CN108873488B - 紫外线照射机及制作配向膜的设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种紫外线照射机及制作配向膜的设备。该紫外线照射机包括：紫外线照射机本体、与所述紫外线照射机本体间隔设置的制冷装置、与所述制冷装置连接的第一气体输入管道、与所述紫外线照射机本体及制冷装置均连接的气体管道；通过制冷装置将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道通入到紫外线照射机本体中，降低紫外线照射机本体的温度及后续进入到紫外线照射机本体中的玻璃基板的温度，使得玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，降低了玻璃基板与紫外线照射机发生刮伤的风险，避免玻璃基板发生破片。

Description

紫外线照射机及制作配向膜的设备
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种紫外线照射机及制作配向膜的设备。
背景技术
薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)是目前液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(Active Matrix Organic Light-Emitting Diode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)与彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
在TFT-LCD行业中，配向膜涂布在TFT阵列基板和CF基板上，起着控制液晶分子排列方向的作用，配向膜涂布前经过清洗机和紫外线照射机(EUV)等净化玻璃(Glass)基板的制程，其中EUV用于去除有机物和表面改质的作用，利于配向膜在玻璃基板上成膜达到更佳的品质。
业界对配向膜制程的设备规划有两种模式。第一种模式为玻璃基板依次通过清洗机、EUV、烘干机以及配向膜涂布机，由于第一种模式下EUV处理玻璃基板后再经过烘干机的长时间高温烘烤，会降低EUV已对玻璃基板表面改质的效果，一定程度上影响配向膜的成膜品质，一般不会采用该模式。
第二种模式为玻璃基板依次通过清洗机、烘干机、EUV以及配向膜涂布机。目前有如下问题：
1、烘干机对玻璃基板处理后温度接近150℃，而EUV开启时灯管表面温度约200℃，当玻璃基板经过EUV光照区时，玻璃基板会大幅度变形并可能导致刮伤，严重时甚至造成破片。
2、为了避免玻璃基板的刮伤风险，一般把EUV Gap(紫外线照射机的紫外线灯与Glass的间距)调整到6mm以上(规格原本为3mm左右)，间距升高后会造成EUV制程能力大大下降，继而降低了配向膜成膜的品质(如配向膜不沾、预倾角降低等问题)。
发明内容
本发明的目的在于提供一种紫外线照射机，能够使玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，避免玻璃基板发生刮伤及破片。
本发明的目的还在于提供一种制作配向膜的设备，玻璃基板上形成的配向膜的成膜品质高，避免了配向膜不沾及预倾角降低等不良问题。
为实现上述目的，本发明提供了一种紫外线照射机，包括：紫外线照射机本体、与所述紫外线照射机本体间隔设置的制冷装置、与所述制冷装置连接的第一气体输入管道、与所述紫外线照射机本体及制冷装置均连接的气体管道；
所述制冷装置用于将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道通入到紫外线照射机本体中。
所述紫外线照射机本体包括设于所述紫外线照射机本体一端的入口，所述紫外线照射机本体内设有光照区；所述光照区覆盖玻璃基板。
所述气体管道包括设于所述入口处并与制冷装置连接的第一连接管道以及与所述光照区及制冷装置均连接的第二连接管道；所述制冷装置将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第一连接管道输出到入口，及经过第二连接管道输出到光照区。
所述光照区内设有用于产生紫外线的紫外线灯，该紫外线灯与玻璃基板的间距为2-4mm。
所述第一气体为压缩空气。
所述紫外线照射机还包括与所述制冷装置连接的第二气体输入管道；所述气体管道还包括与所述光照区及制冷装置均连接的第三连接管道；所述制冷装置将第二气体输入管道输入的第二气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第三连接管道输出到光照区。
所述第二气体为稀释气体。
所述稀释气体为氮气
所述制冷装置还用于控制第一连接管道、第二连接管道及第三连接管道的气体流量。
本发明还提供一种制作配向膜的设备，包括依次连接的清洗机、烘干机、上述的紫外线照射机以及涂布机。
本发明的有益效果：本发明的紫外线照射机包括：紫外线照射机本体、与所述紫外线照射机本体间隔设置的制冷装置、与所述制冷装置连接的第一气体输入管道、与所述紫外线照射机本体及制冷装置均连接的气体管道；通过制冷装置将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道通入到紫外线照射机本体中，降低紫外线照射机本体的温度及后续进入到紫外线照射机本体中的玻璃基板的温度，使得玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，降低了玻璃基板与紫外线照射机发生刮伤的风险，避免玻璃基板发生破片。本发明的制作配向膜的设备包括依次连接的清洗机、烘干机、上述的紫外线照射机以及涂布机，紫外线照射机的净化能力强，对玻璃基板的表面改质效果好，玻璃基板上形成的配向膜的成膜品质高，避免了配向膜不沾及预倾角降低等不良问题。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的紫外线照射机的示意图；
图2为本发明的紫外线照射机的立体示意图；
图3为本发明的制作配向膜的设备的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1及图2，本发明提供一种紫外线照射机包括：紫外线照射机本体10、与所述紫外线照射机本体10间隔设置的制冷装置20、与所述制冷装置20连接的第一气体输入管道30、与所述紫外线照射机本体10及制冷装置20均连接的气体管道40；
所述制冷装置20用于将第一气体输入管道30输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道40通入到紫外线照射机本体10中。
需要说明的是，本发明通过设置与紫外线照射机本体10间隔设置的制冷装置20，通入所述第一气体输入管道30中的第一气体，并将第一气体输入管道30中的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道40通入到紫外线照射机本体10中，降低紫外线照射机本体10的温度及进入到紫外线照射机本体10中的玻璃基板的温度，使得玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，降低了玻璃基板与紫外线照射机发生刮伤的风险，避免玻璃基板发生破片。
具体地，所述第一气体为压缩空气。
具体地，所述紫外线照射机本体10包括设于所述紫外线照射机本体10一端的入口11，所述紫外线照射机本体10内设有光照区12，所述光照区12覆盖玻璃基板60，玻璃基板60从入口11处向光照区12移动，所述光照区12中的紫外线照射在玻璃基板60上，将通入到光照区12的第一气体输入管道30中的第一气体中的氧气形成臭氧，进而通过臭氧去除玻璃基板上的有机物，达到表面改质的作用。
具体地，所述光照区12内设有用于产生紫外线的紫外线灯121。
具体地，所述气体管道40包括设于所述入口11处并与制冷装置20连接的第一连接管道41以及与所述光照区12及制冷装置20均连接的第二连接管道42，所述制冷装置20将第一气体输入管道30输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第一连接管道41输出到入口11，及经过第二连接管道42输出到光照区12，使得玻璃基板60在进入紫外线照射机本体10的入口11时就被冷却，在玻璃基板60移动到紫外线照射机本体10的光照区12时进一步被冷却，使玻璃基板60不会因为高温而产生形变。因此可以将紫外线灯121与玻璃基板60的间距设置在2-4mm左右，由于玻璃基板60与光照区12的距离越近，紫外线照射的净化效果越好，相比于现有技术中紫外线灯121与玻璃基板60的间距设置在6mm以上，本发明可以提高紫外线照射机的净化能力，进而提高配向膜成膜的品质。
具体地，为了保证光照区12中紫外线去除玻璃基板上的有机物作用，所述光照区12中氧气浓度不能高于一定的浓度值，因此所述紫外线照射机还包括与所述制冷装置20连接的第二气体输入管道50，所述气体管道40还包括与所述光照区12及制冷装置20均连接的第三连接部管道；所述制冷装置20将第二气体输入管道50输入的第二气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第三连接管道43输出到光照区12中，使得光照区12内的氧气浓度保持在低于一浓度范围值内。
进一步地，所述第二气体为稀释气体；该稀释气体优选为氮气(N2)。
具体地，所述制冷装置20还可控制第一连接管道41、第二连接管道42及第三连接管道43的气体流量，可以合理控制所述第一连接管道41的气体流量，以便合理降低紫外线照射机本体10内的温度及玻璃基板60的温度，也可以合理控制所述第二连接管道42及第三连接管道43的气体流量，便合理降低光照区12的温度及玻璃基板60的温度，同时兼顾紫外线照射玻璃基板60的洁净效果。
请参阅图3，基于上述的紫外线照射机，本发明还提供一种制作配向膜的设备，包括依次连接的清洗机1、烘干机2、上述的紫外线照射机3以及涂布机4。
需要说明的是，玻璃基板60依次通过清洗机1、烘干机2、上述的紫外线照射机3以及涂布机4，首先，所述清洗机1清洗玻璃基板60，接着，所述烘干机2对玻璃基板60进行烘干，烘干时间约为4-6min，烘干温度约为100℃-150℃，然后，所述紫外线照射机3中的制冷装置20将第一气体输入管道30输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第一连接管道41输出到入口11处，及经过第二连接管道42输出到光照区12中，使玻璃基板60从入口11移动到光照区12的过程中均被冷却，并且玻璃基板60在光照区12被紫外线照射去除有机物时，光照区12中的温度同样被降低，使得玻璃基板60不会因为高温而产生形变，并且光照区12中的紫外线灯121与玻璃基板60的间距设置在2-4mm左右，由于玻璃基板60与光照区12的距离越近，紫外线照射的净化效果越好，因此紫外线照射机的净化能力强，对玻璃基板60的表面改质效果好，最后所述涂布机4在玻璃基板60上形成配向膜，该配向膜的成膜品质高，避免了配向膜不沾及预倾角降低等不良问题。
具体地，所述配向膜的材料为聚酰亚胺(PI)。
综上所述，本发明的紫外线照射机包括：紫外线照射机本体、与所述紫外线照射机本体间隔设置的制冷装置、与所述制冷装置连接的第一气体输入管道、与所述紫外线照射机本体及制冷装置均连接的气体管道；通过制冷装置将第一气体输入管道输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道通入到紫外线照射机本体中，降低紫外线照射机本体的温度及后续进入到紫外线照射机本体中的玻璃基板的温度，使得玻璃基板在紫外线照射机中不会因为高温而产生形变，降低了玻璃基板与紫外线照射机发生刮伤的风险，避免玻璃基板发生破片。本发明的制作配向膜的设备包括依次连接的清洗机、烘干机、上述的紫外线照射机以及涂布机，紫外线照射机的净化能力强，对玻璃基板的表面改质效果好，玻璃基板上形成的配向膜的成膜品质高，避免了配向膜不沾及预倾角降低等不良问题。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (8)

1.一种紫外线照射机，其特征在于，包括：紫外线照射机本体(10)、与所述紫外线照射机本体(10)间隔设置的制冷装置(20)、与所述制冷装置(20)连接的第一气体输入管道(30)、与所述紫外线照射机本体(10)及制冷装置(20)均连接的气体管道(40)；
所述制冷装置(20)用于将第一气体输入管道(30)输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过气体管道(40)通入到紫外线照射机本体(10)中；
所述紫外线照射机本体包括设于所述紫外线照射机本体(10)一端的入口(11)，所述紫外线照射机本体(10)内设有光照区(12)；所述光照区(12)覆盖玻璃基板(60)；
所述光照区(12)内设有用于产生紫外线的紫外线灯(121)，该紫外线灯(121)与玻璃基板(60)的间距为2-4mm。
2.如权利要求1所述的紫外线照射机，其特征在于，所述气体管道(40)包括设于所述入口(11)处并与制冷装置(20)连接的第一连接管道(41)以及与所述光照区(12)及制冷装置(20)均连接的第二连接管道(42)；所述制冷装置(20)将第一气体输入管道(30)输入的第一气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第一连接管道(41)输出到入口(11)，及经过第二连接管道(42)输出到光照区(12)。
3.如权利要求1所述的紫外线照射机，其特征在于，所述第一气体为压缩空气。
4.如权利要求2所述的紫外线照射机，其特征在于，还包括与所述制冷装置(20)连接的第二气体输入管道(50)；所述气体管道(40)还包括与所述光照区(12)及制冷装置(20)均连接的第三连接管道(43)；所述制冷装置(20)将第二气体输入管道(50)输入的第二气体的温度冷却至低于一预设的阈值范围内后经过第三连接管道(43)输出到光照区(12)。
5.如权利要求4所述的紫外线照射机，其特征在于，所述第二气体为稀释气体。
6.如权利要求5所述的紫外线照射机，其特征在于，所述稀释气体为氮气。
7.如权利要求4所述的紫外线照射机，其特征在于，所述制冷装置(20)还用于控制第一连接管道(41)、第二连接管道(42)及第三连接管道(43)的气体流量。
8.一种制作配向膜的设备，其特征在于，包括依次连接的清洗机(1)、烘干机(2)、如权利要求1-7任一项所述的紫外线照射机(3)以及涂布机(4)。
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