JP6164142B2 - 液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法 - Google Patents

液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法 Download PDF

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Description

本発明の実施形態は、液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法に関する。
液晶パネルの製造において、光反応性を持つ高分子体を備えた被処理パネルに、紫外線ランプ等の光源を用いて、所定波長の光を照射することにより、高分子体を化学反応させて配向機能を持たせる光配向という工程を行う方法がある(例えば、特許文献1参照)。
この紫外線照射時の液晶パネルの温度は、パネル面において均一であることが望まれている。特に、液晶のブルー層を高分子で安定させた状態、すなわち高分子安定化ブルー相(Polymer Stabilized Blue Phase:PSBP)を用いる構成においては、光照射時のパネル面における温度むらおよび温度の経時変化が表示特性のむらに与える影響が大きいため、温度均一化を強く望まれている。
特開2011−215463号公報
しかしながら、特許文献1に示された紫外線照射装置で、温度の均一化を図りながらも被処理パネルの生産性を向上することが求められている。
本発明は、被処理パネルの生産性を向上することができる液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法を提供することを目的とする。
実施形態の液晶パネルの製造装置は、光照射部と;照射ボックスと;ステージと;チャンバーと;循環型空調装置と;保温チャンバーを備える。光照射部は、光を放出する。照射ボックスは、光照射部からの光を透過する窓材を有する。ステージは、窓材と対面するように設けられかつ被処理パネルが載置される載置面を備えている。ステージは、内部に載置面の光が照射されるエリアを温度制御する液体を流通させる。チャンバーは、照射ボックスとステージを覆う。循環型空調装置は、チャンバーに設けられた導入口と排出口とを備え、導入口から導入された気体が排出口から排出され、チャンバー内の温度を制御する。保温チャンバーは、チャンバー内と同等の温度に保たれかつチャンバーとの間で被処理パネルを移動可能である。
本発明によれば、生産性を向上できる液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法を提供することができる。
図1は、実施形態に係る液晶パネルの製造装置の概略の構成を示す断面図である。 図2は、実施形態に係る液晶パネルの製造装置により光が照射される被処理パネルの構成を示す断面図である。 図3は、実施形態に係る液晶パネルの製造装置の窓材の透過する光を説明する図である。 図4は、実施形態に係る液晶パネルの製造装置の窓材の構成を示す断面図である。 図5は、実施形態の変形例に係る液晶パネルの製造装置の概略の構成を示す断面図である。 図6は、比較例及び本発明品の被処理パネルの温度変化を示す図である。
以下で説明する実施形態に係る液晶パネルの製造装置1は、光照射部10と、照射ボックス20と、ステージ30と、チャンバー40と、循環型空調装置50と、保温チャンバー60とを備える。光照射部10は、光を放出する。照射ボックス20は、光照射部10からの光を透過する窓材21を有する。ステージ30は、窓材21と対面するように設けられかつ被処理パネル2が載置される載置面31を備えている。ステージ30は、内部に載置面31の光が照射されるエリアを温度制御する液体を流通させる。チャンバー40は、照射ボックス20とステージ30を覆う。循環型空調装置50は、チャンバー40に設けられた導入口51と排出口52とを備え、導入口51から導入された気体が排出口52から排出され、チャンバー40内の温度を制御する。保温チャンバー60は、チャンバー40内と同等の温度に保たれかつチャンバー40との間で被処理パネル2を移動可能である。
また、以下で説明する実施形態に係る液晶パネルの製造装置1は、前記窓材21が、予め定められた波長の紫外線もしくは赤外線の透過を抑制、または予め定められた波長の紫外線および赤外線の双方の透過を抑制する機能を備える。
また、以下で説明する実施形態に係る液晶パネルの製造装置1は、被処理パネル2が、カラーフィルタ基板3と、対向基板4と、液晶層5とを備える。対向基板4は、カラーフィルタ基板3に対向する。液晶層5は、カラーフィルタ基板3と、対向基板4との間に設けられる。被処理パネル2は、カラーフィルタ基板3側が載置面31と接触するようにステージ30に配置され、光照射部10は、対向基板4の側から被処理パネル2に光を照射する。
また、以下で説明する実施形態に係る液晶パネルの製造装置1は、液晶層5が、少なくとも、ネマティック液晶組成物、ブルー相を発現する液晶組成物、及び、重合性モノマーを含んでいる。液晶層5は、光の照射により高分子安定化ブルー相を発現する。
また、以下で説明する実施形態に係る液晶パネルの製造装置1は、光照射部10が、300nm〜400nmを主波長とし、かつ、載置面における365nmの波長の光の照度が15mW/cm以下の光源11を備える。
また、以下で説明する実施形態に係る液晶パネルの製造装置1は、光が照射されるときの被処理パネル2における温度が、10℃〜70℃の間の設定温度に対して、±0.5℃以内となるように、ステージ30および循環型空調装置50が制御される。
また、以下で説明する実施形態に係る液晶パネルの製造方法は、温度制御するために内部に一定温度の液体を流通させるステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置する。載置面31と対面しかつ光照射部10からの光が照射される窓材21を有する照射ボックス20内に前記被処理パネル2を収容する。ステージ30、照射ボックス20を覆うように導入口51と排出口52を設けたチャンバー40を配置する。ステージ30内に一定温度の液体を流通させるとともに、一定温度の媒体を導入口51からチャンバー内に導入して排出口52から排出循環させながら、載置面31に配置される被処理パネル2に窓材21を通して光照射部10から光を照射する。ステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置する前に、チャンバー40内と同等の温度に保たれた保温チャンバー60内に被処理パネル2を位置付ける。
[実施形態]
次に、本発明の実施形態に係る液晶パネルの製造装置1を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態に係る液晶パネルの製造装置の概略の構成を示す断面図、図2は、実施形態に係る液晶パネルの製造装置により光が照射される被処理パネルの構成を示す断面図、図3は、実施形態に係る液晶パネルの製造装置の窓材の透過する光を説明する図、図4は、実施形態に係る液晶パネルの製造装置の窓材の構成を示す断面図である。
図1に示された実施形態の液晶パネルの製造装置(以下、単に製造装置と記す)1は、一定の温度に保ちながら被処理パネル2に光を照射して、被処理パネル2に例えば液晶ディスプレイを構成する高分子安定化ブルー相などを発現させるものである。製造装置1により光が照射される被処理パネル2は、図2に示すように、カラーフィルタ基板3と、カラーフィルタ基板3に対向する対向基板4と、カラーフィルタ基板3と対向基板4との間に設けられた液晶層5とを備えている。
カラーフィルタ基板3は、例えば、赤色、緑色、青色の光を透過するカラーフィルタを基板上に配置し、保護膜で覆ったものである。対向基板4は、電極がアレイ状に配置された基板である。液晶層5は、少なくとも、ネマティック液晶組成物、ブルー相を発現する液晶組成物、及び、重合性モノマーを含んでいる。液晶層5は、製造装置1による光の照射により、高分子安定化ブルー相を発現するものである。
液晶層5を構成するネマティック液晶組成物とは、誘電異方性を有する材料で構成される。
ブルー相を発現する液晶組成物とは、安定に存在できる温度範囲を例えば、室温、具体的には0℃以上に拡大しながらも、光が照射されることで、ネマティック液晶組成物よりも高応答性を可能とする材料である。ブルー相を発現する液晶組成物とは、例えば、10℃〜70℃の間の所定の設定温度に対して、±0.5℃以内に保たれた状態で、光が照射されると、むらなく高分子安定化ブルー相を発現するものである。例えば、設定温度が55℃である場合には、ブルー相を発現する液晶組成物とは、54.5℃〜55.5℃の範囲内に温度が保たれた状態で、光が照射されると、むらなく高分子安定化ブルー相を発現するものであり、設定温度が60℃である場合には、ブルー相を発現する液晶組成物とは、59.5℃〜60.5℃の範囲内に温度が保たれた状態で、光が照射されると、むらなく高分子安定化ブルー相を発現するものである。
重合性モノマーとは、ネマティック液晶組成物や高分子安定化ブルー相を発現する液晶組成物の組成を安定化させるための材料である。
製造装置1は、図1および図2に示すように、光を放出する光照射部10と、照射ボックス20と、ステージ30と、チャンバー40と、循環型空調装置50と、保温チャンバー60と、制御手段80などを備えている。
光照射部10は、光を放出するものであって、照射ボックス20内、具体的には、照射ボックス20に光照射部10からの光を透過する窓材21と対面するステージ30の載置面31上に載置される被処理パネル2に窓材21を通して光を照射可能なものである。光照射部10は、光源としての複数の棒状ランプ11と、棒状ランプ11が放出する光をステージ30の載置面31に向かって反射するミラー12とを備えている。棒状ランプ11は、水銀、鉄やヨウ素などのメタルハライド、アルゴンなどの希ガスを封入して、主に紫外線を放出するメタルハライドランプなどの直線状に延びた管型ランプである。棒状ランプ11は、300nm〜400nmを主波長とし、かつ、波長が365nmの光(紫外線)の照度が15mW/cm以下である。なお、照度計としてUV−M02(株式会社オーク製作所製)を用い、受光器としてUV−SN35(株式会社オーク製作所製)を用いることができる。
本実施形態で、棒状ランプ11は、4本設けられ、かつ、照射ボックス20およびステージ30、載置面31上に載置された被処理パネル2の上方に配置されている。また、棒状ランプ11は、この棒状ランプ11が照射する光を通す図示しない水冷ジャケットに覆われている。水冷ジャケットは、水が充填され、この充填された水が循環されることで、棒状ランプ11を所望の動作温度に保つものである。
光照射部10は、開閉することで、棒状ランプ11が放出する光がステージ30の載置面31上に載置される被処理パネル2に照射されたり、棒状ランプ11が放出する光を遮って被処理パネル2に照射されることを規制するシャッター13を備えている。シャッター13は、棒状ランプ11と照射ボックス20との間に設けられている。
照射ボックス20は、箱状に形成され、ステージ30の載置面31に載置される被処理パネル2を内部に収容するように、ステージ30上に配置される。また、照射ボックス20は、光照射部10と載置面31との間に設けられ、光照射部10からの光が照射される窓材21を有している。
窓材21は、予め定められた波長の紫外線および赤外線の双方の透過を抑制する機能を有するものである。窓材21は、液晶層5が高分子安定化ブルー相を発現するのに適する波長の光を透過させ、他の光の透過を抑制(制限)するものである。本実施形態で、窓材21は、図4に示すように、第1のフィルタ22と、第2のフィルタ23とが重ねられて構成されている。第1のフィルタ22は、図3に実線で示すように、波長[nm]がA〜Bの紫外線を透過させ、他の光(波長[nm]がAよりも短い紫外線、波長[nm]がBよりも長い紫外線、可視光線、赤外線)の透過を抑制(制限)する。第2のフィルタ23は、図3に二点鎖線で示すように、波長[nm]がC〜Dの紫外線、可視光線、赤外線を透過させ、他の光(特に、波長[nm]がCよりも短い紫外線、波長[nm]がDよりも長い赤外線)の透過を抑制(制限)する。なお、Cは、Aよりも長く、Bよりも短く、Bは、Dよりも短い。このため、本実施形態で、窓材21は、図3に平行斜線で示すように、波長[nm]がC〜Bの紫外線を透過し、他の光の透過を抑制(制限)するものである。また、本発明で、前述した第2のフィルタ23に波長[nm]がA〜Bの紫外線を透過させかつ他の光の透過を抑制(制限)するフィルタを蒸着することで、窓材21を構成してもよい。
また、本発明で、窓材21は、液晶層5が高分子安定化ブルー相を発現するのに適する波長の光を透過させることができるのであれば、予め定められた波長の紫外線の透過を抑制(制限)するフィルタで構成されてもよく、予め定められた波長の赤外線の透過を抑制(制限)するフィルタで構成されてもよい。このように、本発明で、窓材21は、液晶層5が高分子安定化ブルー相を発現するのに適する波長によって、予め定められた波長の紫外線もしくは赤外線の透過を抑制(制限)する機能を備えていればよい。
ステージ30は、被処理パネル2を載置する載置面31を備え、内部に一定温度の液体としての水を循環させることで、載置面31に載置された被処理パネル2の温度を制御するものである。ステージ30は、載置面31の光が照射されるエリアを温度制御するために内部に一定温度の液体として水を流通させるものである。載置面31は、窓材21と対面するように設けられて、光照射部10と対向している。なお、本発明で、載置面31に載置される被処理パネル2が保たれる温度ができるだけ一定であるのが望ましく、載置面31に載置される被処理パネル2の温度が一定に保たれるのであれば、ステージ30内に循環される流体としての液体の温度が載置面31に載置される被処理パネル2の温度よりも若干低い温度であっても若干高い温度であってもよい。なお、本発明で、ステージ30は、水の他に種々の液体を循環させてもよい。
ステージ30上には、カラーフィルタ基板3側が載置面31と接触するように、被処理パネル2が載置される。即ち、被処理パネル2は、カラーフィルタ基板3が載置面31に接触するように、ステージ30の載置面31上に載置される。このために、光照射部10は、対向基板4の側から被処理パネル2に光を照射する。
ステージ30は、アルミニウム合金などで構成された厚手の平板状に形成され、内部に被処理パネル2が所望の温度となるような温度の液体が循環される循環路(図示せず)が設けられている。ステージ30には、被処理パネル2の温度を一定に保ち、かつ、ステージ30の循環路内で液体を循環させる液体保温循環手段32が接続している。液体保温循環手段32は、例えば、液体を循環させるための循環路に連結された配管(図2に一部を示す)33、周知のヒータ、冷却装置や配管33内の液体を送り出すポンプなどで構成される。
チャンバー40は、箱状に形成され、照射ボックス20とステージ30との全体を覆い、上部に光照射部10を設けている。即ち、チャンバー40は、照射ボックス20、ステージ30を覆うように配置されている。
循環型空調装置50は、図1に示すように、チャンバー40に設けられた導入口51と排出口52とを備え、導入口51から導入された媒体としての気体が排出口52から排出され、チャンバー40内の温度を制御するものである。循環型空調装置50は、導入口51から導入された気体を排出口52から排出して、チャンバー40内の温度を制御することで、チャンバー40内の温度即ち照射ボックス20内の被処理パネル2の温度を一定の温度に保つものである。
本実施形態で、導入口51と排出口52は、チャンバー40の外壁に開口し、その開口部が照射ボックス20の上方に配置されている。循環型空調装置50は、導入口51から導入される気体をチャンバー40内に流し、排出口52から排出する。循環型空調装置50は、例えば、導入口51と排出口52とに加えて、気体を導入口51、チャンバー40内、排出口52とに順に循環させるための送風管53と、気体を一定温度に保つ周知のヒータ、冷却装置や送風管53内の気体を送り出す送風機などを備えている。
なお、本発明で、導入口51、チャンバー40内、排出口52と順に循環される気体の温度と、載置面31に載置される被処理パネル2が保たれる温度とはできるだけ等しいのが望ましく、載置面31に載置される被処理パネル2が一定の温度に保たれるのであれば、循環される気体の温度が載置面31に載置される被処理パネル2の温度よりも若干低い温度であっても若干高い温度であってもよい。なお、気体の温度は、あくまで、目標とされる温度であって、実際の温度と異なる場合もある。
保温チャンバー60は、チャンバー40との間で被処理パネル2を移動可能とするものである。保温チャンバー60は、箱状に形成され、内側にチャンバー40内と同様にステージ30を収容しているとともに、循環型空調装置70により内部の気体の温度がチャンバー40内の気体と同等の温度に保たれる。なお、保温チャンバー60内に収容されたステージ30は、前述したステージ30と同等の構成であるため、同一部分には同一符号を付して説明を省略する。ステージ30は、載置面31に載置される被処理パネル2の温度が、ステージ30の載置面31に載置される被処理パネル2の温度と等しくなるように、液体保温循環手段32により循環路内に液体が循環される。
循環型空調装置70は、前述した循環型空調装置50と同様に、保温チャンバー60に設けられた導入口71と排出口72とを備え、導入口71から導入された媒体としての気体が排出口72から排出され、保温チャンバー60内の温度を制御するものである。また、循環型空調装置70は、例えば、導入口71と排出口72とに加えて、気体を導入口71、チャンバー60内、排出口72とに順に循環させるための送風管73と、気体を一定温度に保つ周知のヒータ、冷却装置や送風管53内の気体を送り出す送風機などを備えている。本実施形態で、導入口71と排出口72は、保温チャンバー60の外壁に開口し、その開口部がステージ30の載置面31の上方に配置されている。
また、製造装置1は、例えば、排出口52,72の近傍などの適宜箇所に、ステージ30,30の内部に設けられた循環路を流通する液体、水冷ジャケットに循環される水や、チャンバー40、保温チャンバー60の内外を循環される気体などの温度を検知する温度センサ(図示せず)を設けている。製造装置1は、例えば、導入口51,71の近傍などの適宜箇所に、導入口51,71からチャンバー40や保温チャンバー60に導入される気体の流量を検知する流量センサを設けている。
さらに、チャンバー40と保温チャンバー60とには、被処理パネル2を出し入れする際にはシャッター43,63により開けられ、被処理パネル2を収容している際にはシャッター43,63により閉じられる搬出入口44,64が設けられている。チャンバー40と保温チャンバー60は、搬出入口44,64を通して図示しないロボットアームにより被処理パネル2が出し入れされる。
また、チャンバー40のステージ30と保温チャンバー60のステージ30には、保温チャンバー60のステージ30からチャンバー40のステージ30即ち照射ボックス20内に被処理パネル2を搬送する図示しない搬送ローラが設けられている。また、チャンバー40と保温チャンバー60とには、保温チャンバー60からチャンバー40の照射ボックス20内へと被処理パネル2を搬送する際に、シャッター66により開けられ、被処理パネル2を収容している際にはシャッター66により閉じられる搬送用通路45,65が設けられている。このように、実施形態の製造装置1は、保温チャンバー60内の被処理パネル2を外部に気体に極力触れさせることなく、保温チャンバー60内からチャンバー40の照射ボックス20内へと被処理パネル2を直接搬送する。
制御手段80は、製造装置1による光の照射動作を制御するものである。制御手段80は、液体保温循環手段32、循環型空調装置50,70、光照射部10などに接続されている。制御手段80は、例えばCPU等で構成された演算処理装置やROM、RAM等を備える図示しないマイクロプロセッサを主体として構成されており、処理動作の状態を表示する表示手段や、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる操作手段と接続されている。
制御手段80は、ステージ30の載置面31に載置された被処理パネル2に光照射部10から光を照射する際には、シャッター13を開くとともに、温度センサなどの検知結果などに基づいて、棒状ランプ11を覆う水冷ジャケットに充填された水の温度を制御して、棒状ランプ11を所望の動作温度に保つ。また、制御手段80は、ステージ30の載置面31に載置された被処理パネル2に光照射部10から光を照射する際には、シャッター13を開くとともに、温度センサなどの検知結果などに基づいて、液体保温循環手段32を制御してステージ30に循環される液体の温度を一定に保ち、循環型空調装置50を制御してチャンバー40の内外に循環される気体の温度を一定に保って、ステージ30の載置面31に載置された被処理パネル2の温度を一定に保つ。
例えば、制御手段80により、被処理パネル2に光照射部10から光を照射する際には、光が照射されるときの被処理パネル2の温度が、10℃〜70℃の間の所定の設定温度に対して±0.5℃以内となるように、ステージ30および循環型空調装置50が制御される。即ち、本発明で、ステージ30の載置面31に載置された被処理パネル2の温度を一定に保つとは、10℃〜70℃の間の所定の設定温度に対して±0.5℃以内の温度に保つことをいう。例えば、設定温度が55℃である場合には、制御手段80により、被処理パネル2の温度が54.5℃〜55.5℃の範囲内の温度に保たれるように、液体保温循環手段32に循環される液体の温度及び照射ボックス20内の温度などが制御される。設定温度が60℃である場合には、制御手段80により、被処理パネル2の温度が59.5℃〜60.5℃の範囲内の温度に保たれるように、液体保温循環手段32に循環される液体の温度及び照射ボックス20内に導入される気体の流量、温度などが制御される。
また、保温チャンバー60の内部のチャンバー40内と同等の温度とは、望ましくは、保温チャンバー60内からチャンバー40内に被処理パネル2を移動した際に、光照射部10が光を照射するための準備動作中などの間に被処理パネル2の温度が設定温度に対して±0.5℃以内となる温度を示している。さらに、本発明では、保温チャンバー60の内部のチャンバー40内と同等の温度とは、保温チャンバー60内からチャンバー40内に被処理パネル2を移動した際に、被処理パネル2の温度が設定温度に対して±0.5℃以内となるまでの時間が、直接チャンバー40内に被処理パネル2を移動した際に被処理パネル2の温度が設定温度に対して±0.5℃以内となるまでの時間よりも短くなる温度であればよい。
次に、前述した構成の実施形態に係る製造装置1を用いた液晶パネルの製造方法、即ち、被処理パネル2に光を照射する方法を説明する。まず、オペレータが処理内容情報を制御手段80に登録し、処理動作の開始指示があった場合に、処理動作を開始する。そして、処理動作において、まず、保温チャンバー60のシャッター63を開いて、搬出入口64を通して、ロボットアームなどにより被処理パネル2を保温チャンバー60のステージ30の載置面31に載置する。そして、制御手段80は、シャッター63を閉じ、ステージ30内に液体を循環させるとともに、導入口51を通して気体を保温チャンバー60内に導入して排出口52から排出させる。さらに、同時に、制御手段80は、ステージ30内に液体を流通させるとともに、導入口51を通して気体をチャンバー40内に導入して排出口52から排出させるとともに、水冷ジャケット内に水を循環させる。
制御手段80は、被処理パネル2の温度が設定温度となる、又は略設定温度となる所定時間経過すると、シャッター66を開いて、搬送用通路45,65を通して、被処理パネル2を保温チャンバー60からチャンバー40の照射ボックス20内に搬送する。そして、制御手段80は、ステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置し、照射ボックス20内に収容して、シャッター66を閉じる。制御手段80は、棒状ランプ11を点灯し、シャッター13を開く。制御手段80は、ステージ30内に一定温度の水を流通させるとともに、一体の気体を導入口51からチャンバー40内に導入して排出口52から排出循環させながら、載置面31に載置される被処理パネル2に窓材21を通して光照射部10から一定時間光を照射する。このとき、例えば、被処理パネル2に、波長が365nmでかつ照度が2mW/cmの光を照射する。
一定時間、光が照射した後、制御手段80は、シャッター13を閉じ、チャンバー40のシャッター43を開いて、搬出入口44を通して、ロボットアームなどにより被処理パネル2をチャンバー40の照射ボックス20内のステージ30の載置面31から取り外して、次工程に搬送する。また、被処理パネル2の保温チャンバー60からチャンバー40の照射ボックス20内への搬送後に、制御手段80は、光照射前の被処理パネル2を保温チャンバー60のステージ30の載置面31に載置する。前述した工程と同様に、光を照射する。このように、実施形態に係る製造装置1を用いた液晶パネルの製造方法で、チャンバー40内のステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置する前に、チャンバー40内と同等の温度に保たれた保温チャンバー60内に被処理パネル2を位置付ける。
前述した構成の実施形態に係る製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、チャンバー40内と同等の温度に保たれかつチャンバー40との間で被処理パネル2を移動可能とする保温チャンバー60を備えている。そして、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、チャンバー40内のステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置して光照射部10から一定時間光を照射する前に、被処理パネル2を保温チャンバー60のステージ30の載置面31に所定時間載置する。このために、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、チャンバー40内のステージ30の載置面31に載置された被処理パネル2の温度がただちに設定温度となって、チャンバー40内のステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置してから光を照射し始めるまでの時間を短縮することができる。したがって、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、チャンバー40内のステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置する時間を短縮することができ、被処理パネル2の生産性を向上することができる。
また、前述した構成の実施形態に係る製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、ステージ30内に液体を循環させて、被処理パネル2の温度を一定の温度に保つように制御されることに加え、被処理パネル2を収容する照射ボックス20を覆うチャンバー40内の気体を一定に保つ。また、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、被処理パネル2を収容する照射ボックス20の内部と照射ボックス20の外部、すなわち、チャンバー40の内部の温度を略同じ且つ略一定に保つことができ、照射ボックス20からチャンバー40への温度の放熱を抑制することができるため、照射ボックス20内の温度の変化を抑制することができる。したがって、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、照射ボックス20内の被処理パネル2の温度の変化を抑制することができる。また、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、載置面31に載置された被処理パネル2の温度をステージ30内の液体により一定に保つことができる。したがって、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、照射ボックス20内の被処理パネル2の温度の変化を抑制することができる。
さらに、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、窓材21が、液晶層5が高分子安定化ブルー相を発現するのに適する波長の光を透過させ、他の光の透過を制限するので、被処理パネル2に高分子安定化ブルー相を発現するのに最低限必要な光のみ照射することとなる。したがって、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、光照射部10から載置面31に載置された被処理パネル2に光が照射されても、被処理パネル2に対して不所望の光が照射されることが抑制できる。特に、被処理パネル2に対して温度変化をもたらす赤外線などの不所望の光が照射されることが抑制することができる。よって、載置面31に載置された被処理パネル2の温度が上昇することを抑制することができる。したがって、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、照射ボックス20内の被処理パネル2の温度の変化をより確実に抑制することができる。
また、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、照射ボックス20を覆うチャンバー40内に気体を導入する。このために、チャンバー40内の気体の温度と照射ボックス20内の温度とを略同じに保つことができる。したがって、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、被処理パネル2の温度の不均一を抑制することができる。
また、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、照射ボックス20を覆うチャンバー40内に一定温度の気体を導入する。このために、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、光が照射されるときの被処理パネル2における温度が、例えば、50℃や60℃などの、製造装置1の外気の温度との差が大きくても、照射ボックス20内に設けられた被処理パネル2が製造装置1外部との温度差により放熱されることによる被処理パネル2の温度変化を抑制できる。
したがって、製造装置1及び液晶パネルの製造方法によれば、載置面31に載置された被処理パネル2の温度の不均一の抑制を図ることができ、被処理パネル2の温度の変化を抑制することができる。
また、製造装置1によれば、カラーフィルタ基板3が載置面31に接触するように、被処理パネル2をステージ30上に載置して、光照射部10が対向基板4に向けて光を照射する。また、製造装置1によれば、液晶層5が高分子安定化ブルー相を発現する液晶組成物を含んでいる。さらに、光照射部10は300nm〜400nmを主波長としかつ波長が365nmの光の照度が15mW/cm以下である棒状ランプ11を備えている。また、被処理パネル2に光が照射されるときの被処理パネル2における温度が、10℃〜70℃の間の設定温度に対して、±0.5℃以内となるように、ステージ30の液体及び照射ボックス20内に導入される気体を制御する。したがって、製造装置1によれば、光を液晶層5に作用させて、高分子安定化ブルー相を確実に発現させることができる。
また、製造装置1によれば、導入口51と排出口52の開口部を照射ボックス20の上方に配置しているため、照射ボックス20には気体が直接当たりにくくなり、照射ボックス20内の気体の温度変化を抑制できる。このために、製造装置1によれば、より照射ボックス20内の気体の温度の変化を抑制することができる。
なお、チャンバー40のステージ30の載置面31に載置される被照射パネル2の温度が所望の温度に保たれるのであれば、チャンバー40の温度が例えば60℃と設定したい場合には、保温チャンバー60が例えば40℃と設定されていてもよい。また、保温チャンバー60からチャンバー40へ被処理パネル2が搬送される間に温度が低下することを加味して、保温チャンバー60が例えば80℃と設定されていてもよい。
また、チャンバー40に設けられた循環型空調装置50と、保温チャンバー60に設けられた循環型空調装置70とが、いずれか一方のみで構成されてもよい。例えば、チャンバー40に設けられた循環型空冷装置50のみでチャンバー40および保温チャンバー60を同等の温度に保ってもよいし、保温チャンバー60に設けられた循環型空調装置70のみでチャンバー40および保温チャンバー60を同等の温度に保ってもよい。循環型空調装置50のみが設けられる場合には、例えば、チャンバー40に設けられた循環型空調装置50が所望の温度になるように設定され、保温チャンバー60の温度がチャンバー40の温度よりも若干低くてもよい。また、循環型空調装置70のみが設けられる場合には、例えば、チャンバー40に設けられた循環型空調装置70が所望の温度になるように設定され、保温チャンバー60の温度がチャンバー40の温度よりも若干高くてもよい。
また、チャンバー40に設けられた循環型空調装置50と、保温チャンバー60に設けられた循環型空調装置70とが、同一であってもよい。この場合、循環型空調装置50から送風された気体が、例えば、チャンバー40の導入口51、チャンバー40、排出口52、保温チャンバー60の導入口71、保温チャンバー60、排出口72と順に循環されてもよい。また、循環型空調装置50から送風された気体が、例えばチャンバー40の導入口51と保温チャンバー60の導入口71とに分岐して、チャンバー40と保温チャンバー60とをとおり、チャンバー40の排出口52と保温チャンバー60の排出口72とで合流して順に循環されてもよい。
[変形例]
次に、本発明の実施形態の変形例に係る液晶パネルの製造装置(以下、単に、製造装置と記す)1−1を図面に基づいて説明する。図5は、実施形態の変形例に係る液晶パネルの製造装置の概略の構成を示す断面図である。なお、図5において、前述した実施形態と同一符号を付して説明する。
変形例にかかる製造装置1−1は、図5に示すように、前述した保温チャンバー60を備えずに、チャンバー40,40を二つ備えている。また、光照射部10の棒状ランプ11及びミラー12を図5中に実線で示す位置と点線で示す位置とに亘って、即ち、二つのチャンバー40,40に亘って移動自在に設け、棒状ランプ11即ち光照射部10が、いずれか一方のチャンバー40,40のステージ30,30の載置面31,31上の被処理パネル2,2に光を照射する。さらに、各チャンバー40,40には、ロボットアームにより被処理パネル2,2が出し入れされかつシャッター43,43により開閉される搬出入口44,44を設け、チャンバー40,40間で被処理パネル2,2を搬送するための搬送用通路45,65を設けていない。
変形例に係る製造装置1−1を用いた液晶パネルの製造方法で、制御手段80は、光照射部10の棒状ランプ11及びミラー12を二つのチャンバー40,40に交互に移動させて、二つのチャンバー40,40のステージ30,30の載置面31,31に載置された被処理パネル2,2に交互に光を照射する。そして、変形例に係る製造装置1−1を用いた液晶パネルの製造方法で、制御手段80は、光が照射された一方のチャンバー40内の被処理パネル2をロボットアームなどで次工程に搬送して、光照射前の被処理パネル2を一方のチャンバー40内のステージ30の載置面31に載置する。また、同時に、制御手段80は、棒状ランプ11及びミラー12を他方のチャンバー40に位置付けて、他方のチャンバー40のステージ30の載置面31上の被処理パネル2に光を照射する。
なお、変形例で、二つのチャンバー40,40のうち、光照射部10が上部に位置しない側、即ち、ステージ30の載置面31上に被処理パネル2が出し入れされている側の一方のチャンバー40が特許請求の範囲に記載された保温チャンバーに相当する。また、変形例で、二つのチャンバー40,40のうち、光照射部10が上部に位置する側、即ち、ステージ30の載置面31上の被処理パネル2に光が照射されている側の他方のチャンバー40が特許請求の範囲に記載されたチャンバーに相当する。要するに、変形例で、二つのチャンバー40,40が特許請求の範囲に記載されたチャンバーと保温チャンバーとに交互に相当することとなる。変形例で、光照射部10の棒状ランプ11及びミラー12を二つのチャンバー40,40に交互に移動させることで、特許請求の範囲に記載されたようにチャンバーと保温チャンバーとの間で被処理パネル2を移動可能とする。
次に、前述した実施形態に係る製造装置1及び液晶パネルの製造方法の効果を確認した。結果を図6に示す。図6は、比較例及び本発明品の被処理パネルの温度変化を示す図である。
なお、図6に示された場合で、チャンバー40のステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置してからの経過時間を横軸で示し、被処理パネル2の温度を縦軸で示している。また、図6に示された場合で、設定温度を50℃としている。図6中の実線で示す本発明品は、実施形態に示された製造装置1を用いており、図6中の一点鎖線で示す比較例は、保温チャンバー60を備えていなくチャンバー40のみ示された製造装置を用いている。
図6に示された温度変化によれば、比較例が、被処理パネル2の温度が設定温度である50℃の±0.5℃の範囲内の温度となるまでに、60秒かかることが明らかとなった。このような比較例に対して、本発明品が、ステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置した直後から被処理パネル2の温度が設定温度である50℃の±0.5℃の範囲内の温度となることが明らかとなった。したがって、図6に示された結果によれば、本発明品が、チャンバー40のステージ30の載置面31に被処理パネル2を載置した直後から被処理パネル2に光を照射でき、被処理パネル2の生産性を向上できることが明らかとなった。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
1 液晶パネルの製造装置
2 被処理パネル
3 カラーフィルタ基板
4 対向基板
5 液晶層
10 光照射部
11 棒状ランプ(光源)
20 照射ボックス
21 窓材
30 ステージ
31 載置面
40 チャンバー
50 循環型空調装置
51 導入口
52 排出口
53 送風管
60 保温チャンバー
70 循環型空調装置
71 導入口
72 排出口
73 送風管
80 制御手段

Claims (7)

  1. 光を放出する光照射部と;
    前記光照射部からの光を透過する窓材を有する照射ボックスと;
    前記窓材と対面するように設けられかつ被処理パネルが載置される載置面を備え、内部に前記載置面の前記光が照射されるエリアを温度制御する液体を流通させるステージと;
    前記照射ボックスと前記ステージを覆うチャンバーと;
    前記チャンバーに設けられた導入口と排出口とを備え、前記導入口から導入された気体が前記排出口から排出され、前記チャンバー内の温度を制御する循環型空調装置と;
    前記チャンバーとの間で前記被処理パネルを移動可能とする保温チャンバーと;
    を備える液晶パネルの製造装置。
  2. 前記窓材は、予め定められた波長の紫外線もしくは赤外線の透過を抑制、または予め定められた波長の紫外線および赤外線の双方の透過を抑制する機能を備える
    請求項1に記載の液晶パネルの製造装置。
  3. 前記被処理パネルは、カラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板に対向する対向基板と、前記カラーフィルタ基板と前記対向基板との間に設けられた液晶層と、を備えており、
    前記被処理パネルは、前記カラーフィルタ基板側が前記載置面と接触するように前記ステージに配置され、前記光照射部は、前記対向基板の側から前記被処理パネルに前記光を照射する
    請求項1又は請求項2に記載の液晶パネルの製造装置。
  4. 前記液晶層は、少なくとも、ネマティック液晶組成物、ブルー相を発現する液晶組成物、及び、重合性モノマーを含んでおり、前記光の照射により、高分子安定化ブルー相を発現する
    請求項3に記載の液晶パネルの製造装置。
  5. 前記光照射部は、300nm〜400nmを主波長とし、かつ、前記載置面における波長が365nmの光の照度が15mW/cm以下の光源を備える
    請求項1〜4のうちいずれか一項に記載の液晶パネルの製造装置。
  6. 前記被処理パネルに前記光が照射されるときの前記被処理パネルにおける温度が、10℃〜70℃の間の設定温度に対して、±0.5℃以内となるように、前記ステージおよび前記循環型空調装置が制御される
    請求項1〜5のうちいずれか一項に記載の液晶パネルの製造装置。
  7. 温度制御するために内部に一定温度の液体を流通させるステージの載置面に被処理パネルを載置し、
    前記載置面と対面しかつ光照射部からの光が照射される窓材を有する照射ボックス内に前記被処理パネルを収容し、
    前記ステージ、前記照射ボックスを覆うように導入口と排出口を設けたチャンバーを配置し、
    前記ステージ内に一定温度の液体を流通させるとともに、一定温度の媒体を前記導入口から前記チャンバー内に導入して前記排出口から排出循環させながら、前記載置面に配置される前記被処理パネルに前記窓材を通して前記光照射部から光を照射する液晶パネルの製造方法であって、
    前記ステージの載置面に前記被処理パネルを載置する前に、保温チャンバー内に前記被処理パネルを位置付ける液晶パネルの製造方法。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6686600B2 (ja) * 2016-03-24 2020-04-22 東芝ライテック株式会社 液晶パネルの製造装置
CN106353905A (zh) * 2016-10-10 2017-01-25 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 蓝相液晶阵列基板的制造方法
JP2019164309A (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 東芝ライテック株式会社 液晶パネルの製造装置
CN108873488B (zh) * 2018-06-29 2021-04-20 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 紫外线照射机及制作配向膜的设备
KR102008509B1 (ko) * 2019-06-14 2019-08-07 ㈜ 엘에이티 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0245573A (ja) * 1988-08-08 1990-02-15 Seiken:Kk 電子部品の粉体塗装方法
JPH10163103A (ja) * 1996-12-02 1998-06-19 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
JP2000241785A (ja) * 1999-02-18 2000-09-08 Nec Eng Ltd 液晶表示素子セルの製造方法及び製造装置
JP3956830B2 (ja) * 2002-10-25 2007-08-08 株式会社デンソー 雰囲気炉
US20050183665A1 (en) * 2004-02-24 2005-08-25 Advanced Display Process Engineering Co., Ltd. Apparatus for manufacturing flat-panel display
JP2006201273A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Ushio Inc 偏光光照射装置
JP4896899B2 (ja) * 2007-01-31 2012-03-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置およびパーティクル付着防止方法
JP5316317B2 (ja) * 2009-09-01 2013-10-16 ウシオ電機株式会社 液晶パネルの製造方法
JP5651985B2 (ja) 2010-04-01 2015-01-14 ウシオ電機株式会社 紫外線照射装置
JP5430508B2 (ja) * 2010-07-07 2014-03-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の装置内温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP5836848B2 (ja) 2012-03-06 2015-12-24 東京エレクトロン株式会社 補助露光装置
JP5953512B2 (ja) * 2012-07-05 2016-07-20 株式会社ブイ・テクノロジー 光配向露光装置及び光配向露光方法
JP2014032325A (ja) * 2012-08-03 2014-02-20 Toshiba Lighting & Technology Corp 液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法

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