TWI661244B - 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法 - Google Patents

液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI661244B
TWI661244B TW103132244A TW103132244A TWI661244B TW I661244 B TWI661244 B TW I661244B TW 103132244 A TW103132244 A TW 103132244A TW 103132244 A TW103132244 A TW 103132244A TW I661244 B TWI661244 B TW I661244B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
panel
chamber
temperature
light
processed
Prior art date
Application number
TW103132244A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201537258A (zh
Inventor
藤岡純
田内亮彦
日野弘喜
Original Assignee
日商東芝照明技術股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商東芝照明技術股份有限公司 filed Critical 日商東芝照明技術股份有限公司
Publication of TW201537258A publication Critical patent/TW201537258A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI661244B publication Critical patent/TWI661244B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67161Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68785Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the mechanical construction of the susceptor, stage or support

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)

Abstract

本發明提供一種可提高被處理面板的生產率的液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法。實施方式的液晶面板的製造裝置包括光照射部、照射箱、平台、腔室、循環型空氣調節裝置及保溫腔室。光照射部放出光。照射箱包含使來自光照射部的光透過的窗口材料。平台包括與窗口材料相對面且載置被處理面板的載置面。平台使對載置面進行溫度控制的液體流通。腔室包覆著照射箱及平台。循環型空氣調節裝置將從導入口導入的氣體從排出口排出。保溫腔室保持為與腔室內相等的溫度,並且在所述保溫腔室與腔室之間被處理面板為可移動。

Description

液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法
本發明的實施方式涉及一種液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法。
在製造液晶面板時,有進行如下的所謂光配向步驟的方法:藉由利用紫外線燈等光源,對包括具有光反應性的高分子體的被處理面板照射規定波長的光,來使高分子體發生化學反應而具有配向功能(例如,參照專利文獻1)。
所述紫外線照射時的液晶面板的溫度理想的是在面板面上為均勻。特別是在利用高分子使液晶的藍色層穩定的狀態下,即,在使用高分子穩定化藍相(Polymer Stabilized Blue Phase,PSBP)的構成中,光照射時面板面上的溫度不均及溫度的歷時變化對顯示特性的不均所造成的影響大,因此迫切希望實現溫度均勻化。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-215463號公報
然而,在專利文獻1所揭示的紫外線照射裝置中,謀求的是實現溫度的均勻化的同時提高被處理面板的生產率。
本發明的目的在於提供一種液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法,可提高被處理面板的生產率。
實施方式的液晶面板的製造裝置包括光照射部、照射箱、平台(stage)、腔室(chamber)、循環型空氣調節裝置以及保溫腔室。光照射部放出光。照射箱包含使來自光照射部的光透過的窗口材料。平台包括以與窗口材料相對面的方式而設置且載置被處理面板的載置面。平台使對載置面的被照射光的區域進行溫度控制的液體在內部流通。腔室包覆著照射箱及平台。循環型空氣調節裝置包括設置於腔室的導入口及排出口,將從導入口導入的氣體從排出口排出,對腔室內的溫度進行控制。保溫腔室保持為與腔室內相等的溫度,並且在所述保溫腔室與腔室之間被處理面板為可移動。
實施方式的液晶面板的製造方法,包括:載置被處理面板至平台的載置面上,其中所述平台為了進行溫度控制而使固定 溫度的液體在內部流通;收納所述被處理面板於照射箱內,其中所述照射箱包含與所述載置面相對面並且被照射來自光照射部的光的窗口材料;以包覆所述平台、所述照射箱的方式而配置腔室,其中所述腔室設置有導入口及排出口;以及一邊使固定溫度的液體在所述平台內流通,並且將固定溫度的介質從所述導入口導入至所述腔室內並從所述排出口排出而進行循環,一邊經由所述窗口材料從所述光照射部對配置於所述載置面上的所述被處理面板照射光;其中,在所述平台的載置面上載置所述被處理面板之前,使所述被處理面板在保溫腔室內定位。
根據本發明,可提供一種能夠提高生產率的液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法。
1、1-1‧‧‧液晶面板的製造裝置
2‧‧‧被處理面板
3‧‧‧彩色濾光片基板
4‧‧‧對向基板
5‧‧‧液晶層
10‧‧‧光照射部
11‧‧‧棒狀燈(光源)
12‧‧‧鏡面
13‧‧‧閘門
20‧‧‧照射箱
21‧‧‧窗口材料
22‧‧‧第1濾光片
23‧‧‧第2濾光片
30‧‧‧平台
31‧‧‧載置面
32‧‧‧液體保溫循環元件
33‧‧‧配管
40‧‧‧腔室
43、63、66‧‧‧閘門
44、64‧‧‧搬出搬入口
45、65‧‧‧搬送用通路
50、70‧‧‧循環型空氣調節裝置
51、71‧‧‧導入口
52、72‧‧‧排出口
53、73‧‧‧送風管
60‧‧‧保溫腔室
80‧‧‧控制元件
圖1是表示實施方式的液晶面板的製造裝置的概略構成的截面圖。
圖2是表示被實施方式的液晶面板的製造裝置照射光的被處理面板的構成的截面圖。
圖3是說明實施方式的液晶面板的製造裝置的窗口材料所透過的光的圖。
圖4是表示實施方式的液晶面板的製造裝置的窗口材料的構 成的截面圖。
圖5是表示實施方式的變形例的液晶面板的製造裝置的概略構成的截面圖。
圖6是表示比較例及本發明例的被處理面板的溫度變化的圖。
以下所說明的實施方式的液晶面板的製造裝置1包括光照射部10、照射箱20、平台30、腔室40、循環型空氣調節裝置50及保溫腔室60。光照射部10放出光。照射箱20包含使來自光照射部10的光透過的窗口材料21。平台30包括以與窗口材料21相對面的方式而設置且載置被處理面板2的載置面31。平台30使對載置面31的被照射光的區域進行溫度控制的液體在內部流通。腔室40包覆著照射箱20及平台30。循環型空氣調節裝置50包括設置於腔室40的導入口51及排出口52,將從導入口51導入的氣體從排出口52排出,對腔室40內的溫度進行控制。保溫腔室60保持為與腔室40內相等的溫度,並且在保溫腔室60與所述腔室40之間被處理面板2為可移動。
而且,以下所說明的實施方式的液晶面板的製造裝置1中,所述窗口材料21具備如下功能:對預定波長的紫外線或紅外線的透過進行抑制,或對預定波長的紫外線及紅外線兩者的透過進行抑制。
而且,以下所說明的實施方式的液晶面板的製造裝置1中,被處理面板2包括彩色濾光片(color filter)基板3、對向基板4及液晶層5。對向基板4與彩色濾光片基板3相對向。液晶層5設置於彩色濾光片基板3與對向基板4之間。被處理面板2是以彩色濾光片基板3側與載置面31相接觸的方式而配置於平台30上,光照射部10從對向基板4側對被處理面板2照射光。
而且,以下所說明的實施方式的液晶面板的製造裝置1中,液晶層5至少包含向列型(nematic)液晶組合物、顯現藍相的液晶組合物及聚合性單體(polymerizable monomer)。液晶層5藉由光的照射而顯現高分子穩定化藍相。
而且,以下所說明的實施方式的液晶面板的製造裝置1中,光照射部10包括以300nm~400nm為主波長,並且載置面上的365nm的波長的光的照度為小於或等於15mW/cm2的光源11。
而且,以下所說明的實施方式的液晶面板的製造裝置1對平台30及循環型空氣調節裝置50進行控制,以使得被照射光時的被處理面板2上的溫度相對於10℃~70℃之間的設定溫度為±0.5℃以內。
而且,以下所說明的實施方式的液晶面板的製造方法是在平台30的載置面31上載置被處理面板2,所述平台30為了進行溫度控制而使固定溫度的液體在內部流通。將所述被處理面板2收納於照射箱20內,所述照射箱20包含與載置面31相對面並且 被照射來自光照射部10的光的窗口材料21。以包覆平台30及照射箱20的方式而配置腔室40,所述腔室40設置有導入口51及排出口52。一邊使固定溫度的液體在平台30內流通,並且將固定溫度的介質從導入口51導入至腔室內並從排出口52排出而進行循環,一邊經由窗口材料21從光照射部10對配置於載置面31上的被處理面板2照射光。在平台30的載置面31上載置被處理面板2之前,使被處理面板2在保持為與腔室40內相等的溫度的保溫腔室60內定位。
實施方式
接著,根據附圖對本發明的實施方式的液晶面板的製造裝置1進行說明。圖1是表示實施方式的液晶面板的製造裝置的概略構成的截面圖,圖2是表示被實施方式的液晶面板的製造裝置照射光的被處理面板的構成的截面圖,圖3是說明實施方式的液晶面板的製造裝置的窗口材料所透過的光的圖,圖4是表示實施方式的液晶面板的製造裝置的窗口材料的構成的截面圖。
圖1所示的實施方式的液晶面板的製造裝置(以下只記作製造裝置)1一邊保持為固定的溫度,一邊對被處理面板2照射光,使被處理面板2顯現例如構成液晶顯示器的高分子穩定化藍相等。被製造裝置1照射光的被處理面板2如圖2所示,包括彩色濾光片基板3、與彩色濾光片基板3相對向的對向基板4、以及設置於彩色濾光片基板3與對向基板4之間的液晶層5。
彩色濾光片基板3例如是將使紅色光、綠色光、藍色光 透過的彩色濾光片配置於基板上,並利用保護膜加以覆蓋的基板。對向基板4是將電極呈陣列狀配置的基板。液晶層5至少包含向列型液晶組合物、顯現藍相的液晶組合物及聚合性單體。液晶層5藉由被製造裝置1照射光,而顯現高分子穩定化藍相。
構成液晶層5的所謂向列型液晶組合物,是由具有介電各向異性(dielectric anisotropy)的材料所構成。
所謂顯現藍相的液晶組合物是如下材料:一邊使可穩定地存在的溫度範圍例如擴大至室溫,具體而言擴大至大於或等於0℃,一邊藉由被照射光,而可使回應性高於向列型液晶組合物。所謂顯現藍相的液晶組合物,例如是在相對於10℃~70℃之間的規定的設定溫度而保持在±0.5℃以內的狀態下,被照射光時,均勻地顯現高分子穩定化藍相的材料。例如,所謂當設定溫度為55℃時顯現藍相的液晶組合物,是在使溫度保持在54.5℃~55.5℃的範圍內的狀態下,被照射光時,均勻地顯現高分子穩定化藍相的材料,所謂當設定溫度為60℃時顯現藍相的液晶組合物,是在使溫度保持在59.5℃~60.5℃的範圍內的狀態下,被照射光時,均勻地顯現高分子穩定化藍相的材料。
所謂聚合性單體,是用於使向列型液晶組合物或顯現高分子穩定化藍相的液晶組合物的組成穩定化的材料。
製造裝置1如圖1及圖2所示,包括放出光的光照射部10、照射箱20、平台30、腔室40、循環型空氣調節裝置50、保溫腔室60及控制元件80等。
光照射部10是放出光的構件,可對照射箱20內,具體而言,可對在照射箱20內與窗口材料21相對面的平台30的載置面31上所載置的被處理面板2經由窗口材料21照射光,所述窗口材料21使來自光照射部10的光透過。光照射部10包括作為光源的多個棒狀燈11、以及使棒狀燈11放出的光向平台30的載置面31反射的鏡面12。棒狀燈11是封入汞、鐵或碘等金屬鹵化物(metal halide)、氬氣等稀有氣體,主要放出紫外線的金屬鹵化物燈等呈直線狀延伸的管型燈。棒狀燈11是以300nm~400nm為主波長,並且,波長為365nm的光(紫外線)的照度為小於或等於15mW/cm2。再者,可使用UV-M02(ORC製作所股份有限公司制)作為照度計,使用UV-SN35(ORC製作所股份有限公司制)作為受光器。
在本實施方式中,棒狀燈11設置有4根,並且配置於照射箱20及平台30、載置於載置面31上的被處理面板2的上方。而且,棒狀燈11由未圖示的水冷套管(jacket)所包覆,而水冷套管使所述棒狀燈11照射的光通過。水冷套管中填充有水,藉由使所述填充的水循環,而使棒狀燈11保持為所需的工作溫度。
光照射部10包括閘門(shutter)13,所述閘門13藉由進行開閉,而使棒狀燈11所放出的光照射至平台30的載置面31上所載置的被處理面板2,或遮擋棒狀燈11所放出的光而限制對被處理面板2進行照射。閘門13設置於棒狀燈11與照射箱20之間。
照射箱20形成為箱狀,以將載置於平台30的載置面31 上的被處理面板2收納於內部的方式而配置於平台30上。而且,照射箱20包括窗口材料21,所述窗口材料21設置於光照射部10與載置面31之間,被照射來自被光照射部10的光。
窗口材料21具有對預定波長的紫外線及紅外線兩者的透過進行抑制的功能。窗口材料21是使適合於使液晶層5顯現高分子穩定化藍相的波長的光透過,並對其它光的透過進行抑制(限制)的構件。在本實施方式中,窗口材料21如圖4所示,是由第1濾光片22與第2濾光片23重疊而構成。第1濾光片22如圖3中以實線所示,使波長(nm)為A~B的紫外線透過,並對其它光(波長(nm)短於A的紫外線、波長(nm)長於B的紫外線、可見光線、紅外線)的透過進行抑制(限制)。第2濾光片23如圖3中以兩點鏈線所示,使波長(nm)為C~D的紫外線、可見光線、紅外線透過,且對其它光(特別是波長(nm)短於C的紫外線、波長(nm)長於D的紅外線)的透過進行抑制(限制)。再者,C長於A且短於B,B短於D。因此,在本實施方式中,窗口材料21如圖3中以平行斜線所示,是使波長(nm)為C~B的紫外線透過,並對其它光的透過進行抑制(限制)的構件。而且,在本發明中,也可藉由將使波長(nm)為A~B的紫外線透過並且對其它光的透過進行抑制(限制)的濾光片蒸鍍至所述第2濾光片23上,而構成窗口材料21。
而且,在本發明中,窗口材料21只要可使適合於使液晶層5顯現高分子穩定化藍相的波長的光透過,則既可由對預定波 長的紫外線的透過進行抑制(限制)的濾光片所構成,也可由對預定波長的紅外線的透過進行抑制(限制)的濾光片所構成。如上所述,在本發明中,窗口材料21只要具備如下功能即可:藉由適合於使液晶層5顯現高分子穩定化藍相的波長,而對預定波長的紫外線或紅外線的透過進行抑制(限制)。
平台30包括載置被處理面板2的載置面31,藉由使作為固定溫度的液體的水在內部循環,而對載置於載置面31上的被處理面板2的溫度進行控制。平台30是為了對載置面31的被照射光的區域進行溫度控制而使水作為固定溫度的液體在內部流通。載置面31設置成與窗口材料21相對面,並且與光照射部10相對向。再者,在本發明中,理想的是使載置於載置面31上的被處理面板2所保持的溫度盡可能為固定,只要使載置於載置面31上的被處理面板2的溫度保持為固定,則作為在平台30內循環的流體的液體的溫度既可稍低於載置於載置面31上的被處理面板2的溫度,也可稍高於載置於載置面31上的被處理面板2的溫度。再者,在本發明中,平台30中,除了水以外,還可使各種液體循環。
在平台30上,以彩色濾光片基板3側與載置面31相接觸的方式而載置被處理面板2。即,被處理面板2是以彩色濾光片基板3與載置面31相接觸的方式而載置於平台30的載置面31上。因此,光照射部10從對向基板4側對被處理面板2照射光。
平台30形成為由鋁合金等所構成的厚壁的平板狀,並且設置有在內部使如下液體循環的循環路徑(未圖示),所述液體具 有使被處理面板2達到所需溫度的溫度。在平台30上連接著液體保溫循環元件32,所述液體保溫循環元件32使被處理面板2的溫度保持為固定,並且使液體在平台30的循環路徑內循環。液體保溫循環元件32例如包括與用於使液體循環的循環路徑連結的配管(圖2中表示一部分)33、眾所周知的加熱器(heater)、冷卻裝置及送出配管33內的液體的泵等。
腔室40形成為箱狀,包覆著整個照射箱20及平台30,並在上部設置有光照射部10。即,腔室40是以包覆照射箱20、平台30的方式而配置。
循環型空氣調節裝置50如圖1所示,包括設置於腔室40的導入口51及排出口52,將從導入口51導入的作為介質的氣體從排出口52排出,對腔室40內的溫度進行控制。循環型空氣調節裝置50藉由使從導入口51導入的氣體從排出口52排出,對腔室40內的溫度進行控制,而使腔室40內的溫度即照射箱20內的被處理面板2的溫度保持為固定的溫度。
在本實施方式中,導入口51及排出口52在腔室40的外壁形成開口,所述開口部配置於照射箱20的上方。循環型空氣調節裝置50使從導入口51導入的氣體流入至腔室40內,並從排出口52排出。循環型空氣調節裝置50中,例如,除了導入口51及排出口52以外,還包括用於使氣體按照導入口51、腔室40內、排出口52的順序循環的送風管53,使氣體保持為固定溫度的眾所周知的加熱器,冷卻裝置及送出送風管53內的氣體的送風機等。
再者,在本發明中,理想的是使按照導入口51、腔室40內、排出口52的順序循環的氣體的溫度、與使載置於載置面31上的被處理面板2所保持的溫度盡可能相等,只要使載置於載置面31上的被處理面板2保持為固定的溫度,則被循環的氣體的溫度既可稍低於載置於載置面31上的被處理面板2的溫度,也可稍高於載置於載置面31上的被處理面板2的溫度。再者,氣體的溫度始終是作為目標的溫度,也存在與實際溫度不同的情況。
關於保溫腔室60,在所述保溫腔室60與腔室40之間被處理面板2為可移動。保溫腔室60形成為箱狀,在內側與腔室40內同樣地收納有平台30,並且藉由循環型空氣調節裝置70而使內部的氣體的溫度保持為與腔室40內的氣體相等的溫度。再者,收納於保溫腔室60內的平台30具有與上述平台30相同的構成,因此對相同部分標注相同符號並省略說明。平台30是藉由液體保溫循環元件32而使液體在循環路徑內循環,以使得保溫腔室60內載置於載置面31上的被處理面板2的溫度與腔室40內載置於平台30的載置面31上的被處理面板2的溫度相等。
循環型空氣調節裝置70與上述循環型空氣調節裝置50同樣,包括設置於保溫腔室60的導入口71及排出口72,將從導入口71導入的作為介質的氣體從排出口72排出,對保溫腔室60內的溫度進行控制。而且,循環型空氣調節裝置70中,例如除了導入口71及排出口72以外,還包括用於使氣體按照導入口71、腔室60內、排出口72的順序循環的送風管73,使氣體保持為固 定溫度的眾所周知的加熱器,冷卻裝置及送出送風管53內的氣體的送風機等。在本實施方式中,導入口71及排出口72是在保溫腔室60的外壁形成開口,並且所述開口部配置於平台30的載置面31的上方。
而且,製造裝置1例如在排出口52、排出口72的附近等適當部位設置有溫度感測器(未圖示),所述溫度感測器對在設置於平台30、平台30的內部的循環路徑內進行流通的液體,在水冷套管內循環的水,在腔室40、保溫腔室60的內外進行循環的氣體等的溫度進行檢測。製造裝置1例如在導入口51、導入口71的附近等適當部位設置有流量感測器,所述流量感測器對從導入口51、導入口71導入至腔室40與保溫腔室60的氣體的流量進行檢測。
此外,在腔室40及保溫腔室60內設置有搬出搬入口44、搬出搬入口64,所述搬出搬入口44、搬出搬入口64在將被處理面板2搬出或搬入時藉由閘門43、閘門63而打開,在收納有被處理面板2時藉由閘門43、閘門63而封閉。腔室40及保溫腔室60經由搬出搬入口44、搬出搬入口64藉由未圖示的機械臂(robot arm)而將被處理面板2搬出或搬入。
而且,在腔室40的平台30及保溫腔室60的平台30上,設置有從保溫腔室60的平台30向腔室40的平台30即照射箱20內,搬送被處理面板2的未圖示的搬送輥。而且,在腔室40與保溫腔室60內設置有搬送用通路45、搬送用通路65,所述搬送用 通路45、搬送用通路65在從保溫腔室60向腔室40的照射箱20內搬送被處理面板2時,藉由閘門66而打開,在收納有被處理面板2時藉由閘門66而封閉。如上所述,實施方式的製造裝置1使保溫腔室60內的被處理面板2盡可能地不與外部的氣體接觸,而將被處理面板2從保溫腔室60內直接搬送至腔室40的照射箱20內。
控制元件80是對製造裝置1的光照射動作進行控制的構件。控制元件80與液體保溫循環元件32、循環型空氣調節裝置50、循環型空氣調節裝置70、光照射部10等連接。控制元件80例如是以未圖示的微處理器(micro processor)為主體而構成,並與用以顯示處理動作的狀態的顯示元件、操作員登錄加工內容資訊等時所使用的操作元件連接,所述微處理器包含由中央處理單元(central processing unit,CPU)等所構成的運算處理裝置及唯讀記憶體(read only memory,ROM)、隨機存取記憶體(random access memory,RAM)等。
控制元件80在從光照射部10對載置於平台30的載置面31上的被處理面板2照射光時,打開閘門13,並且根據溫度感測器等的檢測結果等,對包覆著棒狀燈11的水冷套管內所填充的水的溫度進行控制,使棒狀燈11保持為所需的工作溫度。而且,控制元件80在從光照射部10對載置於平台30的載置面31上的被處理面板2照射光時,打開閘門13,並且根據溫度感測器等的檢測結果等,對液體保溫循環元件32進行控制而使在平台30內循 環的液體的溫度保持為固定,對循環型空氣調節裝置50進行控制而使在腔室40的內外循環的氣體的溫度保持為固定,從而使載置於平台30的載置面31上的被處理面板2的溫度保持為固定。
例如,藉由控制元件80,在從光照射部10對被處理面板2照射光時,對平台30及循環型空氣調節裝置50進行控制,以使得被照射光時的被處理面板2的溫度相對於10℃~70℃之間的規定的設定溫度為±0.5℃以內。即,在本發明中,所謂使載置於平台30的載置面31上的被處理面板2的溫度保持為固定,是指相對於10℃~70℃之間的規定的設定溫度保持為±0.5℃以內的溫度。例如,當設定溫度為55℃時,藉由控制元件80,而對在液體保溫循環元件32內循環的液體的溫度及照射箱20內的溫度等進行控制,以使得被處理面板2的溫度保持為54.5℃~55.5℃的範圍內的溫度。當設定溫度為60℃時,藉由控制元件80,而對在液體保溫循環元件32內循環的液體的溫度及導入至照射箱20內的氣體的流量、溫度等進行控制,以使得被處理面板2的溫度保持為59.5℃~60.5℃的範圍內的溫度。
而且,所謂保溫腔室60的內部的與腔室40內相等的溫度,理想的是表示如下溫度:在將被處理面板2從保溫腔室60內移動至腔室40內時,在用於光照射部10照射光的準備動作中之類的期間內被處理面板2的溫度相對於設定溫度為±0.5℃以內。此外,在本發明中,所謂保溫腔室60內部的與腔室40內相等的溫度,只要為如下溫度即可:將被處理面板2從保溫腔室60內移動 至腔室40內時被處理面板2的溫度相對於設定溫度達到±0.5℃以內的溫度為止的時間,短於直接將被處理面板2移動至腔室40內時被處理面板2的溫度相對於設定溫度達到±0.5℃以內的溫度為止的時間。
接著,對使用所述構成的實施方式的製造裝置1的液晶面板的製造方法,即,對被處理面板2照射光的方法進行說明。首先,操作員將處理內容資訊登錄至控制元件80中,當出現處理動作的開始命令時,開始處理動作。接著,在處理動作中,首先,打開保溫腔室60的閘門63,經由搬出搬入口64,藉由機械臂等而將被處理面板2載置於保溫腔室60的平台30的載置面31上。然後,控制元件80關閉閘門63,使液體在平台30內循環,並且經由導入口71將氣體導入至保溫腔室60內並從排出口72排出。此外,同時,控制元件80使液體在平台30內流通,並且經由導入口51將氣體導入至腔室40內並從排出口52排出,並且使水在水冷套管內循環。
控制元件80在經過被處理面板2的溫度達到設定溫度或大致達到設定溫度的規定時間時,打開閘門66,經由搬送用通路45、搬送用通路65,將被處理面板2從保溫腔室60搬送至腔室40的照射箱20內。接著,控制元件80將被處理面板2載置於平台30的載置面31上,並收納於照射箱20內,並且關閉閘門66。控制元件80對棒狀燈11進行點燈,並打開閘門13。控制元件80一邊使固定溫度的水在平台30內流通,並且將氣體從導入口51 導入至腔室40內並從排出口52排出而進行循環,一邊經由窗口材料21從光照射部10對載置於載置面31上的被處理面板2照射固定時間的光。這時,例如,對被處理面板2照射波長為365nm並且照度為2mW/cm2的光。
照射固定時間的光之後,控制元件80關閉閘門13,並打開腔室40的閘門43,經由搬出搬入口44,藉由機械臂等而從腔室40的照射箱20內的平台30的載置面31上卸下被處理面板2,而搬送至下一個步驟。並且,在從保溫腔室60搬送被處理面板2至腔室40的照射箱20內之後,控制元件80將光照射前的被處理面板2載置於保溫腔室60的平台30的載置面31上。與所述步驟同樣地,照射光。如上所述,在使用實施方式的製造裝置1的液晶面板的製造方法中,在將被處理面板2載置於腔室40內的平台30的載置面31上之前,使被處理面板2在保持為與腔室40內相等的溫度的保溫腔室60內定位。
根據所述構成的實施方式的製造裝置1及液晶面板的製造方法,包括保溫腔室60,所述保溫腔室60保持為與腔室40內相等的溫度,並且在所述保溫腔室60與腔室40之間被處理面板2為可移動。而且,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,將被處理面板2載置於腔室40內的平台30的載置面31上並從光照射部10照射固定時間的光之前,將被處理面板2在保溫腔室60的平台30的載置面31上載置規定時間。因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,載置於腔室40內的平台30的載置面31上 的被處理面板2的溫度立即變為設定溫度,從而可縮短將被處理面板2載置於腔室40內的平台30的載置面31上起至開始照射光為止的時間。因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,可縮短將被處理面板2載置於腔室40內的平台30的載置面31上的時間,從而可提高被處理面板2的生產率。
而且,根據所述構成的實施方式的製造裝置1及液晶面板的製造方法,使液體在平台30內循環,對被處理面板2的溫度進行控制以保持為固定的溫度,除此以外,使包覆著對被處理面板2進行收納的照射箱20的腔室40內的氣體保持為固定。而且,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,可使對被處理面板2進行收納的照射箱20的內部與照射箱20的外部,即,與腔室40的內部的溫度保持為大致相同且大致固定,從而可抑制從照射箱20向腔室40的溫度的散熱,因此可抑制照射箱20內的溫度的變化。因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,可抑制照射箱20內的被處理面板2的溫度的變化。而且,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,可藉由平台30內的液體而使載置於載置面31上的被處理面板2的溫度保持為固定。因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,可抑制照射箱20內的被處理面板2的溫度的變化。
此外,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,窗口材料21使適合於使液晶層5顯現高分子穩定化藍相的波長的光透過,且對其它光的透過進行限制,因此對被處理面板2只照射使 高分子穩定化藍相顯現所需的最低限度的光。因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,即使從光照射部10對載置於載置面31上的被處理面板2照射光,也可抑制對被處理面板2照射不需要的光的情況。特別是可抑制對被處理面板2照射會帶來溫度變化的紅外線等不需要的光的情況。由此,可抑制載置於載置面31上的被處理面板2的溫度上升。因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,可更確實地抑制照射箱20內的被處理面板2的溫度的變化。
而且,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,將氣體導入至包覆著照射箱20的腔室40內。因此,可使腔室40內的氣體的溫度與照射箱20內的溫度保持為大致相同。因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,可抑制被處理面板2的溫度不均。
而且,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,將固定溫度的氣體導入至包覆著照射箱20的腔室40內。因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,即使被照射光時的被處理面板2上的溫度例如與50℃或60℃等製造裝置1的外部氣體的溫度的差大,也可抑制設置於照射箱20內的被處理面板2因與製造裝置1外部的溫度差而散熱所導致的被處理面板2的溫度變化。
因此,根據製造裝置1及液晶面板的製造方法,可實現抑制載置於載置面31上的被處理面板2的溫度不均,且可抑制被處理面板2的溫度的變化。
而且,根據製造裝置1,以彩色濾光片基板3與載置面 31相接觸的方式,而將被處理面板2載置於平台30上,光照射部10向對向基板4照射光。而且,根據製造裝置1,液晶層5包含使高分子穩定化藍相顯現的液晶組合物。此外,光照射部10包括以300nm~400nm為主波長,並且波長為365nm的光的照度為小於或等於15mW/cm2的棒狀燈11。而且,對平台30的液體及導入至照射箱20內的氣體進行控制,以使得對被處理面板2照射光時的被處理面板2上的溫度相對於10℃~70℃之間的設定溫度為±0.5℃以內。因此,根據製造裝置1,使光作用至液晶層5,可使高分子穩定化藍相確實地顯現。
而且,根據製造裝置1,將導入口51及排出口52的開口部配置於照射箱20的上方,因此氣體難以直接觸碰至照射箱20,從而可抑制照射箱20內的氣體的溫度變化。因此,根據製造裝置1,可進一步抑制照射箱20內的氣體的溫度的變化。
再者,若使載置於腔室40的平台30的載置面31上的被照射面板2的溫度保持為所需的溫度,則當欲將腔室40的溫度設定為例如60℃時,保溫腔室60例如也可設定為40℃。而且,考慮到在從保溫腔室60向腔室40搬送被處理面板2的期間溫度下降的情況,也可將保溫腔室60例如設定為80℃。
而且,設置於腔室40上的循環型空氣調節裝置50及設置於保溫腔室60上的循環型空氣調節裝置70也可只由其中任一個來構成。例如,既可只利用設置於腔室40上的循環型空冷裝置50來使腔室40及保溫腔室60保持為相等的溫度,也可只利用設 置於保溫腔室60上的循環型空氣調節裝置70來使腔室40及保溫腔室60保持為相等的溫度。當只設置循環型空氣調節裝置50時,例如,對設置於腔室40上的循環型空氣調節裝置50進行設定以達到所需的溫度,保溫腔室60的溫度也可稍低於腔室40的溫度。而且,當只設置循環型空氣調節裝置70時,例如,對設置於腔室40上的循環型空氣調節裝置70進行設定以達到所需的溫度,保溫腔室60的溫度也可稍高於腔室40的溫度。
而且,設置於腔室40上的循環型空氣調節裝置50及設置於保溫腔室60上的循環型空氣調節裝置70也可為相同裝置。這種情況下,也可使從循環型空氣調節裝置50送入的氣體例如按照腔室40的導入口51、腔室40、排出口52、保溫腔室60的導入口71、保溫腔室60、排出口72的順序進行循環。而且,也可使從循環型空氣調節裝置50送入的氣體例如分支導入至腔室40的導入口51及保溫腔室60的導入口71,經由腔室40及保溫腔室60,在腔室40的排出口52及保溫腔室60的排出口72進行合流而按順序循環。
變形例
其次,根據圖式對本發明的實施方式的變形例的液晶面板的製造裝置(以下只記作製造裝置)1-1進行說明。圖5是表示實施方式的變形例的液晶面板的製造裝置的概略構成的截面圖。再者,在圖5中,標注與上述實施方式相同的符號來進行說明。
變形例的製造裝置1-1如圖5所示,不包括所述保溫腔室 60,而包括2個腔室40、腔室40。而且,將光照射部10的棒狀燈11及鏡面12設置成在圖5中以實線表示的位置與以虛線表示的位置之間移動自如,即,在2個腔室40、腔室40之間移動自如,棒狀燈11即光照射部10對任一個腔室40、腔室40的平台30、平台30的載置面31、載置面31上的被處理面板2、被處理面板2照射光。此外,在各腔室40、腔室40內設置有藉由機械臂而將被處理面板2、被處理面板2搬出或搬入且藉由閘門43、閘門43而進行開閉的搬出搬入口44、搬出搬入口44,而且在腔室40、腔室40之間未設置對被處理面板2、被處理面板2進行搬送的搬送用通路45、搬送用通路65。
在使用變形例的製造裝置1-1的液晶面板的製造方法中,控制元件80使光照射部10的棒狀燈11及鏡面12交替地移動至2個腔室40、腔室40,對載置於2個腔室40、腔室40的平台30、平台30的載置面31、載置面31上的被處理面板2、被處理面板2交替地照射光。而且,在使用變形例的製造裝置1-1的液晶面板的製造方法中,控制元件80利用機械臂等將已被照射光的一個腔室40內的被處理面板2搬送至下一個步驟,將光照射前的被處理面板2載置於一個腔室40內的平台30的載置面31上。而且,同時,控制元件80使棒狀燈11及鏡面12在另一個腔室40內定位,對另一個腔室40的平台30的載置面31上的被處理面板2照射光。
再者,在變形例中,2個腔室40、腔室40之中,光照射 部10不位於上部之側,即,將被處理面板2搬出或搬入於平台30的載置面31上的一側的一個腔室40相當於請求項中所述的保溫腔室。而且,在變形例中,2個腔室40、腔室40之中,光照射部10位於上部的一側,即,對平台30的載置面31上的被處理面板2照射光的一側的另一個腔室40相當於請求項中所述的腔室。總而言之,在變形例中,2個腔室40、腔室40交替地相當於請求項中所述的腔室及保溫腔室。在變形例中,藉由使光照射部10的棒狀燈11及鏡面12交替地移動至2個腔室40、腔室40,可如請求項中所述,在腔室與保溫腔室之間被處理面板2為可移動。
其次,對所述實施方式的製造裝置1及液晶面板的製造方法的效果進行確認。將結果示於圖6。圖6是表示比較例及本發明例的被處理面板的溫度變化的圖。
再者,在圖6所示的情況下,以橫軸表示在腔室40的平台30的載置面31上載置被處理面板2起的經過時間,以縱軸表示被處理面板2的溫度。而且,在圖6所示的情況下,將設定溫度設為50℃。圖6中的以實線表示的本發明例是使用實施方式中所揭示的製造裝置1,圖6中的以虛線表示的比較例是使用不包括保溫腔室60而只表示有腔室40的製造裝置。
根據圖6所示的溫度變化可知,比較例在被處理面板2的溫度達到設定溫度即50℃的±0.5℃的範圍內的溫度為止之前,花費60秒。相對於如上所述的比較例,可知本發明例在將被處理面板2載置於平台30的載置面31上之後不久被處理面板2的溫 度達到設定溫度即50℃±0.5℃的範圍內的溫度。因此,根據圖6所示的結果可知,本發明例可在將被處理面板2載置於腔室40的平台30的載置面31上之後不久對被處理面板2照射光,從而可提高被處理面板2的生產率。
對本發明的若干實施方式進行了說明,但所述實施方式是作為例示而起提示作用,並不意圖對發明的範圍進行限定。所述實施方式可藉由其它各種方式來實施,在不脫離發明的主旨的範圍內,可進行各種省略、置換、變更。所述實施方式包含于發明的範圍及主旨內,同樣地,也包含於權利要求書所述的發明及其同等的範圍內。

Claims (7)

  1. 一種液晶面板的製造裝置,對被處理面板照射光以使所述被處理面板顯現穩定化藍相,包括:光照射部,放出所述光;照射箱,包含窗口材料,其中所述窗口材料使來自所述光照射部的光透過;平台,包括載置面,並且使對所述載置面的被照射所述光的區域進行溫度控制的液體在內部流通,其中所述載置面以與所述窗口材料相對面的方式而設置且載置所述被處理面板;腔室,包覆著所述照射箱及所述平台;循環型空氣調節裝置,包括設置於所述腔室的導入口及排出口,將從所述導入口導入的氣體從所述排出口排出,對所述腔室內的溫度進行控制;以及保溫腔室,保持為與所述腔室內相等的溫度,在所述保溫腔室與所述腔室之間所述被處理面板為可移動,且所述被處理面板保持為與所述腔室內相等的溫度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的液晶面板的製造裝置,其中所述窗口材料具備對預定波長的紫外線或紅外線的透過進行抑制的功能,或者具備對所述預定波長的所述紫外線及所述紅外線兩者的透過進行抑制的功能。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的液晶面板的製造裝置,其中,所述被處理面板包括:彩色濾光片基板;對向基板,與所述彩色濾光片基板相對向;以及液晶層,設置於所述彩色濾光片基板與所述對向基板之間;並且所述被處理面板是以所述彩色濾光片基板側與所述載置面相接觸的方式而配置於所述平台上,所述光照射部從所述對向基板側對所述被處理面板照射所述光。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的液晶面板的製造裝置,其中所述液晶層至少包含向列型液晶組合物、顯現藍相的液晶組合物及聚合性單體,並且所述液晶層藉由所述光的照射而顯現高分子穩定化藍相。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的液晶面板的製造裝置,其中所述光照射部包括以300nm~400nm為主波長,並且所述載置面上的波長為365nm的光的照度為小於或等於15mW/cm2的光源。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的液晶面板的製造裝置,其中對所述平台及所述循環型空氣調節裝置進行控制,以使得對所述被處理面板照射所述光時的所述被處理面板上的溫度相對於10℃~70℃之間的設定溫度為±0.5℃以內。
  7. 一種液晶面板的製造方法,對被處理面板照射光以使所述被處理面板顯現穩定化藍相,包括:載置所述被處理面板至平台的載置面上,其中所述平台為了進行溫度控制而使固定溫度的液體在內部流通;收納所述被處理面板於照射箱內,其中所述照射箱包含與所述載置面相對面並且被照射來自光照射部的所述光的窗口材料;以包覆所述平台、所述照射箱的方式而配置腔室,其中所述腔室設置有導入口及排出口;以及一邊使固定溫度的所述液體在所述平台內流通,並且將固定溫度的介質從所述導入口導入至所述腔室內並從所述排出口排出而進行循環,一邊經由所述窗口材料從所述光照射部對配置於所述載置面上的所述被處理面板照射光;其中,在所述平台的所述載置面上載置所述被處理面板之前,使所述被處理面板在保持為與所述腔室內相等的溫度的保溫腔室內定位,以使所述被處理面板保持為與所述腔室內相等的溫度。
TW103132244A 2014-03-31 2014-09-18 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法 TWI661244B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-072814 2014-03-31
JP2014072814A JP6164142B2 (ja) 2014-03-31 2014-03-31 液晶パネルの製造装置及び液晶パネルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201537258A TW201537258A (zh) 2015-10-01
TWI661244B true TWI661244B (zh) 2019-06-01

Family

ID=54165286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103132244A TWI661244B (zh) 2014-03-31 2014-09-18 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6164142B2 (zh)
KR (1) KR102179182B1 (zh)
CN (1) CN104950519B (zh)
TW (1) TWI661244B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6686600B2 (ja) * 2016-03-24 2020-04-22 東芝ライテック株式会社 液晶パネルの製造装置
CN106353905A (zh) * 2016-10-10 2017-01-25 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 蓝相液晶阵列基板的制造方法
JP2019164309A (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 東芝ライテック株式会社 液晶パネルの製造装置
CN108873488B (zh) * 2018-06-29 2021-04-20 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 紫外线照射机及制作配向膜的设备
KR102008509B1 (ko) * 2019-06-14 2019-08-07 ㈜ 엘에이티 디스플레이용 글라스 기판 온도조절시스템

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201403250A (zh) * 2012-07-05 2014-01-16 V Technology Co Ltd 光配向曝光裝置及光配向曝光方法
TW201407244A (zh) * 2012-08-03 2014-02-16 Toshiba Lighting & Technology 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0245573A (ja) * 1988-08-08 1990-02-15 Seiken:Kk 電子部品の粉体塗装方法
JPH10163103A (ja) * 1996-12-02 1998-06-19 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
JP2000241785A (ja) * 1999-02-18 2000-09-08 Nec Eng Ltd 液晶表示素子セルの製造方法及び製造装置
JP3956830B2 (ja) * 2002-10-25 2007-08-08 株式会社デンソー 雰囲気炉
US20050183665A1 (en) * 2004-02-24 2005-08-25 Advanced Display Process Engineering Co., Ltd. Apparatus for manufacturing flat-panel display
JP2006201273A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Ushio Inc 偏光光照射装置
JP4896899B2 (ja) * 2007-01-31 2012-03-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置およびパーティクル付着防止方法
JP5316317B2 (ja) * 2009-09-01 2013-10-16 ウシオ電機株式会社 液晶パネルの製造方法
JP5651985B2 (ja) * 2010-04-01 2015-01-14 ウシオ電機株式会社 紫外線照射装置
JP5430508B2 (ja) * 2010-07-07 2014-03-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の装置内温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP5836848B2 (ja) * 2012-03-06 2015-12-24 東京エレクトロン株式会社 補助露光装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201403250A (zh) * 2012-07-05 2014-01-16 V Technology Co Ltd 光配向曝光裝置及光配向曝光方法
TW201407244A (zh) * 2012-08-03 2014-02-16 Toshiba Lighting & Technology 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150113797A (ko) 2015-10-08
CN104950519B (zh) 2019-07-30
KR102179182B1 (ko) 2020-11-16
TW201537258A (zh) 2015-10-01
JP2015194623A (ja) 2015-11-05
CN104950519A (zh) 2015-09-30
JP6164142B2 (ja) 2017-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI661244B (zh) 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法
TW201128708A (en) Heat treatment apparatus
JP2003121023A (ja) 熱媒体循環装置及びこれを用いた熱処理装置
TWI608271B (zh) 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法
TW201407244A (zh) 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法
JP5651985B2 (ja) 紫外線照射装置
KR102372648B1 (ko) 소수화 처리 방법, 소수화 처리 장치 및 소수화 처리용 기록 매체
JP6488950B2 (ja) 液晶パネルの製造装置
JP2001148379A (ja) 半導体基板の熱処理装置及び熱処理方法
TWI559368B (zh) A hydrophobization treatment apparatus, a hydrophobization treatment method, and a recording medium for hydrophobizing treatment
JP2003165735A (ja) ガラス基板用熱処理装置
TWI597539B (zh) 液晶面板的製造裝置及液晶面板的製造方法
TWI683160B (zh) 液晶面板的製造裝置以及液晶面板的製造方法
JP2004247345A (ja) 熱処理装置
KR20180124267A (ko) 웨이퍼 가열장치
US20140042153A1 (en) Microwave processing method and microwave processing apparatus
KR101476987B1 (ko) 열처리 장치
JP2000234872A (ja) 熱処理装置
JP2006245491A (ja) 基板熱処理装置および基板熱処理製造方法
JP6824772B2 (ja) 乾燥装置及び乾燥体の製造方法
JP2007010186A (ja) 熱処理装置
JP2004281637A (ja) 枚葉型半導体熱処理装置