도입된 기체를 배출구(52)로부터 배출하여, 챔버(40) 내의 온도를 제어함으로써, 챔버(40)내의 온도 즉 조사박스(20)내의 피처리 패널(2)의 온도를 일정한 온도로 유지하는 것이다.
본 실시형태에서 도입구(51)와 배출구(52)는 챔버(40)의 외벽에 개구하고, 그 개구부가 조사박스(20)의 상방에 배치되어 있다. 순환형 공조장치(50)는 도입구(41)로부터 도입되는 기체를 챔버(40)내에 흐르게 하고, 배출구(52)로부터 배출한다. 순환형 공조장치(50)는 예를 들어 도입구(51)와 배출구(52)에 추가하여 기체를 도입구(51), 챔버(40) 내, 배출구(52)에 차례로 순환시키기 위한 송풍관(53)과, 기체를 일정 온도로 유지하는 주지의 히터, 냉각장치나 송풍관(53) 내의 기체를 송출하는 송풍기 등을 구비하고 있다.
또한, 본 발명에서 도입구(51), 챔버(40) 내, 배출구(52)로 차례로 순환되는 기체의 온도와, 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)이 유지되는 온도는 가능한 동등한 것이 바람직하고, 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)이 일정한 온도로 유지되는 것이면, 순환되는 기체의 온도가 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)의 온도보다 약간 낮은 온도이어도 약간 높은 온도이어도 좋다. 또한, 기체의 온도는 어디까지나 목표로 하는 온도이고, 실제 온도와 다른 경우도 있다.
보온 챔버(60)는 챔버(40) 사이에서 피처리 패널(2)을 이동 가능하게 하는 것이다. 보온 챔버(60)는 상자형상으로 형성되고, 내측에 챔버(40)내와 동일하게 스테이지(30)를 수용하고 있고 또한 순환형 공조장치(70)에 의해 내부 기체의 온도가 챔버(40) 내의 기체와 동등한 온도로 유지된다. 또한, 보온 챔버(60)내에 수용된 스테이지(30)는 상술한 스테이지(30)와 동등한 구성이므로, 동일한 부분에는 동일한 부호를 붙여 설명을 생략한다. 스테이지(30)는 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)의 온도가 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)의 온도와 동등해지도록 액체보온 순환수단(32)에 의해 순환로 내에 액체가 순환된다.
순환형 공조장치(70)는 상술한 순환형 공조장치(50)와 동일하게, 보온 챔버(60)에 설치된 도입구(71)와 배출구(72)를 구비하고, 도입구(71)로부터 도입된 매체로서의 기체가 배출구(72)로부터 배출되고, 보온 챔버(60)내의 온도를 제어하는 것이다. 또한, 순환형 공조장치(70)는 예를 들어 도입구(71)와 배출구(72)에 추가하여 기체를 도입구(71), 챔버(60) 내, 배출구(72)에 차례로 순환시키기 위한 송풍관(73)과, 기체를 일정 온도로 유지하는 주지의 히터, 냉각장치나 송풍관(53)내의 기체를 송출하는 송풍기 등을 구비하고 있다. 본 실시형태에서 도입구(71)와 배출구(72)는 보온 챔버(60)의 외벽에 개구하고, 그 개구부가 스테이지(30)의 배치면(31)의 상방에 배치되어 있다.
또한, 제조장치(1)는 예를 들어 배출구(52, 72)의 근방 등의 적절한 부분에, 스테이지(30)의 내부에 설치된 순환로를 유통시키는 액체, 수냉 재킷에 순환되는 물이나, 챔버(40), 보온 챔버(60)의 안팎을 순환하는 기체 등의 온도를 검지하는 온도센서(도시하지 않음)를 설치하고 있다. 제조장치(1)는 예를 들어 도입구(51, 71)의 근방 등의 적절한 부분에, 도입구(51, 71)로부터 챔버(40)나 보온 챔버(60)에 도입되는 기체의 유량을 검지하는 유량 센서를 설치하고 있다.
또한, 챔버(40)와 보온 챔버(60)에는, 피처리 패널(2)을 출입시킬 때에는 셔터(43, 63)에 의해 개방되고, 피처리 패널(2)을 수용하고 있을 때에는 셔터(43, 63)에 의해 폐쇄되는 반출입구(44, 64)가 설치되어 있다. 챔버(40)와 보온 챔버(60)는 반출입구(44, 64)를 통하여 도시하지 않은 로봇아암에 의해 피처리 패널(2)이 출입된다.
또한, 챔버(40)의 스테이지(30)와 보온 챔버(60)의 스테이지(30)에는 보온 챔버(60)의 스테이지(30)로부터 챔버(40)의 스테이지(30) 즉 조사박스(20) 내에 피처리 패널(2)을 반송하는 도시하지 않은 반송롤러가 설치되어 있다. 또한, 챔버(40)와 보온 챔버(60)에는 보온 챔버(60)로부터 챔버(40)의 조사박스(20)내로 피처리 패널(2)을 반송할 때 셔터(66)에 의해 개방되고, 피처리 패널(2)을 수용하고 있을 때에는 셔터(66)에 의해 폐쇄되는 반송용 통로(45, 65)가 설치되어 있다. 이와 같이, 실시형태의 제조장치(1)는 보온 챔버(60)내의 피처리 패널(2)을 외부에 기체에 최대한 접촉시키지 않고, 보온 챔버(60)내로부터 챔버(40)의 조사박스(20)내로 피처리 패널(2)을 직접 반송한다.
제어수단(80)은 제조장치(1)에 의한 광의 조사동작을 제어하는 것이다. 제어수단(80)은 액체보온 순환수단(32), 순환형 공조장치(50, 70), 광 조사부(10) 등에 접속되어 있다. 제어수단(80)은 예를 들어 CPU 등으로 구성된 연산처리장치나 ROM, RAM 등을 구비하는 도시하지 않은 마이크로프로세서를 주체로 하여 구성되어 있고, 처리동작의 상태를 표시하는 표시수단이나, 오퍼레이터가 가공내용정보 등을 등록할 때 사용하는 조작수단과 접속되어 있다.
제어수단(80)은 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)에 광조사부(10)로부터 광을 조사할 때에는 셔터(13)를 개방하고, 또한 온도센서 등의 검지결과 등에 기초하여, 봉형상 램프(11)를 덮는 수냉 재킷에 충전된 물의 온도를 제어하여 봉형상 램프(11)를 원하는 동작온도로 유지한다. 또한, 제어수단(80)은 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)에 광조사부(10)로부터 광을 조사할 때에는 셔터(13)를 개방하고 또한 온도센서 등의 검지결과 등에 기초하여, 액체보온 순환수단(32)을 제어하여 스테이지(30)에 순환되는 액체의 온도를 일정하게 유지하며, 순환형 공조장치(50)를 제어하여 챔버(40)의 안팎에 순환되는 기체의 온도를 일정하게 유지하여, 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)의 온도를 일정하게 유지한다.
예를 들어, 제어수단(80)에 의해 피처리 패널(2)에 광조사부(10)로부터 광을 조사할 때에는 광이 조사될 때의 피처리 패널(2)의 온도가 10℃~70℃ 사이의 소정의 설정온도에 대해서 ±0.5℃ 이내가 되도록 스테이지(30) 및 순환형 공조장치(50)가 제어된다. 즉, 본 발명에서 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)의 온도를 일정하게 유지한다는 것은 10℃~70℃ 사이의 소정의 설정온도에 대해서 ±0.5℃ 이내의 온도로 유지하는 것을 말한다. 예를 들어, 설정온도가 55℃인 경우에는 제어수단(80)에 의해, 피처리 패널(2)의 온도가 54.5℃~55.5℃의 범위내의 온도로 유지되도록, 액체보온 순환수단(32)에 순환되는 액체의 온도 및 조사박스(20)내의 온도 등이 제어된다. 설정온도가 60℃인 경우에는 제어수단(80)에 의해, 피처리 패널(2)의 온도가 59.5℃~60.5℃의 범위내의 온도로 유지되도록, 액체보온 순환수단(32)에 순환되는 액체의 온도 및 조사박스(20)내에 도입되는 기체의 유량, 온도 등이 제어된다.
또한, 보온 챔버(60)의 내부의 챔버(40)내와 동등한 온도라는 것은, 바람직하게는 보온 챔버(60)내로부터 챔버(40)내에 피처리 패널(2)을 이동했을 때, 광조사부(10)가 광을 조사하기 위한 준비동작중 등의 사이에 피처리 패널(2)의 온도가 설정온도에 대해서 ±0.5℃ 이내가 되는 온도를 나타내고 있다. 또한, 본 발명에서는 보온 챔버(60)의 내부의 챔버(40)내와 동등한 온도라는 것은, 보온 챔버(60)내로부터 챔버(40)내에 피처리 패널(2)을 이동시켰을 때, 피처리 패널(2)의 온도가 설정온도에 대해서 ±0.5℃ 이내가 될 때까지의 시간이, 직접 챔버(40)내에 피처리 패널(2)을 이동했을 때에 피처리 패널(2)의 온도가 설정온도에 대해서 ±0.5℃ 이내가 될 때까지의 시간보다 짧아지는 온도이면 좋다.
다음에, 상술한 구성의 실시형태에 관한 제조장치(1)를 사용한 액정패널의 제조방법, 즉 피처리 패널(2)에 광을 조사하는 방법을 설명한다. 우선, 오퍼레이터가 처리내용정보를 제어수단(80)에 등록하고, 처리동작의 개시지시가 있었던 경우 처리동작을 개시한다. 그리고, 처리동작에서 우선, 보온 챔버(60)의 셔텨(63)를 개방하고, 반출입구(64)를 통하여, 로봇아암 등에 의해 피처리 패널(2)을 보온 챔버(60)의 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치한다. 그리고, 제어수단(80)은 셔터(63)를 폐쇄하고, 스테이지(30)내에 액체를 순환시키고 또한 도입구(51)를 통하여 기체를 보온 챔버(60)내에 도입하여 배출구(52)로부터 배출시킨다. 또한, 동시에 제어수단(80)은 스테이지(30)내에 액체를 유통시키고, 또한 도입구(51)를 통하여 기체를 챔버(40)내에 도입하여 배출구(52)로부터 배출시키고, 또한 수냉 재킷 내에 물을 순환시킨다.
제어수단(80)은 피처리 패널(2)의 온도가 설정온도가 된다. 또는 거의 설정온도가 되는 소정 시간이 경과하면, 셔터(66)를 개방하여, 반송용 통로(45, 65)를 통하여 피처리 패널(2)을 보온 챔버(60)로부터 챔버(40)의 조사박스(20) 내에 반송한다. 그리고, 제어수단(80)은 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치하고, 조사박스(20)내에 수용하여 셔터(66)를 폐쇄한다. 제어수단(80)은 봉형상 램프(11)를 점등하고 셔터(13)를 개방한다. 제어수단(80)은 스테이지(30)내에 일정 온도의 물을 유통시키고 또한 일체의 기체를 도입구(51)로부터 챔버(40)내에 도입하여 배출구(52)로부터 배출 순환시키면서, 배치면(31)에 배치되는 피처리 패널(2)에 창재(21)를 통하여 광조사부(10)로부터 일정 시간 광을 조사한다. 이 때, 예를 들어 피처리 패널(2)에, 파장이 365㎚이고 또한 조도가 2mW/㎠인 광을 조사한다.
일정 시간 광이 조사된 후, 제어수단(80)은 셔터(13)를 폐쇄하고, 챔버(40)의 셔터(43)를 개방하고, 반출입구(44)를 통하여 로봇아암 등에 의해 피처리 패널(2)을 챔버(40)의 조사박스(20)내의 스테이지(30)의 배치면(31)으로부터 분리하여 다음 공정으로 반송한다. 또한, 피처리 패널(2)의 보온 챔버(60)로부터 챔버(40)의 조사박스(20)내로의 반송후에, 제어수단(80)은 광조사전의 피처리 패널(2)을 보온 챔버(60)의 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치한다. 상술한 공정과 동일하게 광을 조사한다. 이와 같이, 실시형태에 관한 제조장치(1)를 사용하여 액정패널의 제조방법에서, 챔버(40)내의 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치하기 전에, 챔버(40)내와 동등한 온도로 유지된 보온 챔버(60)내에 피처리 패널(2)을 위치 결정한다.
상술한 구성의 실시형태에 관한 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 챔버(40)내와 동등한 온도로 유지되고 또한 챔버(40)와의 사이에서 피처리 패널(2)을 이동 가능하게 하는 보온 챔버(60)를 구비하고 있다. 그리고, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 챔버(40)내의 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치하여 광조사부(10)로부터 일정시간 광을 조사하기 전에, 피처리 패널(2)을 보온 챔버(60)의 스테이지(30)의 배치면(31)에 소정 시간 배치한다. 이 때문에, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 챔버(40) 내의 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)의 온도가 바로 설정온도가 되고, 챔버(40)내의 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치하고 나서 광을 조사하기 시작할 때까지의 시간을 단축할 수 있다. 따라서, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 챔버(40)내의 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치하는 시간을 단축할 수 있고, 피처리 패널(2)의 생산성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상술한 구성의 실시형태에 관한 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 스테이지(30) 내에 액체를 순환시키고, 피처리 패널(2)의 온도를 일정한 온도로 유지하도록 제어되는 것에 추가로, 피처리 패널(2)을 수용하는 조사박스(20)를 덮는 챔버(40)내의 기체를 일정하게 유지한다. 또한, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 피처리 패널(2)을 수용하는 조사박스(20)의 내부와 조사박스(20)의 외부, 즉 챔버(40)의 내부의 온도를 거의 동일하고 또한 거의 일정하게 유지할 수 있고, 조사박스(20)로부터 챔버(40)로의 온도의 방열을 억제할 수 있으므로, 조사박스(20)내의 온도 변화를 억제할 수 있다. 따라서, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 조사박스(20) 내의 피처리 패널(2)의 온도의 변화를 억제할 수 있다. 또한, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)의 온도를 스테이지(30)내의 액체에 의해 일정하게 유지할 수 있다. 따라서, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 조사박스(20)내의 피처리 패널(2)의 온도 변화를 억제할 수 있다.
또한, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 창재(21)가 액정층(5)이 고분자 안정화 블루상을 발현하는데에 적합한 파장의 광을 투과시키고 다른 광의 투과를 제한하므로, 피처리 패널(2)에 고분자 안정화 블루상을 발현하는 데에 최소의 필요한 광만 조사하게 된다. 따라서, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 광조사부(10)로부터 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)에 광이 조사되어도, 피처리 패널(2)에 대해서 원하지 않는 광이 조사되는 것이 억제된다. 특히, 피처리 패널(2)에 대해서 온도 변화를 초래하는 적외선 등의 원하지 않는 광이 조사되는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)의 온도가 상승하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 조사박스(20)내의 피처리 패널(2)의 온도변화를 보다 확실하게 억제할 수 있다.
또한, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 조사박스(20)를 덮는 챔버(40)내에 기체를 도입한다. 이 때문에, 챔버(40)내의 기체의 온도와 조사박스(20)내의 온도를 거의 동일하게 유지할 수 있다. 따라서, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 피처리 패널(2)의 온도의 불균일을 억제할 수 있다.
또한, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 조사박스(20)를 덮는 챔버(40)내에 일정 온도의 기체를 도입한다. 이 때문에, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 광이 조사될 때의 피처리 패널(2)에서의 온도가, 예를 들어 50℃나 60℃ 등의, 제조장치(1)의 외기의 온도와는 차이가 커도, 조사박스(20)내에 설치된 피처리 패널(2)이 제조장치(1) 외부와의 온도차에 의해 방열됨에 의한 피처리 패널(2)의 온도변화를 억제할 수 있다.
따라서, 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법에 따르면, 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)의 온도의 불균일의 억제를 도모할 수 있고, 피처리 패널(2)의 온도변화를 억제할 수 있다.
또한, 제조장치(1)에 따르면, 컬러필터기판(3)이 배치면(31)에 접촉되도록, 피처리 패널(2)을 스테이지(30)상에 배치하고, 광조사부(10)가 대향 기판(4)을 향하여 광을 조사한다. 또한, 제조장치(1)에 따르면, 액정층(5)이 고분자 안정화 블루상을 발현하는 액정조성물을 포함하고 있다. 또한, 광조사부(10)는 300㎚~400㎚를 주파장으로 하고 또한 파장이 365㎚인 광의 조도가 15mW/㎠ 이하인 봉형상 램프(11)를 구비하고 있다. 또한, 피처리 패널(2)에 광이 조사될 때의 피처리 패널(2)에서의 온도가, 10℃~70℃ 사이의 설정온도에 대하여 ±0.5℃ 이내가 되도록, 스테이지(30)의 액체 및 조사박스(20)내에 도입되는 기체를 제어한다. 따라서, 제조장치(1)에 따르면, 광을 액정층(5)에 작용시켜 고분자 안정화 블루상을 확실하게 발현시킬 수 있다.
또한, 제조장치(1)에 따르면, 도입구(51)와 배출구(52)의 개구부를 조사 박스(20)의 상방에 배치하고 있으므로, 조사박스(20)에는 기체가 직접 접촉되기 어려워지고, 조사박스(20)내의 기체의 온도변화를 억제할 수 있다. 이 때문에, 제조장치(1)에 따르면, 조사박스(20)내의 기체의 온도 변화를 더욱 억제할 수 있다.
또한, 챔버(40)의 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치되는 피조사 패널(2)의 온도가 원하는 온도로 유지되는 것이면, 챔버(40)의 온도가 예를 들어, 60℃로 설정하고 싶은 경우에는, 보온 챔버(60)가 예를 들어 40℃로 설정되어 있어도 좋다. 또한, 보온 챔버(60)로부터 챔버(40)로 피처리 패널(2)이 반송되는 동안에 온도가 저하되는 것을 가미하여, 보온 챔버(60)가 예를 들어 80℃로 설정되어 있어도 좋다.
또한, 챔버(40)에 설치된 순환형 공조장치(50)와, 보온 챔버(60)에 설치된 순환형 공조장치(70)가, 어느 한쪽만으로 구성되어도 좋다. 예를 들어, 챔버(40)에 설치된 순환형 공냉장치(50)만으로 챔버(40) 및 보온 챔버(60)를 동등한 온도로 유지해도 좋고, 보온 챔버(60)에 설치된 순환형 공조장치(70)만으로 챔버(40) 및 보온 챔버(60)를 동등한 온도로 유지해도 좋다. 순환형 공조장치(50)만이 설치되는 경우에는, 예를 들어 챔버(40)에 설치된 순환형 공조장치(50)가 원하는 온도가 되도록 설정되고, 보온 챔버(60)의 온도가 챔버(40)의 온도보다 약간 낮아도 좋다. 또한, 순환형 공조장치(70)만이 설치되는 경우에는, 예를 들어 챔버(40)에 설치된 순환형 공조장치(70)가 원하는 온도가 되도록 설정되고, 보온 챔버(60)의 온도가 챔버(40)의 온도보다 약간 높아도 좋다.
또한, 챔버(40)에 설치된 순환형 공조장치(50)와, 보온 챔버(60)에 설치된 순환형 공조장치(70)가 동일해도 좋다. 이 경우, 순환형 공조장치(50)로부터 송풍된 기체가, 예를 들어 챔버(40)의 도입구(51), 챔버(40), 배출구(52), 보온 챔버(60)의 도입구(71), 보온 챔버(60), 배출구(72)로 차례로 순환되어도 좋다. 또한, 순환형 공조장치(50)로부터 송풍된 기체가, 예를 들어 챔버(40)의 도입구(51)와 보온 챔버(60)의 도입구(71)에 분기하여, 챔버(40)와 보온 챔버(60)를 통하여, 챔버(40)의 배출구(52)와 보온 챔버(60)의 배출구(72)에서 합류하여 차례로 순환되어도 좋다.
[변형예]
다음에, 본 발명의 실시형태의 변형예에 관한 액정패널의 제조장치(이하, 간단히 제조장치라고 기재함)(1-1)을 도면에 기초하여 설명한다. 도 5는 실시형태의 변형예에 관한 액정패널의 제조장치의 개략적인 구성을 도시한 단면도이다. 또한, 도 5에서 상술한 실시형태와 동일한 부호를 붙여 설명한다.
변형예에 관한 제조장치(1-1)는 도 5에 도시한 바와 같이, 상술한 보온 챔버(60)를 구비하지 않고, 챔버(40)를 2개 구비하고 있다. 또한, 광조사부(10)의 봉형상 램프(11) 및 미러(12)를 도 5 중에 실선으로 도시한 위치와 점선으로 도시한 위치에 걸쳐, 즉 2개의 챔버(40)에 걸쳐 이동 자유롭게 설치되고, 봉형상 램프(11) 즉 광조사부(10)가 어느 한쪽의 챔버(40)의 스테이지(30)의 배치면(31)상의 피처리 패널(2)에 광을 조사한다. 또한, 각 챔버(40)에는 로봇아암에 의해 피처리 패널(2)이 출입되고 또한 셔터(43)에 의해 개폐되는 반출입구(44)를 설치하고, 챔버(40) 사이에서 피처리 패널(2)을 반송하기 위한 반송용 통로(45, 65)를 설치하고 있지 않다.
변형예에 관한 제조장치(1-1)를 사용한 액정패널의 제조방법에서, 제어수단(80)은 광조사부(10)의 봉형상 램프(11) 및 미러(12)를 2개의 챔버(40)에 번갈아 이동시키고, 2개의 챔버(40)의 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치된 피처리 패널(2)에 번갈아 광을 조사한다. 그리고, 변형예에 관한 제조장치(1-1)를 사용한 액정패널의 제조방법으로, 제어수단(80)은 광이 조사된 한쪽의 챔버(40)내의 피처리 패널(2)을 로봇아암 등으로 다음 공정에서 반송하고, 광조사전의 피처리 패널(2)을 한쪽 챔버(40)내의 스테이지(30)의 배치면(31)에 배치한다. 또한, 동시에 제어수단(80)은 봉형상 램프(11) 및 미러(12)를 다른쪽 챔버(40)에 위치 결정하고, 다른쪽 챔버(40)의 스테이지(30)의 배치면(31)상의 피처리 패널(2)에 광을 조사한다.
또한, 변형예에서 2개의 챔버(40) 중 광조사부(10)가 상부에 위치하지 않는 측, 즉 스테이지(30)의 배치면(31)상에 피처리 패널(2)이 출입되고 있는 측의 한쪽의 챔버(40)가 특허청구범위에 기재된 보온 챔버에 상당한다. 또한, 변형예에서 2개의 챔버(40) 중 광조사부(10)가 상부에 위치하는 측, 즉 스테이지(30)의 배치면(31)상에 피처리 패널(2)에 광이 조사되어 있는 측의 다른쪽 챔버(40)가 특허청구범위에 기재된 챔버에 상당한다. 요컨대, 변형예에서 2개의 챔버(40)가 특허청구범위에 기재된 챔버와 보온 챔버에 번갈아 상당하게 된다. 변형예에서 광조사부(10)의 봉형상 램프(11) 및 미러(12)를 2개의 챔버(40)에 번갈아 이동시킴으로써, 특허청구범위에 기재된 바와 같이 챔버와 보온 챔버 사이에서 피처리 패널(2)을 이동 가능하게 한다.
다음에, 상술한 실시형태에 관한 제조장치(1) 및 액정패널의 제조방법의 효과를 확인했다. 결과를 도 6에 나타낸다. 도 6은 비교예 및 본 발명품의 피처리 패널의 온도변화를 도시한 도면이다.
또한, 도 6에 도시된 경우에, 챔버(40)의 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치하고부터의 경과시간을 횡축으로 나타내고, 피처리 패널(2)의 온도를 종축으로 나타내고 있다. 또한, 도 6에 도시된 경우에서 설정온도를 50℃로 하고 있다. 도 6 중의 실선으로 나타내는 본 발명품은 실시형태에 나타낸 제조장치(1)를 사용하고 있고, 도 6 중의 1점 쇄선으로 나타내는 비교예는 보온 챔버(60)를 구비하고 있지 않고 챔버(40)만 도시된 제조장치를 사용하고 있다.
도 6에 도시된 온도변화에 따르면, 비교예가 피처리 패널(2)의 온도가 설정온도인 50℃의 ±0.5℃의 범위내의 온도가 될 때까지, 60초 걸리는 것이 명백해졌다. 이와 같은 비교예에 대해서, 본 발명품이 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치한 직후부터 피처리 패널(2)의 온도가 설정온도인 50℃의 ±0.5℃의 범위내의 온도가 되는 것이 명백해졌다. 따라서, 도 6에 도시된 결과에 따르면, 본 발명품이 챔버(40)의 스테이지(30)의 배치면(31)에 피처리 패널(2)을 배치한 직후부터 피처리 패널(2)에 광을 조사할 수 있고, 피처리 패널(2)의 생산성을 향상시킬 수 있는 것이 명백해졌다.
본 발명의 몇 가지 실시형태를 설명했지만, 이들 실시형태는 예로서 제시한 것으로 발명의 범위를 한정하려는 의도는 없다. 이들 실시형태는 그 밖의 여러가지 형태로 실시되는 것이 가능하고, 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서, 여러가지 생략, 치환, 변경을 실시할 수 있다. 이들 실시형태는 발명의 범위나 요지에 포함됨과 동일하게, 특허청구범위에 기재된 발명과 그 균등한 범위에 포함되는 것이다.
1: 액정패널의 제조장치 2: 피처리 패널 3: 컬러필터기판
4: 대향기판 5: 액정층 10: 광조사부
11: 봉형상 램프(광원) 20: 조사 박스 21: 창재
30: 스테이지 31: 배치면 40: 챔버
50: 순환형 공조장치 51: 도입구 52: 배출구
53: 송풍관 60: 보온 챔버
70: 순환형 공조장치 71: 도입구 72: 배출구
73: 송풍관 80: 제어수단

Claims (7)

  1. 피처리 패널에 광을 조사하여 고분자 안정화 블루상을 발현시키는 액정패널의 제조장치로서,
    상기 액정패널의 제조장치는,
    광을 방출하는 광조사부;
    상기 광조사부로부터의 광을 투과하는 창재를 갖는 조사박스;
    상기 창재와 대면하도록 설치되고 또한 상기 피처리 패널이 배치되는 배치면을 구비하며, 내부에 상기 배치면의 상기 광이 조사되는 영역을 온도 제어하는 액체를 유통시키는 스테이지;
    상기 조사박스와 상기 스테이지를 덮는 챔버;
    상기 챔버에 설치된 도입구와 배출구를 구비하고, 상기 도입구로부터 도입된 기체가 상기 배출구로부터 배출되어 상기 챔버내의 온도를 제어하는 순환형 공조장치; 및
    상기 챔버내와 동등한 온도로 유지되며, 상기 챔버와의 사이에서 상기 피처리 패널을 이동 가능하게 하는 보온 챔버를 구비하는, 액정패널의 제조장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 창재는 미리 정해진 파장의 자외선 또는 적외선의 투과를 억제, 또는 미리 정해진 파장의 자외선 및 적외선의 쌍방의 투과를 억제하는 기능을 구비하는, 액정패널의 제조장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 피처리 패널은 컬러필터기판과, 상기 컬러필터기판에 대향하는 대향기판과, 상기 컬러필터기판과 상기 대향기판 사이에 설치된 액정층을 구비하고 있고,
    상기 피처리 패널은 상기 컬러필터기판측이 상기 배치면과 접촉되도록 상기 스테이지에 배치되고, 상기 광조사부는 상기 대향기판측으로부터 상기 피처리 패널에 상기 광을 조사하는, 액정패널의 제조장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 액정층은 적어도 네마틱 액정조성물, 블루상을 발현하는 액정조성물, 및 중합성 모노머를 포함하고 있고, 상기 광의 조사에 의해 고분자 안정화 블루상을 발현하는, 액정패널의 제조장치.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 광조사부는 300㎚~400㎚을 주파장으로 하고, 또한 상기 배치면에서의 파장이 365㎚인 광의 조도가 15mW/㎠ 이하인 광원을 구비하는, 액정패널의 제조장치.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 피처리 패널에 상기 광이 조사될 때의 상기 피처리 패널에서의 온도가 10℃~70℃ 사이의 설정온도에 대해서 ±0.5℃ 이내가 되도록, 상기 스테이지 및 상기 순환형 공조장치가 제어되는, 액정패널의 제조장치.
  7. 피처리 패널에 광을 조사하여 고분자 안정화 블루상을 발현시키는 액정패널의 제조장치의 제조방법으로서,
    상기 액정패널의 제조장치의 제조방법은,
    온도를 제어하기 위해 내부에 일정 온도의 액체를 유통시키는 스테이지의 배치면에 상기 피처리 패널을 배치하고,
    상기 배치면과 대면하고 또한 광조사부로부터의 광이 조사되는 창재를 갖는 조사박스내에 상기 피처리 패널을 수용하며,
    상기 스테이지와 상기 조사박스를 덮도록 도입구와 배출구를 설치한 챔버를 배치하고,
    상기 스테이지내에 일정 온도의 액체를 유통시키고, 또한 일정 온도의 매체를 상기 도입구로부터 상기 챔버내에 도입하여 상기 배출구로부터 배출 순환시키면서, 상기 배치면에 배치되는 상기 피처리 패널에 상기 창재를 통하여 상기 광조사부로부터 광을 조사하는 액정패널의 제조방법에 있어서,
    상기 스테이지의 배치면에 상기 피처리 패널을 배치하기 전에, 상기 챔버내와 동등한 온도로 유지되는 보온 챔버내에 상기 피처리 패널을 위치 결정하는, 액정패널의 제조방법.
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